專利名稱：激光加工裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種激光加工裝置，特別是關(guān)于一種用于加工基板的激光加工裝 置，且加工的基板用于成型背光模組的導(dǎo)光板。
背景技術(shù)：
導(dǎo)光板配置于背光模組中，用于將側(cè)邊的光線導(dǎo)向正面的視線方向，并達到亮度 均勻的效果。導(dǎo)光板普遍應(yīng)用在如電視、計算機屏幕、移動電話及個人數(shù)字助理器等不同尺 寸大小的液晶顯示器上。以激光加工方式制作高分辨率網(wǎng)點圖案，相較于傳統(tǒng)的光微影濕蝕刻制程，具有 步驟簡化、省時、降低成本以及減少污染性酸堿溶液的使用、減少蝕刻深度誤差等等的優(yōu) 點，特別是在平面顯示器背光模組的光學(xué)元件制作上，使用激光加工方式作為導(dǎo)光板的制 程，可提升導(dǎo)光板的輝光程度與整體亮度的均勻性，并相較于濕蝕刻制程具有較高的重現(xiàn) 性。以激光蝕刻制造導(dǎo)光板的一習(xí)用技術(shù)記載于臺灣專利公告第TWI275878號中，且 說明如下。首先，提供一金屬或壓克力材質(zhì)的基板，后提供一激光光束于該基板上方，并重 復(fù)照射該基板上的同一位置，以形成一皺折網(wǎng)點，再藉由移動激光光束或移動基板，并利用 激光光束重復(fù)照射該基板，以依序于該基板上的不同位置上均形成該皺折網(wǎng)點，而激光光 束可采用脈沖式激光，且激光光束波長的選用是依該基板的材質(zhì)而定，例如當(dāng)采用鋼材基 板時，則可選用Nd-YAG激光；最后，將表面具有多個皺折網(wǎng)點的該基板直接作為模仁或再 透過電鑄制程形成模仁，再利用注入透明材質(zhì)成型導(dǎo)光板，成型方式可為射出成型、熱壓、 鑄造、壓鑄或灌注等方式。在該習(xí)用技術(shù)中，各個皺折網(wǎng)點的深度為均一，因此所形成導(dǎo)光板的高度也為均 一。由于背光模組的光源位于所述導(dǎo)光板的側(cè)邊，如欲使具有所述導(dǎo)光板的背光模組發(fā)出 均勻的整面光線，則多個皺折網(wǎng)點的布置將甚為復(fù)雜且難以規(guī)則化。因此，如何利用激光加 工裝置改善以上的缺點，成為發(fā)展本發(fā)明的動機。本案發(fā)明人鑒于上述先前技術(shù)的缺點，經(jīng)悉心的研究，并一本鍥而不舍的精神，終 發(fā)明出本案“激光加工裝置”。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一目的是提供一種激光加工裝置，其在一基板上的多個位置點蝕刻以形 成多個網(wǎng)點，該些網(wǎng)點具有不同的深度且用以形成一網(wǎng)點板，該網(wǎng)點板用以成型一導(dǎo)光板。 如此，利用簡單且具有不同深度的該多個網(wǎng)點的配置，使采用所述導(dǎo)光板的背光模組發(fā)出 均勻的整面光線。本案的第一構(gòu)想是提供一種激光加工裝置，其用以在一基板上的至少兩位置點分 別形成至少兩網(wǎng)點，且包括一處理單元。該處理單元分別根據(jù)該至少兩位置點而設(shè)置至少 兩加工參數(shù)，且分別根據(jù)該至少兩加工參數(shù)而提供至少兩第一激光光束來形成該至少兩網(wǎng)點。該至少兩加工參數(shù)的每一包括一預(yù)定深度與一激光能量參數(shù)，且該至少兩網(wǎng)點的每一 具有一深度。該兩加工參數(shù)的兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使該兩加工參數(shù)的兩激光能量 參數(shù)被設(shè)置成不等效，且該兩加工參數(shù)的該兩激光能量參數(shù)被利用來使該兩網(wǎng)點的兩深度 分別匹配于該兩加工參數(shù)的該兩預(yù)定深度。本案的第二構(gòu)想是提供一種激光加工裝置，其用以在一基板上的至少兩位置點分 別形成至少兩網(wǎng)點，且包括一處理單元。該處理單元具有分別對應(yīng)于該至少兩位置點的至 少兩預(yù)定深度，且分別根據(jù)該至少兩預(yù)定深度而提供至少兩第一激光光束來形成該至少兩 網(wǎng)點。該兩第一激光光束分別具有兩能量特性。該兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使該兩 能量特性被特性化成不等效，且該兩能量特性使該兩網(wǎng)點的各深度分別匹配于該兩預(yù)定深 度。本案的第三構(gòu)想是提供一種激光加工裝置，其用以在一基板上的至少兩位置點分 別形成至少兩網(wǎng)點，且包括一加工單元與一控制單元。該加工單元響應(yīng)一激光能量控制訊 號的至少兩分量而提供至少兩第一激光光束來分別形成該至少兩網(wǎng)點。該控制單元，分別 根據(jù)該至少兩位置點而設(shè)置至少兩預(yù)定深度，且根據(jù)該至少兩預(yù)定深度而產(chǎn)生該激光能量 控制訊號的該至少兩分量。該兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使該激光能量控制訊號的該兩 分量被設(shè)置成不等效，且該激光能量控制訊號的該兩分量被利用來使該兩網(wǎng)點的各深度分 別匹配于該兩預(yù)定深度。本發(fā)明的優(yōu)點在于利用簡單且具有不同深度的該多個網(wǎng)點的配置，使采用所述導(dǎo) 光板的背光模組發(fā)出均勻的整面光線。


圖1 本發(fā)明的第一實施例所提激光加工系統(tǒng)的示意圖；圖2 本發(fā)明的第一實施例所提激光能量控制訊號的波形示意圖；圖3 本發(fā)明的第一實施例所提網(wǎng)點板的示意圖；圖4 本發(fā)明的第二實施例所提激光加工系統(tǒng)的示意圖；以及圖5 本發(fā)明的另一網(wǎng)點矩陣的預(yù)定深度分布的示意圖。符號說明81、82:激光加工系統(tǒng)81A、82A 激光加工裝置811,821 處理單元30:加工單元40 控制單元41 控制卡42 數(shù)據(jù)庫單元31 激光模組32 定位單元321 光束掃描單元322 平臺單元50 基板
51、52、53、54、511、521、531、541 網(wǎng)點5A:網(wǎng)點板61 二維網(wǎng)點矩陣SFl 平面Al 控制訊號Sl 激光能量控制訊號S2 位置控制訊號Sll 位準(zhǔn)訊號S12 脈沖訊號S121、S122 脈沖串行SU1、SU2、S111、S112 分量Gll、G12、(ial、Ga2 位準(zhǔn)fal、fa2:脈沖頻率Tal、Ta2:脈沖周時Qal、Qa2:串行時間S21、S22:訊號SPl 訊息LAI、LA2、LU1、LU2 激光光束PS1、PS2:位置點B11、B12:加工參數(shù)P11、P12:坐標(biāo)D11、D12、D13、D14 預(yù)定深度DA1、DA2:深度U11、U12 激光能量參數(shù)R11、R12 設(shè)計脈沖功率fll、fl2 設(shè)計脈沖頻率Q11、Q12 設(shè)計加工時間U21、U22:能量特性R21、R22:脈沖功率f21、f22:脈沖頻率Q21、Q22:加工時間Hl 材質(zhì)
具體實施例方式請參閱圖1，其為本發(fā)明的第一實施例所提激光加工系統(tǒng)81的示意圖。如圖所示， 激光加工系統(tǒng)81包括一激光加工裝置8IA與一基板50。在一實施例中，激光加工裝置8IA 用以在基板50上的至少兩位置點PS1、PS2分別形成至少兩網(wǎng)點51、52，該至少兩網(wǎng)點51、 52可用以成型一導(dǎo)光板(圖未示)。該至少兩網(wǎng)點51、52分別具有至少兩深度DA1、DA2，為 了使采用該導(dǎo)光板的一背光模組(圖未示)發(fā)出均勻的整面光線，該至少兩深度DAI、DA2可不相等。在一實施例中，激光加工裝置8IA包括一處理單元811。處理單元811分別根據(jù) 該至少兩位置點PSl、PS2而設(shè)置至少兩加工參數(shù)Bl 1、B12，且分別根據(jù)該至少兩加工參數(shù) B1UB12而提供至少兩激光光束LU1、LU2來形成該至少兩網(wǎng)點51、52。該至少兩加工參數(shù) B11、B12的每一(如Bll)包括一預(yù)定深度(如Dll)與一激光能量參數(shù)(如Ull)，且該至 少兩網(wǎng)點51、52的每一(如51)具有一深度(如DA1)。該兩加工參數(shù)Bll、B12的兩預(yù)定 深度Dl 1、D12被設(shè)置成不相等而使該兩加工參數(shù)Bl 1、B12的兩激光能量參數(shù)Ul 1、U12被 設(shè)置成不等效，且該兩加工參數(shù)B11、B12的該兩激光能量參數(shù)U11、U12被利用來使該兩網(wǎng) 點51,52的兩深度DAUDA2分別匹配于該兩加工參數(shù)B1UB12的該兩預(yù)定深度D11、D12。該至少兩位置點PSl、PS2可位于基板50的同一平面SFl上，且該至少兩位置點 PS1、PS2分別具有至少兩坐標(biāo)P11、P12。處理單元811利用加工參數(shù)Bll以形成網(wǎng)點51， 且利用加工參數(shù)B12以形成網(wǎng)點52。處理單元811可更根據(jù)基板50的材質(zhì)Hl而使該至少 兩加工參數(shù)B11、B12被設(shè)置。在一實施例中，該至少兩加工參數(shù)Bll、B12包括加工參數(shù)Bll與加工參數(shù)B12。加 工參數(shù)Bll包括坐標(biāo)P11、預(yù)定深度Dll與激光能量參數(shù)U11。加工參數(shù)B12包括坐標(biāo)P12、 預(yù)定深度D12與激光能量參數(shù)U12。激光能量參數(shù)Ull包括一設(shè)計脈沖功率R11、一設(shè)計脈 沖頻率Π1與一設(shè)計加工時間Qll ；激光能量參數(shù)U12包括一設(shè)計脈沖功率R12、一設(shè)計脈 沖頻率f 12與一設(shè)計加工時間Q12 ；當(dāng)預(yù)定深度Dll與預(yù)定深度D12被設(shè)置成不相等時，設(shè) 計脈沖功率R11、設(shè)計脈沖頻率Π1與設(shè)計加工時間Qll被設(shè)置成不是完全分別等于設(shè)計脈 沖功率R12、設(shè)計脈沖頻率f 12與設(shè)計加工時間Q12 (三對中至少一對不相等)，亦即激光能 量參數(shù)Ull被設(shè)置成不等效于激光能量參數(shù)U12。該至少兩激光光束LUl、LU2包括激光光束LUl與激光光束LU2，兩激光光束LUl、 LU2分別具有兩能量特性U21、U22。能量特性U21包括一脈沖功率R21、一脈沖頻率f21與 一加工時間Q21，且能量特性U22包括一脈沖功率R22、一脈沖頻率f22與一加工時間Q22。 激光光束LUl的脈沖功率R21、脈沖頻率f21與加工時間Q21被分別按照激光能量參數(shù)Ull 的設(shè)計脈沖功率R11、設(shè)計脈沖頻率Π1與設(shè)計加工時間Qll所特性化。激光光束LU2的脈 沖功率R22、脈沖頻率f22與加工時間Q22被分別按照激光能量參數(shù)U12的設(shè)計脈沖功率 R12、設(shè)計脈沖頻率fl2與設(shè)計加工時間Q12所特性化。在一實施例中，脈沖功率R21可指 激光光束LUl中激光脈沖的平均功率或峰值功率，脈沖功率R22可指激光光束LU2中激光 脈沖的平均功率或峰值功率。在一實施例中，激光能量參數(shù)Ull用于定義激光光束LUl所對應(yīng)的設(shè)計總能量與 設(shè)計總平均功率；激光能量參數(shù)U12用于定義激光光束LU2所對應(yīng)的設(shè)計總能量與設(shè)計總 平均功率；當(dāng)激光能量參數(shù)Ull的設(shè)計總能量與設(shè)計總平均功率分別和激光能量參數(shù)U12 的設(shè)計總能量與設(shè)計總平均功率為相等時，則激光能量參數(shù)Ull與激光能量參數(shù)U12可視 為等效。在另一實施例中，激光能量參數(shù)Ull用于定義激光光束LUl所對應(yīng)的設(shè)計總能量； 激光能量參數(shù)U12用于定義激光光束LU2所對應(yīng)的設(shè)計總能量；當(dāng)激光能量參數(shù)Ull的設(shè) 計總能量和激光能量參數(shù)U12的設(shè)計總能量為相等時，則激光能量參數(shù)Ull與激光能量參 數(shù)U12可視為等效。在又一實施例中，激光能量參數(shù)Ull用于定義激光光束LUl所對應(yīng)的 設(shè)計總平均功率；激光能量參數(shù)U12用于定義激光光束LU2所對應(yīng)的設(shè)計總平均功率；當(dāng)激光能量參數(shù)Ull的設(shè)計總平均功率和激光能量參數(shù)U12的設(shè)計總平均功率為相等時，則 激光能量參數(shù)Ull與激光能量參數(shù)U12可視為等效。在一實施例中，激光能量參數(shù)Ull的設(shè)計總能量可通過積分設(shè)計加工時間Qll內(nèi) 的瞬時設(shè)計脈沖功率來獲得，而激光能量參數(shù)Ull的設(shè)計總平均功率等于激光能量參數(shù) Ull的設(shè)計總能量除以設(shè)計加工時間Qll ；激光能量參數(shù)U12的設(shè)計總能量可通過積分設(shè)計 加工時間Q12內(nèi)的瞬時設(shè)計脈沖功率來獲得，而激光能量參數(shù)U12的設(shè)計總平均功率等于 激光能量參數(shù)U12的設(shè)計總能量除以設(shè)計加工時間Q12。在一實施例中，加工參數(shù)Bll的值 包括如下D11 = lym, Rll = 2W, ΠΙ = 5kHz, Qll = 1ms。加工參數(shù)B12的值包括如下 D12 = 2ym,R12 = 2. 5W，fll = 5kHz, Qll = 1ms。其它加工參數(shù)的值包括如下預(yù)定深度 =3μπι，設(shè)計脈沖功率=2. 5W，設(shè)計脈沖頻率=5kHz，設(shè)計加工時間=1. 5ms。該至少兩網(wǎng) 點51、52的各直徑的分布可正比于該至少兩網(wǎng)點51、52的各預(yù)定深度的分布。在一實施例中，處理單元811可包括一加工單元30與一控制單元40。加工單元 30響應(yīng)一控制訊號Al而提供該至少兩激光光束LU1、LU2來分別形成該至少兩網(wǎng)點51、52。 控制單元40分別根據(jù)該至少兩位置點PS1、PS2而設(shè)置該至少兩加工參數(shù)B11、B12，且根據(jù) 該至少兩加工參數(shù)B11、B12而產(chǎn)生控制訊號Al?？刂朴嵦朅l包括一激光能量控制訊號Sl 與一位置控制訊號S2。激光能量控制訊號Sl包括一位準(zhǔn)訊號Sll與一脈沖訊號S12。位 置控制訊號S2與該至少兩坐標(biāo)Pll、P12相關(guān)且包括一訊號S21與一訊號S22。在一實施 例中，控制單元40是一計算機，控制單元40可更包括一控制卡41，控制單元40利用控制 卡41產(chǎn)生控制訊號Al。加工單元30可包括一激光模組31與一定位單元32。激光模組31根據(jù)激光能量 控制訊號S 1而產(chǎn)生至少兩激光光束LA1、LA2。定位單元32響應(yīng)位置控制訊號S2與該至 少兩激光光束LAl、LA2而提供該至少兩激光光束LUl、LU2。定位單元32可包括一光束掃 描單元321與一平臺單元322。光束掃描單元321響應(yīng)訊號S21與該至少兩激光光束LA1、 LA2而提供該至少兩激光光束LU1、LU2。平臺單元322承載基板50，且響應(yīng)訊號S22而帶 動基板50。當(dāng)處理單元811在基板50的平面SFl上利用該至少兩激光光束LUl、LU2來蝕刻 該至少兩網(wǎng)點51、52后，基板50被轉(zhuǎn)換成一網(wǎng)點板5A。網(wǎng)點板5A可作為一模仁，且網(wǎng)點板 5A的該至少兩網(wǎng)點51、52用以成型一導(dǎo)光板(圖未示)。該導(dǎo)光板具有高度不等的多個凸 點且配置于一背光模組(圖未示)中，當(dāng)該導(dǎo)光板的側(cè)面被照射一排光線時，該背光模組的 正面可發(fā)出均勻的整面光線。請參閱圖2，其為本發(fā)明的第一實施例所提激光能量控制訊號Sl的波形示意圖。 如圖所示，激光能量控制訊號Sl包括位準(zhǔn)訊號Sll與脈沖訊號S12。位準(zhǔn)訊號Sll具有至 少一位準(zhǔn)Gll與一位準(zhǔn)G12。脈沖訊號S12具有至少一脈沖串行S121與一脈沖串行S122。 脈沖串行S121具有一位準(zhǔn)fell、一脈沖頻率fal與一串行時間Qal，脈沖串行S122具有一 位準(zhǔn)fei2、一脈沖頻率fa2與一串行時間Qa2，位準(zhǔn)Gal可相等于位準(zhǔn)fei2。脈沖頻率fal是 脈沖周時Tal的倒數(shù)，且脈沖頻率fa2是脈沖周時Ta2的倒數(shù)。在一實施例中，該兩激光光束LU1、LU2的各脈沖功率R21、R22可分別正比于或以 一比例系數(shù)分別正比于位準(zhǔn)Gal與位準(zhǔn)fei2。該兩激光光束LU1、LU2的各脈沖頻率f21、f22 分別匹配于脈沖串行S121的脈沖頻率fal與脈沖串行S122的脈沖頻率fa2，亦即其間各誤差率在一第一預(yù)設(shè)誤差率8^^5%或3%內(nèi)。該兩激光光束LU1、LU2的各加工時間Q21、 Q22分別匹配于脈沖串行S121的串行時間Qal與脈沖串行S122的串行時間Qa2，亦即其間
各誤差率在一第二預(yù)設(shè)誤差率8 %、5 %或3 %內(nèi)。在一實施例中，激光能量控制訊號Sl可包括至少兩分量SUl與SU2。激光能量控 制訊號Sl的分量SUl可包括位準(zhǔn)訊號Sll的分量Slll與脈沖訊號S12的脈沖串行S121， 激光能量控制訊號Sl的分量SU2可包括位準(zhǔn)訊號Sll的分量S112與脈沖訊號S12的脈沖 串行S122。位準(zhǔn)訊號Sll的分量Slll具有位準(zhǔn)G11，且位準(zhǔn)訊號Sll的分量S112具有位 準(zhǔn) G12。請再參閱圖1，在根據(jù)圖1與圖2的一較佳實施例中，激光加工裝置81A用以在基 板50上的至少兩位置點PS1、PS2分別形成至少兩網(wǎng)點51、52，且包括加工單元30與控制 單元40。加工單元30響應(yīng)激光能量控制訊號Sl的至少兩分量SUl、SU2而提供至少兩激 光光束LU1、LU2來分別形成該至少兩網(wǎng)點51、52?？刂茊卧?0分別根據(jù)該至少兩位置點 PSU PS2而設(shè)置至少兩預(yù)定深度Dll、D12，且根據(jù)該至少兩預(yù)定深度Dll、D12而產(chǎn)生激光 能量控制訊號Sl的該至少兩分量SU1、SU2。該兩預(yù)定深度Dll、D12被設(shè)置成不相等而使 激光能量控制訊號Sl的該兩分量SU1、SU2被設(shè)置成不等效，且激光能量控制訊號S 1的該 兩分量SU1、SU2被利用來使該兩網(wǎng)點51、52的各深度DAI、DA2分別匹配于該兩預(yù)定深度 D11、D12。在一實施例中，激光能量控制訊號Sl的分量SUl具有位準(zhǔn)G11、脈沖串行S121的 脈沖頻率fal與脈沖串行S121的串行時間Qal ；激光能量控制訊號Sl的分量SU2具有位 準(zhǔn)G12、脈沖串行S122的脈沖頻率fa2與脈沖串行S122的串行時間Qa2。當(dāng)該兩預(yù)定深度 D11、D12被設(shè)置成不相等時，位準(zhǔn)G11、脈沖串行S121的脈沖頻率fa 1與脈沖串行S121的 串行時間Qal被設(shè)置成不是完全分別等于位準(zhǔn)G12、脈沖串行S 122的脈沖頻率fa2與脈沖 串行S122的串行時間Qa2 (三對中至少一對不相等)，亦即分量SUl被設(shè)置成不等效于分量 SU2。在一實施例中，激光能量控制訊號Sl的分量SUl用于定義激光光束LUl所對應(yīng) 的設(shè)計總能量與設(shè)計總平均功率；激光能量控制訊號Sl的分量SU2用于定義激光光束LU2 所對應(yīng)的設(shè)計總能量與設(shè)計總平均功率；當(dāng)分量SUl的設(shè)計總能量與設(shè)計總平均功率分別 和分量SU2的設(shè)計總能量與設(shè)計總平均功率為相等時，則分量SUl與分量SU2可視為等效。 在另一實施例中，分量SUl用于定義激光光束LUl所對應(yīng)的設(shè)計總能量；分量SU2用于定義 激光光束LU2所對應(yīng)的設(shè)計總能量；當(dāng)分量SUl的設(shè)計總能量和分量SU2的設(shè)計總能量為 相等時，則分量SUl與分量SU2可視為等效。在又一實施例中，分量SUl用于定義激光光束 LUl所對應(yīng)的設(shè)計總平均功率；分量SU2用于定義激光光束LU2所對應(yīng)的設(shè)計總平均功率； 當(dāng)分量SUl的設(shè)計總平均功率和分量SU2的設(shè)計總平均功率為相等時，則分量SUl與分量 SU2可視為等效。在一實施例中，分量SUl的設(shè)計總能量可通過一第一比例系數(shù)、位準(zhǔn)Gll與脈沖串 行S121各脈沖的各脈沖寬度來獲得，而分量SUl的設(shè)計總平均功率等于分量SUl的設(shè)計總 能量除以串行時間Qal ；分量SU2的設(shè)計總能量可通過該第一比例系數(shù)、位準(zhǔn)G12與脈沖串 行S122各脈沖的各脈沖寬度來獲得，而分量SU2的設(shè)計總平均功率等于分量SU2的設(shè)計總 能量除以串行時間Qa2。
在該較佳實施例中，控制單元40更根據(jù)該至少兩位置點PS 1、PS2而產(chǎn)生一位置 控制訊號S2。加工單元30可包括激光模組31與定位單元32。激光模組31根據(jù)激光能量 控制訊號S 1的該至少兩分量SUl、SU2而產(chǎn)生該至少兩激光光束LUl、LU2。定位單元32 響應(yīng)位置控制訊號S2而使該至少兩激光光束LU1、LU2分別被提供至該至少兩位置點PS1、 PS2。在一實施例中，控制單元40更分別根據(jù)該至少兩預(yù)定深度D11、D12而設(shè)置至少兩 激光能量參數(shù)Ull、U12，且分別根據(jù)該至少兩激光能量參數(shù)Ull、U12而產(chǎn)生激光能量控制 訊號Sl的該至少兩分量SU1、SU2。激光能量參數(shù)Ull可包括設(shè)計脈沖功率R11、設(shè)計脈沖 頻率Π1與設(shè)計加工時間Qll ；激光能量參數(shù)U12可包括設(shè)計脈沖功率R12、設(shè)計脈沖頻率 Π2與設(shè)計加工時間Q12。位準(zhǔn)訊號Sll的兩位準(zhǔn)G11、G12可以以一第二比例系數(shù)分別正 比于兩設(shè)計脈沖功率R11、R12。脈沖串行S121的脈沖頻率fal與脈沖串行S122的脈沖頻 率fa2可分別按照兩設(shè)計脈沖頻率fll、fl2而被特性化。脈沖串行S121的串行時間Qal 與脈沖串行S122的串行時間Qa2可分別按照兩設(shè)計加工時間Qll、Q12而被特性化。請參閱圖3，其為本發(fā)明的第一實施例所提網(wǎng)點板5A的示意圖。如圖所示，基板 50被激光加工裝置81A處理成網(wǎng)點板5A，網(wǎng)點板5A包括多個網(wǎng)點51、52、53、54、511、521、 531、…、M1，該多個網(wǎng)點51、52、53、54、511、521、531、…、541位于網(wǎng)點板5A頂部的各預(yù) 設(shè)位置點。在一實施例中，該多個網(wǎng)點51、52、53、54、511、521、531、…、541基于第一參考 方向與第二參考方向而受配置成二維網(wǎng)點矩陣61。例如，第一參考方向與第二參考方向可 分別是X方向與Y方向。處理單元811更設(shè)置二維網(wǎng)點矩陣61的預(yù)定深度分布，且該預(yù)定 深度分布在該第一參考方向與該第二參考方向其中之一的分布可以是線性分布。例如，網(wǎng) 點51,511具有相同的預(yù)定深度，網(wǎng)點52,521具有相同的預(yù)定深度，網(wǎng)點54、51、52、53依序 被配置于乂方向，且依序以線性遞增的規(guī)則而具有的預(yù)定深度014、011、012、013。然而， 于其它實施例中，各網(wǎng)點的深度與位置關(guān)系可以非線性方式分布。如圖5所示，于另一實施 例中，垂直軸表示網(wǎng)點的深度，水平軸表示網(wǎng)點于第一參考方向與第二參考方向其中之丨
(例如于X方向或Y方向)之位置。由圖5可知，網(wǎng)點矩陣的預(yù)定深度分布可沿參考方向 以非線性遞增方式分布。在此需注意，網(wǎng)點矩陣的預(yù)定深度分布可依網(wǎng)點板之實際應(yīng)用而 變化，且不以實施例所示為限。舉例而言，網(wǎng)點矩陣的預(yù)定深度分布可沿參考方向(例如X 方向或Y方向)以線性或非線性遞增或遞減規(guī)則分布，或者網(wǎng)點矩陣的預(yù)定深度分布于兩 參考方向可以隨機方式或以其它預(yù)定方式(例如以幾何形狀遞增或遞減方式)分布。請參閱圖4，其為本發(fā)明的第二實施例所提激光加工系統(tǒng)82的示意圖。如圖所示， 激光加工系統(tǒng)82包括一激光加工裝置82A與一基板50。在一實施例中，激光加工裝置82A 用以在基板50上的至少兩位置點PS1、PS2分別形成至少兩網(wǎng)點51、52。激光加工裝置82A 包括一處理單元821。處理單元821具有分別對應(yīng)于該至少兩位置點PS1、PS2的至少兩預(yù) 定深度Dl 1、D12，且分別根據(jù)該至少兩預(yù)定深度Dl 1、D12而提供至少兩激光光束LUl、LU2 來形成該至少兩網(wǎng)點51、52。該兩激光光束LU1、LU2分別具有兩能量特性U21、U22。該兩 預(yù)定深度Dll、D12被設(shè)置成不相等而使該兩能量特性U21、U22被特性化成不等效，且該兩 能量特性U21、U22使該兩網(wǎng)點的各深度DAl、DA2分別匹配于該兩預(yù)定深度Dl 1、D12。在一實施例中，當(dāng)預(yù)定深度Dll與預(yù)定深度D12被設(shè)置成不相等時，激光光束LUl 的脈沖功率R21、脈沖頻率f21與加工時間Q21被特性化成不是完全分別匹配于激光光束LU2的脈沖功率R22、脈沖頻率f22與加工時間Q22 (三對中至少一對不相匹配，在匹配時其 間各誤差率在一第一預(yù)設(shè)誤差率8%、5%或3%內(nèi))，亦即能量特性U21被特性化成不等效 于能量特性U22。在一實施例中，能量特性U21用于定義激光光束LUl的總能量與總平均功率，能量 特性U22用于定義激光光束LU2的總能量與總平均功率；當(dāng)激光光束LUl的總能量與總平 均功率分別和激光光束LU2的總能量與總平均功率相匹配時(其間各誤差率在一第二預(yù)設(shè) 誤差率8%、5%或3%內(nèi))，則能量特性U21與能量特性U22可視為等效。在一實施例中，能 量特性U21用于定義激光光束LUl的總能量；能量特性U22用于定義激光光束LU2的總能 量；當(dāng)激光光束LUl的總能量和激光光束LU2的總能量相匹配時(其間的誤差率在一第三 預(yù)設(shè)誤差率8%、5%或3%內(nèi))，則能量特性U21與能量特性U22可視為等效。在一實施例中，能量特性U21用于定義激光光束LUl的總平均功率，能量特性U22 用于定義激光光束LU2的總平均功率；當(dāng)激光光束LUl的總平均功率和激光光束LU2的總 平均功率相匹配時(其間的誤差率在一第四預(yù)設(shè)誤差率8%、5%或3%內(nèi))，則能量特性 U21與能量特性U22可視為等效。在一實施例中，兩能量特性U21、U22的各總能量與各總 平均功率可通過測量與計算來獲得。在一實施例中，處理單元821接收一訊息SP1，訊息SPl可包括該至少兩位置點 PSl、PS2所對應(yīng)的至少兩坐標(biāo)Pll、P12，處理單元821分別根據(jù)該至少兩坐標(biāo)Pll、P12而 設(shè)置該至少兩預(yù)定深度Dll、D12。在一實施例中，訊息SPl可包括該至少兩位置點PS 1、 PS2和該至少兩預(yù)定深度Dll、D12，且該至少兩預(yù)定深度Dll、D12分別對應(yīng)于該至少兩位置 點PS1、PS2。在一實施例中，訊息SPl可包括該至少兩位置點PS1、PS2、該至少兩預(yù)定深度 011、012、和至少兩激光能量參數(shù)肌1、肌2。在一實施例中，處理單元821可包括加工單元30與控制單元40。加工單元30響 應(yīng)一控制訊號Al而提供該至少兩激光光束LU1、LU2來分別形成該至少兩網(wǎng)點51、52?？?制單元40分別根據(jù)該至少兩位置點PS1、PS2而設(shè)置該至少兩預(yù)定深度D11、D12，且根據(jù)該 至少兩位置點PS1、PS2與該至少兩預(yù)定深度D11、D12而產(chǎn)生控制訊號Al。在一實施例中， 控制單元40可響應(yīng)訊息SPl而產(chǎn)生控制訊號Al?？刂茊卧?0可更包括一數(shù)據(jù)庫單元42， 數(shù)據(jù)庫單元42用以儲存該至少兩位置點PS1、PS2、該至少兩預(yù)定深度D11、D12、或至少兩激 光能量參數(shù)U11、U12，數(shù)據(jù)庫單元42也可儲存用于產(chǎn)生控制訊號Al的其它參考參數(shù)?？?制單元40可利用數(shù)據(jù)庫單元42來產(chǎn)生控制訊號Al。在一實施例中，控制單元40分別根據(jù)該至少兩位置點PS1、PS2而設(shè)置該至少兩預(yù) 定深度D11、D12，分別根據(jù)該至少兩預(yù)定深度D11、D12而該設(shè)置至少兩激光能量參數(shù)U11、 U12，且根據(jù)該至少兩位置點PS1、PS2與該至少兩激光能量參數(shù)Ull、U12而產(chǎn)生控制訊號 Al。綜上所述，本發(fā)明的激光加工裝置確實能達到發(fā)明內(nèi)容所設(shè)定的功效。唯，以上所 述者僅為本發(fā)明的較佳實施例，舉凡熟悉本案技藝的人士，在爰依本案精神所作的等效修 飾或變化，皆應(yīng)涵蓋于權(quán)利要求范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種激光加工裝置，用以在一基板上的至少兩位置點分別形成至少兩網(wǎng)點，其特征 在于包括一處理單元，分別根據(jù)至少兩位置點而設(shè)置至少兩加工參數(shù)，且分別根據(jù)至少兩加工 參數(shù)而提供至少兩第一激光光束來形成至少兩網(wǎng)點，其中至少兩加工參數(shù)的每一包括一預(yù)定深度與一激光能量參數(shù)，且至少兩網(wǎng)點的每一具有 一深度；及兩加工參數(shù)的兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使兩加工參數(shù)的兩激光能量參數(shù)被設(shè)置 成不等效，且兩加工參數(shù)的兩激光能量參數(shù)被利用來使兩網(wǎng)點的兩深度分別匹配于兩加工 參數(shù)的兩預(yù)定深度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于至少兩位置點位于基板的同一平 面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于更分別在基板上的多個其它位置 點形成多個其它網(wǎng)點，其中至少兩網(wǎng)點和多個其它網(wǎng)點基于第一參考方向與第二參考方向而受配置成二維網(wǎng)點 矩陣；及處理單元更設(shè)置二維網(wǎng)點矩陣的預(yù)定深度分布，且預(yù)定深度分布在第一參考方向與第 二參考方向其中之一的分布是線性分布或非線性分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于處理單元更根據(jù)基板的材質(zhì)而使 至少兩加工參數(shù)被設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于兩加工參數(shù)是一第一加工參數(shù)與一第二加工參數(shù)；第一加工參數(shù)包括一第一預(yù)定深度與一第一激光能量參數(shù)，且第二加工參數(shù)包括一第 二預(yù)定深度與一第二激光能量參數(shù)；第一激光能量參數(shù)包括一第一設(shè)計脈沖功率、一第一設(shè)計脈沖頻率與一第一設(shè)計加工 時間；第二激光能量參數(shù)包括一第二設(shè)計脈沖功率、一第二設(shè)計脈沖頻率與一第二設(shè)計加工 時間；及當(dāng)?shù)谝慌c第二預(yù)定深度被設(shè)置成不相等時，第一設(shè)計脈沖功率、第一設(shè)計脈沖頻率與 第一設(shè)計加工時間被設(shè)置成不是完全分別等于第二設(shè)計脈沖功率、第二設(shè)計脈沖頻率與第 二設(shè)計加工時間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光加工裝置，其特征在于至少兩第一激光光束包括一第一子激光光束與一第二子激光光束；第一子激光光束具有分別按照第一激光能量參數(shù)的設(shè)計脈沖功率、設(shè)計脈沖頻率與設(shè) 計加工時間所特性化的一脈沖功率、一脈沖頻率與一加工時間；及第二子激光光束具有分別按照第二激光能量參數(shù)的設(shè)計脈沖功率、設(shè)計脈沖頻率與設(shè) 計加工時間所特性化的一脈沖功率、一脈沖頻率與一加工時間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于處理單元包括一加工單元，響應(yīng)一控制訊號而提供至少兩第一激光光束來分別形成至少兩網(wǎng)點；及一控制單元，分別根據(jù)至少兩位置點而設(shè)置至少兩加工參數(shù)，且根據(jù)至少兩加工參數(shù)而產(chǎn)生控制訊號。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光加工裝置，其特征在于至少兩位置點分別具有至少兩坐 標(biāo)，至少兩加工參數(shù)更分別包括至少兩坐標(biāo)，且控制訊號包括一激光能量控制訊號與一位 置控制訊號，位置控制訊號與至少兩坐標(biāo)相關(guān)且包括一第一訊號與一第二訊號。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光加工裝置，其特征在于加工單元包括 一激光模組，根據(jù)激光能量控制訊號而產(chǎn)生至少兩第二激光光束；及一定位單元，響應(yīng)位置控制訊號與至少兩第二激光光束而提供至少兩第一激光光束， 定位單元包括一光束掃描單元，響應(yīng)第一訊號與至少兩第二激光光束而提供至少兩第一激光光束；及一平臺單元，承載基板，且響應(yīng)第二訊號而帶動基板。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光加工裝置，其特征在于 激光能量控制訊號包括一位準(zhǔn)訊號與一脈沖訊號；位準(zhǔn)訊號具有至少一第一位準(zhǔn)與一第二位準(zhǔn)； 脈沖訊號具有至少一第一脈沖串行與一第二脈沖串行； 第一與第二脈沖串行的每一具有一脈沖頻率與一串行時間； 兩第一激光光束的各脈沖功率分別正比于第一與第二位準(zhǔn)；兩第一激光光束的各脈沖頻率分別匹配于第一脈沖串行的脈沖頻率與第二脈沖串行 的脈沖頻率；及兩第一激光光束的各加工時間分別匹配于第一脈沖串行的串行時間與第二脈沖串行 的串行時間。
11.一種激光加工裝置，用以在一基板上的至少兩位置點分別形成至少兩網(wǎng)點，其特征 在于包括一處理單元，具有分別對應(yīng)于至少兩位置點的至少兩預(yù)定深度，且分別根據(jù)至少兩預(yù) 定深度而提供至少兩第一激光光束來形成至少兩網(wǎng)點，其中 兩第一激光光束分別具有兩能量特性；及兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使兩能量特性被特性化成不等效，且兩能量特性使兩網(wǎng) 點的各深度分別匹配于兩預(yù)定深度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的激光加工裝置，其特征在于處理單元包括一加工單元，響應(yīng)一控制訊號而提供至少兩第一激光光束來分別形成至少兩網(wǎng)點；及 一控制單元，分別根據(jù)至少兩位置點而設(shè)置至少兩預(yù)定深度，且根據(jù)至少兩位置點與 至少兩預(yù)定深度而產(chǎn)生控制訊號。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的激光加工裝置，其特征在于兩能量特性的每一由一脈沖功 率、一脈沖頻率與一加工時間所構(gòu)成；控制訊號包括一激光能量控制訊號與一位置控制訊號；及 激光能量控制訊號包括一位準(zhǔn)訊號與一脈沖訊號。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的激光加工裝置，其特征在于加工單元包括 一激光模組，根據(jù)激光能量控制訊號而產(chǎn)生至少兩第一激光光束；及一定位單元，響應(yīng)位置控制訊號而使至少兩第一激光光束分別被提供至至少兩位置點ο
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的激光加工裝置，其特征在于處理單元包括一加工單元，響應(yīng)一控制訊號而提供至少兩第一激光光束來分別形成至少兩網(wǎng)點；及 一控制單元，分別根據(jù)至少兩位置點而設(shè)置至少兩預(yù)定深度，分別根據(jù)至少兩預(yù)定深 度而設(shè)置至少兩激光能量參數(shù)，且根據(jù)至少兩位置點與至少兩激光能量參數(shù)而產(chǎn)生控制訊 號。
16.一種激光加工裝置，用以在一基板上的至少兩位置點分別形成至少兩網(wǎng)點，其特征 在于包括一加工單元，響應(yīng)一激光能量控制訊號的至少兩分量而提供至少兩第一激光光束來分 別形成至少兩網(wǎng)點；及一控制單元，分別根據(jù)至少兩位置點而設(shè)置至少兩預(yù)定深度，且根據(jù)至少兩預(yù)定深度 而產(chǎn)生激光能量控制訊號的至少兩分量，其中兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使激光能量控制訊號的兩分量被設(shè)置成不等效，且激光 能量控制訊號的兩分量被利用來使兩網(wǎng)點的各深度分別匹配于兩預(yù)定深度。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光加工裝置，其特征在于在基板上所形成的至少兩網(wǎng)點 用以成型一導(dǎo)光板。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光加工裝置，其特征在于控制單元更分別根據(jù)至少兩預(yù) 定深度而設(shè)置至少兩激光能量參數(shù)，且分別根據(jù)至少兩激光能量參數(shù)而產(chǎn)生激光能量控制 訊號的至少兩分量。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光加工裝置，其特征在于控制單元更根據(jù)至少兩位置點 而產(chǎn)生一位置控制訊號。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的激光加工裝置，其特征在于加工單元包括一激光模組，根據(jù)激光能量控制訊號的至少兩分量而產(chǎn)生至少兩第一激光光束；及 一定位單元，響應(yīng)位置控制訊號而使至少兩第一激光光束分別被提供至至少兩位置點ο
全文摘要
本發(fā)明提供一種激光加工裝置，其用以在一基板上的至少兩位置點分別形成至少兩網(wǎng)點，且包括一加工單元。該加工單元分別根據(jù)該至少兩位置點而設(shè)置至少兩加工參數(shù)，且分別根據(jù)該至少兩加工參數(shù)而提供至少兩第一激光光束來形成該至少兩網(wǎng)點。該至少兩加工參數(shù)的每一包括一預(yù)定深度與一激光能量參數(shù)，且該至少兩網(wǎng)點的每一包括一深度。該兩加工參數(shù)的兩預(yù)定深度被設(shè)置成不相等而使該兩加工參數(shù)的兩激光能量參數(shù)被設(shè)置成不等效，且該兩加工參數(shù)的該兩激光能量參數(shù)被利用來使該兩網(wǎng)點的兩深度分別匹配于該兩加工參數(shù)的該兩預(yù)定深度。
文檔編號B23K26/36GK102133687SQ20101010396
公開日2011年7月27日 申請日期2010年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月26日
發(fā)明者楊舜涵, 黃永祥 申請人:豪晶科技股份有限公司