專(zhuān)利名稱(chēng)：：玻璃粉組合物、光敏障壁糊、pdp和pdp的制法的制作方法玻璃粉組合物、光每文障壁糊、PDP和PDP的制法相關(guān)專(zhuān)利申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求2008年9月11日提交的美國(guó)臨時(shí)專(zhuān)利申請(qǐng)No.61/096,251和2009年6月24日提交的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)No.12/491,189的優(yōu)先權(quán)，其公開(kāi)內(nèi)容全部引入本文作為參考。
背景技術(shù)：
：目前可用于形成PDP障壁的方法的實(shí)例包括噴砂法、化學(xué)蝕刻法和光刻法。這些方法與用于使各種障壁結(jié)構(gòu)顯影的各種技術(shù)一起進(jìn)行以獲得高質(zhì)量圖像、簡(jiǎn)化制造過(guò)程和降低制造成本、以及減少?gòu)U物。對(duì)于光刻法，在燒結(jié)介電層糊之前，涂覆用于形成障壁的糊并對(duì)該用于形成障壁的糊進(jìn)行曝光和顯影過(guò)程，然后同時(shí)燒結(jié)該介電層糊和經(jīng)顯影的用于形成障壁的糊。同時(shí)，對(duì)于噴砂法和化學(xué)蝕刻法，在蝕刻用于形成障壁的糊之前燒結(jié)介電層。這是由于在噴砂法和化學(xué)蝕刻法中蝕刻用于形成障壁的糊可損壞介電層的事實(shí)。在涂覆介電層糊和用于形成障壁的糊之前已形成的基板或電極可由于熱而變形或損壞。因此，為了防止這種變形和損壞，應(yīng)使燒結(jié)過(guò)程的次數(shù)最小化。由于這些原因，光刻法相對(duì)于噴^>、法和化學(xué)蝕刻法是有利的。光刻法簡(jiǎn)單并且可用于形成固定的障壁。由于光敏障壁通過(guò)曝光過(guò)程形成，因此用于形成障壁的糊可由具有類(lèi)似于光敏有機(jī)材料的折射率的材料組成。如果形成用于形成障壁的糊的玻璃粉具有不同于光敏有機(jī)材料的折射率，則不期望的區(qū)域可暴露于折射光。本實(shí)施方式克月良相關(guān)領(lǐng)域中的以上問(wèn)題并且還提供額外的優(yōu)點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容一些實(shí)施方式涉及玻璃粉組合物，其包括約40至約70重量份的量的P205、約1至約20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的量的ZnO和約1至約15重量份的量的A1203。在一些實(shí)施方式中，該組合物的平均光折射率為約1.5至約1.6。4在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉為用于形成光敏障壁的組合物。在一些實(shí)施方式中，該組合物基本上不含Pb或Bi。一些實(shí)施方式進(jìn)一步包括選自Li20、Na20和K20的i威金屬氧化物，其中該堿金屬氧化物的量為3重量份或更少。在一些實(shí)施方式中，該組合物進(jìn)一步包括約1至約15重量份的量的B203。在一些實(shí)施方式中，該組合物進(jìn)一步包括約5重量份或更少的量的Si02。在一些實(shí)施方式中，該組合物的熱膨脹系數(shù)為約70xlO力。C至約85xl0力。C。一些實(shí)施方式涉及光敏障壁糊，包括玻璃粉組合物，其包括約40至約70重量份的量的P205、約1至約20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的量的ZnO和約1至約15重量份的量的A1203，填料，和光敏有機(jī)材料，其中該玻璃粉組合物的折射率為約1.5至約1.6，和其中該光敏有機(jī)材料的折射率為約1.5至約1.6。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉組合物基本上不含Pb或Bi。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括選自Li20、Na20和K20的堿金屬氧化物，其中該堿金屬氧化物的量為約3重量份或更少。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括約1至約15重量份的量的B203。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括約5重量份或更少的量的Si02。在一些實(shí)施方式中，其中該玻璃粉組合物的熱膨脹系數(shù)為約70xlO力。C至約85xl0力。C。一些實(shí)施方式涉及等離子體顯示面板，包括障壁，其包括玻璃粉組合物，其包括約40至約70重量份的量的P205、約1至約20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的量的ZnO和約1至約15重量份的量的A1203，其中該玻璃粉組合物的折射率為約1.5至約1.6。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉組合物基本上不含Pb或Bi。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉進(jìn)一步包括選自Li20、Na20和K20的堿金屬氧化物，其中該堿金屬氧化物的量為約3重量份或更少。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉進(jìn)一步包括約1至約15重量份的量的B203。在一些實(shí)施方式中，該玻璃粉進(jìn)一步包括約0至約5重量份的量的Si02。一些實(shí)施方式涉及制造等離子體顯示面板的方法，包括如下步驟提供基板，將以上實(shí)施方式的光敏障壁糊涂覆到該基板上，以及使用光刻法將該糊顯影。通過(guò)參照附圖詳細(xì)描述其示例性實(shí)施方式，本實(shí)施方式的以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)將變得更加明晰，在附圖中圖1-5是說(shuō)明使用根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的障壁形成材料和光刻法制造PDP障壁的方法的截面圖6是包括PDP障壁的PDP的分解透視圖；和圖7是沿圖6的PDP的線I-I'的截面圖。具體實(shí)施例方式現(xiàn)在參考附圖更充分地描述本實(shí)施方式，在附圖中顯示出示例性實(shí)施方式。本實(shí)施方式提供環(huán)境友好且在使用光刻法形成障壁時(shí)可使用的障壁形成材料、使用該障壁形成材料所形成的障壁、以及包括該障壁的等離子體顯示面板(PDP)。本實(shí)施方式提供具有類(lèi)似于光敏有機(jī)材料的折射率的玻璃粉組合物，其中該玻璃粉組合物用于形成光敏障壁。具體而言，為了防止曝光過(guò)程中的光散射，該玻璃粉組合物的平均折射率可為約1.5至約1.6。而且，本實(shí)施方式提供由于不包括鉛(Pb)和鉍(Bi)而環(huán)境友好的障壁形成材料作為用在光刻法中的障壁形成材料。由于環(huán)境原因，以鉍(Bi)代替鉛(Pb)用在作為障壁形成材料的玻璃粉組合物中。在這點(diǎn)上，當(dāng)使用氧化鉛(PbO)的副產(chǎn)物氧化鉍(Bi203)代替氧化鉛(PbO)時(shí)，可容易地控制玻璃粉的軟化溫度或熱膨脹系數(shù)，使得可穩(wěn)定地形成無(wú)定形玻璃的障壁。然而，Bi203在價(jià)格方面是不穩(wěn)定的，因?yàn)锽i203以非常小的量生產(chǎn)。另夕卜，像PbO—樣，Bb03是有害的。因此，需要開(kāi)發(fā)也不包括鉍(Bi)的玻璃粉組合物。常規(guī)地，堿金屬如鋰(Li)也用作在光刻法中使用的障壁形成材料。由于該堿金屬，可容易地控制玻璃粉組合物的軟化溫度和熱膨脹系數(shù)，并且還可將玻璃粉組合物的折射率維持在低水平使得玻璃粉組合物的折射率與光敏有機(jī)材料的折射率之間的差可最小化。然而，當(dāng)堿金屬用得太多時(shí)，障壁變得不穩(wěn)定并且在障壁/電介質(zhì)/玻璃基板之間發(fā)生離子交換反應(yīng)，由此在玻璃基板中形成裂紋或?qū)е抡媳谛纬刹牧吓c銀電極之間的反應(yīng)和泛黃現(xiàn)象。因此，需要將對(duì)于電子部件有害的堿金屬的含量最小化。作為在光刻法中使用所要求的其它物理特性，玻璃粉組合物的折射率應(yīng)為約1.5至約1.6以防止曝光過(guò)程中光的散射。本實(shí)施方式提供作為用在光刻法中的障壁形成組合物的玻璃粉組合物。具體而言，該玻璃粉組合物不包括鉛(Pb)和鉍(Bi)，因而是環(huán)境友好的。而且，將該玻璃粉組合物中所含的堿金屬的含量控制成盡可能地小，使得可防止在基板中的由金屬導(dǎo)致的離子交換反應(yīng)所造成的泛黃現(xiàn)象或裂紋。本實(shí)施方式還提供使用該玻璃粉組合物形成的障壁和包括該障壁的PDP。光敏障壁形成材料根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的玻璃粉組合物包括P205作為主要組分。在本說(shuō)明書(shū)中，術(shù)語(yǔ)"主要組分"是指在玻璃粉組合物中占主導(dǎo)地位的組分。在該玻璃粉組合物中，？205的含量為約40至約70重量份，BaO、SrO或其混合物的含量為約1至約20重量份，ZnO為約1至約30重量份，且A1203為約1至約15重量份。玻璃粉組合物中，主要組分P205的含量可為約40至約70重量份。如果P2Os的含量大于70重量份，則該玻璃粉組合物容易結(jié)晶且不能形成穩(wěn)定的障壁，并且耐水特性可劣化。另一方面，如果P2O5的含量小于40重量份，則該玻璃粉組合物的軟化溫度增加并且玻璃化是困難的。該玻璃粉組合物包括約1至約20重量份的BaOSrO或其混合物以使能夠玻璃化的溫度范圍變寬。該玻璃粉組合物包括1至30重量份的ZnO。ZnO將該玻璃4分組合物的熔點(diǎn)維持在低水平而沒(méi)有熱膨脹系數(shù)的大的變化。由于包括A1203,該玻璃粉組合物具有寬的玻璃化范圍和高的穩(wěn)定性。A1203的含量可為約1至約15重量份。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的玻璃粉組合物可進(jìn)一步包括堿金屬氧化物如Li20、Na20或K20。在這點(diǎn)上，》威金屬氧化物的含量可為約3重量份或更少。當(dāng)該玻璃粉組合物包括堿金屬氧化物時(shí)，可降低該玻璃粉組合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度或軟化溫度，使得燒結(jié)過(guò)程可在約600。C或更低的溫度下進(jìn)行。因此，該玻璃粉組合物包括至少0重量份的;威金屬氧化物。該玻璃粉組合物可進(jìn)一步包括約1至約15重量份的B203,該B203不包括重金屬如鉛(Pb)并且有助于低熔點(diǎn)和低折射率。該玻璃粉組合物可進(jìn)一步包括不超過(guò)約5重量份的Si02,該Si02對(duì)于降低折射率是有效的。Si02的含量可為0重量份至5重量份。以上述組成比包括上迷組分的玻璃粉組合物可具有約450。C至約500°C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。該玻璃粉組合物的熱膨脹系數(shù)可為70x10力。C至85x10力"。如果該玻璃粉組合物的熱膨脹系數(shù)在該范圍之外，則該玻璃粉組合物的熱膨脹系數(shù)與玻璃基板的熱膨脹系數(shù)之間的差導(dǎo)致應(yīng)力，因而在進(jìn)行加熱和冷卻操作時(shí)該玻璃基板可具有裂紋。該玻璃粉組合物的折射率類(lèi)似于曝光過(guò)程中光敏有機(jī)材料的折射率。具體而言，該玻璃粉組合物的折射率可為約1.5至約1.6。因此，可對(duì)所需區(qū)域有效進(jìn)行曝光過(guò)程。而且，當(dāng)使用該玻璃粉組合物形成障壁時(shí)，可防止由于其中晶體的形成而導(dǎo)致的玻璃透明度劣^的現(xiàn)象。另外，通過(guò)使堿金屬的含量最小化，還可使堿金屬與其它金屬之間的離子交換反應(yīng)最小化，由此可防止泛黃現(xiàn)象以及障壁、接觸障壁的介電層和基板中的裂紋，并且可改善用于形成障壁的糊的保存特性。光敏障壁形成糊的制備將根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的玻璃粉組合物、具有高熔點(diǎn)的填料和光敏有機(jī)材料混合以形成光敏障壁形成糊。該具有高熔點(diǎn)的填料可為具有600°C或更高的軟化溫度的材料如具有高熔點(diǎn)的玻璃或陶瓷材料如堇青石。該具有高熔點(diǎn)的填料的含量可為約5至約20重量份，基于100重量份的該玻璃粉組合物。該光敏有機(jī)材料可包括交聯(lián)劑如多官能單體或低聚物、光引發(fā)劑、粘合齊寸禾口添力口齊寸。化合物。光引發(fā)劑的實(shí)例包括二苯曱酮、4，4-雙(二甲氨基)二苯曱酮、4,4-雙(二乙氨基)二苯曱酮、2,2-二乙氧基乙酰苯、2,2-二曱氧基-2-苯基乙酰苯、2-曱基-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉代丙-l-酮、2-千基-2-二曱氨基-l-(4-嗎啉苯基)-l-丁酮、雙(2，6-二曱氧基苯曱?；?-2，4，4-三曱基戊基氧化膦、雙2,4,6-三曱基苯曱?；交趸?、以及選自上述的至少兩種材料的組合或選自上述的至少一種材料與未在以上所述的材料的組合。光引發(fā)劑的含量可為約0.5至約5重量份，基于100重量份的玻璃粉組合物。如果光引發(fā)劑的含量小于0.5重量份，基于IOO重量份的玻璃粉組合物，則光刻靈敏度下降。另一方面，如果光引發(fā)劑的含量大于5重量份，基于IOO重量份的玻璃粉組合物，則曝光部分的線寬小或者未曝光部分可不顯影由此不能獲得精確的電極圖案,交聯(lián)劑可為例如單官能單體或多官能單體。具體而言，期望使用多官能單體以改善曝光靈敏度。多官能單體的實(shí)例包括二丙烯酸酯如乙二醇二丙烯酸酯(EGDA);三丙烯酸酯如三鞋曱基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、三羥曱基丙烷乙氧基化物三丙烯酸酯(TMPEOTA)或季戊四醇三丙烯酸酯；四丙烯酸酯如四羥曱基丙烷四丙烯酸酯或季戊四醇四丙烯酸酯；六丙烯酸酯如二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA);以及選自上述的至少兩種種材料的組合或選自上述的至少一種材料與未在以上所述的材料的組合。交聯(lián)劑的量可為約5至約30重量份，基于100重量份的玻璃粉組合物。如果交聯(lián)劑的含量小于5重量份，基于IOO重量份的玻璃粉組合物，則在曝光過(guò)程中光刻靈敏度下降，并且在顯影過(guò)程中不能獲得均勻的障壁圖案。另一方面，如果交聯(lián)劑的含量大于30重量份，基于100重量份的玻璃粉組合物，則在顯影過(guò)程后障壁的寬度增加并且不能獲得所需障壁圖案。粘合劑可為通過(guò)光引發(fā)劑交聯(lián)并且在顯影過(guò)程中容易除去以形成障壁圖案的聚合物。而且，粘合劑增強(qiáng)障壁與基板和/或介電層之間的粘合力。粘合劑可為丙烯酰基樹(shù)脂、苯乙烯樹(shù)脂、酚醛清漆樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、或其組合。具體而言，粘合劑的實(shí)例包括含有羧基的單體、含有羥基的單體、以及可聚合的單體。含有羧基的單體的實(shí)例包括丙烯酸、曱基丙烯酸、富馬酸、巴豆酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、肉桂酸、琥珀酸單(2-(曱基)丙烯酰氧乙基)酯、co-羧基-聚己內(nèi)酯單(曱基)丙烯酸酯等。含有羥基的單體的實(shí)例包括含有羥基的單體如(曱基)丙烯酸2-羥基乙酯、(曱基)丙烯酸2-羥基丙酯、或(曱基)丙烯酸3-羥基丙酯；和含有酚羥基的單體如鄰-羥基苯乙烯、間-羥基苯乙烯、或?qū)?羥基苯乙烯。可聚合的單體的實(shí)例包括(甲基)丙烯酸酯如(甲基)丙烯酸甲酯、(曱基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸正丁酯、(曱基)丙烯酸正月桂基酯、(曱基)丙烯酸芐基酯、(曱基)丙烯酸縮水甘油酯、(曱基)丙烯酸二環(huán)戊酯等；芳族乙烯基單體如苯乙烯、a-曱基苯乙烯等；共軛二烯如丁二烯、異戊二烯等；和在聚合鏈如聚苯乙烯、聚(曱基)丙烯酸曱酯、聚(曱基)丙烯酸乙酯、聚(甲基)丙烯酸千基酯等末端具有作為聚合不飽和基團(tuán)的(曱基)丙烯酰基的大分子單體。粘合劑的含量可為約5至約50重量份，基于100重量份的玻璃粉組合物。如果粘合劑的含量少于5重量份，基于100重量份的玻璃粉組合物，則該玻璃粉組合物可在干燥和曝光/顯影過(guò)程中容易地與基板和/或介電層分離。另一方面，如果粘合劑的含量大于50重量份，基于100重量份的玻璃粉組合物，則顯影過(guò)程可無(wú)效率地進(jìn)行。而且，光敏有機(jī)材料進(jìn)一步包括溶劑作為添加劑。該溶劑可為本領(lǐng)域中常用的有機(jī)或無(wú)機(jī)溶劑。該溶劑的實(shí)例包括酮、醇、基于醚的醇、飽和脂肪族一元羧酸的烷基酯、乳酸酯、基于醚的酯、及其組合。其它添加劑的實(shí)例包括改善靈敏度的敏化劑、改善光刻障壁形成糊的保存性能的阻聚劑和抗氧化劑、改善分辨率的UV吸收劑、減少光刻障壁形成糊中泡沫的形成的消泡劑、改善印刷膜的平面性能的流平劑、或改善觸變性能的增塑劑。然而，可任選地使用這些添加劑，并且在使用時(shí)，可考慮本領(lǐng)域中通常使用的添加劑的量來(lái)適當(dāng)調(diào)節(jié)所述添加劑的量。將玻璃粉組合物、具有高熔點(diǎn)的填料和光敏有機(jī)材料混合以制備光敏障壁形成糊。10PDP障壁的形成現(xiàn)在參照?qǐng)D1-5描述使用根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的障壁形成材料和光刻法形成PDP障壁的方法。參照?qǐng)D1，制備基板IO并將形成電極的糊涂覆在基板10上。然后，使用光刻法將用于形成電極的糊曝光和顯影，由此形成多個(gè)彼此平行的電極20。參照?qǐng)D2，介電層30覆蓋基板10上的電極20。介電層30通過(guò)涂覆用于形成介電層的玻璃粉末并干燥所涂覆的玻璃粉末而形成。在一些情況下，在形成障壁之前，可對(duì)用于形成介電層的玻璃粉末進(jìn)行干燥然后燒結(jié)。在另外的情況下，可將用于形成介電層的玻璃粉末與障壁一起燒結(jié)。參照?qǐng)D2，以用于形成介電層的第一糊30涂布基板上的電極20并干燥。用于形成介電層的第一糊30可包括用于形成介電層的玻璃粉末。參照?qǐng)D3,將用于障壁的第二糊40涂覆在用于形成介電層的第一糊30上然后干燥。第二糊40可通過(guò)將上述玻璃粉組合物、具有高熔點(diǎn)的填料和光敏有機(jī)材料混合而制備。該玻璃粉組合物包括約40至約70重量份的P205、約1至約20重量份的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的ZnO和約1至約15重量份的A1203。該玻璃粉組合物可進(jìn)一步包括不超過(guò)約3重量份的堿金屬氧化物如Li20、Na20或K20。該玻璃粉組合物可進(jìn)一步包括約1至約15重量份的B203。該玻璃粉組合物可進(jìn)一步包括不超過(guò)約5重量份的Si02。參照?qǐng)D4，將第二糊(圖3的40)經(jīng)過(guò)掩模50選擇性地曝光。因此，第二糊(圖3的40)被分為曝光部分41和未曝光部分42。由于在曝光時(shí)，交聯(lián)劑和粘合劑進(jìn)行聚合反應(yīng)，因此曝光部分41固化。另一方面，通過(guò)顯影溶液相對(duì)容易地溶解未曝光部分42。參照?qǐng)D5，在曝光后，用顯影溶液將第二糊(圖3的40)顯影。在這方面，顯影溶液可為堿溶液。堿溶液可為胺化合物如乙醇胺或二乙醇胺。因此，留下曝光區(qū)域(圖4的41)并除去未曝光區(qū)域(圖4的42)。將曝光區(qū)域(圖4的41)的第二糊40和用于介電層的第一糊30同時(shí)燒結(jié)。燒結(jié)溫度可為約600。C或更低。在完成燒結(jié)過(guò)程之后，形成障壁45和介電層35。然而，根據(jù)交聯(lián)劑、粘合劑和顯影溶液的類(lèi)型，未曝光部分42可形成為障壁。PDPii現(xiàn)在參照?qǐng)D6和7詳細(xì)描述包括使用根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的障壁形成材料所形成的障壁的PDP。圖6是包括PDP障壁的PDP的分解透視圖，圖7是沿圖6的PDP的線I-I'的截面圖。參照?qǐng)D6和7，PDP包括光線穿過(guò)其發(fā)射到外面的頂面板100和包括用于發(fā)射光的焚光粉的底面板200。現(xiàn)在詳細(xì)描述頂面板100。多個(gè)放電電極對(duì)120沿著第一基板110延伸并彼此平行。各放電電極對(duì)120包括維持電極X和掃描電極Y。維持電極X包括透明電極121X和匯流電極122X，掃描電極Y包括透明電極121Y和匯流電極122Y。匯流電極122X和122Y在X方向上延伸。透明電極12IX和121Y相對(duì)于匯流電極122X和122Y在Y方向或-Y方向上伸出。然而，放電電極對(duì)12的結(jié)構(gòu)不限于此，且;^丈電電極對(duì)12可具有不同結(jié)構(gòu)。然后，維持電極X和掃描電極Y被順次形成在第一基板IIO上的第一介電層140和保護(hù)層150覆蓋。保護(hù)層150為由氧化鎂形成的多晶薄膜。保護(hù)層150保護(hù)第一介電層140不與帶電顆粒碰撞并且還在等離子體放電時(shí)發(fā)射二次電子，由此有助于放電起始電壓和放電維持電壓的降低?，F(xiàn)在描述底面板200。多個(gè)尋址電極220在Y方向上沿著基板210延伸。尋址電極220被第二介電層230覆蓋，并且障壁240在放電空間中限定多個(gè)放電單元Ce。障壁240可使用包括上述玻璃粉組合物的糊和光刻法形成。具體而言，制備包括上述玻璃粉組合物的糊，涂覆該糊并干燥，然后對(duì)干燥的糊進(jìn)行光刻法。放電單元Ce填充有作為紫夕卜(UV)線產(chǎn)生源的放電氣體。放電氣體可為通過(guò)放電激發(fā)而發(fā)射合適UV線的氣體。例如，放電氣體可為預(yù)定體積比的氙(Xe)、氪(Kr)、氦(He)和氖(Ne)的氣態(tài)混合物。焚光粉層250設(shè)置于各放電單元Ce內(nèi)。熒光粉層250設(shè)置于障壁240的側(cè)壁和第二介電層230上。具體而言，放電單元Ce可包括不同的熒光粉層250如紅色焚光粉層、綠色熒光粉層和藍(lán)色焚光粉層。參照以下實(shí)施例進(jìn)一步詳細(xì)描述本實(shí)施方式。這些實(shí)施例〗義用于說(shuō)明的目的，并不意圖限制本實(shí)施方式的范圍。實(shí)施例17將示于表l中的金屬氧化物以示于表l中的相應(yīng)組成比混合。將該混合物置于鉑坩堝中并使其在電爐中在1100。C1300。C的溫度下融化。將融化的玻璃水倒入形成于金屬輥之間的空間中以形成薄玻璃帶。通過(guò)第一和第二球磨過(guò)程將該薄玻璃帶變成具有合適粒度的粉末，由此形成玻璃粉組合物。根據(jù)本發(fā)明的玻璃粉組合物在具有性質(zhì)和功能的相同類(lèi)別的范圍內(nèi)，盡管所述玻璃粉組合物包含不同的含量和/或不同的重量份。因此，根據(jù)本發(fā)明的玻璃粉組合物的范圍不被以上實(shí)施例1-7限制，且本發(fā)明包括在所附權(quán)利要求限定的玻璃粉組合物中的與以上實(shí)施例1-7具有不同組成和/或不同重量份的玻璃粉組合物。<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>只t比例15以與實(shí)施例1~7中相同的方式制備玻璃粉組合物，除了使用示于表2中的金屬氧化物和組成比之外。<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>MgO4.16BaO2.141714SrO2.0ZnO2,22223A120320.914244B20333,336314418Bi2032628Zr023Si0222.12520713評(píng)價(jià)實(shí)施例1評(píng)價(jià)根據(jù)實(shí)施例1~7和對(duì)比例l-5制備的玻璃粉組合物的熱特性。將示于表1和2中的金屬氧化物以示于表1和2中的相應(yīng)組成混合。將該混合物置于鉑坩堝中并使其在電爐中在1100。C1300。C的溫度下融化。將融化的玻璃水倒入形成于金屬輥之間的空間中以形成薄玻璃帶。通過(guò)第一和第二球磨過(guò)程將該薄玻璃帶變成具有合適粒度的粉末，由此形成玻璃粉組合物。使用差示掃描量熱儀(DSC)測(cè)量該玻璃粉組合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)和軟化溫度(Ts)。另外，將參照表1和2制備的各玻璃粉組合物與5-30重量份具有高熔點(diǎn)的填料如堇青石混合，然后燒結(jié)該混合物。將燒結(jié)產(chǎn)物切割成預(yù)定尺寸。在升溫至30(TC的同時(shí)加熱所獲得的樣品。這時(shí)，測(cè)量每分鐘樣品長(zhǎng)度的變化并測(cè)量熱膨脹系數(shù)(CTE)。結(jié)果示于表3和4中。表3顯示根據(jù)實(shí)施例1~7制備的玻璃粉組合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、軟化溫度和熱膨脹系數(shù)，表4顯示根據(jù)對(duì)比例15制備的玻璃粉組合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、軟化溫度和熱膨脹系數(shù)。表3實(shí)施例1234567Tg。C480476474465451462471Ts°C533532531524517537522CTExlO力。C71,271.574.573.574.275.173.314表4<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>其中使用鉍(Bi)且堿金屬氧化物的含量大于3重量份或者為3重量份或更少的對(duì)比例1~5具有480。C498。C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、515。C538。C的軟化溫度、以及74xlO力。C至79xlO力。C的熱膨脹系數(shù)。然而，參照表3，其中堿金屬氧化物的含量為3重量份或更少且沒(méi)有使用鉍(Bi)的根據(jù)實(shí)施例17制備的玻璃粉組合物具有適于形成光敏障壁的45rC至480。C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、517。C至537。C的軟化溫度、以及71.2xio力。C至75.1xlo力。C的熱膨脹系數(shù)。因此，確認(rèn)根據(jù)實(shí)施例17制備的玻璃粉組合物具有適于形成光敏障壁的璃化轉(zhuǎn)變溫度、軟化溫度和熱膨脹系數(shù)，盡管這些玻璃粉組合物沒(méi)有使用鉍(Bi)且包括3重量份或更少的堿金屬。評(píng)價(jià)實(shí)施例2進(jìn)行該實(shí)驗(yàn)以評(píng)價(jià)玻璃粉組合物的光學(xué)特性，即，該玻璃粉組合物的折射率。將示于表1和2中的金屬氧化物以示于表1和2中的相應(yīng)組成比混合。將該混合物在1100。C1300。C的溫度下融化并倒在石墨基板上以形成玻璃塊。然后，對(duì)該玻璃塊進(jìn)行處理以形成具有預(yù)定尺寸的樣品。使用阿貝折射儀測(cè)量該樣品的折射率。結(jié)果示于表5和6中。表5<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>根據(jù)實(shí)施例17制備的玻璃粉組合物具有比根據(jù)對(duì)比例1~5制備的玻璃粉組合物低的折射率。像光敏有機(jī)材料一樣，根據(jù)實(shí)施例17制備的玻璃粉組合物的折射率為1.5~1.6。由于根據(jù)實(shí)施例1~7制備的玻璃粉組合物的折射率等于或類(lèi)似于光敏有機(jī)材料的折射率，因此根據(jù)實(shí)施例17制備的玻璃粉組合物可有效地用作在光刻法中使用的障壁形成材料。盡管已參照其示例性實(shí)施方式具體展示和描述了本實(shí)施方式，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，在不背離由所附權(quán)利要求所限定的本實(shí)施方式的精神和范圍的情況下可進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。1權(quán)利要求1.玻璃粉組合物，包括約40至約70重量份的量的P2O5、約1至約20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的量的ZnO和約1至約15重量份的量的Al2O3。2.權(quán)利要求1的玻璃粉組合物，其中該組合物的平均光折射率為約1.5至約1.6。3.權(quán)利要求1的玻璃粉組合物，其中該組合物基本上不含Pb或Bi。4.權(quán)利要求1的玻璃粉組合物，進(jìn)一步包括選自Li20、Na20和K20的堿金屬氧化物，其中該堿金屬氧化物的量為大于0重量份且3重量份或更少。5.權(quán)利要求1的玻璃粉組合物，其中該組合物進(jìn)一步包括約1至約15重量份的量的8203。6.權(quán)利要求1的玻璃粉組合物，其中該組合物進(jìn)一步包括大于0重量份且約5重量份或更少的量的Si02。7.權(quán)利要求1的玻璃粉組合物，其中該組合物的熱膨脹系數(shù)為約70x10力。C至約85x10力。C。8.權(quán)利要求l-7任一項(xiàng)的玻璃粉組合物在形成光敏障壁中的用途。9.光^:障壁糊，包括玻璃粉組合物，其包括約40至約70重量份的量的P205、約1至約20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的量的ZnO和約1至約15重量份的量的A1203,填料，和光敏有機(jī)材料，其中該玻璃粉組合物的折射率為約1.5至約1.6，和其中該光敏有機(jī)材料的折射率為約1.5至約1.6。10.權(quán)利要求9的光敏障壁糊，其中該玻璃粉組合物基本上不含Pb或Bi。11.權(quán)利要求9的光敏障壁糊，其中該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括選自Li20、Na20和K20的堿金屬氧化物，其中該堿金屬氧化物的量為大于0重量份且約3重量份或更少。12.權(quán)利要求9的光敏障壁糊，其中該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括約1至約15重量份的量的B203。13.權(quán)利要求9的光敏障壁糊，其中該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括大于0重量份且約5重量份或更少的量的Si02。14.權(quán)利要求9的光敏障壁糊，其中該玻璃粉組合物的熱膨脹系數(shù)為約70xlO力。C至約85xl0力。C。15.等離子體顯示面板，包括障壁，其包括玻璃粉組合物，其包括約40至約70重量份的量的P205、約1至約20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、約1至約30重量份的量的ZnO和約1至約15重量份的量的A1203，其中該玻璃粉組合物的折射率為約1.5至約1.6。16.權(quán)利要求15的等離子體顯示面板，其中該玻璃粉組合物基本上不含Pb或Bi。17.權(quán)利要求15的等離子體顯示面板，其中該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括選自Li20、Na20和K20的堿金屬氧化物，其中該堿金屬氧化物的量為大于0重量份且約3重量份或更少。18.權(quán)利要求15的等離子體顯示面板，其中該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括約1至約15重量份的量的B203。19.權(quán)利要求15的等離子體顯示面板，其中該玻璃粉組合物進(jìn)一步包括大于0重量份且約5重量份或更少的量的Si02。20.制造離子體顯示面板的方法，包括以下步驟提供基板，將權(quán)利要求9-14任一項(xiàng)的光敏障壁糊涂覆到該基板上，和使用光刻法將該糊顯影。全文摘要本發(fā)明提供玻璃粉組合物、光敏障壁糊、PDP和PDP的制法。該材料是光敏性的并且由環(huán)境友好(不含Pb或Bi)且還防止光散射的玻璃粉組合物制成。該玻璃粉的主要組分為P₂O₅。在該障壁形成材料中還可包括其它組分如堿金屬氧化物、B₂O₃、SiO₂等。由該玻璃粉形成的障壁可另外包括光敏有機(jī)材料，該光敏有機(jī)材料可包括交聯(lián)劑、多官能單體或低聚物、光引發(fā)劑、粘合劑和添加劑。還提供形成包括該玻璃粉組合物的障壁的方法以及包括這種障壁的PDP。文檔編號(hào)H01J9/24GK101671117SQ20091017435公開(kāi)日2010年3月17日申請(qǐng)日期2009年9月11日優(yōu)先權(quán)日2008年9月11日發(fā)明者崔鐘書(shū),崔龜錫,張范鎮(zhèn),李范旭,林明德,黃淙熙申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社