光源裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型的實(shí)施方式涉及一種包括發(fā)光元件的光源裝置，尤其涉及一種用于液晶的硬化等且包括多個(gè)發(fā)光元件的光源裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在，在液晶面板的硬化或重合、貼合中使用的光源裝置中，使用通過(guò)激發(fā)封入到管內(nèi)的金屬而射出光的放電燈(例如低壓熒光燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈)。進(jìn)而在液晶面板的硬化或重合、貼合等光反應(yīng)工序中，使用具有射出紫外線的發(fā)光元件的光源裝置。
[0003][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0004][專利文獻(xiàn)]
[0005][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2010-197540號(hào)公報(bào)
[0006][專利文獻(xiàn)2]國(guó)際公開第2010/197540號(hào)
[0007][專利文獻(xiàn)3]日本專利特開2007-305703號(hào)公報(bào)
[0008][專利文獻(xiàn)4]日本專利特開2010-93094號(hào)公報(bào)
[0009][專利文獻(xiàn)5]日本專利特開昭59-43320號(hào)公報(bào)
[0010][專利文獻(xiàn)6]日本專利特開昭60-59733號(hào)公報(bào)
[0011]且說(shuō)，現(xiàn)有技術(shù)中，例如在照射光而使被照射物的光硬化型樹脂硬化時(shí)，要求抑制不充分的硬化。而且，光源裝置中，要求抑制照射紫外線的被照射物的不均勻的反應(yīng)，即，紫外線對(duì)被照射物的不均勻的照射。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0012]本實(shí)用新型的目的在于提供抑制被照射物的光化學(xué)反應(yīng)的不均勻的光源裝置。而且，本實(shí)用新型的目的在于提供抑制紫外線對(duì)被照射物的不均勻的照射的光源裝置。
[0013][解決問(wèn)題的技術(shù)手段]
[0014]實(shí)施方式的光源裝置包括發(fā)光部、調(diào)整單元及光學(xué)零件。發(fā)光部包括多個(gè)第一發(fā)光元件以及多個(gè)第二發(fā)光元件。第一發(fā)光元件射出第一峰值波長(zhǎng)的紫外線。第二發(fā)光元件射出與第一峰值波長(zhǎng)不同的第二峰值波長(zhǎng)的紫外線，且配置于第一發(fā)光元件的周圍。以第二發(fā)光元件中的至少一個(gè)位于第一發(fā)光元件的周圍的方式，將多個(gè)第一發(fā)光元件及多個(gè)第二發(fā)光元件配置成面狀或直線狀。調(diào)整單元使發(fā)光部中的位于外緣的發(fā)光部的相對(duì)照度比位于中央的發(fā)光部的相對(duì)照度大。光學(xué)零件使第一發(fā)光元件與第二發(fā)光元件射出的紫外線擴(kuò)散并照射到被照射物。
[0015]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述第一發(fā)光元件及所述第二發(fā)光元件射出峰值波長(zhǎng)為240nm以上且405nm以下的紫外線。
[0016]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述光學(xué)零件由玻璃構(gòu)成。
[0017]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述光源裝置，還包括控制單元，所述控制單元使紫外線從所述發(fā)光部依次照射到多個(gè)被照射物。所述控制單元針對(duì)各被照射物重復(fù)進(jìn)行:使規(guī)定時(shí)間內(nèi)的所述第一發(fā)光元件及所述第二發(fā)光元件射出的紫外線相對(duì)于各被照射物的相對(duì)照度隨時(shí)間的經(jīng)過(guò)而減弱。
[0018]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述發(fā)光元件射出峰值波長(zhǎng)為240nm?450nm的紫外線。
[0019]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述控制單元使所述規(guī)定時(shí)間內(nèi)的所述發(fā)光元件射出的紫外線的相對(duì)照度在剛射出后為最強(qiáng)，并隨時(shí)間的經(jīng)過(guò)而減弱。
[0020]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述被照射物包含樹脂。
[0021]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，在所述發(fā)光部與所述被照射物之間，具有提取從所述發(fā)光部射出的紫外線的偏光成分的偏光元件。
[0022][實(shí)用新型的效果]
[0023]根據(jù)本實(shí)用新型，可提供抑制紫外線對(duì)被照射物的不均勻的照射的光源裝置。而且，可提供抑制被照射物的光化學(xué)反應(yīng)的不均勻的光源裝置。
【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是表示包括實(shí)施方式I的光源裝置的紫外線照射裝置的概略構(gòu)成的圖。
[0025]圖2是從下方表示實(shí)施方式I的光源裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。
[0026]圖3是表示相對(duì)于實(shí)施方式I的光源裝置的各發(fā)光元件射出的紫外線的波長(zhǎng)的相對(duì)放射強(qiáng)度的圖。
[0027]圖4是表示相對(duì)于實(shí)施方式I的光源裝置射出的紫外線的波長(zhǎng)的相對(duì)放射強(qiáng)度的一例的圖。
[0028]圖5是表示圖1所示的紫外線照射裝置的平臺(tái)上的相對(duì)照度與光源裝置射出的紫外線的相對(duì)照度的圖。
[0029]圖6是從下方表示實(shí)施方式I的變形例I的光源裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。
[0030]圖7是從下方表示實(shí)施方式I的變形例2的光源裝置的概略構(gòu)成的要部的俯視圖。
[0031]圖8是表示實(shí)施方式2的光源裝置的概略構(gòu)成的立體圖。
[0032]圖9是圖8所示的光源裝置的X軸方向觀察的剖面圖。
[0033]圖10是圖8所示的光源裝置的光射出部的俯視圖。
[0034]圖11是圖10所示的光射出部的X軸方向觀察的剖面圖。
[0035]圖12是表示圖8所示的光源裝置的光射出部的相對(duì)照度的變化的圖。
[0036]圖13是圖8所示的光源裝置的控制單元的流程圖的一例。
[0037]圖14是表示使本實(shí)用新型品與比較例I?比較例3工作后的相對(duì)照度的變化的圖。
[0038]圖15是表示實(shí)施方式2的變形例I的光源裝置的概略構(gòu)成的X軸方向觀察的剖面圖。
[0039]圖16是表示實(shí)施方式2的變形例2的光源裝置的概略構(gòu)成的X軸方向觀察的剖面圖。
[0040]圖17是表示實(shí)施方式2的變形例3的光源裝置的概略構(gòu)成的X軸方向觀察的剖面圖。
[0041]圖18(a)?圖18(c)是表示圖12所示的光源裝置的光射出部的相對(duì)照度的變化的變形例的圖。
[0042]圖19是表示實(shí)施方式2的變形例4的光源裝置的概略構(gòu)成的立體圖。
[0043]圖20是實(shí)施方式2的變形例5的光源裝置的光射出部的側(cè)視圖。
[0044]圖21是從下方觀察圖20所示的光射出部的俯視圖。
[0045]圖22是從下方觀察實(shí)施方式2的變形例6的光源裝置的光射出部的俯視圖。
[0046]圖23是表示實(shí)施方式2的變形例7的光源裝置的概略構(gòu)成的圖。
[0047][符號(hào)的說(shuō)明]
[0048]l、la、l-l、l-la、l-2、l-2a、l-3、l-4、l-5、l-6、l_7:光源裝置
[0049]10:平臺(tái)
[0050]1a:載置面
[0051]1b:光射出部
[0052]11:本體構(gòu)件
[0053]12:發(fā)光元件
[0054]13:光纖
[0055]20:發(fā)光部
[0056]20a:反射板
[0057]21:第一發(fā)光元件
[0058]21a:反射面
[0059]22:第二發(fā)光元件
[0060]22a:空隙部
[0061]23:第三發(fā)光元件
[0062]24:安裝基板
[0063]30:散熱器
[0064]30a:搬送單元
[0065]31:鰭片
[0066]40:框體
[0067]40a:控制單元
[0068]41:擴(kuò)散板(光學(xué)零件)
[0069]50:控制單元(調(diào)整單元)
[0070]50a:移動(dòng)搬送單元
[0071]51:驅(qū)動(dòng)輥
[0072]52:從動(dòng)輥
[0073]53:搬送帶
[0074]60:光源移動(dòng)單元
[0075]61:滑塊
[0076]62:軌道
[0077]70:偏光元件
[0078]71:框架
[0079]80:水冷夾套
[0080]90:惰性氣體收容室
[0081]100:紫外線照射裝置
[0082]H:范圍
[0083]L:箭頭
[0084]La:光射出部的長(zhǎng)度
[0085]Pl:第一峰值波長(zhǎng)
[0086]P2:第二峰值波長(zhǎng)
[0087]P3:第三峰值波長(zhǎng)
[0088]R:光射出部的直徑
[0089]STl ?ST3:步驟
[0090]T:規(guī)定時(shí)間
[0091]T2:第二規(guī)定時(shí)間
[0092]t0、tl、t2、t3、t4:時(shí)間
[0093]W、Wa:被照射物
[0094]X、Y、Z:軸
【具體實(shí)施方式】
[0095][實(shí)施方式I]
[0096]以下說(shuō)明的實(shí)施方式1、變形例I及變形例2的光源裝置1、光源裝置1-1、光源裝置1-2包括發(fā)光部20、控制單元50及擴(kuò)散板41。發(fā)光部20具有多個(gè)第一發(fā)光元件21及多個(gè)第二發(fā)光元件22。第一發(fā)光元件21射出第一峰值波長(zhǎng)的紫外線。第二發(fā)光元件22配置于第一發(fā)光元件21的周圍。以第二發(fā)光元件22中的至少一個(gè)位于第一發(fā)光元件21的周圍的方式，將多個(gè)第一發(fā)光元件21及多個(gè)第二發(fā)光元件22配置成面狀或直線狀。控制單元50使發(fā)光部20中的位于外緣的發(fā)光部20的相對(duì)照度比位于中央的發(fā)光部20的相對(duì)照度大。擴(kuò)散板41使第一發(fā)光元件21與第二發(fā)光元件22射出的紫外線擴(kuò)散并照射到被照射物W。
[0097]而且，在以下說(shuō)明的實(shí)施方式1、變形例I及變形例2的光源裝置1、光源裝置1-1、光源裝置1-2中，第一發(fā)光元件21及第二發(fā)光元件22射出峰值波長(zhǎng)為240nm以上且405nm以下的紫外線。
[0098]而且，在以下說(shuō)明的實(shí)施方式1、變形例I及變形例2的光源裝置1、光源裝置1-1、光源裝置1-2中，擴(kuò)散板41由玻璃構(gòu)成。
[0099]接下來(lái)，根據(jù)附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式I的光源裝置I進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示包括實(shí)施方式I的光源裝置的紫外線照射裝置的概略構(gòu)成的圖，圖2是從下方表示實(shí)施方式I的光源裝置的概略構(gòu)成的俯視圖，圖3是表示相對(duì)于實(shí)施方式I的光源裝置的各發(fā)光元件射出的紫外線的波長(zhǎng)的相對(duì)放射強(qiáng)度的圖，圖4是表示相對(duì)于實(shí)施方式I的光源裝置射出的紫外線的波長(zhǎng)的相對(duì)放射強(qiáng)度的一例的圖，圖5是表示圖1所示的紫外線照射裝置的平臺(tái)上的相對(duì)照度與光源裝置射出的紫外線的相對(duì)照度的圖。
[0100]實(shí)施方式I的光源裝置I (以下簡(jiǎn)稱作光源裝置)構(gòu)成圖1所示的紫外線照射裝置100。紫外線照射裝置100為如下裝置，即，例如用于液晶面板的硬化或重合、貼合等光反應(yīng)工序中，且將規(guī)定波長(zhǎng)的紫外線照射到被照射物W(圖1所示)。
[0101]紫外線照射裝置100如圖1所示，包括光源裝置1、及將被照射物W載置于載置面1a上的平臺(tái)10等。光源裝置I包括多個(gè)發(fā)光部20、作為冷卻構(gòu)件的