專利名稱：：電子發(fā)射顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種在顯示期間能夠防止放電和電弧的電子發(fā)射顯示器。更特別地，本發(fā)明針對一種包括圖像形成襯底的電子發(fā)射顯示器，該圖像形成襯底具有至少一個熒光層和至少一個電阻層。功率通過該至少一個電阻層施加在該至少一個熒光層上。
背景技術(shù)：
：通常，電子發(fā)射顯示器從電連接到陰極電極上的電子發(fā)射裝置發(fā)射電子。通過在陰極和門電極之間施加電場，產(chǎn)生量子力學(xué)隧道效應(yīng)，電子發(fā)射裝置被連接到陰極上。電子發(fā)射顯示器利用熱陰極或冷陰極作為電子源。利用冷陰極的電子發(fā)射顯示器可被分類為場致發(fā)射器陣列(fieldemitterarray，F(xiàn)EA)型、表面?zhèn)鲗?dǎo)發(fā)射器(SCE)型、金屬-絕緣體-金屬(MIM)型、金屬-絕緣體-半導(dǎo)體(MIS)型、沖擊式電子表面發(fā)射(ballisticelectronsurfaceemitting，BSE)型等等。電子發(fā)射裝置用于形成電子發(fā)射顯示器、各種背光(backlights)、用于平板印刷術(shù)(lithography)的電子束設(shè)備等等。典型的電子發(fā)射顯示器包括用于發(fā)射電子的電子發(fā)射裝置。電子發(fā)射顯示器還包括熒光層，所發(fā)出的電子撞擊該熒光層并發(fā)光。電子發(fā)射顯示器通常包括多個電子發(fā)射裝置，以及在電子發(fā)射襯底上的用于控制電子發(fā)射的控制電極。電子發(fā)射顯示器還包括在圖像形成襯底上的熒光層，以及連接到該熒光層上以加速所發(fā)射的電子朝向熒光層運(yùn)動的加速電極。如上所述，傳統(tǒng)的電子發(fā)射顯示器具有圍繞圖像形成襯底的電阻層。據(jù)說這些電阻層可抑制由圖像形成襯底產(chǎn)生的放電和電弧。然而，這些電子發(fā)射顯示器可被圖像形成襯底的內(nèi)部區(qū)域中產(chǎn)生的電弧所損壞，該圖像形成襯底正是熒光層所在的位置。結(jié)果是，熒光層的壽命被縮短。此外，常用激光微調(diào)法在圖像形成襯底上形成電阻層，以連接電阻層和電極。然而，這種用于形成電阻層的方法生產(chǎn)率很低，從而降低了產(chǎn)量。
發(fā)明內(nèi)容在本發(fā)明的一個實施例中，電子發(fā)射顯示器包括形成在圖像形成襯底中央的電阻層。將高驅(qū)動電壓通過該電阻層施加到該圖像形成襯底的熒光層上。在本發(fā)明的一個示例性實施例中，電子發(fā)射顯示器包括電子發(fā)射襯底，該電子發(fā)射襯底包括至少一個電子發(fā)射裝置。該電子發(fā)射顯示器還包括圖像形成襯底，該圖像形成襯底包括至少一個熒光層，以及至少一個與該熒光層相接觸的電阻層。由電子發(fā)射裝置發(fā)出的電子與熒光層相撞擊，從而發(fā)出光。在使用中，功率通過該電阻層施加在該熒光層上。在本發(fā)明的另一個示例性實施例中，電子發(fā)射顯示器包括電子發(fā)射襯底，該電子發(fā)射襯底包括以矩陣形式排列的多個電子發(fā)射裝置。該電子發(fā)射顯示器還包括圖像形成襯底，該圖像形成襯底包括至少一個熒光層和至少一個與該熒光層相接觸的電阻層。由電子發(fā)射裝置發(fā)出的電子與熒光層相撞擊，從而發(fā)出光。在使用中，功率通過該電阻層施加在該熒光層上。在一個實施例中，電阻層具有約為103至約為1014Ω/□的表面電阻率(薄膜電阻)。在另一個實施例中，電阻層具有約為107至約為1014Ω/□的表面電阻率。電阻層可包括從由Co、Cr、氧化鉻(CrOx)和氧化釕(RuOx)組成的組中選擇的材料。該電阻層可為黑色。在一個實施例中，該至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個子像素(sub-pixel)。在另一個實施例中，該至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個像素(pixel)。在一個可選的實施例中，該電子發(fā)射顯示器還包括在熒光層和電阻層之間的遮光層。遮光層可包括導(dǎo)電材料。在一個實施例中，該電子發(fā)射襯底包括至少一個陰極電極和至少一個門電極，該陰極電極與該門電極絕緣并交叉。至少一個電子發(fā)射裝置電連接到該陰極電極上。該電子發(fā)射襯底可包括至少一個位于陰極電極和門電極的交點處以矩陣形式排列的電子發(fā)射裝置。該電子發(fā)射襯底還可包括第三電極，用于引導(dǎo)從電子發(fā)射裝置發(fā)射的電子到熒光層。該電子發(fā)射顯示器可進(jìn)一步包括隔板，用于將電子發(fā)射襯底和圖像形成襯底隔開。通過結(jié)合附圖來參照下面的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述及其它特征和優(yōu)點將變得更加明顯，其中圖1為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的電子發(fā)射顯示器的示意性橫剖面視圖；圖2A為圖1的電子發(fā)射顯示器的圖像形成襯底的一個代表性部分的示意性俯視圖；圖2B為圖2A的圖像形成襯底沿線2B-2B剖切的橫剖面視圖；圖3A為根據(jù)本發(fā)明一個可選實施例的圖像形成襯底的一個代表性部分的示意性俯視圖；圖3B為圖3A的圖像形成襯底沿線3B-3B剖切的橫剖面視圖；圖4A為根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的圖像形成襯底的一個代表性部分的示意性俯視圖；圖4B為圖4A的圖像形成襯底沿線4B-4B剖切的橫剖面視圖；圖5A為根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的圖像形成襯底的一個代表性部分的示意性俯視圖；以及圖5B為圖5A的圖像形成襯底沿線5B-5B剖切的橫剖面視圖。具體實施例方式現(xiàn)將參照附圖描述本發(fā)明的示例性實施例。圖1為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的電子發(fā)射顯示器的示意性橫剖面視圖。參見圖1，電子發(fā)射顯示器300包括電子發(fā)射襯底100，該電子發(fā)射襯底100包括至少一個電子發(fā)射裝置150；以及圖像形成襯底200，該圖像形成襯底200包括至少一個熒光層220和至少一個與該熒光層220接觸的電阻層240。從電子發(fā)射襯底上的電子發(fā)射裝置150發(fā)射的電子與熒光層220相撞擊，從而發(fā)出光。在使用中，功率通過電阻層240施加在該熒光層220上。更特別地，電子發(fā)射襯底100包括至少一個電子發(fā)射裝置150，該電子發(fā)射裝置150通過形成在陰極電極120和門電極140之間的電場發(fā)射電子。電子發(fā)射襯底100包括底層110、至少一個陰極電極120、至少一個門電極140、至少一個用于使陰極電極120與門電極140絕緣的絕緣層130、至少一個連接到陰極電極120上的電子發(fā)射裝置150，以及柵極(gridelectrode)(未示出)。在本實施例中，陰極電極120與門電極140互相垂直。在一個可選實施例中，陰極電極120與門電極140互相平行。至少一個陰極電極120被以例如條紋形圖案的預(yù)定圖案布置在底層110上。底層110包括任意傳統(tǒng)材料，例如玻璃或硅。底層110可利用碳納米管(CNTcardonnanotube)膠通過背面曝光法(rearsurfaceexposuremethod)來形成。當(dāng)以此方式形成時，底層110優(yōu)選地包括諸如玻璃的透明襯底。陰極電極120將來自數(shù)據(jù)驅(qū)動區(qū)域(未示出)和/或掃描驅(qū)動區(qū)域(未示出)的數(shù)據(jù)信號和/或掃描信號引導(dǎo)至電子發(fā)射裝置150。電子發(fā)射襯底100包括位于陰極電極120與門電極140的交點處的電子發(fā)射裝置150。陰極電極120可包括氧化錫銦(ITO)。絕緣層130位于底層110上，覆蓋著陰極電極120，以使陰極電極120和門電極140電絕緣。絕緣層130包括至少一個位于陰極電極120和門電極140的交點處的開口135。該開口135使陰極電極120得以暴露。門電極140以例如條紋形的預(yù)定圖案位于絕緣層130上，并沿垂直于陰極電極120的方向布置。門電極140將來自數(shù)據(jù)驅(qū)動區(qū)域(未示出)和/或掃描驅(qū)動區(qū)域(未示出)的數(shù)據(jù)信號和/或掃描信號引導(dǎo)至電子發(fā)射裝置150。門電極140包括至少一個對應(yīng)于絕緣層130中的開口135的開口145，用于使電子發(fā)射裝置150得以暴露。電子發(fā)射裝置150電連接到陰極電極120上，并位于陰極電極120上對應(yīng)于絕緣層中開口135和門電極中開口145的位置。在一個實施例中，電子發(fā)射裝置包括從由碳納米管、石墨、石墨納米纖維、金剛石狀碳、C60、硅納米線等組成的組中選取的材料。如上所述，電子發(fā)射襯底100包括多個電子發(fā)射裝置150，每個電子發(fā)射裝置150位于陰極電極120和門電極140的交點處。電子發(fā)射裝置150以例如矩陣形狀的預(yù)定圖案布置在電子發(fā)射襯底100上。電子發(fā)射襯底100包括互相垂直布置的陰極電極120和門電極140、用于使陰極電極120與門電極140絕緣的絕緣層130、以及電連接到陰極電極120上的電子發(fā)射裝置150。至少一個電子發(fā)射裝置150在位置上對應(yīng)于圖像形成襯底200上的熒光層220。柵極位于門電極140上，并包括至少一個開口，所發(fā)射的電子可穿過該開口。柵極將從電子發(fā)射裝置150發(fā)出的電子引導(dǎo)至熒光層220，并防止由于電弧放電對電極的損害。在一個實施例中，該柵極包括導(dǎo)電網(wǎng)板(meshsheet)。圖像形成襯底200包括頂層210、至少一個位于頂層210上的熒光層220、以及至少一個與熒光層220接觸并圍繞熒光層220的遮光層230。從電子發(fā)射襯底100上的電子發(fā)射裝置150發(fā)射的電子與熒光層220相撞擊，從而發(fā)出光。圖像形成襯底200還包括圍繞至少一個熒光層220外緣的電阻層240。在包括遮光層230的實施例中，電阻層240可圍繞至少一個遮光層230來定位。在使用中，功率通過電阻層240施加在熒光層220上。當(dāng)由電子發(fā)射裝置發(fā)射的電子與熒光層220相撞擊時，熒光層220發(fā)出光。將熒光層220有選擇性地定位于圖像形成襯底200的頂層210上，并以預(yù)定間距互相分隔開來。每個熒光層220包括單個層。例如，每個熒光層220可以包括熒光層、像素單元或線條單元，用于顯示紅(R)、綠(G)或藍(lán)(B)色。在一個實施例中，頂層210包括透明材料。遮光層230與以預(yù)定間距互相隔開的熒光層220相接觸。遮光層230通過吸收和阻擋外部光并防止光串?dāng)_來提高對比度(contrastratio)。在一個實施例中，遮光層230與熒光層220接觸并圍繞著熒光層220的外緣。類似地，電阻層240與熒光層220接觸并圍繞著熒光層220，以形成圖像形成襯底200。如上所述，電阻層240圍繞著熒光層220的外緣。高電子加速電壓(陽極電壓)從外部電源(未示出)施加到圖像形成襯底200上。在本實施例中，這些電壓通過電阻層240施加到遮光層230和熒光層220上。因此，每個遮光層230包括導(dǎo)電材料。電阻層240在圖像形成襯底200的它們各自的區(qū)域中阻止放電和電弧。因而，電阻層240濾掉不穩(wěn)定的和意外的諸如脈沖的高加速電壓。結(jié)果是，只有穩(wěn)定的電壓被施加到圖像形成襯底200上。在一個實施例中，每個電阻層240具有大約103至大約1014Ω/□的表面電阻率。依靠電子發(fā)射顯示器的功率消耗不同，每個電阻層240可選地可具有大約107至大約1014Ω/□的表面電阻率。具有這些表面電阻率值的電阻層240可包括從由Co、Cr、氧化鉻(CrOx)和氧化釕(RuOx)組成的組中選擇的材料。電阻層240包括可由印制、沉積、臺面涂覆(tablecoating)等形成的膠。此外，電阻層240可為黑色，如遮光層230那樣，以防止光串?dāng)_。電子發(fā)射顯示器300還包括隔板310，以將電子發(fā)射襯底100和圖像形成襯底200隔開。將正電壓施加到陰極電極120上，將負(fù)電壓施加到門電極140上，且將正電壓施加到遮光層230上。結(jié)果是，由于陰極電極120和門電極140之間的電壓差，在電子發(fā)射裝置150周圍產(chǎn)生電場。該電場使電子發(fā)射裝置150發(fā)射電子。然后，施加到圖像形成襯底200上的高電壓導(dǎo)致所發(fā)射的電子與熒光層220的碰撞，該熒光層220對應(yīng)于各個電子發(fā)射裝置150的位置，從而發(fā)出光并顯示圖像?，F(xiàn)將描述本發(fā)明的各種可選實施例。例如，在一個實施例中，每個熒光層包括子像素單元、像素單元或線條單元。在另一個實施例中，電阻層起到遮光層的作用。圖2A為圖1的電子發(fā)射顯示器的圖像形成襯底的一個代表性部分的示意性俯視圖。圖2B為圖2A中的圖像形成襯底沿線2B-2B剖切的橫剖面視圖。圖2A和2B說明了本發(fā)明的一個實施例，其中熒光層形成至少一個子像素。參見圖2A和2B，圖像形成襯底200包括至少一個形成在襯底200的頂層210上的熒光層220。至少一個遮光層230連接到每個熒光層220上，并圍繞著熒光層220的外緣。熒光層220和遮光層230形成單個子像素，在圖2A中以A表示。電阻層240連接到并圍繞著每個遮光層230的外緣，如圖2A所示。在本結(jié)構(gòu)中，施加到圖像形成襯底200上的電壓通過電阻層240單獨地施加到每個可導(dǎo)電的遮光層230和熒光層220上。在本實施例中，電阻層240起到遮光層230的作用。從而，當(dāng)電阻層240包括黑色材料時，可省去遮光層230。圖3A為根據(jù)本發(fā)明一個可選實施例的圖像形成襯底400的一個代表性部分的示意性俯視圖。圖3B為圖3A中的圖像形成襯底400沿線3B-3B剖切的橫剖面視圖。圖3A和3B說明了本發(fā)明的一個可選實施例，其中熒光層形成至少一個像素。參見圖3A和3B，圖像形成襯底400包括至少一個位于頂層410上的熒光層420。至少一個遮光層430連接到并圍繞著至少一個熒光層420的外緣。電阻層440連接到并圍繞著至少一個遮光層430，如圖3A所示。熒光層420和遮光層430形成至少一個子像素，在圖3A中以B表示。在本實施例中，熒光層420可包括單個像素?？蛇x地，熒光層420可包括至少兩個像素，如圖3A中所示。在本實施例中，施加到圖像形成襯底400上的電壓通過電阻層440單獨地施加到熒光層420上。圖4A為根據(jù)本發(fā)明另一個可選實施例的圖像形成襯底500的一個代表性部分的示意性俯視圖。圖4B為圖4A中的圖像形成襯底500沿線4B-4B線剖切的橫剖面視圖。圖4A和4B說明了本發(fā)明的另一個可選實施例，其中熒光層形成至少一個線條。參見圖4A和4B，圖像形成襯底500包括至少一個形成在頂層510上的熒光層520。至少一個遮光層530連接到并圍繞著每個熒光層520，如圖4A所示。電阻層540連接到并圍繞著每個遮光層530，如圖4A所示。在本實施例中，熒光層520和遮光層530可形成單個線條?？蛇x地，熒光層520和遮光層530可形成至少兩個線條。根據(jù)本實施例，施加到圖像形成襯底500上的電壓通過電阻層540單獨地施加到熒光層520上。圖5A為根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的圖像形成襯底600的一個代表性部分的示意性俯視圖。圖5B為圖5A中的圖像形成襯底600沿線5B-5B剖切的橫剖面視圖。參見圖5A和5B，圖像形成襯底600包括至少一個形成在頂層610上的熒光層620。電阻層640連接到并圍繞著每個熒光層620，如圖5A所示。在此實施例中，電阻層640執(zhí)行其它實施例中遮光層的功能，從而簡化了圖像形成襯底600的結(jié)構(gòu)。在此實施例中，電阻層640包括黑色材料。盡管圖5A描繪了每個熒光層620和電阻層640形成子像素，在圖5A中以C表示，應(yīng)當(dāng)理解熒光層620和電阻層640可選地可形成像素，如結(jié)合圖3A和3B之所述，或形成線條，如結(jié)合圖4A和4B之所述。在此實施例中，穩(wěn)定的加速電壓通過電阻層施加到熒光層上，從而在圖像形成襯底的局部區(qū)域阻止了放電和電弧。如上所述，本發(fā)明的電子發(fā)射顯示器通過采用電阻層來圍繞著熒光層，防止了在圖像形成襯底的局部區(qū)域中的放電和電弧。盡管已經(jīng)描述了本發(fā)明的示例性實施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將會理解能夠進(jìn)行各種修改和變化，而不背離如所附權(quán)利要求中所揭示的本發(fā)明的精神和范圍。本申請要求在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請第2004-86957號、申請日為2004年10月29日的優(yōu)先權(quán)，這里引用其整個公開內(nèi)容作為參考。權(quán)利要求1.一種電子發(fā)射顯示器，包括電子發(fā)射襯底，該電子發(fā)射襯底包括至少一個電子發(fā)射裝置；和圖像形成襯底，該圖像形成襯底包括至少一個熒光層，和至少一個圍繞著所述至少一個熒光層的電阻層，其中所述電阻層適于傳遞電壓至所述至少一個熒光層。2.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個電阻層與所述至少一個熒光層相接觸。3.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層具有約為103至約為1014Ω/□的表面電阻率。4.根據(jù)權(quán)利要求3的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層具有約為107至約為1014Ω/□的表面電阻率。5.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層包括從由Co、Cr、氧化鉻(CrOx)和氧化釕(RuOx)組成的組中選擇的材料。6.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個子像素。7.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個像素。8.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個線條。9.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層包括黑色材料。10.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，還包括至少一個在所述至少一個熒光層和所述電阻層之間的遮光層，其中所述至少一個遮光層圍繞著所述至少一個熒光層，以及所述電阻層圍繞著所述至少一個遮光層。11.根據(jù)權(quán)利要求10的電子發(fā)射顯示器，其中所述遮光層包括導(dǎo)電材料。12.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，其中所述電子發(fā)射襯底還包括陰極電極和門電極，其中所述陰極電極和門電極被基本上互相垂直布置，所述至少一個電子發(fā)射裝置以矩陣形式位于所述陰極電極和門電極的交點處。13.根據(jù)權(quán)利要求12的電子發(fā)射顯示器，其中所述電子發(fā)射襯底還包括位于所述陰極電極和門電極之間的絕緣層，所述電子發(fā)射裝置電連接到所述陰極電極上。14.根據(jù)權(quán)利要求12的電子發(fā)射顯示器，其中所述電子發(fā)射襯底還包括第三電極，用于將從所述電子發(fā)射裝置發(fā)出的電子引導(dǎo)至所述圖像形成襯底上的熒光層。15.根據(jù)權(quán)利要求1的電子發(fā)射顯示器，還包括隔板，用于將所述電子發(fā)射襯底和所述圖像形成襯底隔開。16.一種電子發(fā)射顯示器，包括電子發(fā)射襯底，該電子發(fā)射襯底包括至少一個以矩陣形式定位于所述電子發(fā)射襯底上的電子發(fā)射裝置；和圖像形成襯底，該圖像形成襯底包括至少一個熒光層，和至少一個圍繞著所述至少一個熒光層的電阻層，其中所述電阻層適于傳遞電壓至所述至少一個熒光層。17.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層與所述至少一個熒光層相接觸。18.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層具有約為103至約為1014Ω/□的表面電阻率。19.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層具有約為107至約為1014Ω/□的表面電阻率。20.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層包括從由Co、Cr、氧化鉻(CrOx)和氧化釕(RuOx)組成的組中選擇的材料。21.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個子像素。22.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個像素。23.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個電阻層形成至少一個線條。24.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層包括黑色材料。25.根據(jù)權(quán)利要求16的電子發(fā)射顯示器，其中所述圖像形成襯底還包括至少一個位于所述至少一個熒光層和所述電阻層之間的遮光層。26.根據(jù)權(quán)利要求25的電子發(fā)射顯示器，其中所述遮光層包括導(dǎo)電材料。27.一種電子發(fā)射顯示器，包括電子發(fā)射襯底，該電子發(fā)射襯底包括至少一個電子發(fā)射裝置；和圖像形成襯底，該圖像形成襯底包括至少一個熒光層，至少一個圍繞著所述至少一個熒光層的遮光層，和至少一個圍繞著所述至少一個遮光層的電阻層，其中所述電阻層適于傳遞電壓至所述至少一個遮光層和至少一個熒光層。28.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層具有約為103至約為1014Ω/□的表面電阻率。29.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層具有約為107至約為1014Ω/□的表面電阻率。30.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述電阻層包括從由Co、Cr、氧化鉻(CrOx)和氧化釕(RuOx)組成的組中選擇的材料。31.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個遮光層形成至少一個子像素。32.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個遮光層形成至少一個像素。33.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述至少一個熒光層和至少一個遮光層形成至少一個線條。34.根據(jù)權(quán)利要求27的電子發(fā)射顯示器，其中所述遮光層包括導(dǎo)電材料。全文摘要本發(fā)明提供了一種包括有電子發(fā)射襯底和圖像形成襯底的電子發(fā)射顯示器。所述電子發(fā)射襯底包括至少一個電子發(fā)射裝置。所述圖像形成襯底包括至少一個熒光層，以及至少一個與所述熒光層相接觸的電阻層。在使用中，功率通過所述電阻層施加到所述熒光層上。這種配置防止了在圖像形成襯底的局部區(qū)域中的放電和電弧。文檔編號H01J31/12GK1790605SQ200510137318公開日2006年6月21日申請日期2005年10月31日優(yōu)先權(quán)日2004年10月29日發(fā)明者姜正鎬,俞升濬,樸真民,李受貞,李受京申請人:三星Sdi株式會社