專利名稱：等離子顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及等離子顯示設(shè)備，且更為具體地說涉及其中在面板的前表面上直接形成具有電磁干擾(EMI)屏蔽功能、近紅外(NIR)屏蔽功能和黑矩陣功能的至少其中之一的緩和層(reduction layer)，由此節(jié)省制造成本和改進面板的銳度的等離子顯示設(shè)備。
背景技術(shù)：
總的來說，等離子顯示面板是其中當施加電壓到放電空間中布置的電極時產(chǎn)生放電并以在氣體放電時產(chǎn)生的等離子激發(fā)熒光材料，由此顯示包括文本和/或圖形的圖像的設(shè)備。等離子顯示面板的優(yōu)點在于其能夠被制造為大尺寸、輕、平和薄，能夠提供所有方向上的寬視角，且能夠?qū)崿F(xiàn)全彩色和高亮度。
將膜濾光器或玻璃濾光器附加到等離子顯示面板的前表面以實現(xiàn)EMI屏蔽功能，減少外部光的反射的功能和NIR屏蔽功能。
如果如上所述將膜濾光器或玻璃濾光器附加到面板的前表面，問題在于因為使用昂貴的濾光器面板的單位成本增加，且因為濾光器和面板的前表面分開預定距離而使效率降低。

發(fā)明內(nèi)容
因此，提出本發(fā)明以解決現(xiàn)有技術(shù)的問題。
根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子顯示設(shè)備包括前基片、和與前基片相對并具有用于物理地劃分在其中形成的放電單元的多個阻擋條的后基片，該等離子顯示設(shè)備包括在前基片的第一表面上形成的第一電極和第二電極，以及在前基片的第二表面上直接形成的緩和層。
緩和層優(yōu)選地包括從導電材料形成的至少一層。導電材料可包括ITO、IZO、IZTO和銀(Ag)的至少一種。
另外，緩和層可由格子形狀的金屬材料形成。該緩和層可包括在第二表面上直接形成的黑矩陣，或包括黑色層的兩個或多個層。
該緩和層可具有10到250nm或10到200nm的厚度。
緩和層可具有小于等于4Ω/m2的片阻抗和大于等于35％的透射率。
另外，緊密粘合到緩和層的膜濾光器可在緩和層上形成，或和緩和層分開預定距離的玻璃濾光器在緩和層之上形成。在緩和層之上形成的膜濾光器和玻璃功率之一可包括用于減少外部光的反射的防反射層，用于彩色調(diào)整和彩色修正的彩色控制層和粘合層之一。
根據(jù)本發(fā)明另一實施例的等離子顯示設(shè)備包括前基片，和與前基片相對、并具有用于物理地劃分在其中形成的放電單元的多個阻擋條的后基片，該等離子顯示設(shè)備包括在前基片的第一表面上形成的第一電極和第二電極，在前基片的第二表面上直接形成并由導電材料形成的第一緩和層，和在第一緩和層上形成并由黑色材料形成的第二緩和層。
該黑色材料優(yōu)選地和阻擋條重疊。該導電材料可包括ITO、IZO、IZTO和銀(Ag)的至少一種。
另外，可以格子或條形形狀形成第二緩和層。該第二緩和層可包括導電材料。
在該情況中，導電材料可包括銅(Cu)、銀(Ag)、鋁(Al)、鋅(Zn)和鉻(Cr)的至少一種。
緊密粘合到第二緩和層的膜濾光器可在第二緩和層之上形成，或和第二緩和層分開特定距離的玻璃濾光器可在第二緩和層之上形成。
根據(jù)本發(fā)明又一實施例的制造等離子顯示設(shè)備的方法包括步驟在基片的第一表面上形成掃描電極和維持電極，在基片的第二表面上直接涂覆導電材料，和燒結(jié)直接涂覆在基片的第二表面上的導電材料。
可通過使用旋轉(zhuǎn)方法、飛濺方法、濺射方法和電子束方法的任意一種來執(zhí)行在第二表面上直接涂覆導電材料的步驟。
該方法可進一步包括在第二表面直接印刷黑色材料，或涂覆在第二表面上的導電材料，并烘干黑色材料的步驟。


圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)的第一實施例的視圖；圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第一實施例的透視圖；圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第二實施例的透視圖；圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第三實施例的透視圖；圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)的第二實施例的視圖；圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第四實施例的透視圖；
圖7是示出了根據(jù)本發(fā)明的制造等離子顯示設(shè)備的方法的實施例的流程圖；圖8是示出了等離子顯示面板的電極布置的視圖；圖9是示出了其中將等離子顯示面板的圖像的一幀時分為多個子場來驅(qū)動其的方法的實施例的視圖；以及圖10示出了相對于劃分的子場驅(qū)動等離子顯示面板的驅(qū)動信號的實施例。
具體實施例方式
下面將參考附圖結(jié)合特定實施例具體描述本發(fā)明的等離子顯示設(shè)備。
但是，應該注意根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示設(shè)備不限于下面實施例，而是可以多種方式實現(xiàn)。
圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)的第一實施例的視圖。
參考圖1，根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子顯示面板包括其中形成彼此平行的掃描電極11和維持電極12的前基片10，和其中形成交叉掃描電極11和維持電極12的尋址電極22的后基片20。前基片10和后基片20接合在一起。
掃描電極11和維持電極12的每一個包括通常由銦錫氧化物(ITO)形成的透明電極，以及由比如銀(Ag)或鉻(Cr)、Cr/Cu/Cr的堆疊(stack)，或Cr/Al/Cr的堆疊的金屬形成的總線電極。該總線電極在透明電極上形成，且用于減少由具有高阻抗的透明電極引起的電壓降。
同時，在本發(fā)明的等離子顯示面板中，掃描電極11和維持電極12的每一個可不僅具有其中堆疊透明電極和總線電極的結(jié)構(gòu)，而是僅具有總線電極而沒有透明電極的結(jié)構(gòu)。這個結(jié)構(gòu)的優(yōu)點在于因為不使用透明電極而節(jié)省了面板的制造成本。除了上述所列的材料外，用于這個結(jié)構(gòu)中的總線電極能夠由多種材料形成，比如感光材料。
在掃描電極11和維持電極12的透明電極和總線電極之間形成黑矩陣(BM)。該黑矩陣具有吸收在前基片10外側(cè)發(fā)生的外部光且因此減少光的反射的光屏蔽功能，并具有改進前基片10的純度和對比度的功能。
黑矩陣能夠具有在和阻擋條21重疊的位置形成的第一黑矩陣，和在總線電極之間形成的第二黑矩陣。能夠在形成過程中同時形成被稱為“黑色層”或“黑色電極層”的第一黑矩陣和第二黑矩陣，且因此物理地連接，或在形成過程中不同時形成，從而不物理地連接。
在其中物理地連接第一黑矩陣和第二黑矩陣的情況下，它們能使用相同材料來形成。但是，在其中第一黑矩陣和第二黑矩陣彼此物理地分開的情況中，它們能使用不同的材料來形成。
在其中形成掃描電極11和維持電極12的前基片10上層壓上介質(zhì)層13和保護層14。在上介質(zhì)層13上累積產(chǎn)生等離子體的充電顆粒。
保護層14用于保護上介質(zhì)層13不受在氣體放電時產(chǎn)生的充電顆粒的影響，并增加次級電子的輻射效率。該保護層14能夠通過在上介質(zhì)層13上沉積比如MgO的材料的方式來形成。
同時，在后基片20中形成尋址電極22。在其中形成尋址電極22的后基片20的上表面上形成下介質(zhì)層24以覆蓋尋址電極22。下介質(zhì)層24能夠用于絕緣該尋址電極22。
在后基片20之上形成阻擋條21。在阻擋條21之間涂覆熒光材料23。
每個阻擋條21包括平行于尋址電極22的縱向阻擋條21a和與尋址電極22交叉的橫向阻擋條21b。阻擋條21物理地劃分放電單元，且能夠防止放電產(chǎn)生的紫外線和可見光泄漏到相鄰放電單元。
本發(fā)明的等離子顯示面板能夠不僅具有如圖1所示的阻擋條21的結(jié)構(gòu)，且具有多種形狀的阻擋條21的結(jié)構(gòu)。例如，本發(fā)明的等離子顯示面板能夠具有其中縱向阻擋條21a和橫向阻擋條21b具有不同高度的差分類型的阻擋條結(jié)構(gòu)，其中在縱向阻擋條21a和橫向阻擋條21b的至少其中之一中形成能夠用作排氣道(exhaust passage)的溝道的溝道類型阻擋條結(jié)構(gòu)，其中在縱向阻擋條21a和橫向阻擋條21b的至少其中之一中形成空洞的空洞類型阻擋條結(jié)構(gòu)等。
在差分類型阻擋條結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選地橫向阻擋條21b具有高于縱向阻擋條21a的高度?？v向阻擋條21a能具有高于橫向阻擋條21b的高度。在溝道類型阻擋條結(jié)構(gòu)或空洞類型阻擋條結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選地在橫向阻擋條21b中形成溝道或空洞。
同時，在本發(fā)明的實施例中，示出和描述了在相同行上布置的紅(R)、綠(G)和藍(B)放電單元。然而，可在不同行上布置R、G和B放電單元。例如，在其中以三角形方式布置放電單元的三角形形狀布置R、G和B放電單元，或以比如矩形、五邊形和六邊形的多種形狀布置R、G和B放電單元。
能夠根據(jù)從每個放電單元發(fā)出的顏色來不同地設(shè)置每個放電單元的間距。在該情況下，優(yōu)選地發(fā)出顏色(R)的放電單元的間距等于或小于發(fā)出顏色(G)的放電單元的間距，且發(fā)出顏色(B)的放電單元的間距等于或小于發(fā)出顏色(G)的放電單元的間距和發(fā)出顏色(R)的放電單元的間距。
除了R、G和B放電單元外，可以另外形成白色(W)和/或黃色(Y)放電單元。
在和上述結(jié)構(gòu)的等離子顯示面板的前面板相對的表面，也就是，其中形成掃描電極11和維持電極12的表面上直接形成導電材料制成的緩和層15。在上述前基片10的前表面上直接形成的緩和層15用作EMI屏蔽功能、NIR屏蔽功能、防止外部光反射的功能等?？稍诰徍蛯?5上進一步形成膜濾光器或玻璃濾光器。通過層壓方法的方式在前面板上形成膜濾光器，而玻璃濾光器則和等離子顯示面板分開預定的距離。
考慮電氣特性和光的透射引起的功能的效率，在10到250nm的范圍中設(shè)置緩和層15的厚度T。在該情況下，保證從面板發(fā)射的光能夠流暢地透射的透射率，和通過足夠的導電性實現(xiàn)足夠的EMI屏蔽效率，更為優(yōu)選地考慮緩和層15的電氣特性在10到200nm的范圍中設(shè)置緩和層15的厚度，使得光能夠流暢地透射且保護層具有足夠保護面板的厚度。
下表列出了根據(jù)本發(fā)明實施例的片阻抗和緩和層的透射率的實驗結(jié)果。


上表列出了當緩和層15的厚度T的范圍從10到200nm時的實驗平均值。優(yōu)選地需要屏蔽EMI或NIR的緩和層15的最高片阻抗是4Ω/m2，且透射從面板內(nèi)側(cè)發(fā)出的光需要的緩和層15的最低透射率是35％。
當緩和層15的透射率增加時，面板的亮度比率增加。但是，如果透射率超過88％，緩和層15的片阻抗超過4Ω/m2，造成不能充分實現(xiàn)EMI和NIR屏蔽。當緩和層15的片阻抗15減少時，緩和層15的EMI和NIR屏蔽功能得到改進。但是，如果片阻抗超過0.33Ω/m2，緩和層15的透射率不超過35％，使得不能充分保證緩和層15的透射率。因此，優(yōu)選地緩和層15的片阻抗大于等于4Ω/m2，且緩和層15的透射率大于等于35％。更為優(yōu)選地考慮片阻抗和透射率形成緩和層。
設(shè)置緩和層15的片阻抗小于等于4Ω/m2的原因在于當緩和層15具有足夠厚度T時，從等離子顯示面板內(nèi)產(chǎn)生的EMI被適當?shù)仄帘?，且在緩和層中因為EMI形成的電流能夠容易地漏到地中。其能夠進一步改進EMI屏蔽效果和NIR屏蔽效果。
設(shè)置緩和層15的透射率大于等于35％的原因在于當緩和層15具有足夠厚度T時，能夠合適地維持等離子顯示面板的亮度并保持更好的亮室和暗室對比率。
圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第一實施例的透視圖。
參考圖2，具有導電材料15a和15b的緩和層15直接形成在前基片10的前表面上。
導電材料可由ITO、IZO、IZTO、銀(Ag)、鋁(Al)、銅(Cu)和鋅(Zn)之一形成。
因為包括導電材料15a和15b的緩和層15直接形成在前基片10的前表面上，能夠改進折射率和反射率的差異引起的波紋現(xiàn)象或其中圖像看起來重疊的雙圖像現(xiàn)象。因此，實現(xiàn)更加清晰的圖像(sharperimage)。
直接形成在前基片10的前表面上的緩和層15可包括一個或多個層。在其中緩和層15包括一個層的情況中，其可使用導電材料，比如銀(Ag)、鋁(Al)、銅(Cu)或鋅(Zn)來形成。
另外，在其中緩和層15包括幾個層的情況中，其可通過交替層壓透明導電材料，例如，比如ITO、IZO和IZTO和銀(Ag)、鋁(Al)、銅(Cu)和鋅(Zn)之一的金屬材料來形成，或可通過僅層壓上述金屬材料之一來形成。
通過在前基片10上涂覆導電材料至少一次來形成如圖2所示的緩和層15。在其中通過涂覆導電材料幾次形成緩和層15的情況下，各個層能夠具有相同的厚度。
如上所述形成的緩和層15能夠最小化根據(jù)每個層的折射率和反射率之間的差異，且因此能夠改進波紋現(xiàn)象或雙圖像現(xiàn)象。該緩和層15能夠防止當驅(qū)動等離子顯示面板時，因為等離子顯示面板的波長非常接近于家用電器的遙控器的波長可能發(fā)生的故障，且還能夠屏蔽諸如Ne和Xe的惰性氣體引起的NIR。
圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第二實施例的透視圖。圖3示出了等離子顯示面板的截面圖和前視圖。
如圖3所示，本發(fā)明的緩和層15c能夠由格子形式的具有高導電性的銅(Cu)形成。
緩和層15c能夠具有通過在前基片1的前表面上直接印刷銅(Cu)以格子形狀形成的一層。在這時，能夠使用代替銅(Cu)的具有高導電性的金屬材料，比如鋁(Al)、銀(Ag)、鉻(Cr)或鋅(Zn)。
如上所述，以格子形狀形成根據(jù)本發(fā)明第二實施例的緩和層15c的結(jié)構(gòu)，且因此能夠保證足夠的透射率。就是說，在其中通過使用具有高遮蔽性(obscurity)的金屬材料，比如銅(Cu)，在前基片10的前表面上直接形成緩和層的情況下，因為使用具有孔，比如格子形狀的結(jié)構(gòu)，能夠維持等離子顯示面板的亮度和保證亮室和暗室的對比度。
緩和層15c包括以格子形狀形成的網(wǎng)格單元150，以增加面板的有效區(qū)域(也就是，其中實際顯示圖像的部分)的透射率，以及形成在面板的無效區(qū)域中從而增加緩和層15c的接地力的接地單元151。
接地單元151能夠僅在無效區(qū)域的一側(cè)上或在無線區(qū)域的兩側(cè)上形成。作為選擇地，接地單元151能夠僅在無效區(qū)域的一側(cè)或兩側(cè)的部分形成。作為選擇地，接地單元151能夠僅在緩和層的角落形成。
構(gòu)成緩和層15c的銅(Cu)的優(yōu)點在于其能夠較大的屏蔽從面板內(nèi)輸出的EMI，而缺點在于其不能夠屏蔽由注入到等離子顯示面板的惰性氣體引起的NIR。因為此，在緩和層15c上需要進一步形成包括NIR屏蔽層的膜濾光器或玻璃濾光器。
圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第三實施例的透視圖。
參考圖4，在根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第三實施例中，由導電材料形成的緩和層15直接形成在前基片10的前表面上，且黑色材料16直接以條形形狀形成在緩和層15上。
同時，在圖4中示出黑色材料16直接形成在緩和層15上。但是，黑色材料16能夠直接形成在前基片10的前表面上，且緩和層15形成在黑色材料16上。作為選擇地，僅黑色材料16直接形成在前基片10的前表面上，且另一緩和層形成在黑色材料16上。
如上所述其中黑色材料形成在前基片上的等離子顯示面板能夠減少外部入射光的反射到最大可能程度，且因此能夠改進亮室和暗室對比度。優(yōu)選地，形成的黑色材料16不覆蓋放電單元，以維持面板的亮度。換句話說，優(yōu)選地，黑色材料16和阻擋條21重疊。另外，黑色材料16形成在縱向阻擋條21a以及橫向阻擋條21b上，如圖4所示。
圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)的第二實施例的視圖。
參考圖5，根據(jù)本發(fā)明第二實施例的等離子顯示面板包括直接形成在前基片10的前表面上的緩和層15，和在緩和層15上形成的濾光器30。
該濾光器30可包括緊密粘合到緩和層15的膜濾光器或與緩和層15分開特定距離的玻璃濾光器。
如上所述在緩和層15上形成的膜濾光器或玻璃濾光器包括用于減少外部光的反射的防反射層，用于色彩調(diào)整和色彩修正的色彩控制層和粘合層的至少其中之一。該膜濾光器或玻璃濾光器可進一步包括NIR屏蔽層和外部光屏蔽層。
防反射層具有在濾光器30的外表面上形成的突起和凹陷，通過屏蔽紫外線使圖像更加清楚和減少外部反射的光。
該NIR屏蔽層用于屏蔽從面板輻射的NIR，使得能夠正常傳遞使用紅外線，比如遙控器傳遞的信號。
總的來說，外部光源在室內(nèi)或室外的用戶頭上存在。外部光屏蔽層用于有效地屏蔽外部光，由此使得面板的黑色圖像更暗。
色彩控制層用于增加圖像的色純度和控制適于該圖像的圖像的色調(diào)(tone)。
在濾光器16中包括的各個層之間形成粘合層。在緩和層15的前面牢固地安裝各個層和濾光器30。
圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的緩和層的第四實施例的透視圖。
參考圖6，根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板包括其中形成彼此平行的掃描電極110和維持電極120的前基片100，和其中形成與掃描電極110和維持電極120交叉的尋址電極220的后基片200。該前基片100和后基片200接合在一起。在下文中，為了避免冗余將不描述和圖1的相同的圖6所示的等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)。
參考圖6，本發(fā)明的等離子顯示面板包括在前基片100的前表面上直接形成并由導電材料形成的第一緩和層150，和在第一緩和層150上形成并由黑色材料形成的第二緩和層160。
第一緩和層150能使用ITO、IZO、IZTO和銀(Ag)之一來形成，其能夠充分保證透射率并具有良好的導電性。在該情況下，能夠改進EMI和NIR屏蔽功能。
考慮由于電氣特性引起的功能的效率和光的透射性，形成第一緩和層150的厚度T為10到250nm。當?shù)谝痪徍蛯?50的厚度為10到200nm或更小時，獲得足夠的片阻抗和透射率。在該情況下，直接形成在前基片100的前表面上的第一緩和層150能夠具有小于等于4Ω/m2的片阻抗和大于等于35％的改進的透射率。
設(shè)置第一緩和層150的片阻抗小于等于4Ω/m2的原因在于當?shù)谝痪徍蛯?50具有足夠厚度T時，從等離子顯示面板內(nèi)產(chǎn)生的EMI被適當?shù)仄帘?，且在緩和層中因為EMI形成的電流能夠容易地漏入到地中。
因此，其能夠有效改進EMI屏蔽效果和NIR屏蔽效果。
設(shè)置第一緩和層150的透射率大于等于35％的原因在于當緩和層15具有足夠厚度T時，能夠合適地維持等離子顯示面板的亮度并保持更好的亮和暗室對比度。
直接形成在前基片100的前表面上的緩和層150可包括一個或多個層。在其中緩和層150包括一層的情況下，其使用比如銀(Ag)、鋁(Al)、銅(Cu)或鋅(Zn)的導電材料來形成。
另外，在其中緩和層150包括幾層的情況下，其能通過交替層壓透明導電材料，例如，比如ITO、IZO和IZTO和銀(Ag)、鋁(Al)、銅(Cu)和鋅(Zn)之一的金屬材料來形成，或其能通過僅層壓上述金屬材料之一來形成。
通過在前基片100上涂覆導電材料至少一次來形成如緩和層150。在其中通過涂覆導電材料幾次形成緩和層150的情況下，各個層能夠具有相同的厚度。
如上所述形成的緩和層150能夠最小化根據(jù)每個層的折射率和反射率之間的差異，且因此能夠改進波紋現(xiàn)象或雙圖像現(xiàn)象。該緩和層150能夠防止當驅(qū)動等離子顯示面板時，因為等離子顯示面板的波長非常接近于家用電器的遙控器的波長可能發(fā)生的故障，且還能夠屏蔽比如Ne和Xe的惰性氣體引起的NIR。
由黑色材料形成的第二緩和層160直接形成在第一緩和層150上。第二緩和層160能夠包括黑色材料和導電材料，比如銅(Cu)、銀(Ag)、鋁(Al)、鋅(Zn)和鉻(Cr)。在該情況下，能夠利用黑色材料來改進防止外部光反射的效果，且利用該導電材料來進一步改進EMI屏蔽效果。
第二緩和層160能夠以格子形狀形成且其與縱向阻擋條210a和橫向阻擋條210b重疊，如圖6所示。作為選擇地，能夠以條形形狀形成第二緩和層160，且其和縱向阻擋條210a和橫向阻擋條210b的任意一個重疊。
優(yōu)選地，構(gòu)成第二緩和層的黑色材料的寬度范圍從10到30μm。在該情況下，面板具有足夠的占空比。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)具有更好亮度的清晰圖像，且降低因為厚度引起的面板的片阻抗。由此，增加導電性和改進EMI屏蔽效果。
圖7是示出了根據(jù)本發(fā)明的制造等離子顯示設(shè)備的方法的實施例的流程圖。
參考圖7，能夠由電極形成步驟S1、涂覆步驟S2和燒結(jié)步驟S3形成本發(fā)明的等離子顯示面板。
在電極形成步驟S1中，通過感光方法、絲網(wǎng)印刷方法等的方式在前基片的第二表面上形成掃描電極和維持電極。
在涂覆步驟S2中，用于形成緩和層的導電材料被直接涂覆在前基片的第一表面上。如上所述在前基片的第一表面上涂覆導電材料的方法能夠包括通過使用旋轉(zhuǎn)方法、飛濺方法和濺射方法之一通過濺射器涂覆涂料類型的導電材料的方法。
當形成該緩和層時，該方法很少產(chǎn)生氣泡，且能夠顯著地改進緩和層的均勻性。
該旋轉(zhuǎn)方法的優(yōu)點在于其能夠自然地改進緩和層的均勻性。在其工藝上，該旋轉(zhuǎn)方法的優(yōu)點還在于不像現(xiàn)有濾光器，其能夠大大減少誤差率，且能夠顯著提高產(chǎn)量。
具體地說，濺射方法的優(yōu)點在于因為能夠自由地控制導電材料的涂覆量，該濺射方法能夠控制層的厚度。
在濺射方法中，在具有真空狀態(tài)的飛濺設(shè)備中設(shè)置比如銀(Ag)或ITO的測試樣本，且前基片被設(shè)置為與測試樣本相對。在該狀態(tài)中，如果注入氬(Ar)氣體并施加電壓，則氬(Ar)氣變?yōu)榈入x子狀態(tài)，其中氬(Ar)氣被分解為氬(Ar)離子和電子。氬(Ar)離子碰撞銀(Ag)或ITO測試樣本，使得銀(Ag)或ITO的原子躍遷并直接附著到前基片的第二表面，從而形成緩和層。為了比如銀(Ag)或ITO的導電材料具有EMI屏蔽效果和NIR屏蔽效果，能夠執(zhí)行幾次飛濺處理以形成具有多層的緩和層。
在涂覆導電材料之后，添加直接印刷黑色材料的過程和烘干印刷的黑色材料的過程。
該印刷過程能夠采用厚膜印刷方法，直接成型方法等。在印刷過程中，使用掩模以條形或格子形狀在前基片上涂覆黑色材料的漿糊。
該涂覆的黑色材料在烘干過程中被烘干。
在燒結(jié)步驟S3中，燒結(jié)涂覆的導電材料，使得該導電材料適當?shù)剡B接和硬化到等離子顯示面板的前表面。
該燒結(jié)方法可包括熱燒結(jié)、紫外燒結(jié)和激光燒結(jié)等。
該熱燒結(jié)方法在熱燒結(jié)爐中在整個等離子顯示面板上執(zhí)行。該激光燒結(jié)方法適于局部地燒結(jié)將要燒結(jié)的部分。通過使用發(fā)射紫外線的設(shè)備，在其上紫外線通過輻射的熱量具有效果的部分上執(zhí)行紫外燒結(jié)方法，且因此適于燒結(jié)等離子顯示面板的表面。因此，更為優(yōu)選地，紫外燒結(jié)方法被用于本發(fā)明的緩和層的燒結(jié)步驟S3。
圖8是示出了等離子顯示面板的電極布置的視圖。
如圖8所示，構(gòu)成等離子顯示面板的多個放電單元優(yōu)選地以矩陣形狀分別位于掃描電極線Y1到Y(jié)m和維持電極線Z1到Zm，以及尋址電極線X1到Xn的交叉處。掃描電極線Y1到Y(jié)m被順序地驅(qū)動，而維持電極線Z1到Zm被公共地驅(qū)動。而尋址電極線X1到Xn通過劃分為奇數(shù)行和偶數(shù)行來驅(qū)動。
如圖8所示的電極布置是根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示面板的電極布置的實施例，且因此本發(fā)明不限于如圖3所示的等離子顯示面板的電極布置和驅(qū)動方法。例如，可以采用其中同時驅(qū)動每兩個掃描電極線Y1到Y(jié)m的雙掃描(dual scan)或雙重掃描(double scan)方法。
在該情況中，雙掃描方法是假定等離子顯示面板被劃分為兩個區(qū)域，也就是，上區(qū)域和下區(qū)域，同時驅(qū)動屬于上區(qū)域的一個掃描電極線和屬于下區(qū)域的一個掃描電極線的方法。雙重掃描方法是同時驅(qū)動彼此連續(xù)的兩個掃描電極線的方法。
圖9是示出了其中通過時分為多個子場來驅(qū)動等離子顯示面板的圖像的一幀的方法的實施例。
參考圖9，通過時分為八個子場SF1，...，SF8來驅(qū)動單位幀，以表現(xiàn)圖像的灰度級。子場SF1，...，SF8的每一個被劃分為復位周期(沒有示出)、尋址周期A1、...、A8和維持周期S1、...、S8。
在每個尋址周期A1，...，A8中，將數(shù)據(jù)信號施加到尋址電極X，且將對應于數(shù)據(jù)信號的掃描脈沖順序施加到掃描電極Y。在每個維持周期S1，...，S8中，將維持脈沖交替加施到掃描電極Y和維持電極Z，使得在尋址周期A1，...，A8中選擇的放電單元中產(chǎn)生維持放電。
等離子顯示面板的亮度和單位幀中占據(jù)的維持周期S1，...，S8中維持放電的次數(shù)成正比。在其中以8個子場和256個灰度級表現(xiàn)形成一個圖像的一幀的情況下，各個子場分配有不同數(shù)目的維持脈沖，比率為1、2、4、8、16、32、64和128。可選擇的，為了獲得133灰度級的亮度，通過在子場1周期、子場3周期和子場8周期期間尋址單元能執(zhí)行維持放電。
同時，根據(jù)自動功率控制(APC)步驟，分配給每個子場的維持放電的次數(shù)能夠根據(jù)子場的權(quán)重而改變。就是說，參考圖9描述其中一幀劃分為八個子場的實例。但是，本發(fā)明不限于上述實例，而是形成一幀的子場數(shù)目能夠根據(jù)設(shè)計規(guī)范以多種方式改變。例如，能夠通過將一幀劃分為八個子場或更多或八個子場或更少，比如12或16個子場來驅(qū)動等離子顯示面板。
考慮伽馬特性或面板特性，可以以多種方式改變分配給每個子場的維持放電的次數(shù)。例如，分配給子場4的灰度級可以從8降低到6，且分配給子場6的灰度級可以從32上升到34。
圖10示出了相對于劃分的子場的驅(qū)動等離子顯示面板的驅(qū)動信號的實施例的波形。
參考圖10，子場SF被劃分為其中復位放電單元中的電荷的復位周期，其中選擇其上顯示圖像的放電單元和其上不顯示圖像的放電單元的尋址周期，和其中在尋址周期中選擇且其上將顯示圖像的放電單元中產(chǎn)生維持放電，從而產(chǎn)生圖像的維持周期。將復位周期再次劃分為建立周期和撤除周期。
在建立周期中，將逐漸上升的建立信號施加到掃描電極Y，使得在整個放電單元中產(chǎn)生建立放電。因此，在放電單元上累積壁電荷。在撤除周期中，將逐漸下降的撤除信號施加到掃描電極Y，使得在整個放電單元中產(chǎn)生弱的擦除放電。因此，將穩(wěn)定產(chǎn)生尋址放電程度的壁電荷均勻留在放電單元中。
另外，在復位周期之前存在預復位周期。在預復位周期中，幫助形成足夠的壁電荷，且將正電壓施加到維持電極Z，同時在復位周期之前應用其中掃描電極Y的電壓值逐漸下降的波形，從而產(chǎn)生預復位放電?？紤]驅(qū)動裕量，優(yōu)選地預復位周期僅在第一子場SF1中存在。
在尋址周期中，當將掃描信號順序施加到掃描電極Y時，將與施加到掃描電極Y的掃描信號同步的正的數(shù)據(jù)信號施加到尋址電極X。在掃描信號和數(shù)據(jù)信號之間的電壓差和在復位周期期間產(chǎn)生的電荷相加以在放電單元中產(chǎn)生尋址放電。因此，在放電單元中形成用于維持放電的壁電荷。
在維持周期中，將維持信號交替地施加到掃描電極Y和維持電極Z。無論何時施加維持信號，在由尋址放電選擇的放電單元中產(chǎn)生維持放電，也就是，顯示放電。
同時，圖10所示的波形是根據(jù)本發(fā)明實施例的驅(qū)動等離子顯示面板的信號的實施例。本發(fā)明不限于圖10所示的波形。例如，可從構(gòu)成一幀的多個子場的至少一個中省略復位周期，該復位周期可僅在第一子場中存在，且可省略預復位周期。
如果合適，圖10所示的每個驅(qū)動信號的極性和電壓電平可以不同。在完成維持放電之后，將用于擦除壁電荷的擦除信號施加到維持電極Z。另外，其中將維持信號僅施加到掃描電極Y和維持電極Z以產(chǎn)生維持放電的單一維持驅(qū)動是可能的。
雖然關(guān)于當前考慮為實際的示例性實施例描述了本發(fā)明，理解本發(fā)明不限于公開的實施例，而是相反的，意在覆蓋在所附權(quán)利要求的精神和范圍中包括的多種修改和等效布置。
權(quán)利要求
1.一種等離子顯示設(shè)備，其包括前基片，和與前基片相對并具有用于物理地劃分在其中形成的放電單元的多個阻擋條的后基片，該等離子顯示設(shè)備包括在前基片的第一表面上形成的第一電極和第二電極，以及在前基片的第二表面上直接形成的緩和層。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該緩和層包括由導電材料形成的至少一層。
3.如權(quán)利要求2所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該導電材料包括ITO、IZO、IZTO和銀(Ag)的至少一種。
4.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該緩和層由格子形狀的金屬材料形成。
5.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該緩和層包括在第二表面上直接形成的黑色層，或包括黑色層的兩個或多個層。
6.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該緩和層具有10到250nm的厚度。
7.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該緩和層具有10到200nm的厚度。
8.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，該緩和層具有小于等于4Ω/m2的片阻擋和大于等于35％的透射率。
9.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，緊密地粘合到緩和層的膜濾光器可在緩和層上形成，或與緩和層分開預定距離的玻璃濾光器在緩和層之上形成。
10.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示設(shè)備，其中，在緩和層之上形成的膜濾光器和玻璃濾光器之一包括用于減少外部光的反射的防反射層、用于色彩調(diào)整和色彩修正的色彩控制層和粘合層之一。
全文摘要
本發(fā)明涉及等離子顯示設(shè)備。一個直接形成在面板的前基片上的緩和層。因此，能夠節(jié)省等離子顯示設(shè)備的制造成本，改進比如波紋和雙重圖像的現(xiàn)象，改進亮室和暗室對比度，且提供更加清晰的畫面質(zhì)量。另外，該緩和層包括導電材料。因此，本發(fā)明的優(yōu)點在于屏蔽EMI和NIR，且防止驅(qū)動等離子顯示設(shè)備時發(fā)生的誤操作。
文檔編號H01J17/04GK1983496SQ20061016884
公開日2007年6月20日 申請日期2006年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月12日
發(fā)明者金汞卓, 裴胱培, 權(quán)炯碩 申請人:Lg電子株式會社