對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)，其方法包括：采集步驟，采集各個(gè)對(duì)位區(qū)域的圖像；判斷步驟，判斷所有的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則根據(jù)所有的對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟；若否，則進(jìn)行篩選步驟；篩選步驟，自所有的對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并根據(jù)篩選出的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟；對(duì)位步驟，將基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配。本發(fā)明提供的對(duì)位方法，其可以提高自動(dòng)對(duì)位的成功率，從而不僅可以避免因?qū)ξ徽`差過(guò)大而造成的層間對(duì)位偏移，而且還可以提高對(duì)位效率，從而提高產(chǎn)能。
【專利說(shuō)明】
對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在黃光制程中，曝光機(jī)在對(duì)基板進(jìn)行第二層工藝時(shí)，通常利用對(duì)位相機(jī)抓取基板上的對(duì)位標(biāo)記來(lái)實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配。
[0003]具體來(lái)說(shuō)，如圖1所示，基板103被放置在工作臺(tái)104上，且在基板103的上方設(shè)置有掩膜版102，用以對(duì)基板進(jìn)行曝光。如圖2所示，在掩膜板102的對(duì)位區(qū)域設(shè)置有菱形的對(duì)位標(biāo)記106，與之相對(duì)應(yīng)的，在基板103的對(duì)位區(qū)域設(shè)置有#字形的對(duì)位標(biāo)記107。曝光機(jī)的對(duì)位相機(jī)101抓取上述對(duì)位區(qū)域的圖像105，該圖像105中同時(shí)出現(xiàn)菱形的對(duì)位標(biāo)記106和#字形的對(duì)位標(biāo)記107，然后曝光機(jī)通過(guò)移動(dòng)掩膜版102的位置，使菱形的對(duì)位標(biāo)記106的中心和#字形的對(duì)位標(biāo)記107的中心重疊。之后，系統(tǒng)根據(jù)中心重疊的程度給出匹配得分，若得分高于設(shè)定閾值，則可以進(jìn)行自動(dòng)對(duì)位，并進(jìn)行后續(xù)的曝光工藝。
[0004]在實(shí)際應(yīng)用中，基板103和掩膜版102上各自的對(duì)位區(qū)域通常由四個(gè)，并采用四個(gè)對(duì)位相機(jī)分別抓取四個(gè)對(duì)位區(qū)域的圖像。系統(tǒng)在對(duì)四個(gè)對(duì)位相機(jī)抓取的圖像給出得分之后，只要有一個(gè)圖像的得分沒(méi)有超過(guò)設(shè)定閾值，就無(wú)法進(jìn)行自動(dòng)對(duì)位。
[0005]但是，由于基板103上的#字形的對(duì)位標(biāo)記107是在進(jìn)行第一層工藝時(shí)制作的，導(dǎo)致對(duì)位標(biāo)記107存在形狀異常的缺陷，該缺陷將會(huì)影響系統(tǒng)給出的得分，從而嚴(yán)重影響自動(dòng)對(duì)位。目前，對(duì)于有規(guī)律的缺陷，可以手動(dòng)篩選并開(kāi)啟兩個(gè)得分較高的對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的對(duì)位相機(jī)，并關(guān)閉其余兩個(gè)對(duì)位相機(jī)，然后進(jìn)行自動(dòng)對(duì)位。而對(duì)于無(wú)規(guī)律的缺陷，只能采用手動(dòng)對(duì)位，手動(dòng)對(duì)位的誤差較大，且對(duì)位效率較低，從而造成嫁動(dòng)不足。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一，提出了一種對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)，其可以提高自動(dòng)對(duì)位的成功率，從而不僅可以避免因?qū)ξ徽`差過(guò)大而造成的層間對(duì)位偏移，而且還可以提高對(duì)位效率，從而提高產(chǎn)能。
[0007]為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種對(duì)位方法，用于實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配，所述基板和掩膜版分別具有多個(gè)對(duì)位區(qū)域，且在每個(gè)所述對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，包括:
[0008]采集步驟，采集各個(gè)所述對(duì)位區(qū)域的圖像；
[0009]判斷步驟，判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則根據(jù)所有的所述對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟;若否，則進(jìn)行篩選步驟；
[0010]篩選步驟，自所有的所述對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并根據(jù)篩選出的所述至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟；
[0011]對(duì)位步驟，將所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)所述基板和掩膜版的位置匹配。
[0012]可選的，在所述判斷步驟中，所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度包括:
[0013]所述基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度;和/或，
[0014]所述對(duì)比標(biāo)記的輪廓清晰度;和/或，
[0015]所述對(duì)比標(biāo)記的線寬均勻性。
[0016]優(yōu)選的，在所述判斷步驟中，所述判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，進(jìn)一步包括:
[0017]根據(jù)所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度給出得分，且所述匹配程度越高，則所述得分越高；
[0018]若所述得分高于或等于設(shè)定閾值，則確定該匹配程度達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)；
[0019]若所述得分低于所述設(shè)定閾值，確定該匹配程度未達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。
[0020]優(yōu)選的，所述得分的取值范圍在O?I;所述設(shè)定閾值為O?I之間的小數(shù)。
[0021]優(yōu)選的，在所述判斷步驟中，判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)；
[0022]若是，則根據(jù)所有的所述對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟；
[0023]若否，則進(jìn)行報(bào)警，然后進(jìn)行篩選步驟。
[0024]優(yōu)選的，所述基板上的所述對(duì)位標(biāo)記為字形;所述掩膜版上的所述對(duì)位標(biāo)記為菱形；
[0025]在所述對(duì)位步驟中，通過(guò)將所述“#，，字形的中心坐標(biāo)與所述菱形的中心坐標(biāo)重合，來(lái)實(shí)現(xiàn)所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中。
[0026]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種對(duì)位系統(tǒng)，用于實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配，所述基板和掩膜版分別具有多個(gè)對(duì)位區(qū)域，且在每個(gè)所述對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，包括:采集單元、判斷單元、篩選單元和對(duì)位單元，其中，
[0027]所述采集單元用于采集各個(gè)所述對(duì)位區(qū)域的圖像，并將其發(fā)送至所述判斷單元；
[0028]所述判斷單元用于判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則向所述對(duì)位單元發(fā)送第一信號(hào);若否，則向所述篩選單元發(fā)送第二信號(hào)；
[0029]所述篩選單元用于在接收到所述第二信號(hào)時(shí)，自所有的所述對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并將篩選出的所述至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域發(fā)送至所述對(duì)位單元；
[0030]所述對(duì)位單元用于在接收到所述第一信號(hào)時(shí)，根據(jù)所有的所述對(duì)位區(qū)域，對(duì)所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)所述基板和掩膜版的位置匹配;或者，根據(jù)篩選出的所述至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，對(duì)所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)所述基板和掩膜版的位置匹配。
[0031]優(yōu)選的，所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度包括:
[0032]所述基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度;和/或，
[0033]所述對(duì)比標(biāo)記的輪廓清晰度;和/或，
[0034]所述對(duì)比標(biāo)記的線寬均勻性。
[0035]優(yōu)選的，所述判斷單元進(jìn)一步包括:
[0036]得分模塊，用于根據(jù)所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度給出得分，且所述匹配程度越高，則所述得分越高;并將所述得分發(fā)送至判斷模塊；
[0037]判斷模塊，用于判斷所述得分是否高于或等于設(shè)定閾值，若是，則確定該匹配程度達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn);若否，確定該匹配程度未達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。
[0038]優(yōu)選的，所述得分的取值范圍在O?I;所述設(shè)定閾值為O?I之間的小數(shù)。
[0039]優(yōu)選的，還包括報(bào)警單元，用于在所述判斷單元判斷不是所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，進(jìn)行報(bào)警。
[0040]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0041]本發(fā)明提供的對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)的技術(shù)方案中，在有對(duì)位區(qū)域的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度未達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，通過(guò)自所有的對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并根據(jù)篩選出的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域進(jìn)行自動(dòng)對(duì)中，即，對(duì)基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，最終實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配，可以提高自動(dòng)對(duì)位的成功率，從而不僅可以避免因?qū)ξ徽`差過(guò)大而造成的層間對(duì)位偏移，而且還可以提高對(duì)位效率，從而提尚廣能。
【附圖說(shuō)明】
[0042]圖1為基板和掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖2為對(duì)位相機(jī)抓取的基板和掩膜版上的對(duì)位標(biāo)記的示意圖；
[0044]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的對(duì)位方法的流程框圖；
[0045]圖4為四個(gè)對(duì)位區(qū)域的圖像的示例圖；
[0046]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的對(duì)位系統(tǒng)的原理框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0047]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖來(lái)對(duì)本發(fā)明提供的對(duì)位方法及對(duì)位系統(tǒng)進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0048]如圖1所示，基板103被放置在工作臺(tái)104上，且在基板103的上方設(shè)置有掩膜版102，用以對(duì)基板103進(jìn)行曝光。在進(jìn)行曝光之前，需要基板103和掩膜版102的位置進(jìn)行匹配，具體匹配方式為:基板103和掩膜版102分別具有多個(gè)對(duì)位區(qū)域，且在每個(gè)對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，用以作為基板103和掩膜版102的對(duì)位基準(zhǔn)。例如，如圖2所示，基板103上的對(duì)位標(biāo)記為“#，，字形;掩膜版102上的對(duì)位標(biāo)記為菱形。在這種情況下，可以根據(jù)“#，，字形的中心坐標(biāo)與菱形的中心坐標(biāo)的重合程度，來(lái)判斷基板103與掩膜版102的位置匹配程度。
[0049]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的對(duì)位方法的流程框圖。請(qǐng)參閱圖3，該對(duì)位方法包括:
[0050]采集步驟SI，采集各個(gè)對(duì)位區(qū)域的圖像。
[0051 ]在該圖像中，同時(shí)顯示基板和掩膜版的對(duì)位標(biāo)記。
[0052]判斷步驟S2，判斷所有的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則進(jìn)行步驟S4，即根據(jù)所有的對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟S5;若否，則進(jìn)行篩選步驟S3。
[0053]也就是說(shuō)，只要其中一個(gè)圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度沒(méi)有達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，就進(jìn)行篩選步驟S3。
[0054]可選的，圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度包括:基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度;和/或，對(duì)比標(biāo)記的輪廓清晰度;和/或，對(duì)比標(biāo)記的線寬均勻性。如果基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度越高、和/或?qū)Ρ葮?biāo)記的輪廓越清晰、和/或?qū)Ρ葮?biāo)記的線寬越均勾，則越能夠達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。例如，如圖4所示，假設(shè)基板和掩膜版分別具有四個(gè)對(duì)位區(qū)域，其中，在對(duì)位區(qū)域A中，基板上的字形對(duì)位標(biāo)記存在部分圖形殘缺的缺陷，該對(duì)位標(biāo)記無(wú)法達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)(NG);在對(duì)位區(qū)域C中，基板上的字形對(duì)位標(biāo)記存在線寬不一致的缺陷，該對(duì)位標(biāo)記無(wú)法達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)(NG)。而對(duì)位區(qū)域B和D中的對(duì)位標(biāo)記均能夠達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)(OK)。
[0055]進(jìn)一步的，在判斷步驟S2中，判斷所有的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)一步包括:
[0056]根據(jù)圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度給出得分，且該匹配程度越高，則得分越高；
[0057]若得分高于或等于設(shè)定閾值，則確定該匹配程度達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)；
[0058]若得分低于設(shè)定閾值，確定該匹配程度未達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。
[0059]也就是說(shuō)，設(shè)定一個(gè)能夠評(píng)判對(duì)位標(biāo)記的匹配程度的得分規(guī)則，并根據(jù)該得分規(guī)則判斷所有的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，這種評(píng)判方式便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化判斷。優(yōu)選的，得分的取值范圍在O?I;所述設(shè)定閾值為O?I之間的小數(shù)。例如，可以根據(jù)生產(chǎn)實(shí)際將設(shè)定閾值設(shè)定為0.7，假設(shè)四個(gè)對(duì)位區(qū)域中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度的得分分別為0.6、0.85、0.82和0.89，那么四個(gè)區(qū)域中得分為0.6的對(duì)位標(biāo)記的匹配程度無(wú)法達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，而其余對(duì)位標(biāo)記的匹配程度均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。
[0060]另外，優(yōu)選的，在判斷步驟S2中，判斷所有的所述圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn);若是，則根據(jù)所有的對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟;若否，則進(jìn)行報(bào)警，然后進(jìn)行篩選步驟S3。也就是說(shuō)，當(dāng)判斷其中一個(gè)圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度沒(méi)有達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，進(jìn)行報(bào)警，以提示操作人員。
[0061]篩選步驟S3，自所有的對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并根據(jù)篩選出的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟S5。
[0062]步驟S5，將基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配。
[0063]例如，如圖4所示，對(duì)位區(qū)域B和D中的對(duì)位標(biāo)記的匹配程度比對(duì)位區(qū)域A和D高，因此，可以篩選出對(duì)位區(qū)域B和D，然后根據(jù)篩選出的對(duì)位區(qū)域B和D，將基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配。
[0064]綜上所述，在有對(duì)位區(qū)域的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度未達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，通過(guò)自所有的對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并根據(jù)篩選出的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域進(jìn)行自動(dòng)對(duì)中，即，對(duì)基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，最終實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配，可以提高自動(dòng)對(duì)位的成功率，從而不僅可以避免因?qū)ξ徽`差過(guò)大而造成的層間對(duì)位偏移，而且還可以提高對(duì)位效率，從而提高產(chǎn)能。
[0065]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的對(duì)位系統(tǒng)的原理框圖。請(qǐng)參閱圖5，對(duì)位系統(tǒng)用于實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配?；搴脱谀ぐ娴墓δ芎团c位置匹配相關(guān)的結(jié)構(gòu)在上述實(shí)施例中已有了詳細(xì)描述，在此不再贅述。
[0066]該對(duì)位系統(tǒng)包括采集單元1、判斷單元2、篩選單元3和對(duì)位單元4，其中，采集單元I用于采集各個(gè)對(duì)位區(qū)域的圖像，并將其發(fā)送至判斷單元2。在該圖像中，同時(shí)顯示基板和掩膜版的對(duì)位標(biāo)記。
[0067]判斷單元2用于判斷所有的所述圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則向?qū)ξ粏卧?發(fā)送第一信號(hào);若否，則向篩選單元3發(fā)送第二信號(hào)。也就是說(shuō)，只要判斷單元2判斷其中一個(gè)圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度沒(méi)有達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，則向篩選單元3
發(fā)送第二信號(hào)。
[0068]可選的，圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度包括:基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度;和/或，對(duì)比標(biāo)記的輪廓清晰度;和/或，對(duì)比標(biāo)記的線寬均勻性。如果基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度越高、和/或?qū)Ρ葮?biāo)記的輪廓越清晰、和/或?qū)Ρ葮?biāo)記的線寬越均勾，則越能夠達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。例如，如圖4所示，假設(shè)基板和掩膜版分別具有四個(gè)對(duì)位區(qū)域，其中，在對(duì)位區(qū)域A中，基板上的字形對(duì)位標(biāo)記存在部分圖形殘缺的缺陷，該對(duì)位標(biāo)記無(wú)法達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)(NG);在對(duì)位區(qū)域C中，基板上的字形對(duì)位標(biāo)記存在線寬不一致的缺陷，該對(duì)位標(biāo)記無(wú)法達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)(NG)。而對(duì)位區(qū)域B和D中的對(duì)位標(biāo)記均能夠達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)(OK)。
[0069]進(jìn)一步的，判斷單元2進(jìn)一步包括:
[0070]得分模塊，用于根據(jù)圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度給出得分，且匹配程度越高，則得分越高;并將得分發(fā)送至判斷模塊。
[0071]判斷模塊，用于判斷得分是否高于或等于設(shè)定閾值，若是，則確定該匹配程度達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn);若否，確定該匹配程度未達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。
[0072]優(yōu)選的，得分的取值范圍在O?I;所述設(shè)定閾值為O?I之間的小數(shù)。例如，可以根據(jù)生產(chǎn)實(shí)際將設(shè)定閾值設(shè)定為0.7，假設(shè)四個(gè)對(duì)位區(qū)域中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度的得分分別為0.6、0.85、0.82和0.89，那么四個(gè)區(qū)域中得分為0.6的對(duì)位標(biāo)記的匹配程度無(wú)法達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，而其余對(duì)位標(biāo)記的匹配程度均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。
[0073]另外，優(yōu)選的，對(duì)位系統(tǒng)還包括報(bào)警單元，用于在判斷單元2判斷不是所有的圖像中對(duì)位標(biāo)記的匹配程度均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，進(jìn)行報(bào)警，以提示操作人員。
[0074]篩選單元3用于在接收到由判斷單元2發(fā)送的第二信號(hào)時(shí)，自所有的對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并將篩選出的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域發(fā)送至對(duì)位單元
4。此時(shí)，對(duì)位單元4用于根據(jù)篩選出的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，對(duì)基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配。
[0075]當(dāng)對(duì)位單元4接收到由判斷單元2發(fā)送的第一信號(hào)時(shí)，根據(jù)所有的對(duì)位區(qū)域，對(duì)基板的對(duì)位標(biāo)記與掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配。
[0076]本發(fā)明提供的對(duì)位系統(tǒng)，其可以提高自動(dòng)對(duì)位的成功率，從而不僅可以避免因?qū)ξ徽`差過(guò)大而造成的層間對(duì)位偏移，而且還可以提高對(duì)位效率，從而提高產(chǎn)能。
[0077]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種對(duì)位方法，用于實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配，所述基板和掩膜版分別具有多個(gè)對(duì)位區(qū)域，且在每個(gè)所述對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，包括: 采集步驟，采集各個(gè)所述對(duì)位區(qū)域的圖像； 判斷步驟，判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則根據(jù)所有的所述對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟;若否，則進(jìn)行篩選步驟； 篩選步驟，自所有的所述對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并根據(jù)篩選出的所述至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟； 對(duì)位步驟，將所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)所述基板和掩膜版的位置匹配。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法，其特征在于，在所述判斷步驟中，所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度包括: 所述基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度；和/或， 所述對(duì)比標(biāo)記的輪廓清晰度;和/或， 所述對(duì)比標(biāo)記的線寬均勻性。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的對(duì)位方法，其特征在于，在所述判斷步驟中，所述判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，進(jìn)一步包括: 根據(jù)所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度給出得分，且所述匹配程度越高，則所述得分越尚; 若所述得分高于或等于設(shè)定閾值，則確定該匹配程度達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)； 若所述得分低于所述設(shè)定閾值，確定該匹配程度未達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的對(duì)位方法，其特征在于，所述得分的取值范圍在O?I;所述設(shè)定閾值為O?I之間的小數(shù)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法，其特征在于，在所述判斷步驟中，判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)； 若是，則根據(jù)所有的所述對(duì)位區(qū)域進(jìn)行對(duì)位步驟； 若否，則進(jìn)行報(bào)警，然后進(jìn)行篩選步驟。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位方法，其特征在于，所述基板上的所述對(duì)位標(biāo)記為“#，’字形;所述掩膜版上的所述對(duì)位標(biāo)記為菱形； 在所述對(duì)位步驟中，通過(guò)將所述“#，，字形的中心坐標(biāo)與所述菱形的中心坐標(biāo)重合，來(lái)實(shí)現(xiàn)所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中。7.—種對(duì)位系統(tǒng)，用于實(shí)現(xiàn)基板和掩膜版的位置匹配，所述基板和掩膜版分別具有多個(gè)對(duì)位區(qū)域，且在每個(gè)所述對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，包括:采集單元、判斷單元、篩選單元和對(duì)位單元，其中， 所述采集單元用于采集各個(gè)所述對(duì)位區(qū)域的圖像，并將其發(fā)送至所述判斷單元； 所述判斷單元用于判斷所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度是否均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)，若是，則向所述對(duì)位單元發(fā)送第一信號(hào);若否，則向所述篩選單元發(fā)送第二信號(hào)； 所述篩選單元用于在接收到所述第二信號(hào)時(shí)，自所有的所述對(duì)位區(qū)域中篩選出匹配程度最高的至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，并將篩選出的所述至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域發(fā)送至所述對(duì)位單元； 所述對(duì)位單元用于在接收到所述第一信號(hào)時(shí)，根據(jù)所有的所述對(duì)位區(qū)域，對(duì)所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)所述基板和掩膜版的位置匹配;或者，根據(jù)篩選出的所述至少一個(gè)對(duì)位區(qū)域，對(duì)所述基板的對(duì)位標(biāo)記與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行對(duì)中，以實(shí)現(xiàn)所述基板和掩膜版的位置匹配。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度包括: 所述基板的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)與所述掩膜版的對(duì)位標(biāo)記的中心坐標(biāo)的重合程度；和/或， 所述對(duì)比標(biāo)記的輪廓清晰度;和/或， 所述對(duì)比標(biāo)記的線寬均勻性。9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述判斷單元進(jìn)一步包括: 得分模塊，用于根據(jù)所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度給出得分，且所述匹配程度越高，則所述得分越高;并將所述得分發(fā)送至判斷模塊； 判斷模塊，用于判斷所述得分是否高于或等于設(shè)定閾值，若是，則確定該匹配程度達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn);若否，確定該匹配程度未達(dá)到所述設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述得分的取值范圍在O?I;所述設(shè)定閾值為O?I之間的小數(shù)。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，還包括報(bào)警單元，用于在所述判斷單元判斷不是所有的所述圖像中所述對(duì)位標(biāo)記的匹配程度均達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，進(jìn)行報(bào)警。
【文檔編號(hào)】G03F9/00GK106054543SQ201610682413
【公開(kāi)日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2016年8月17日
【發(fā)明人】王輝, 王志強(qiáng), 張力舟, 高琪, 申洋, 李明龍, 王強(qiáng)
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司