調(diào)制裝置和電源配置的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種在多細射束帶電粒子光刻系統(tǒng)中根據(jù)圖案數(shù)據(jù)來調(diào)制帶電粒子細射束的調(diào)制裝置。該裝置包括：板狀主體；由多個細射束偏轉(zhuǎn)器組成的陣列；多個電源終端(202至205)，用于供應至少兩個不同的電壓；多個控制電路；以及導電板條(201)，用于供電給電源終端(202至205)中的一者或多者。該板狀主體被分成狹長的射束區(qū)(51)以及狹長的非射束區(qū)(52)，該射束區(qū)(51)與該非射束區(qū)(52)被定位成使得它們的長邊彼此相鄰。細射束偏轉(zhuǎn)器被放置在射束區(qū)中?？刂齐娐繁环胖迷诜巧涫鴧^(qū)中。導電板條被連接至非射束區(qū)中的控制電路。導電板條包括多個薄的導電平板(202至205)。
【專利說明】調(diào)制裝置和電源配置

【技術(shù)領域】
[0001] 本發(fā)明大體上涉及光刻系統(tǒng)，且更明確地說，本發(fā)明涉及帶電粒子細射束調(diào)制裝 置以及用于細射束調(diào)制裝置的電源系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002] 帶電粒子光刻系統(tǒng)在本領域中是已知的，舉例來說，可從以本案 申請人:所有的美 國專利第6, 958, 804號中得知。此光刻系統(tǒng)使用多個電子細射束（electronbeamlet)將 圖案轉(zhuǎn)印至目標表面。圖案數(shù)據(jù)被發(fā)送至調(diào)制裝置，該調(diào)制裝置亦稱為細射束阻斷器陣列。 在此，例如通過對這些細射束進行靜電偏轉(zhuǎn)用以接通或切斷選定的細射束，來調(diào)制這些細 射束。這些經(jīng)過調(diào)制的細射束被投射到要被曝光的目標的表面上。為了能將圖案高速轉(zhuǎn)印 至目標表面，可能會使用光學傳送方式將控制數(shù)據(jù)傳送至該調(diào)制裝置。
[0003] 為制造能夠以非常高的生產(chǎn)量實施具有較小臨界圖案尺寸的曝光的光刻系統(tǒng)，已 經(jīng)有人提出具有非常大量的帶電粒子細射束的帶電粒子系統(tǒng)。適用于較小臨界尺寸的帶電 粒子系統(tǒng)中的射束數(shù)量大小可能為數(shù)萬道、數(shù)十萬道、或是數(shù)百萬道。
[0004] 為達到光刻目的，進行最終投射的區(qū)域通常會限制到單個場，以及在細射束維持 基本上平行的帶電粒子系統(tǒng)中，這會造成該調(diào)制裝置的區(qū)域被限制到約27x27mm。調(diào)制裝置 的電力需求相當大，而且在調(diào)制裝置中流動的電流會產(chǎn)生磁場。在這樣的小區(qū)域中，這些磁 場的效應會變得非常明顯。調(diào)制裝置的區(qū)域中的任何磁場會施加一偏轉(zhuǎn)作用力在通過該裝 置的電子細射束上，而且即使細射束非常小的偏轉(zhuǎn)仍可能在該目標上造成寫入誤差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 所以，本發(fā)明的目的是降低因為在細射束調(diào)制裝置中流動的電流而造成的不希望 的磁場的效應。本發(fā)明由獨立權(quán)利要求來定義。從屬權(quán)利要求定義了有利的實施例。據(jù) 此，根據(jù)隨附權(quán)利要求，本發(fā)明涉及一種調(diào)制裝置并且涉及一種帶電粒子光刻系統(tǒng)，而且涉 及一種電源配置。
[0006] 在第一方面，本發(fā)明涉及一種使用在帶電粒子光刻系統(tǒng)（100)中的調(diào)制裝置，該 帶電粒子光刻系統(tǒng)（1〇〇)適于產(chǎn)生帶電粒子細射束（123)。該調(diào)制裝置被配置成用以根據(jù) 圖案數(shù)據(jù)來調(diào)制該等帶電粒子細射束并且包括：i)板狀主體（106) ;ii)由多個細射束偏 轉(zhuǎn)器（30)組成的陣列，所述細射束偏轉(zhuǎn)器設置在所述板狀主體（106)上，用于偏轉(zhuǎn)所述細 射束；iii)多個電源終端（202至205)，用于供應至少兩個不同的電壓；iv)多個控制電路 (40、41)，設置在所述板狀主體（106)上，以接收所述圖案數(shù)據(jù)和供應對應的控制信號給所 述細射束偏轉(zhuǎn)器（30)，其中，所述控制電路（40、41)由所述多個電源終端（202至205)來 饋電；以及v)導電板條（201)，被配置成為所述電源終端（202至205供電。再者，該調(diào)制 裝置的主體被分成狹長的射束區(qū)（51)以及被定位在該射束區(qū)（51)旁邊的狹長的非射束區(qū) (52)，使得該射束區(qū)（51)的一長邊鄰接一相鄰非射束區(qū)（52)的一長邊。這些細射束偏轉(zhuǎn) 器設置在射束區(qū)（51)中?？刂齐娐罚?0、41)被放置在非射束區(qū)（52)中，用于提供控制信 號給細射束偏轉(zhuǎn)器（30)。導電板條（201)被連接至非射束區(qū)（52)中的控制電路（40、41)， 該導電板條（201)包括多個薄的導電平板（202至205)，其中，導電板條（201)形成電源配 置的一部分。設置在該板狀主體"上"的多個細射束偏轉(zhuǎn)器和控制電路并不意味著它們必 須完全僅設置在板狀主體的表面上。偏轉(zhuǎn)器和控制電路的一部分，或是全部，也可能設置在 板狀主體中。
[0007] 電源配置提供了相對短的電源線路至控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器。包括多個薄的導 電平板（優(yōu)選的是，每個平板連接至不同的電源終端，但是并非必要）的導電板條可能沿著 該板條長度的全部或是大部分被連接至調(diào)制裝置的控制電路，使得將電源連接至控制電路 和細射束偏轉(zhuǎn)器的導電線路會在基本上垂直于導電板條板面的方向中延伸，以便最小化它 們的長度。結(jié)果，由這些互聯(lián)線路所生成的磁場能夠被最小化。降低磁場是通過該導電板 條的特定結(jié)構(gòu)實現(xiàn)的，該導電板條是由幾個平行布置的薄的導電平板所組成的。
[0008] 調(diào)制裝置的一個實施例包括被配置成向電源終端供電的多個導電板條。調(diào)制裝置 的主體被分成多個狹長的射束區(qū)以及被定位在射束區(qū)旁邊的多個狹長的非射束區(qū)，使得每 個射束區(qū)的一長邊鄰接一相鄰非射束區(qū)的一長邊。細射束偏轉(zhuǎn)器被分群布置，每一群細射 束偏轉(zhuǎn)器均放置在射束區(qū)的其中一者中。控制電路被放置在非射束區(qū)中，用于為細射束偏 轉(zhuǎn)器提供控制信號。每個控制電路被放置在相鄰于射束區(qū)中其中一者的非射束區(qū)中其中一 者之中，射束區(qū)含有從該控制電路處接收控制信號的細射束偏轉(zhuǎn)器中的一者或多者。再者， 導電板條被連接至非射束區(qū)中的控制電路，每個導電板條包括多個薄的導電平板，其中，多 個導電板條形成該電源配置的一部分。此種交替的調(diào)制裝置設計的優(yōu)點是：該調(diào)制裝置能 夠被制造成更大型（也就是，提高該帶電粒子光刻系統(tǒng)的寫入能力），同時保持與電源終端 的短距且低阻抗的連接。
[0009] 在調(diào)制裝置的實施例中，每個薄的導電平板被配置成用于連接到電源終端中各自 的一個電源終端。如果控制電路具有有不同供應電壓的多個電源終端，這會特別有利。
[0010] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中其中一者的每個導電平板均有以一個或多個 邊終止的板面，而且這些平板設置成使得它們的板面基本上彼此平行。第一種效應是這些 平板充當彼此的屏蔽平板。再者，此種結(jié)構(gòu)允許有位于附近的電流返回路徑，使得電流回路 能夠保持為較小的。這會導致電源線路電感較小，有利于電源噪聲。
[0011] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中其中一者的每個導電平板的板面有基本上相 等的面積。此實施例的優(yōu)點是屏蔽效應會提高，也就是，這些平板中沒有任何一者會延伸超 越其它平板。
[0012] 在調(diào)制裝置的實施例中，每個導電平板具有基本上均勻的厚度。這還會造成這些 平板有均勻的電阻值和均勻的最大電流容量。
[0013] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電平板中其中一者的厚度與該平板板面的面積的平方 根的比值小于0. 01。這種結(jié)構(gòu)會導致在電源連接的低電源電阻值方面有非常好的電氣性 能。
[0014] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中其中一者的每個導電平板具有相對于該導電 板條其它導電平板基本上相同的電阻率。此較厚的導電板條可以有利地被選為共同的電源 終端，也就是，電氣接地終端，其充當所有電源終端的電流返回路徑。
[0015] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中其中一者的每個導電平板在其范圍中的每個 位置處具有相對于該導電板條其它導電平板基本上相同的電阻率。此種配置的優(yōu)點是電源 電位會被最佳定義（比較不會受到處理和設計變化的影響）。
[0016] 在調(diào)制裝置的實施例中，每個導電平板的至少一個邊適于連接至電源，而且每個 平板的至少一個不同的邊適于連接至多個控制電路。在此實施例中，導電板條中的多個導 電平板可以被耦合至電源，其可以便利地被集成在其他基板或平板上。
[0017] 在調(diào)制裝置的實施例中，控制電路分布在非射束區(qū)長邊的基本上整個長度中，該 長邊鄰接一相鄰射束區(qū)的長邊。這種結(jié)構(gòu)會在控制電路和射束區(qū)里面的細射束偏轉(zhuǎn)器之間 造成最短的連接。
[0018] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中其中一者和一非射束區(qū)中的控制電路之間的 連接分布在一非射束區(qū)的長邊的基本上整個長度中，該長邊鄰接一相鄰射束區(qū)的長邊。因 為其保持很低的寄生電感，所以，這會導致最佳的電流分布而且相當有利。
[0019] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條和控制電路之間的連接是通過調(diào)制裝置主體的 一表面上的多個導電凸塊或焊接點形成的。這是形成這些連接的一種便利的方式。
[0020] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條包括：第一部分，其有一面平行于該主體中放置 著凸塊的表面；以及較大的第二部分，其基本上垂直于主體的表面。這樣的配置使得容易使 用凸塊來形成這些連接。
[0021] 在調(diào)制裝置的實施例中，第一多個導電凸塊或焊接點連接一導電板條的導電平板 中的第一導電平板；而第二多個導電凸塊連接該導電板條的導電平板中的第二導電平板。
[0022] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中至少其中一者包括：多個導電平板，它們被配 置成將正向電流從電源傳導至控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器；以及至少一個導電平板，其被配 置成用以將返回電流從控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器處傳導至電源，其中，正向電流基本上等 于返回電流。這樣的配置有利于保持電流回路較小并且保持寄生電感較低。每個導電板條 的導電平板優(yōu)選的被制造成具有相同的尺寸和相同的電阻率。流經(jīng)每個導電板條的導電 平板的正向電流和返回電流優(yōu)選地是相等的。由于這些平板的形狀、它們的均勻電阻率、以 及這些平板之間非常短的分離距離的關(guān)系，平行的平板能夠被近似視為平行的無限電流薄 板。又，因為流至調(diào)制裝置的電流等于回流至電源的返回電流，所以，每個導電板條的導電 平板上的線性電流密度的總和接近于零。在第一級近似中，由導電板條所產(chǎn)生的磁場在導 電平板之間的區(qū)域中以外的每個地方都接近于零，因此，能夠建立非常良好的磁場抵消效 果。
[0023] 在調(diào)制裝置的實施例中，傳導正向電流的平板的厚度的總和與傳導返回電流的平 板的厚度的總和的比值介于〇. 7與1. 3之間，而且優(yōu)選的是，約1. 0。這種配置確保電流密 度是均勻的，且因此，熱效應（因為電流流動所造成的加熱）會更均勻。
[0024] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條中其中一者的兩個相鄰導電平板之間的距離與 該相鄰平板之板面的面積的平方根的比值小于0.01。這種配置導致在電源連接的低功率寄 生電感方面有非常好的電氣性能。
[0025] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條進一步包括被夾在導電平板之間的電絕緣層。 此實施例的其中一項優(yōu)點是，電絕緣層會提供導電板條的機械穩(wěn)定性。
[0026] 在調(diào)制裝置的實施例中，導電板條為矩形的，具有兩個相等的長邊以及兩個相等 的短邊。此實施例導致一種簡單的設計，確保電源連接的低阻抗。
[0027] 在調(diào)制裝置的實施例中，從平板至光敏組件的導電線路以及返回線路基本上垂直 于平板的板面。
[0028] 在調(diào)制裝置的實施例中，射束區(qū)具有一長度與一寬度，該長度為該寬度的至少五 倍。此實施例導致一種簡單的設計，確保電源連接的低阻抗。
[0029] 在調(diào)制裝置的實施例中，射束區(qū)具有一長度與一寬度，該長度為該寬度的至少十 倍。此實施例導致一種簡單的設計，確保該電源連接的更低阻抗。
[0030] 在調(diào)制裝置的實施例中，細射束偏轉(zhuǎn)器設置在射束區(qū)中的多個二維陣列中，每個 偏轉(zhuǎn)器具備延伸在孔徑的相對的側(cè)上的多個電極，用以產(chǎn)生跨越該孔徑的電壓差。這種配 置提供一種由多個細射束偏轉(zhuǎn)器組成的簡單且緊湊的陣列。
[0031] 在調(diào)制裝置的實施例中，控制電路包括多個光敏組件，它們被配置成接收載有圖 案數(shù)據(jù)的經(jīng)過調(diào)制的光學信號并且將該光學信號轉(zhuǎn)換成用于控制細射束偏轉(zhuǎn)器的電控制 信號。在該調(diào)制裝置中接收信號在光學上的重大優(yōu)點是可以輕易越過一真空屏障而不會干 擾該真空，也就是，經(jīng)由一窗口或是一跨越該真空屏障的光纖。
[0032] 在調(diào)制裝置的實施例中，控制電路進一步包括多個多路分解器，每個多路分解器 設置成從光敏組件中的一個對應光敏組件接收控制信號，并且多路分解該控制信號用以產(chǎn) 生多個控制信號，以便控制多個細射束偏轉(zhuǎn)器。如果使用光纖以光學方式將這些信號傳送 給操控器，則可利用的帶寬會非常大。此帶寬開啟分享多個細射束偏轉(zhuǎn)器之間的這種光纖 連接的機會。光纖具有特定的尺寸，并且因此會占用光刻設備中的空間。這便是此處所述 實施例何以非常便利的原因（達到最大資源共享，同時保持足夠的帶寬）。
[0033] 第二方面，本發(fā)明進一步涉及一種帶電粒子光刻系統(tǒng)，其包括：i)射束產(chǎn)生器，被 配置成用于產(chǎn)生被分成多個不同群的多個帶電粒子細射束；ii)根據(jù)前述項中任一項的調(diào) 制裝置；以及iii)投射系統(tǒng)，被配置成用于將經(jīng)調(diào)制的細射束投射到要被曝光的目標上。 再者，該調(diào)制裝置的每個射束區(qū)被定位在這些細射束群中其中一群的路徑中，而每個非射 束區(qū)則被定位在細射束群的路徑外面。本發(fā)明的帶電粒子光刻系統(tǒng)會便利地從本發(fā)明的調(diào) 制裝置處獲得好處。此系統(tǒng)具有和本發(fā)明調(diào)制裝置的實施例類似的實施例。
[0034] 第三方面，本發(fā)明還涉及一種用于使用在本發(fā)明的帶電粒子光刻系統(tǒng)中的電源配 置。該電源配置包括：i)至少一個輸入終端，用以接收至少一個輸入電壓；ii)至少兩個輸 出終端，用以供應至少兩個不同的輸出電壓；iii)至少一個DC-DC轉(zhuǎn)換器，被耦合在至少一 個輸入終端和至少兩個輸出終端之間，該至少一個DC-DC轉(zhuǎn)換器被配置成用于將該至少一 個輸入電壓轉(zhuǎn)換成至少兩個不同的輸出電壓；以及iv)導電板條，被耦合到至少兩個輸出 終端，該導電板條被配置成用于被耦合至調(diào)制裝置的電源終端，以便供電給調(diào)制裝置，該導 電板條包括多個薄的導電平板。如先前實施例的討論，本發(fā)明還可以實現(xiàn)在其上形成導電 板條的電源配置中，其中，該導電板條被配置成用于耦合至調(diào)制裝置并且供電給調(diào)制裝置。 同樣地，每個導電板條都包括多個導電平板，如根據(jù)本發(fā)明的調(diào)制裝置所述。
[0035] 該電源配置的實施例包括多個導電板條，它們被配置成供電給電源終端，每個導 電板條包括多個薄的導電平板。此實施例的優(yōu)點與效果類似于調(diào)制裝置的對應實施例的優(yōu) 點與效果。
[0036] 在電源配置的實施例中，每個薄的導電平板被配置成用于連接至電源終端的各自 一個電源終端。此實施例的優(yōu)點與效果類似于調(diào)制裝置的對應實施例的優(yōu)點與效果。
[0037] 根據(jù)第三方面的電源配置具有與根據(jù)第一方面的調(diào)制裝置相同的實施例。
[0038] 在本發(fā)明的第四方面中，本發(fā)明提供一種用于使用在適于產(chǎn)生多群帶電粒子細射 束的帶電粒子光刻系統(tǒng)中的調(diào)制裝置，該調(diào)制裝置被配置成用于根據(jù)圖案數(shù)據(jù)來調(diào)制帶電 粒子細射束并且包括：板狀主體；由多個細射束偏轉(zhuǎn)器組成的陣列，細射束偏轉(zhuǎn)器被配置 成用于偏轉(zhuǎn)細射束；多個控制電路，被配置成用于接收該圖案數(shù)據(jù)并且供應對應的控制信 號給細射束偏轉(zhuǎn)器；以及多個導電板條，被配置成用于為控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器供電。其 中，調(diào)制裝置的主體被分成多個狹長的射束區(qū)以及被定位在射束區(qū)旁邊的多個狹長的非射 束區(qū)，使得每個射束區(qū)的一長邊鄰接一相鄰非射束區(qū)的一長邊。其中，細射束偏轉(zhuǎn)器被配 置成多個群，每一群細射束偏轉(zhuǎn)器被放置在射束區(qū)的其中一者之中。其中，控制電路被放置 在非射束區(qū)中，每個控制電路被放置在與射束區(qū)中其中一者相鄰的非射束區(qū)中其中一者之 中，射束區(qū)含有細射束偏轉(zhuǎn)器中的一者或多者，該細射束偏轉(zhuǎn)器從控制電路接收控制信號。 且其中，導電板條被連接至非射束區(qū)中的控制電路，每個導電板條均包括多個薄的導電平 板。
[0039] 根據(jù)第四方面的調(diào)制裝置具有與根據(jù)第一方面的調(diào)制裝置相同的實施例。
[0040] 該電源配置提供多條相對短的電源線路至控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器。包括多個薄 的導電平板（每個平板皆連接至不同的電源終端）的多個導電板條可能沿著該板條長度的 全部或是大部分被連接至調(diào)制裝置的控制電路，使得將電源連接至控制電路和細射束偏轉(zhuǎn) 器的導電線路會在基本上垂直于導電板條的板面的方向中延伸，以便最小化它們的長度。 結(jié)果，由這些互連線路所生成的磁場能夠被最小化。
[0041] 降低磁場是通過導電板條的特定結(jié)構(gòu)配置的，導電板條每一者均由幾個平行配置 的薄的導電平板所組成。每個導電板條的導電平板優(yōu)選地被制造成具有相同的尺寸和相同 的電阻率。流經(jīng)每個導電板條的導電平板的正向電流和返回電流優(yōu)選地是相等的。由于 平板的形狀、它們的均勻電阻率、以及平板之間非常短的分離距離，平行的平板能夠被近似 視為平行的無限電流薄片。又，因為流至該調(diào)制裝置的電流等于回流至電源的返回電流，所 以，每個導電板條的導電平板上的線性電流密度的總和接近于零。在第一級近似中，由導電 板條所產(chǎn)生的磁場在導電平板之間的區(qū)域中以外的每個地方都接近于零，因此，能夠建立 非常良好的磁場抵消效果。
[0042] 在實施例中，由每個導電板條所提供的電源會與其它導電板條所提供的電源有效 隔離，因此，不會有經(jīng)由該調(diào)制裝置在導電板條之間流動的任何不合需要的電流。此實施例 的特征可應用于本發(fā)明的所有已提及的實施例。
[0043] 本發(fā)明的第五方面涉及一種用于將電源電氣連接至負載的導電板條。該導電板條 包括多個導電平板。每個平板都有以一個或多個邊終止的板面。每個導電平板具有基本上 均勻的厚度，而且非常薄。優(yōu)選的是，每個平板的厚度與該平板的板面的面積的平方根的比 值小于0. 01。平板被配置成使得它們的板面基本上彼此平行。
[0044] 本發(fā)明的第五方面的導電板條可以被配置在本發(fā)明的第一方面至第四方面的任 一項中，并且可能包含在本發(fā)明的第一方面至第四方面中所述的導電板條的特征中的一或 更多者。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0045] 現(xiàn)在將參考附圖來進一步說明本發(fā)明的前述與其它目的，其中：
[0046]圖1所示的是帶電粒子多細射束光刻系統(tǒng)的概念性示意圖；
[0047] 圖2所示的是圖1的光刻系統(tǒng)的器件的模塊式配置；
[0048] 圖3所示的是細射束阻斷器陣列與電源的互連結(jié)構(gòu)的簡化示意圖；
[0049] 圖4示意性地顯示細射束阻斷器陣列的一部分的更詳細布局的俯視圖；
[0050]圖5所示的是用于供能給該細射束阻斷器陣列中的偏轉(zhuǎn)器的電路的簡化示意圖；
[0051] 圖6所示的是細射束阻斷器陣列和多個功率板條組成的配置的簡圖；
[0052] 圖7a所示的是圖5實施例中的這些功率板條中其中一者的連接的更詳細示圖；
[0053] 圖7b所示的是圖7a實施例的這些功率板條中其中一者的連接的剖面圖；
[0054] 圖7c所示的是兩個功率板條的另一種連接配置的剖面圖；
[0055] 圖8所示的是細射束阻斷器陣列的射束區(qū)中的電氣隔離的簡化示意圖；
[0056] 圖9所示的是細射束阻斷器陣列的供電單元中的功率調(diào)制的概念性結(jié)構(gòu)；以及
[0057] 圖10所示的是細射束阻斷器陣列的供電單元的簡化示意俯視圖。

【具體實施方式】
[0058] 下面為本發(fā)明某些實施例的說明，其僅作為示例給出并且參考附圖。附圖并未依 照比例繪制而且其僅僅旨在達到解釋的目的。不同附圖中的等效元件會以相同的組件符號 來表示。
[0059] 圖1所示的是以電子射束光學系統(tǒng)為基礎的帶電粒子多細射束光刻系統(tǒng)100的概 念性示意圖，所有這些電子細射束沒有常見的交叉。舉例來說，這樣的光刻系統(tǒng)已經(jīng)在美 國專利第 6, 897, 458 號、第 6, 958, 804 號、第 7, 019, 908 號、第 7, 084, 414 號、第 7, 129, 502 號、以及第8, 089, 056號；美國專利申請公開第2007/0064213號、第2009/0261267號、第 2011/0079739號、以及第2012/0091358號中說明過，這些案件全部已受讓給本發(fā)明的擁有 人，而且本文以引用的方式將它們完整并入。
[0060] 在圖1中所示的實施例中，光刻設備100包括電子光學柱，其具有電子源101，用以 產(chǎn)生擴展的電子射束120。該擴展的電子射束120會被準直器透鏡系統(tǒng)102準直。該經(jīng)準 直的電子射束121會照射在孔徑陣列103上，該孔徑陣列103會阻隔射束的一部分，以生成 多個子射束（sub-beam) 122。聚光器透鏡陣列104被包含在孔徑陣列103后面，用以將子 射束122聚焦成，例如朝向射束阻擋陣列108中的對應開口。子射束122會照射多孔徑陣 列105,其會阻隔每一道子射束的一部分，以從每一道子射束122生成多個細射束123。在 此示例中，孔徑陣列105雖然從每一道子射束生成三道細射束；但是，實際上，每一道子射 束可以產(chǎn)生更多數(shù)量的細射束，舉例來說，49道細射束，甚至更多，因此，該系統(tǒng)會產(chǎn)生非常 大量的細射束122,優(yōu)選地，約10, 000至1，000, 000道細射束。
[0061] 電子細射束123會通過細射束阻斷器陣列106中的孔徑。孔徑陣列105可以與細 射束阻斷器陣列106相集成，舉例來說，緊密的布置在一起或是設置成單個單元。細射束阻 斷器陣列106與射束阻擋陣列108會一起操作，用以調(diào)制細射束或是接通或切斷細射束。 該射束阻斷器陣列106包含多個細射束偏轉(zhuǎn)器，它們的形式可能是被定位在該陣列的每個 孔徑附近的阻斷器電極。藉由施加跨越孔徑阻斷器電極的電壓，通過該孔徑的細射束可能 被稍微偏轉(zhuǎn)。在通過細射束阻斷器陣列之后，這些細射束123會到達射束阻擋陣列108,該 射束阻擋陣列108有多個孔徑被定位成使得沒有被偏轉(zhuǎn)的細射束會通過該射束阻擋陣列 而經(jīng)偏轉(zhuǎn)的細射束則會被該射束阻擋陣列阻隔（或者，與之相反）。如果細射束阻斷器陣 列106偏轉(zhuǎn)了細射束，則該細射束將不會通過射束阻擋陣列108中的對應孔徑，而是會被阻 隔；但是，如果細射束阻斷器陣列106沒有偏轉(zhuǎn)細射束，那么，該細射束將會通過射束阻擋 陣列108中的對應孔徑，并且通過射束偏轉(zhuǎn)陣列109與投射透鏡陣列110。因此，細射束阻 斷器陣列106與射束阻擋陣列108會一起操作，用以阻隔細射束123或是讓細射束123通 過。
[0062] 射束偏轉(zhuǎn)器陣列109會在與沒有被偏轉(zhuǎn)的細射束的方向基本上垂直的X及/或Y 方向中偏轉(zhuǎn)細射束124,用以使這些細射束掃描過目標或基板的整個表面130。接著，細射 束124會通過投射透鏡陣列110并且被投射在基板的表面130上。該投射透鏡配置優(yōu)選地 提供約100至500倍的縮小倍數(shù)。這些細射束124會照射在被定位于用以承載該基板的可 移動平臺132上的基板的表面130上。對光刻應用來說，該基板經(jīng)常包括具備帶電粒子敏 感層或光阻層的晶圓。
[0063] 控制單元140可被提供用以提供用來控制細射束阻斷器陣列106的信號。該控制 單元140可包括數(shù)據(jù)儲存單元142、處理器單元143、以及數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器144。該控制單元140 可能被放置在遠離該系統(tǒng)的其余部分之處，舉例來說，位于無塵室內(nèi)部的外面。該控制系統(tǒng) 可進一步被連接至致動器系統(tǒng)146,用以控制可移動平臺132的移動以及偏轉(zhuǎn)陣列109對細 射束的掃描。該控制單元140可能被配置成用于處理圖案數(shù)據(jù)，以便產(chǎn)生用于控制阻斷器 電極的信號。該圖案數(shù)據(jù)可被轉(zhuǎn)換成經(jīng)過調(diào)制的光射束以便通過使用光纖傳送至細射束阻 斷器陣列106,經(jīng)過調(diào)制的光射束從光纖末端被投射到放置在細射束阻斷器陣列106上的 對應光敏組件上。這些光敏組件可以被配置成將光信號轉(zhuǎn)換成用于控制阻斷器電極的電信 號。
[0064] 帶電粒子光刻設備100操作在真空環(huán)境中。要求真空是為了移除可能被帶電粒子 射束離子化并且被吸引至該源的粒子，它們可能會解離并且被沉積在機械器件上，并且可 能會分散帶電粒子射束。通常需要至少1(T6巴的真空。為保持真空環(huán)境，該帶電粒子光刻 系統(tǒng)被放置在真空腔室135中。光刻設備100的所有主要組件優(yōu)選地被容納在一共同的真 空腔室中，這些主要組件包括帶電粒子源、用于將細射束投射到基板上的投射系統(tǒng)、以及可 移動的平臺。
[0065] 圖2所示的是模塊式光刻設備500的主要組件的簡化框圖。該光刻設備500優(yōu)選 地是以模塊方式來設計的，以便允許方便維修。主要子系統(tǒng)優(yōu)選地是以自包含的且可拆卸 的模塊來建構(gòu)的，使得它們能夠從該光刻設備中移除，而對其它子系統(tǒng)造成盡可能小的干 擾。這特別有利于被封閉在真空腔室中的光刻機，其中，對該部機器的接近會受到限制。因 此，故障的子系統(tǒng)可快速地被移除和置換，而不必斷連或干擾其它系統(tǒng)。
[0066] 在圖2中所示的實施例中，這些模塊式子系統(tǒng)包括：照明光學模塊501，其包含帶 電粒子射束源101和射束準直系統(tǒng)102 ;孔徑陣列和聚光器透鏡模塊502,其包含孔徑陣列 103和聚光器透鏡陣列104 ;射束切換模塊503,其包含多孔徑陣列105和細射束阻斷器陣 列106 ;以及投射光學模塊504,其包含射束阻擋陣列108、射束偏轉(zhuǎn)器陣列109、以及投射透 鏡陣列110。該等模塊被設計成滑入對齊框架和從對齊框架滑出。在圖2中所示的實施例 中，該對齊框架包括對齊內(nèi)子框架505和對齊外子框架506?？蚣?08透過振動阻尼底座 507來支撐這些對齊子框架505與506。基板130擱在基板支撐結(jié)構(gòu)509上，該基板支撐結(jié) 構(gòu)509接著被放置在卡盤510上。該卡盤510位于短行程平臺511和長行程平臺512上。 該光刻設備被封閉在真空腔室135中，該真空腔室可能包括一個或多個繆金屬（mumetal) 屏蔽層515,并且擱置在由多個框架部件521支撐的底板520上。
[0067] 理所當然的是，沒有電源，細射束阻斷器陣列106便無法發(fā)揮功能。當細射束阻斷 器陣列106被連接至電源并且工作時，電流會流經(jīng)電源、電源與細射束阻斷器陣列上的電 路之間的連接電線、以及這些電路和細射束阻斷器陣列基板上的導電組件。這些電流全部 會產(chǎn)生磁場，這可能導致電子細射束的非所希望的偏轉(zhuǎn)并且在光刻系統(tǒng)所實施的曝光中造 成錯誤。如所見，本發(fā)明的目標是有效地降低這些磁場，使得光刻系統(tǒng)的操作能夠優(yōu)化。
[0068] 圖3所示的是本發(fā)明的一個實施例中的細射束阻斷器陣列106與電源的互連結(jié) 構(gòu)的簡化示意圖。該電源包括具有薄的導電平板形式的多個功率板條201、共同供電單元 300、以及數(shù)條電源連接線301。在圖中所示的實施例中有六個功率板條201。每個功率板 條201皆具有薄的矩形平板的形式，有一大的面以薄邊終止，并且具有一長邊與一短邊，從 圖6和圖7中可以更清楚看見；不過，也可以使用其它形狀。這些功率板條201的朝向基本 上垂直于阻斷器陣列106的表面（也就是，功率板條的面垂直于或接近垂直于阻斷器陣列 的表面），這些長邊中其中一者平行于該阻斷器陣列106的表面，以便連接至此，這些短邊 中其中一者垂直于阻斷器陣列106的表面（或者與其形成某個角度），以便經(jīng)過電源連接器 301連接至供電單元300。并非矩形結(jié)構(gòu)，取而代之的是，該功率板條在和阻斷器陣列106 進行連接的側(cè)邊以及被連接至供電單元300的側(cè)邊之間的整個軌道中可能具有固定寬度。 可以輕易了解的是，在這種情況中，還可以使用帶狀纜線（也就是，包括多個平行導體的帶 狀物）取代功率板條。
[0069] 圖3還顯示該細射束阻斷器陣列106細分成多個射束區(qū)51和多個非射束區(qū)52。 電子細射束123由光刻系統(tǒng)的上游組件引導至細射束阻斷器陣列106的射束區(qū)51上。射束 區(qū)51包含電子細射束123會通過的孔徑（細射束阻斷器陣列基板中的孔洞）、被定位在孔 徑旁邊用以偏轉(zhuǎn)電子細射束123的阻斷器電極，和將阻斷器電極連接至用于供能給阻斷器 電極的電路的導電線路。相反地，非射束區(qū)被定位在細射束123的正常路徑外面，并且包含 用于對設置在相鄰射束區(qū)51中的阻斷器電極進行控制的電路。非射束區(qū)52可能包含光敏 組件，例如，光電二極管，用于接收載有圖案數(shù)據(jù)的已調(diào)制光學信號并且將這些光學信號轉(zhuǎn) 換成用于控制細射束偏轉(zhuǎn)器的電信號。用以將已調(diào)制光學信號引導光敏組件的光纖還可能 被安排在非射束區(qū)中，以便防止干擾細射束123。功率板條201同樣被定位在非射束區(qū)中， 以便防止干擾細射束123 ;而且，功率板條與細射束阻斷器陣列106上的電路之間的連接同 樣在非射束區(qū)52中進行。
[0070] 在一個實施例中，阻斷器陣列106通常在平行于功率板條201的方向具有介于15 與35mm之間的長度L，舉例來說，約33mm，而在垂直于功率板條的方向具有介于10與50mm 之間的寬度W。在一個實施例中，阻斷器陣列106的主動區(qū)域（舉例來說，涵蓋所有射束區(qū) 51)的外形為33mmX30mm的方形。射束區(qū)51的寬度可以改變?yōu)楹弦说臄?shù)值，舉例來說，落在 0. 1與5mm之間的范圍中。在一個實施例中，射束區(qū)51與非射束區(qū)52的寬度為約2.0mm。
[0071] 在一個實施例中，如圖3中所示，每個射束區(qū)51可以被兩個相鄰的非射束區(qū)52使 用。因此，一射束區(qū)中的細射束偏轉(zhuǎn)器由被放置在該射束區(qū)兩側(cè)的非射束區(qū)中的光敏組件 所收到的信號來控制。又，對每個射束區(qū)51來說，電力由被連接至該射束區(qū)任一側(cè)的非射 束區(qū)的兩個相鄰的功率板條201來供應。
[0072] 圖4示意性地顯示細射束阻斷器陣列的一部分的更詳細布局的俯視圖，圖中顯示 單一射束區(qū)51。細射束阻斷器陣列進一步在該射束區(qū)的每一側(cè)包含一非射束區(qū)52,并且含 有負責控制通過該射束區(qū)的細射束123的偏轉(zhuǎn)的電路與器件。于此實施例中，這些非射束 區(qū)52實際上覆蓋該細射束阻斷器陣列106中沒有被保留用于射束區(qū)的所有表面區(qū)域。功 率由被連接至非射束區(qū)的兩個功率板條201來供應。
[0073] 非射束區(qū)52包含光學接口區(qū)53以及功率接口區(qū)55,并且可能進一步包含額外的 接口區(qū)57。光學接口區(qū)53被保留用于在多條光纖與細射束阻斷器陣列上的多個光敏組件 之間建立光學接口。光纖被配置成用以將已調(diào)制的光射束引導至被放置在該光學接口區(qū)53 內(nèi)的光敏組件。光纖會被適當配置，使得它們實際上不會在該光刻系統(tǒng)的使用期間阻隔射 束區(qū)51內(nèi)的電子細射束，舉例來說，如圖6b中所示。
[0074] 在一個實施例中，光學接口區(qū)53是一長矩形區(qū)（舉例來說，33mmx2. 0mm)。光學 接口區(qū)53的其中一個長邊是與射束區(qū)51的交界。射束區(qū)51中的細射束偏轉(zhuǎn)器30被分布 在該射束區(qū)的長度中。光敏組件優(yōu)選地被分布在光學接口區(qū)53的長度中，使得每個光敏組 件會被放置與射束區(qū)51中受到來自光敏組件的信號控制的（多個）細射束偏轉(zhuǎn)器30靠近 的位置處。該光學接口區(qū)53的另一個長邊是連接功率板條201的功率接口區(qū)55的邊界。
[0075] 功率接口區(qū)55被配置成用于容納功率裝置，用以適當?shù)毓╇娊o光學接口區(qū)53內(nèi) 的光敏組件和其它器件以及射束區(qū)51中的細射束偏轉(zhuǎn)器30。同樣如圖3中所示，功率板條 201延伸在基本上垂直于且遠離阻斷器陣列的方向中。此配置能夠?qū)⒐β示€路散布在一廣 大表面區(qū)域上，這會改善效率并且降低損失，舉例來說，因為增大的輻射表面積導致熱阻降 低。
[0076] 這些功率板條201與細射束阻斷器陣列106上的電路之間的電氣連接優(yōu)選地被分 布在這些功率板條的一長邊的長度中。功率板條201在光學接口區(qū)53側(cè)邊的位置會使得 從每個功率板條至相鄰光敏組件以及用于驅(qū)動阻斷器電極30所需要的其它電路使用相對 短的電源線路。
[0077] 狹長的射束區(qū)51 (含有分布在其長度中的多個細射束偏轉(zhuǎn)器30)、相鄰的狹長光 學接口區(qū)53 (含有分布在它們的長度中的多個光敏組件40)、以及相鄰于狹長光學接口區(qū) 53的狹長功率接口區(qū)55 (含有分布在它們的長度中連接至狹長功率板條201的多條電氣連 接線）所組成的配置可結(jié)合起來用于縮短從功率板條至由該功率板條供電的細射束偏轉(zhuǎn) 器的距離。從功率板條至光敏組件以及用于驅(qū)動細射束偏轉(zhuǎn)器的其它電路的導電電源線路 以及返回線路（電源共同線路）可能被配置成基本上垂直于功率板條的長邊，以便最小化 這些導電線路的距離。結(jié)果，由這些導電線路所創(chuàng)造的磁場可以被最小化。再者，不同電源 線路之間的電壓降變化同樣會因減少線路的長度的變化而減少，舉例來說，連接至比較靠 近功率板條的光敏組件相對于連接至更遠的光敏組件。在上面提及的實施例中，光學接口 區(qū)53是細長的矩形區(qū)域，舉例來說，33_x2. 0_。于此實施例中，光敏組件與相鄰功率板 條201之間的距離的變化最大值為4mm;不過，光敏組件也可能被定位在66mm2區(qū)域中的任 何地方。因此，電源線路之間的電壓降變化會大幅地降低。
[0078] 非射束區(qū)52可能進一步包含額外的接口區(qū)57,用以容納進一步的電路系統(tǒng)，舉例 來說，時鐘電路及/或控制電路。該等功率板條201可能還會被配置成提供足夠的功率給 額外的接口區(qū)57,用以供電給這些額外的電路。
[0079] 射束區(qū)51包括細射束偏轉(zhuǎn)器30。細射束偏轉(zhuǎn)器30優(yōu)選地是具有第一電極32和 第二電極34的靜電式偏轉(zhuǎn)器。圖4顯示一種由多個獨立細射束偏轉(zhuǎn)器30組成的配置。偏 轉(zhuǎn)器30可包括至少一個凹形電極32或34。適宜的是，如圖中所示的實施例中，兩個電極 32、34均有凹形的形狀。孔徑35在電極32、34之間延伸穿過射束區(qū)51中的細射束陣列基 板。凹形的形狀導致電極32、34具有與圓柱形孔徑35相符的形狀。這種圓柱形孔徑形狀 本身適合防止引入特定的光學像差，例如，像散現(xiàn)象。藉由謹慎選擇布局和偏轉(zhuǎn)方向，細射 束的偏轉(zhuǎn)便能夠分散在所有的方向中，從而避免在光刻系統(tǒng)的特定位置中不合需要地累積 電荷。
[0080] 圖5所示的是用于控制細射束偏轉(zhuǎn)器30的電路的一個實施例的簡化示意圖。圖中 所示的電路包括光敏組件40、多路分解器（demultiplexerMl、驅(qū)動器電路（舉例來說，運 算放大器）351、第一電極32、以及第二電極34。多路分解器41可以控制多個偏轉(zhuǎn)器30。在 圖中所示的實施例中，光敏組件40在光學前端電路中實現(xiàn)。這些電路由三個電源終端202、 203、205來供電，并且具有共同的電源終端204。這些電源終端還可被稱為電壓源，而共同 的電源終端還可被稱為電源共同端。然而，在電氣上，就電氣的觀點來說，因為電線的顯著 寄生阻抗，這樣的共同的電源終端204不可以被視為單一電節(jié)點。舉例來說，在一個實施例 中，電源終端202供應3. 3VDC，電源終端203供應2. 2VDC，而電源終端205供應1. 0VDC。
[0081] 光敏組件40由電源終端203和205來供電，并且被定位在非射束區(qū)52中。在一 個實施例中，載有用于控制一群細射束偏轉(zhuǎn)器的經(jīng)多路復用的圖案數(shù)據(jù)的光學信號會被引 導到光敏組件40上。該光敏組件40將光學信號轉(zhuǎn)換成電信號，并且將該電信號發(fā)送至多 路分解器41，該多路分解器41由電源終端205來供電。多路分解器41會多路分解該電信 號，以導出不同的控制信號，以便控制該群細射束偏轉(zhuǎn)器中的每個個體的細射束偏轉(zhuǎn)器30。
[0082] 如果特定的細射束123要被偏轉(zhuǎn)，則供能信號會被傳送至驅(qū)動電路351，該驅(qū)動電 路351被放置在射束區(qū)51中，靠近相關(guān)的第一電極32。由電源終端202來供電的驅(qū)動電 路351會放大該信號并且提供第一電極32與第二電極34之間的需要電壓差，以便偏轉(zhuǎn)入 射的電子射束123。相反地，如果特定的細射束123沒有要被偏轉(zhuǎn)的話，那么，對應的第一電 極32將不會被供能。這種情況下，入射的電子射束123會通過細射束偏轉(zhuǎn)器30,而不會被 偏轉(zhuǎn)。
[0083] 光敏組件40、多路分解器41、驅(qū)動電路351、以及第二電極34全部被連接至電源共 同端204，該電源共同端204承載返回電流給電源。
[0084] 圖6a所示的是細射束阻斷器陣列106和多個功率板條201組成的配置的簡圖。 每個功率板條201均被放置在相鄰射束區(qū)51之間的非射束區(qū)52中垂直于細射束阻斷器陣 列106的表面。每個功率板條201均沿著該功率板條的基本上整個長度連接至該細射束阻 斷器陣列106上的電路，功率板條相鄰于放置著細射束偏轉(zhuǎn)器的射束區(qū)51。每個功率板條 201還具有經(jīng)由連接器301到電源300的連接，這些連接是沿著該功率板條面向電源300的 側(cè)邊的基本上整個長度來進行的。
[0085] 圖6b所示的是細射束阻斷器陣列106的配置的簡圖，其顯示被放置在一個或多個 光纖束208旁邊的單塊功率板條201。于此實施例中，該功率板條201是在兩個光纖束208a 與208b之間，該光纖束全部被連接至射束區(qū)51a與51b之間的細射束阻斷器陣列。該功率 板條201會供電給該功率板條每一側(cè)兩個射束區(qū)51a與51b中的半數(shù)細射束偏轉(zhuǎn)器，而光 纖束208a與208b則分別供電給射束區(qū)51a與51b中的半數(shù)細射束偏轉(zhuǎn)器。
[0086] 圖7a所示的是功率板條201與細射束阻斷器陣列106之間的連接的更詳細透視 圖。每個功率板條201均包括平行布置的一個或多個薄的導電平板。圖中所示的實施例包 括四個功率平板202至205。每個功率平板可以被連接至電源300,用以供應不同的電壓給 細射束阻斷器陣列。舉例來說，在一個實施例中，功率平板202至205可以分別充當電源終 端202 (舉例來說，3. 3VDC)、電源終端203 (舉例來說，2. 2VDC)、電源共同端204、以及電源終 端205 (舉例來說，1VDC)。這些功率平板的材料優(yōu)選地是良好的導體并且適合制作有均勻 維度的薄平板，例如，銅。三個電絕緣層被夾在四個功率平板202至205之間，以便保持該 功率板條201的超薄結(jié)構(gòu)。功率平板202與205的兩個外側(cè)面可能同樣被絕緣層覆蓋。
[0087] 在一個實施例中，功率平板202至205的形式為矩形的平板。每個功率板條201的 平板202至205優(yōu)選地具有近似相同的長度與高度，而每個平板的厚度則可能不同。每個 平板優(yōu)選地在其范圍中具有均勻的厚度以及均勻的電阻率。在更明確的實施例中，每個功 率平板的高度hslab為約28mm;長度略大（其為連接至電源連接器301的允許額留下余地）； 兩個相鄰平板之間的距離為約5ym;被夾在功率平板202至205之間的電絕緣層的厚度為 約10ym(也就是，兩個相鄰平板之間的距離）；外側(cè)電絕緣層的厚度可以比較厚或是比較 薄，舉例來說，8ym;功率平板202、203以及205的厚度為約4ym，而功率平板204的厚度 為約15ym。這些厚度、功率平板202至205的距離（也就是，功率板條201的厚度）、以及 功率平板202上的一個外側(cè)電絕緣層的厚度的總和為約60ym。
[0088] 因為功率平板204接收在返回電路中流至電源的所有電流，所以，流經(jīng)功率平板 204的電流大于在每個其它平板中流動的電流（而且優(yōu)選地等于流經(jīng)該功率板條中所有其 它平板的組合電流）。因此，優(yōu)選的是，功率平板204具有充分較大的厚度用以降低它的電 阻率，以便導致在預期的操作條件下會與該功率板條中的其它平板有近似相等的熱膨脹。 更一般來說，當功率板條的不同平板在操作中承載不同電流時，這些平板的相對厚度優(yōu)選 地被配置成，使得因為電流流經(jīng)平板，平板的預期熱膨脹會近似相等。
[0089] 應該注意的是，對功率平板202至205來說，長度、高度、厚度、以及距離的相對大 小比絕對大小更為重要。長度、高度、厚度、以及距離可以一起改變?yōu)楦』蚋?。功率?板202至205優(yōu)選地被制造成在每個位置處具有相對彼此的相同的電阻率。因為功率平板 202至205的形狀和它們的均勻電阻率，電流會在操作中均勻地在這些平板中流動。
[0090] 封閉式導電電路中的通用規(guī)則是流自電源的總電流等于在返回電路中流動的電 流。為方便起見，將在返回電路中流動的電流定義為負值，流經(jīng)功率平板202至205的電流 的總和優(yōu)選地近似為零。
[0091] 又，因為功率平板202至205的均勻電阻率而使得電流均勻地在平板202至205 上流動，且因為功率平板202至205具有相同的面積（也就是，功率平板202至205中的每 一者具有相同的長度和相同的高度），所以，功率平板202至205上的線性電流密度J(也就 是，流經(jīng)單位長度的電流）的總和同樣為零，也就是：

【權(quán)利要求】
1. 一種用于帶電粒子光刻系統(tǒng)（100)的調(diào)制裝置，該帶電粒子光刻系統(tǒng)（100)適于產(chǎn) 生帶電粒子細射束（123)，該調(diào)制裝置被配置成用于根據(jù)圖案數(shù)據(jù)來調(diào)制所述帶電粒子細 射束并且包括： -板狀主體（106); -被設置在所述板狀主體（106)上用于偏轉(zhuǎn)所述細射束的細射束偏轉(zhuǎn)器（30)的陣列； -多個電源終端（202至205)，用于供應至少兩個不同的電壓； _多個控制電路（40、41)，設置在所述板狀主體（106)上，以接收所述圖案數(shù)據(jù)和供應 對應的控制信號給所述細射束偏轉(zhuǎn)器（30)，其中，所述控制電路（40、41)由所述多個電源 終端（202至205)饋電；以及 -導電板條（201)，配置成為所述電源終端（202至205)中的一者或多者供電， 其中，所述調(diào)制裝置的所述主體被分成狹長的射束區(qū)（51)以及狹長的非射束區(qū)（52)， 所述非射束區(qū)（52)被定位成鄰近所述射束區(qū)（51)，使得所述射束區(qū)（51)的一長邊鄰接相 鄰的非射束區(qū)（52)的一長邊， 其中，所述細射束偏轉(zhuǎn)器設置在所述射束區(qū)（51)， 其中，所述控制電路（40、41)設置在所述非射束區(qū)（52)，用于向所述細射束偏轉(zhuǎn)器 (30)提供控制信號；以及 其中，所述導電板條（201)連接至所述非射束區(qū)（52)中的控制電路（40、41)，所述導電 板條（201)包括多個薄的導電平板（202至205)，其中，所述導電板條（201)形成電源配置 的一部分。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)制裝置，其包括多個導電板條（201)，配置成為所述電源終 端（202至205)供電； 其中，所述調(diào)制裝置的所述主體被分成多個狹長的射束區(qū)（51)以及多個狹長的非射 束區(qū)（52)，該非射束區(qū)（52)被定位成鄰近所述射束區(qū)，使得每個射束區(qū)的一長邊鄰接相鄰 的非射束區(qū)的一長邊； 其中，所述細射束偏轉(zhuǎn)器按群設置，每群細射束偏轉(zhuǎn)器被放置在所述射束區(qū)之一中； 其中，所述控制電路放置在所述非射束區(qū)，用于提供控制信號給所述細射束偏轉(zhuǎn)器 (30)，每個控制電路被放置在與所述射束區(qū)之一相鄰的一個非射束區(qū)，所述射束區(qū)包含從 所述控制電路接收控制信號的一個或多個所述細射束偏轉(zhuǎn)器；以及 其中，所述導電板條（201)被連接至所述非射束區(qū)中的所述控制電路，每個導電板條 (201)包括多個薄的導電平板（202至205)，其中，所述多個導電板條（201)形成所述電源 配置的一部分。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的調(diào)制裝置，其中，每個薄的導電平板（202至205)配置成 連接至各自一個所述電源終端（202至205)。
4. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條（201)之一中的 每個導電平板均具有一個以一個或多個邊終止的板面，以及所述平板設置成使得其板面基 本上彼此平行。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條之一的每個導電平板的板面 具有基本上相等的面積。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，每個所述導電平板具有基本上 均勻的厚度。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4-6中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電平板之一的厚度與所 述平板的所述板面面積的平方根的比值小于〇. 01。
8. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條之一的每個導電 平板具有相對于該導電板條的其它導電平板基本上相同的電阻率。
9. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條之一的每個導電 平板在其范圍中的每個位置處具有相對于該導電板條的其它導電平板基本上相同的電阻 率。
10. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，每個導電平板的至少一個邊適 于連接至電源，以及每個平板的其他至少一個邊適于連接至多個所述控制電路。
11. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述控制電路分布在與相鄰射 束區(qū)長邊鄰接的非射束區(qū)長邊的基本上整個長度中。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條之一與非射束區(qū)中控制電 路之間的連接分布在鄰接相鄰射束區(qū)長邊的非射束區(qū)長邊的基本上整個長度上。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條與所述控制電路 之間的連接是通過所述調(diào)制裝置的所述主體的表面上的多個導電凸塊或焊接點形成的。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條包括：第一部分，其有一面 平行于所述主體中放置所述凸塊的表面；以及較大的第二部分，其基本上垂直于所述主體 的所述表面。
15. 根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的調(diào)制裝置，其中，第一多個所述導電凸塊或焊接點連 接導電板條的所述導電平板中的第一導電平板；第二多個所述導電凸塊連接所述導電板條 的所述導電平板中的第二導電平板。
16. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條中的至少一個包 括：多個導電平板，它們被配置成將正向電流從電源傳導至所述控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器； 以及至少一個導電平板，其被配置成將返回電流從所述控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器傳導至所 述電源，其中，所述正向電流基本上等于所述返回電流。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的調(diào)制裝置，其中，傳導正向電流的所述平板的厚度的總和 與傳導返回電流的所述平板的厚度的總和的比值介于0. 7與1. 3之間。
18. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條中的一個的兩 個相鄰導電平板之間的距離與所述兩個相鄰平板的所述板面的面積的平方根的比值小于 0. 01〇
19. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條進一步包括被夾 在所述導電平板之間的電絕緣層。
20. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述導電板條為矩形的，具有 兩個相等的長邊以及兩個相等的短邊。
21. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，從所述平板至所述光敏組件的 導電線路以及所述返回線路基本上垂直于所述平板的板面。
22. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述射束區(qū)具有長度和寬度， 該長度為該寬度的至少五倍。
23. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述射束區(qū)具有長度和寬度， 該長度為該寬度的至少十倍。
24. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述細射束偏轉(zhuǎn)器設置在所述 射束區(qū)中的二維陣列，每個偏轉(zhuǎn)器配備有電極，該電極延伸在一孔徑的相反側(cè)上，用于產(chǎn)生 跨越該孔徑的電壓差。
25. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的調(diào)制裝置，其中，所述控制電路包括多個光敏組 件，該光敏組件被配置成接收載有所述圖案數(shù)據(jù)的經(jīng)調(diào)制的光學信號，并將所述光學信號 轉(zhuǎn)換成電控制信號，用于控制所述細射束偏轉(zhuǎn)器。
26. 根據(jù)權(quán)利要求25所述的調(diào)制裝置，其中，所述控制電路進一步包括多個多路分解 器，每個多路分解器均被配置成從所述光敏組件中對應的一個光敏組件接收控制信號，并 且多路分解所述控制信號產(chǎn)生多個控制信號，以便控制多個細射束偏轉(zhuǎn)器。
27. -種帶電粒子光刻系統(tǒng)（100)，包括： 射束產(chǎn)生器（101、102、103、105)，被配置成產(chǎn)生多個帶電粒子細射束（123); 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項的調(diào)制裝置；以及 投射系統(tǒng)（110)，被配置成將經(jīng)調(diào)制的細射束投射到要被曝光的目標（130)上； 其中，所述調(diào)制裝置的每個射束區(qū)被定位在所述細射束群中其中一群的路徑中，而每 個非射束區(qū)則被定位在所述細射束的路徑外面。
28. -種用于如權(quán)利要求27所述的帶電粒子光刻系統(tǒng)（100)的電源配置，該電源配置 包括： -至少一個輸入終端，用以接收至少一個輸入電壓； -至少兩個輸出終端，用以供應至少兩個不同的輸出電壓； -至少一個DC-DC轉(zhuǎn)換器（312)，耦合在所述至少一個輸入終端與所述至少兩個輸出終 端之間，該至少一個DC-DC轉(zhuǎn)換器（312)被配置成將所述至少一個輸入電壓轉(zhuǎn)換成所述至 少兩個不同的輸出電壓；以及 -導電板條（201)，耦合至所述至少兩個輸出終端，該導電板條（201)配置成被耦合至 所述調(diào)制裝置的所述電源終端（202至205)，用于供電給所述調(diào)制裝置，所述導電板條包括 多個薄的導電平板（202至205)。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的電源配置，其包括多個導電板條（201)，該導電板條（201) 被配置成給所述電源終端（202至205)供電，每個導電板條（201)包括多個薄的導電平板 (202 至 205)。
30. 根據(jù)權(quán)利要求28或29所述的電源配置，其中，每個薄的導電平板（202至205)配 置成連接至各自一個的所述電源終端（202至205)。
31. -種在適于生成多個群的帶電粒子細射束（123)的帶電粒子光刻系統(tǒng)（100)中使 用的調(diào)制裝置，該調(diào)制裝置配置成根據(jù)圖案數(shù)據(jù)調(diào)制所述帶電粒子細射束，并且包括：板狀 主體（106);細射束偏轉(zhuǎn)器（30)的陣列，配置成用于偏轉(zhuǎn)所述細射束；多個控制電路（40、 41)，配置成接收所述圖案數(shù)據(jù)并且對應的控制信號供給所述細射束偏轉(zhuǎn)器；以及多個導電 板條（201)，配置成為所述控制電路和細射束偏轉(zhuǎn)器供電； 其中，所述調(diào)制裝置的所述主體被分成多個狹長的射束區(qū)（51)以及多個狹長的非射 束區(qū)（52)，該非射束區(qū)定位成鄰近所述射束區(qū)，使得每個射束區(qū)的長邊鄰接相鄰非射束區(qū) 的長邊； 其中，所述細射束偏轉(zhuǎn)器按群設置，每一群細射束偏轉(zhuǎn)器放置在所述射束區(qū)中的一個 中； 其中，所述控制電路被放置在所述非射束區(qū)中，每個控制電路被放置在與所述射束區(qū) 之一相鄰的所述非射束區(qū)中其中一者之中，所述射束區(qū)含有從所述控制電路接收控制信號 的一個或多個所述細射束偏轉(zhuǎn)器；以及 其中，所述導電板條連接至所述非射束區(qū)中的所述控制電路，每個導電板條包括多個 薄的導電平板（202至205)。
【文檔編號】H01J37/317GK104428868SQ201380037416
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2013年5月8日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月14日
【發(fā)明者】T.范德普特, H.登博爾 申請人:邁普爾平版印刷Ip有限公司