高反射率產(chǎn)品的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型總體上涉及用于照明工業(yè)的產(chǎn)品，并且更具體地涉及光反射產(chǎn)品。
【背景技術(shù)】
[0002]已知反光涂層和其生產(chǎn)方法(發(fā)明專利申請RU 98106056/09，F(xiàn)21V7/00，
02.04.1998) ο反光涂層由施加在金屬表面上的基層、由純鋁制成的反射層和保護(hù)膜構(gòu)成。此外，將具有至少90%的光澤度(就Gardner而言)并且厚度為100-150微米的聚合底漆(polyeric priming coat)施加在作為基材的金屬表面上，并且將厚度為50-100微米的透明聚合保護(hù)膜施加在反光涂層上。
[0003]以上的反光涂層是層壓(laminated)的并且施加該反光涂層需要困難的技術(shù)，這是其不利的特征。
[0004]高反射率產(chǎn)品(實(shí)用新型專利RF 50222，S23S 14/06，27.12.2005)也是已知的。高反射率產(chǎn)物包括金屬或塑料基層，由單元素金屬(Al或Ti)制成的反射涂層和保護(hù)清漆涂層。
[0005]該技術(shù)方案是最接近的技術(shù)方案并且被接受為原型。
[0006]已知技術(shù)方案的缺點(diǎn)為以下:
[0007]-反光涂層施加的困難技術(shù)，例如，真空中的磁控派射(magnetronsputtering)方法；
[0008]-附加的保護(hù)清漆涂層(finish)不提供產(chǎn)品的產(chǎn)品可塑性；
[0009]-單元素金屬(Al或Ti)的使用導(dǎo)致價(jià)格大幅度上升并且不提供產(chǎn)品耐用性。
[0010]鑒于以上所述，需要生產(chǎn)具有提高的質(zhì)量、延長的操作期限的高反射率產(chǎn)品，以便將其用于外殼和反射器被一體制造(single-made)的燈具，以及提供其低廉的成本。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0011]本實(shí)用新型的一個(gè)方面的目的是生產(chǎn)具有提高的質(zhì)量、延長的操作期限的高反射率產(chǎn)品，以便將其用于外殼和反射器一體制造的燈具，以及提供其低廉的成本。
[0012]—種尚反射率廣品，其特征在于，所述尚反射率廣品包括金屬基層；和反光涂層，所述反光涂層是一種由聚合材料或以聚合物為基礎(chǔ)的材料制造的高反射率反光膜，其中所述金屬基層和所述反光涂層彼此粘結(jié)。
[0013]優(yōu)選地，所述高反射率產(chǎn)品其特征在于，通過主要在各層的整個(gè)表面上施加的粘著劑來將所述金屬基層和所述反光涂層彼此粘結(jié)。
[0014]優(yōu)選地，所述高反射率產(chǎn)品其特征在于，高反射率產(chǎn)品將溶劑兩組分粘著劑作為粘著劑來使用。
[0015]優(yōu)選地，所述高反射率產(chǎn)品其特征在于，將冷軋的、熱鍍鋅的板金屬或者冷軋板金屬或者冷軋預(yù)涂的板金屬用作金屬材料。
[0016]優(yōu)選地，所述高反射率產(chǎn)品其特征在于，反光涂層由聚氯乙烯或聚乙烯或聚丙烯或聚酰胺聚對苯二甲酸乙二酯制成，并且金屬化粉末被噴在一側(cè)上，其中所述金屬化粉末具有范圍為85%到95%的光反射系數(shù)。
[0017]本實(shí)用新型的一個(gè)方面的技術(shù)效果是所述高反射率產(chǎn)品具有提高的保護(hù)特性，工作特征以及經(jīng)濟(jì)效果。
【附圖說明】
[0018]圖1不出了尚反射率廣品的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]以上技術(shù)結(jié)果是如下達(dá)到的:聲明的高反射率產(chǎn)品包括金屬基層和類型為由聚合材料或基于聚合物材料制造的高反射率反光膜的反光涂層。此外，基層和反光膜彼此粘結(jié)，至少，優(yōu)選地通過主要在各個(gè)層的整個(gè)表面上施加粘著劑的方式。
[0020]例如，將冷軋、熱鍍鋅的等級220 (GOST R 52246-2004)的板金屬用作金屬材料。
[0021]反光膜由聚氯乙烯和/或聚乙烯和/或聚丙烯和/或聚酰胺聚對苯二甲酸乙二酯制成，并且將金屬化粉末(反光系數(shù)85-95% )噴在一側(cè)上。
[0022]將溶劑兩組分粘著劑用于本產(chǎn)品。
[0023]放置在基涂層上(例如，通過粘合劑層壓的方式)的反光膜提供了均勻的鏡覆蓋(mirror covering)。此外，表面不要求被保護(hù)，因?yàn)槟せ诪榫哂锌垢g特性以及被噴的金屬涂層抗小劃傷的保護(hù)特性的聚合物。
[0024]因此，產(chǎn)品提供高的反射性、提高的耐磨性增加其操作期限以及粘合劑耐用性，并且降低其本身和操作成本支出，這是優(yōu)于其它類型的涂層的優(yōu)點(diǎn)。具有以上涂層的產(chǎn)品適合于外殼和反射器作為單個(gè)部件制造的燈具。這樣的燈具設(shè)計(jì)允許減少燈具結(jié)構(gòu)的重量，并且此外，其較小數(shù)量的結(jié)構(gòu)元件可以因此提高其技術(shù)有效性。
[0025]在聲明的產(chǎn)品中，產(chǎn)品及其原型的共同本質(zhì)特征如下:
[0026]-基層，其中金屬用于所述基層；
[0027]-反光涂層。
[0028]聲明的產(chǎn)品及其原型的對比分析顯示出聲明的產(chǎn)品，不同于其原型，具有以下本質(zhì)特征:
[0029]-反光涂層表現(xiàn)為由聚合材料或基于聚合物的材料制造的高反射率反光膜；
[0030]-基層和反光涂層彼此粘結(jié)，優(yōu)選地通過主要在各層的整個(gè)表面上施加粘著劑的方式。
[0031]記載的已知的特征和區(qū)別性的本質(zhì)特征作為整體提供了以下技術(shù)效果:具有提高的保護(hù)特性、操作特性和經(jīng)濟(jì)效果的高反射率產(chǎn)品。
[0032]因此可以總結(jié)出聲明的實(shí)用新型的該組本質(zhì)特征與所達(dá)到的技術(shù)效果具有因果關(guān)系。由于該組本質(zhì)特征，已經(jīng)可以解決以下目的:開發(fā)出外殼和反射器作為單個(gè)部件制造的燈具的廣品。
[0033]此外，實(shí)用新型適合于工業(yè)應(yīng)用。
[0034]高反射率產(chǎn)品(后文稱為“產(chǎn)品”)顯示于附圖上。
[0035]產(chǎn)品由基層I (其中金屬用于所述基層)，粘著劑層2 (例如，溶劑兩組分粘著劑)和反光膜3構(gòu)成。
[0036]產(chǎn)品如下工作。
[0037]金屬基層I為產(chǎn)品成型基底，提供其主要強(qiáng)度特性。使用強(qiáng)力粘著劑2將反光膜3施加于其上。反光膜3提供產(chǎn)品反光特性，層壓了給予其額外光澤的金屬層1，并且因此，增加反光系數(shù)，保護(hù)其免于腐蝕和損傷并且強(qiáng)化整個(gè)產(chǎn)品。
[0038]因此，以上信息顯示了用開發(fā)的所聲明的實(shí)用新型所達(dá)到的技術(shù)效果，S卩，所提供的高反射率產(chǎn)品可以用于制造價(jià)廉的小重量照明裝置。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種尚反射率廣品，其特征在于，所述尚反射率廣品包括: 金屬基層；和 反光涂層，所述反光涂層是一種由聚合材料或以聚合物為基礎(chǔ)的材料制成的高反射率反光膜， 其中所述金屬基層和所述反光涂層彼此粘結(jié)。
2.如權(quán)利要求1所述的高反射率產(chǎn)品，其特征在于，通過主要在各層的整個(gè)表面上施加的粘著劑來將所述金屬基層和所述反光涂層彼此粘結(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高反射率產(chǎn)品，其特征在于，所述高反射率產(chǎn)品將溶劑兩組分粘著劑作為粘著劑來使用。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高反射率產(chǎn)品，其特征在于，將冷軋的、熱鍍鋅的板金屬或者冷軋板金屬或者冷軋預(yù)涂覆的板金屬用作金屬材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高反射率產(chǎn)品，其特征在于，所述反光涂層由聚氯乙烯或聚乙烯或聚丙烯或聚酰胺聚對苯二甲酸乙二酯制成，并且在一側(cè)上噴有金屬化粉末，其中所述金屬化粉末具有范圍為85%到95%的光反射系數(shù)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了高反射率產(chǎn)品。本實(shí)用新型用于照明工業(yè)。本實(shí)用新型解決的技術(shù)問題是生產(chǎn)具有提高的質(zhì)量、延長的操作期限的高反射率產(chǎn)品，以便將其用于外殼和反射器一體制造的燈具，以及提供其低廉的成本。高反射率產(chǎn)品包括金屬基層和反光涂層，其中反光涂層是一種由聚合材料或以聚合物為基礎(chǔ)的材料制成的高反射率反光膜，其中金屬基層和反光膜彼此粘結(jié)。技術(shù)效果如下：開發(fā)了具有提高的保護(hù)特性和操作特性以及經(jīng)濟(jì)效果的高反射率產(chǎn)品，其可以用于外殼和反射器作為單個(gè)部件制造的燈具。
【IPC分類】F21V7-22, G02B5-08
【公開號】CN204302520
【申請?zhí)枴緾N201420553383
【發(fā)明人】斯圖普尼科夫·奧列格·列昂尼多維奇
【申請人】斯圖普尼科夫·奧列格·列昂尼多維奇
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年9月25日