一種掩模版?zhèn)鬏斞b置及傳輸方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種掩模版?zhèn)鬏斞b置，包括掩模版、掩模臺(tái)以及機(jī)械手，所述機(jī)械手用于支撐和傳輸掩模版并將所述掩模版交接到掩模臺(tái)上，其特征在于，還包括：第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記，位于所述掩模版上；預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件，與所述掩模臺(tái)連接，用于在掩模版交接過(guò)程中探測(cè)所述第一組標(biāo)記以進(jìn)行第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)，以及探測(cè)所述第二組標(biāo)記以進(jìn)行第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)；控制單元，用于根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版和掩模臺(tái)相撞，以及根據(jù)第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，使得掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置在設(shè)定范圍之內(nèi)。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明避免了機(jī)械手將掩模版交接到掩模臺(tái)時(shí)使掩模版的薄膜框架與掩模臺(tái)的承版結(jié)構(gòu)發(fā)生碰撞，保護(hù)了掩模版，提高了交接精度。
【專利說(shuō)明】
一種掩模版?zhèn)鬏斞b置及傳輸方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種集成電路裝備制造領(lǐng)域，尤其涉及一種保護(hù)掩模版的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻設(shè)備是一種將掩模圖案曝光成像到硅片或玻璃基板上的設(shè)備。掩模傳輸系統(tǒng)負(fù)責(zé)物料在曝光成像單元掩模臺(tái)和物料接口(版盒)之間的傳送，是光刻設(shè)備的重要組成部分。
[0003]掩模傳輸系統(tǒng)主要完成的功能如下:負(fù)責(zé)將未曝光的掩模版從版盒傳輸?shù)窖谀Ｅ_(tái)上，將完成曝光的掩模版從掩模臺(tái)上傳輸回版盒中，保證上到掩模臺(tái)的掩模標(biāo)記在對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的捕獲范圍內(nèi)。
[0004]掩模傳輸系統(tǒng)的工作流程:版庫(kù)升至版盒交接位時(shí)，版盒門打開，機(jī)械手從版盒內(nèi)取出掩模版?zhèn)鬏數(shù)筋A(yù)對(duì)準(zhǔn)，先做預(yù)對(duì)準(zhǔn)，調(diào)整好掩模臺(tái)與機(jī)械手上掩模版的相對(duì)位置，然后將掩模版交接到掩模臺(tái)上。
[0005]現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中，掩模臺(tái)上的承版臺(tái)的間距與掩模版的薄膜框架的距離較接近，將機(jī)械手帶版進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，有部分掩模版已位于掩模臺(tái)承版臺(tái)之間。當(dāng)機(jī)械手與掩模臺(tái)間夾角過(guò)大，掩模版的薄膜框架就會(huì)與掩模臺(tái)上的承版臺(tái)發(fā)生碰撞，使薄膜框架受到破壞，掩模版圖像因此受到污染，該掩模版即報(bào)廢。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本發(fā)明公開一種掩模版?zhèn)鬏斞b置，包括掩模版、掩模臺(tái)以及機(jī)械手，所述機(jī)械手用于支撐和傳輸掩模版并將所述掩模版交接到掩模臺(tái)上，其特征在于，還包括:第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記，位于所述掩模版上；預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件，與所述掩模臺(tái)連接，用于在掩模版交接過(guò)程中探測(cè)所述第一組標(biāo)記以進(jìn)行第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)，以及探測(cè)所述第二組標(biāo)記以進(jìn)行第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)；控制單元，用于根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版和掩模臺(tái)相撞，以及根據(jù)第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，使得掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置在設(shè)定范圍之內(nèi)。
[0007]較優(yōu)地，所述掩模版上設(shè)有薄膜框架，所述掩模臺(tái)包括承版臺(tái)，控制單元根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版的薄膜框架和掩模臺(tái)的承版臺(tái)相撞。
[0008]較優(yōu)地，所述第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記位于所述掩模版的四個(gè)頂點(diǎn)。
[0009]本發(fā)明還公開了一種掩模版?zhèn)鬏敺椒?，采用上述的掩模版?zhèn)鬏斞b置，其特征在于，包括以下步驟:
步驟一、所述機(jī)械手支撐和傳輸所述掩模版向所述掩模臺(tái)交接；
步驟二、所述掩模版的第一組標(biāo)記被所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件探測(cè)以進(jìn)行第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)； 步驟三、控制單元根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版和掩模臺(tái)相撞；
步驟四、隨著掩模版交接的繼續(xù)，所述第二組標(biāo)記被所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件探測(cè)以進(jìn)行第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)；
步驟五、控制單元根據(jù)第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，使得掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置在設(shè)定范圍之內(nèi)。
[0010]較優(yōu)地，所述掩模版上設(shè)有薄膜框架，所述掩模臺(tái)包括承版臺(tái)，所述步驟三中控制單元根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版的薄膜框架和掩模臺(tái)的承版臺(tái)相撞。
[0011 ] 較優(yōu)地，所述第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記位于所述掩模版的四個(gè)頂點(diǎn)。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明避免了機(jī)械手將掩模版交接到掩模臺(tái)時(shí)使掩模版的薄膜框架與掩模臺(tái)的承版結(jié)構(gòu)發(fā)生碰撞，既保護(hù)了掩模版，又提高了交接精度。
【附圖說(shuō)明】
[0013]關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以通過(guò)以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進(jìn)一步的了解。
[0014]圖1A和圖1B是掩模傳輸設(shè)備主視圖和俯視圖；
圖2是掩模臺(tái)與掩模版示意圖；
圖3是掩模版預(yù)對(duì)準(zhǔn)示意圖；
圖4是本發(fā)明掩模版結(jié)構(gòu)示意圖；
圖5A和圖5B是本發(fā)明掩模版預(yù)對(duì)準(zhǔn)流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施例。
[0016]圖1是掩模傳輸設(shè)備結(jié)構(gòu)不意圖。如圖1A和IB所不，掩模傳輸包括版庫(kù)1、機(jī)械手2及預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3等部件。版庫(kù)I上放置多層版盒，可在垂向運(yùn)動(dòng)組件11的帶動(dòng)下，將任意層版盒運(yùn)動(dòng)到機(jī)械手2的取/放版位。機(jī)械手2可以在水平向沿X、Y、Rz方向做運(yùn)動(dòng)，亦可以做垂向運(yùn)動(dòng)，機(jī)械手2通過(guò)版叉21支撐和傳輸掩模版。掩模臺(tái)4包括承版臺(tái)41，承版臺(tái)41用于承載掩模版。預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3安裝固定在掩模臺(tái)4底座上。
[0017]該掩模傳輸設(shè)備的工作流程如下:機(jī)械手2將掩模版從版庫(kù)I取出，傳輸?shù)脚c掩模臺(tái)4交接位，機(jī)械手2將掩模版運(yùn)動(dòng)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3下進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，然后根據(jù)預(yù)對(duì)準(zhǔn)微調(diào)掩模臺(tái)4角度，使機(jī)械手2成功將掩模版交接到掩模臺(tái)4上；待掩模版用完后，機(jī)械手2負(fù)責(zé)將掩模版從掩模臺(tái)4取下，傳輸?shù)桨鎺?kù)I的空版盒中。
[0018]通常，掩模版的下方或者掩模版的上下方設(shè)有薄膜框架51，如圖2所示，機(jī)械手2持掩模版5做預(yù)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，掩模版5已有部分進(jìn)入到掩模臺(tái)的承版臺(tái)41中。而現(xiàn)有掩模臺(tái)的承版臺(tái)41和掩模版的薄膜框架51的間距非常小，例如，承版臺(tái)4的寬度為102mm，掩模版的薄膜框架51的寬度為98mm，因此在掩模版5向掩模臺(tái)進(jìn)行交接的過(guò)程中，掩模版下方的薄膜框架51極易與掩模臺(tái)的承版臺(tái)41相撞。特別是當(dāng)機(jī)械手的版叉21與掩模臺(tái)4的角度過(guò)大，在機(jī)械手2還沒(méi)有將掩模版4的標(biāo)記53傳輸?shù)筋A(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3之下時(shí)，掩模版的薄膜框架51很可能已與掩模臺(tái)的承版臺(tái)41發(fā)生碰撞，當(dāng)薄膜框架51遭到破壞后，掩模版5上的圖像就會(huì)受到污染，造成掩模版5報(bào)廢。
[0019]可選地，在掩模版5進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，如圖3所示，需將掩模版5的標(biāo)記53傳輸?shù)筋A(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3的光源31與預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件的板卡32之間，若光源31光束通過(guò)預(yù)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記53，被預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件的板卡32接收到，表示預(yù)對(duì)準(zhǔn)成功；若標(biāo)記53不在光源31與板卡32之間，則板卡32無(wú)法接收到光源光束，則預(yù)對(duì)準(zhǔn)不成功。
[0020]為避免薄膜框架51與掩模臺(tái)4發(fā)生碰撞，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如圖4所示，掩模版5上做有兩組標(biāo)記52、53，可選地，兩組標(biāo)記52、53分別位于掩模版5的四個(gè)頂點(diǎn)，當(dāng)機(jī)械手的版叉21承載掩模版5運(yùn)動(dòng)到與掩模臺(tái)4進(jìn)行交接的交接位時(shí)，掩模版上的兩組標(biāo)記，一組靠近掩模臺(tái)，一組靠近機(jī)械手，本實(shí)施例中標(biāo)記52位于靠近掩模臺(tái)4的位置，標(biāo)記53在遠(yuǎn)離掩模臺(tái)4的位置，也就是說(shuō)標(biāo)記52的一端先靠近掩模臺(tái)4。掩模版預(yù)對(duì)準(zhǔn)流程如圖5A和圖5B所示，先通過(guò)掩模版5的運(yùn)動(dòng)，將掩模版5的標(biāo)記52運(yùn)動(dòng)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3下進(jìn)行第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)，然后控制單元通過(guò)預(yù)對(duì)準(zhǔn)得到的偏差調(diào)整掩模臺(tái)4的位置，避免掩模版5與掩模臺(tái)4發(fā)生碰撞，具體地，避免掩模版5的薄膜框架51與掩模臺(tái)4的承版臺(tái)41發(fā)生碰撞，然后將掩模版5繼續(xù)運(yùn)動(dòng)，直至掩模版5的標(biāo)記53到達(dá)預(yù)對(duì)準(zhǔn)位，也即預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件3的下方，再對(duì)標(biāo)記53進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，控制單元根據(jù)預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果微調(diào)掩模臺(tái)4的位置，從而使得掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置在設(shè)定范圍之內(nèi)，最終機(jī)械手2將掩模版5成功交接到掩模臺(tái)4上。通過(guò)上述兩次預(yù)對(duì)準(zhǔn)，可以避免機(jī)械手將掩模版5交接到掩模臺(tái)4時(shí)，掩模版的薄膜框架51與掩模臺(tái)的承版臺(tái)41發(fā)生碰撞的情況，既可以保護(hù)掩模版5，又可以提高交接精度。
[0021]本說(shuō)明書中所述的只是本發(fā)明的較佳具體實(shí)施例，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對(duì)本發(fā)明的限制。凡本領(lǐng)域技術(shù)人員依本發(fā)明的構(gòu)思通過(guò)邏輯分析、推理或者有限的實(shí)驗(yàn)可以得到的技術(shù)方案，皆應(yīng)在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩模版?zhèn)鬏斞b置，包括掩模版、掩模臺(tái)以及機(jī)械手，所述機(jī)械手用于支撐和傳輸掩模版并將所述掩模版交接到掩模臺(tái)上，其特征在于，還包括: 第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記，位于所述掩模版上； 預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件，與所述掩模臺(tái)連接，用于在掩模版交接過(guò)程中探測(cè)所述第一組標(biāo)記以進(jìn)行第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)，以及探測(cè)所述第二組標(biāo)記以進(jìn)行第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)； 控制單元，用于根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版和掩模臺(tái)相撞，以及根據(jù)第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，使得掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置在設(shè)定范圍之內(nèi)。2.如權(quán)利要求1所述的掩模版?zhèn)鬏斞b置，其特征在于，所述掩模版上設(shè)有薄膜框架，所述掩模臺(tái)包括承版臺(tái)，控制單元根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版的薄膜框架和掩模臺(tái)的承版臺(tái)相撞。3.如權(quán)利要求1所述的掩模版?zhèn)鬏斞b置，其特征在于，所述第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記位于所述掩模版的四個(gè)頂點(diǎn)。4.一種掩模版?zhèn)鬏敺椒?，采用如?quán)利要求1所述的掩模版?zhèn)鬏斞b置，其特征在于，包括以下步驟: 步驟一、所述機(jī)械手支撐和傳輸所述掩模版向所述掩模臺(tái)交接； 步驟二、所述掩模版的第一組標(biāo)記被所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件探測(cè)以進(jìn)行第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)； 步驟三、控制單元根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版和掩模臺(tái)相撞； 步驟四、隨著掩模版交接的繼續(xù)，所述第二組標(biāo)記被所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)部件探測(cè)以進(jìn)行第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)； 步驟五、控制單元根據(jù)第二次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，使得掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置在設(shè)定范圍之內(nèi)。5.如權(quán)利要求4所述的掩模版?zhèn)鬏敺椒?，其特征在于，所述掩模版上設(shè)有薄膜框架，所述掩模臺(tái)包括承版臺(tái)，所述步驟三中控制單元根據(jù)第一次預(yù)對(duì)準(zhǔn)結(jié)果調(diào)整掩模版和掩模臺(tái)的相對(duì)位置，避免掩模版的薄膜框架和掩模臺(tái)的承版臺(tái)相撞。6.如權(quán)利要求4所述的掩模版?zhèn)鬏敺椒?，其特征在于，所述第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記位于所述掩模版的四個(gè)頂點(diǎn)。
【文檔編號(hào)】G03F9/00GK105988303SQ201510087602
【公開日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2015年2月26日
【發(fā)明人】姜曉玉, 王長(zhǎng)剛
【申請(qǐng)人】上海微電子裝備有限公司