專利名稱：：激光蝕刻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：激光蝕刻裝置
技術(shù)領(lǐng)域：
本案是關(guān)于一種激光蝕刻裝置，更特別地，本案是關(guān)于一種用以蝕刻背光模塊元件的激光蝕刻裝置。
背景技術(shù)：
：近幾年來，以激光加工方式制作高解析度電極圖案，相較于傳統(tǒng)的光微影濕蝕刻制程，具有步驟簡化、省時(shí)、降低成本以及減少污染性酸堿溶液的使用、減少蝕刻深度誤差等等的優(yōu)點(diǎn)，特別是在平面顯示器背光模塊的光學(xué)元件制作上，使用激光加工方式作為導(dǎo)光板的制程，可提升導(dǎo)光板的輝光程度與整體亮度的均勻性，并相較于濕蝕刻制程具有較高的重現(xiàn)性?，F(xiàn)有技術(shù)使用的激光蝕刻裝置，欲生產(chǎn)大尺寸產(chǎn)品時(shí)，使用一XY平臺(tái)放置欲蝕刻樣本，將激光光源固定，以移動(dòng)XY平臺(tái)的方式來定位和加工；而對(duì)于較精密的小尺寸元件雕刻，則使用振鏡馬達(dá)系統(tǒng)來做快速、小范圍的加工。然而，現(xiàn)有技術(shù)的激光蝕刻裝置具有一些缺點(diǎn)，例如XY平臺(tái)系統(tǒng)所需加工時(shí)間較長，不適用于高密度元件的制作與量產(chǎn)，而使用振鏡馬達(dá)系統(tǒng)則可能會(huì)有產(chǎn)品尺寸限制以及位準(zhǔn)不夠精確的問題，且振鏡馬達(dá)系統(tǒng)加工的產(chǎn)品，會(huì)因激光光射入角度偏斜而會(huì)產(chǎn)生失真的問題，因此已知激光蝕刻裝置難以符合大面積元件且需高密度、高精準(zhǔn)度的產(chǎn)品需求。職是之故，發(fā)明人鑒于已知技術(shù)的設(shè)計(jì)缺失，乃經(jīng)悉心試驗(yàn)與研究，并一本鍥而不舍的精神，發(fā)明出本案"激光蝕刻裝置"，以下為本案的簡要說明。
實(shí)用新型內(nèi)容本案的目的在于提供一種激光蝕刻裝置，特別是用以蝕刻一背光模塊元件的激光蝕刻裝置，其包含用以產(chǎn)生一激光光束的激光光源，用以接收及傳送該激光光束的導(dǎo)光系統(tǒng)，以及用以承載及移動(dòng)該背光模塊元件的一平臺(tái)，其中該導(dǎo)光系統(tǒng)包含一振鏡式掃描系統(tǒng)，用以調(diào)整該激光光束打入該背光模塊元件的位置。根據(jù)上述的構(gòu)想，本案的激光蝕刻裝置結(jié)合了振鏡掃描系統(tǒng)和機(jī)械平臺(tái)來蝕刻背光模塊元件，因此可對(duì)大尺寸模具或元件作高速精密的干蝕刻。本案的另一目的在于提供一種激光蝕刻裝置，用以蝕刻一元件，該激光蝕刻裝置包含用以產(chǎn)生一激光光束的一激光光源，用以接收及傳送該激光光束的一導(dǎo)光系統(tǒng)，以及用以承載及移動(dòng)該元件的一平臺(tái)，其中該導(dǎo)光系統(tǒng)包含用以調(diào)整該激光光束打入該元件的位置的一振鏡式掃描系統(tǒng)，以及一鉛直光產(chǎn)生裝置，用以使該激光光束以鉛直方向打入該元件，且該鉛直光產(chǎn)生裝置為一遠(yuǎn)心平場(chǎng)透4竟。于上述的激光蝕刻裝置中，該背光模塊元件可為一導(dǎo)光板或是一導(dǎo)光板的模仁，且該背光模塊元件的尺寸可大于462.25平方公分(215mmx215mm)，而不受到已知振鏡系統(tǒng)激光蝕刻裝置的元件尺寸限制。于上述的激光蝕刻裝置中，其中該激光光束的模式為丁畫oo。于上述的激光蝕刻裝置中，其中該平臺(tái)為一XY軸機(jī)械平臺(tái)本案的另一目的在于提供一種激光蝕刻裝置的導(dǎo)光系統(tǒng)，用以將一激光光束打入一元件，該導(dǎo)光系統(tǒng)包含一振鏡式掃描系統(tǒng)，用以調(diào)整該激光光束打入該元件的位置，以及一鉛直光產(chǎn)生裝置，用以使該激光光束以鉛直方向打入該元件，其中該鉛直光產(chǎn)生裝置為一遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡。根據(jù)上述的構(gòu)想，本案于激光蝕刻裝置的導(dǎo)光系統(tǒng)結(jié)合高速振鏡馬達(dá)和遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡，以使激光光束于元件上的每一打點(diǎn)均是以鉛直方向打入，改善了傳統(tǒng)導(dǎo)光系統(tǒng)采用一般透鏡時(shí)因激光光射入角度偏斜而產(chǎn)生的失真問題。根據(jù)上述的構(gòu)想，該背光模塊元件可為一導(dǎo)光板或是一導(dǎo)光板的模仁，且該背光模塊元件的尺寸可大于462.25平方公分(215mmx215mm)。根據(jù)上述的構(gòu)想，其中該激光光束的模式為TEM0()。本案的功效與目的，可藉由下列實(shí)施方式說明，以有更深入的了解圖1:本案的激光蝕刻裝置的第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2:第一實(shí)施例的導(dǎo)光系統(tǒng)及振鏡式掃描系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖3:本案的激光蝕刻裝置的第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4:比較一般透鏡與遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡所產(chǎn)生的光束的示意圖；以及圖5:本案激光蝕刻裝置的導(dǎo)光系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式以下針對(duì)本案較佳實(shí)施例的激光蝕刻裝置進(jìn)行描述，但實(shí)際的配置及所采行的方法并不必須完全符合所描述的內(nèi)容，熟習(xí)本技藝者當(dāng)能在不脫離本發(fā)明的實(shí)際精神及范圍的情況下，做出種種變化及修改。首先請(qǐng)參閱圖1，其為本案激光蝕刻裝置的第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，該激光蝕刻裝置1包含一激光光源11,例如二極管激發(fā)式激光模塊，用以產(chǎn)生一激光光束12，在此實(shí)施例中所選擇的激光光束模式為基模(TEMoo)，該激光光束12由一導(dǎo)光系統(tǒng)13接收并傳送之后打入一背光模塊元件16,其中該導(dǎo)光系統(tǒng)13更包含一振鏡式掃描系統(tǒng)17，用以調(diào)整該激光光束12打入該背光模塊元件16的位置，此外，該背光模塊元件16是放置于一平臺(tái)15上，且該平臺(tái)15可移動(dòng)并定位該背光模塊元件16。請(qǐng)參閱圖2,其為導(dǎo)光系統(tǒng)13及振鏡式掃描系統(tǒng)17的立體結(jié)構(gòu)示意圖，該振鏡式掃描系統(tǒng)17為一XY軸高速掃描振鏡系統(tǒng)，包含X軸振鏡171和Y軸振鏡172，以快速并精確地將激光光束12定位后經(jīng)過一平場(chǎng)聚焦透鏡19于元件上打點(diǎn)。在前述實(shí)施例中，該背光模塊元件16可為一導(dǎo)光板，或是一導(dǎo)光一反的才莫仁，而該平臺(tái)15為一XY軸才幾械平臺(tái)(X-Ytable),在驅(qū)動(dòng)器、軸控卡與電腦軟件等的控制下，平臺(tái)15可移動(dòng)并準(zhǔn)確定位該背光模塊元件16。綜上所述，本案所提供的激光蝕刻裝置結(jié)合了可高速精密打點(diǎn)的振鏡式掃描系統(tǒng)17以及可放置并移動(dòng)大尺寸元件的XY平臺(tái)15,提高已知僅使用XY平臺(tái)系統(tǒng)來蝕刻導(dǎo)光板或其他背光模塊元件的蝕刻效能，同時(shí)元件尺寸不再受到僅使用振鏡系統(tǒng)來打點(diǎn)時(shí)的產(chǎn)品尺寸限制，一般僅使用振鏡系統(tǒng)來蝕刻背光模塊元件的激光蝕刻裝置，掃描范圍約為100mmx100mm,最大范圍約在215mmx215mm,而本案所提供的激光蝕刻裝置1因?yàn)榻Y(jié)合振鏡式掃描系統(tǒng)17以及XY平臺(tái)15，產(chǎn)品尺寸范圍將可達(dá)462.25平方^>分(215mmx215mm)以上。請(qǐng)參閱圖3,其為本案激光蝕刻裝置的第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，該激光蝕刻裝置3包含一激光光源31,例如二極管激發(fā)式激光模塊，用以產(chǎn)生一激光光束32,在此實(shí)施例中所選擇的激光光束4莫式為TEMQ()，該激光光束32由一導(dǎo)光系統(tǒng)33接收并傳送之后打入一元件36,其中該導(dǎo)光系統(tǒng)33更包含一振鏡式掃描系統(tǒng)37,用以調(diào)整該激光光束32打入該元件36的位置，以及一鉛直光產(chǎn)生裝置39,用以使該激光光束32以鉛直方向打入該元件36。此外，該激光蝕刻裝置3還包含一平臺(tái)35用以承載及移動(dòng)該元件36,在此實(shí)施例中，該平臺(tái)35為一XY軸才幾械平臺(tái)(X-Ytable),在驅(qū)動(dòng)器、軸控卡與軟件等的控制下，平臺(tái)35可移動(dòng)并準(zhǔn)確定位該元件36。在上述實(shí)施例中，該鉛直光產(chǎn)生裝置39為一遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡(telecentriclens),相較于第一實(shí)施例的導(dǎo)光系統(tǒng)13使用已知的平場(chǎng)聚焦透鏡19,即一般振鏡掃描系統(tǒng)所采用的f/e透鏡，此實(shí)施例所使用的遠(yuǎn)心平場(chǎng)聚焦透鏡39可有效改善因激光光射入角度偏斜而產(chǎn)生的失真問題。請(qǐng)參閱圖4，其為比較一般振鏡系統(tǒng)所采用的f/e透鏡19與本實(shí)施例的遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡39產(chǎn)生的光束的差別，一般透鏡19會(huì)因光束投射角度而有視角失真的缺點(diǎn)，而采用遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡組合的鉛直光產(chǎn)生裝置39的設(shè)計(jì)，即可達(dá)到低失真率，以符合激光蝕刻精密元件時(shí)所需的品質(zhì)要求。請(qǐng)參閱圖5,其為本案激光蝕刻裝置的導(dǎo)光系統(tǒng)53的立體結(jié)構(gòu)示意圖，該導(dǎo)光系統(tǒng)53是用以將一激光光束52打入一元件56,其包含一振鏡式掃描系統(tǒng)57,用以調(diào)整該激光光束52打入該元件56的位置，以及一鉛直光產(chǎn)生裝置59，用以使該激光光束52以4&直方向打入該元件56。在此實(shí)施例中，該激光光束52的才莫式為TEMoo,該振鏡式掃描系統(tǒng)57為一XY軸高速掃描振鏡系統(tǒng)，包含X軸振鏡571和Y軸振鏡572,以快速并精確的將激光光束52定位后經(jīng)過該鉛直光產(chǎn)生裝置59于元件56上打點(diǎn)，而該鉛直光產(chǎn)生裝置59為一遠(yuǎn)心平場(chǎng)透4竟。在前述實(shí)施例中，元件36、56可為一導(dǎo)光板，或是一導(dǎo)光板的模仁，但其并不限制于背光模塊元件，任何需要高精密度、高精準(zhǔn)度、高效能、高產(chǎn)能及失真率極低的激光打點(diǎn)的產(chǎn)品元件，均可使用本案的激光蝕刻裝置或?qū)Ч庀到y(tǒng)。綜上所述，本案所提供的激光蝕刻裝置3和激光蝕刻裝置的導(dǎo)光系統(tǒng)53,除了具有第一實(shí)施例的激光蝕刻裝置1的高效能，以及產(chǎn)品尺寸可大于462.25平方公分(215mmx215mm)的特征和優(yōu)點(diǎn)之外，因在導(dǎo)光系統(tǒng)33、53上使用了振鏡系統(tǒng)37、57結(jié)合遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡39、59，來取代已知振鏡掃描系統(tǒng)釆用的一般透鏡，有效改善了已知激光蝕刻裝置的產(chǎn)品元件圖樣失真的問題。以上所述是利用較佳實(shí)施例詳細(xì)說明本創(chuàng)作，而非限制本創(chuàng)作的范圍，因此熟知此技藝的人士應(yīng)能明了，適當(dāng)而作些微的改變與調(diào)整，仍將不失本創(chuàng)作的要義所在，也不脫離本創(chuàng)作的精神和范圍。權(quán)利要求1.一種激光蝕刻裝置，用以蝕刻一背光模塊元件，該激光蝕刻裝置包含產(chǎn)生一激光光束的一激光光源；接收及傳送該激光光束的一導(dǎo)光系統(tǒng)；以及承載及移動(dòng)該背光模塊元件的一平臺(tái)，其中該導(dǎo)光系統(tǒng)包含調(diào)整該激光光束打入該背光模塊元件的位置的一振鏡式掃描系統(tǒng)。2、如權(quán)利要求1所述的激光蝕刻裝置，其中該激光光束的模式為TEMoo。3、如權(quán)利要求1所述的激光蝕刻裝置，其中該背光模塊元件為一導(dǎo)光板。4、如權(quán)利要求1所述的激光蝕刻裝置，其中該背光模塊元件為一導(dǎo)光板的模仁。5、如權(quán)利要求1所述的激光蝕刻裝置，其中該背光模塊元件的尺寸大于462.25平方公分。6、如權(quán)利要求1所述的激光蝕刻裝置，其中該平臺(tái)為一XY軸枳4成平臺(tái)。7、一種激光蝕刻裝置，用以蝕刻一元件，該激光蝕刻裝置包含產(chǎn)生一激光光束的一激光光源；接收及傳送該激光光束的一導(dǎo)光系統(tǒng)；以及承載及移動(dòng)該元件的一平臺(tái)，其中該導(dǎo)光系統(tǒng)包含調(diào)整該激光光束打入該元件的位置的一振鏡式掃描系統(tǒng)；以及使該激光光束以鉛直方向打入該元件的一鉛直光產(chǎn)生裝置。8、如權(quán)利要求7所述的激光蝕刻裝置，其中該鉛直光產(chǎn)生裝置為一遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡。9、一種激光蝕刻裝置的導(dǎo)光系統(tǒng)，用以將一激光光束打入一元件，該導(dǎo)光系統(tǒng)包含調(diào)整該激光光束打入該元件的位置的一振鏡式掃描系統(tǒng)；以及使該激光光束以鉛直方向打入該元件的一鉛直光產(chǎn)生裝置。10、如權(quán)利要求9所述的導(dǎo)光系統(tǒng)，其中該激光光束的才莫式為TEMoo;該元件為一導(dǎo)光板或一導(dǎo)光板的模仁；該元件的尺寸大于462,25平方公分；及/或該鉛直光產(chǎn)生裝置為一遠(yuǎn)心平場(chǎng)透鏡。專利摘要本案為一種激光蝕刻裝置，用以蝕刻一背光模塊元件，該激光蝕刻裝置包含用以產(chǎn)生一激光光束的一激光光源，用以接收及傳送該激光光束的一導(dǎo)光系統(tǒng)，以及用以承載及移動(dòng)該背光模塊元件的一平臺(tái)，其中該導(dǎo)光系統(tǒng)包含一振鏡式掃描系統(tǒng)，用以調(diào)整該激光光束打入該背光模塊元件的位置。本案的激光蝕刻裝置結(jié)合了振鏡掃描系統(tǒng)和機(jī)械平臺(tái)來蝕刻背光模塊元件，因此可對(duì)大尺寸模具或元件作高速精密的干蝕刻。文檔編號(hào)B23K26/36GK201079891SQ20072015039公開日2008年7月2日申請(qǐng)日期2007年6月28日優(yōu)先權(quán)日2007年6月28日發(fā)明者嚴(yán)永銘,葉士瑋,吳泰緯,周賢能,李玉麟,楊舜涵,江柏毅,王恭謙,陳光文,陳啟宏,陳永富,陳紀(jì),黃永祥申請(qǐng)人:豪晶科技股份有限公司