掩膜版管理系統(tǒng)以及掩膜版使用方法
【專利摘要】一種掩膜版管理系統(tǒng)以及掩膜版使用方法。該掩膜版管理系統(tǒng)包括：掩膜版投入模塊，其被配置來提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)所述掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在所述卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版；掩膜版檢測和處理模塊，其被配置來檢測所述掩膜版組中的多個(gè)掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理；掩膜版分類模塊，其被配置來將經(jīng)過處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。該掩膜版管理系統(tǒng)以及掩膜版使用方法可進(jìn)行精細(xì)化的管控，有利于提高生產(chǎn)效率。
【專利說明】
掩膜版管理系統(tǒng)以及掩膜版使用方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本公開至少一實(shí)施例涉及一種掩膜版管理系統(tǒng)以及掩膜版使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在有機(jī)發(fā)光二極管(Organic light-emitting d1de，0LED)顯示面板的制作過程中，需要用到掩膜版。在通常的掩膜版使用過程中，采用單片掩膜版管控的方式，該方法比較繁瑣，并存在掩膜版被錯(cuò)用的風(fēng)險(xiǎn)，不利于生產(chǎn)效率的提高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本公開的至少一實(shí)施例涉及一種掩膜版管理系統(tǒng)以及掩膜版使用方法，以進(jìn)行精細(xì)化的管控，有利于提高生產(chǎn)效率。
[0004]本公開的至少一實(shí)施例提供一種掩膜版管理系統(tǒng)，包括:
[0005]掩膜版投入模塊，其被配置來提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)所述掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在所述卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版；
[0006]掩膜版檢測和處理模塊，其被配置來檢測所述掩膜版組中的多個(gè)掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理；
[0007]掩膜版分類模塊，其被配置來將經(jīng)過處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。
[0008]本公開的至少一實(shí)施例提供一種掩膜版使用方法，包括:
[0009]提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)所述掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在所述卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版；
[0010]檢測所述掩膜版組中的掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理；
[0011]將經(jīng)過所述掩膜版處理工序處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到所述掩膜版所屬的掩膜版組。
【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本公開實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實(shí)施例，而非對(duì)本公開的限制。
[0013]圖1為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)示意圖；
[0014]圖2為本公開一實(shí)施例提供的掩膜版組示意圖；
[0015]圖3為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)中的一種掩膜版檢測和處理模塊不意圖；
[0016]圖4為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)中的另一種掩膜版檢測和處理豐旲塊不意圖；
[0017]圖5為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)中的掩膜版的示意圖；
[0018]圖6為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)中的另一種掩膜版檢測和處理豐旲塊不意圖；
[0019]圖7為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)中的掩膜版使用管理示意圖；
[0020]圖8為本公開一實(shí)施例提供的一種掩膜版管理系統(tǒng)中卡匣與掩膜版綁定成掩膜版組的示意圖；
[0021]圖9為本公開一實(shí)施例提供的掩膜版管理系統(tǒng)應(yīng)用于OLED顯示面板制作的示意圖；
[0022]圖10為本公開一實(shí)施例提供的掩膜版管理方法的示意圖；
[0023]圖11為本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版管理方法中的在缺陷檢測單元中被判NG的不意圖；
[0024]圖12為本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版管理方法中的在圖形檢測單元中被判NG的不意圖；
[0025]圖13為本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版管理方法中的一種掩膜版檢測和處理的示意圖；
[0026]圖14為本公開一實(shí)施例提供一種包括暫存掩膜版組的掩膜版管理方法中的示意圖；
[0027]圖15為本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版使用方法中掩膜版分類示意圖；
[0028]圖16為本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版使用方法示意圖。
[0029]附圖標(biāo)記:
[0030]I:掩膜版管理系統(tǒng)；11:掩膜版投入模塊；12:掩膜版檢測和處理模塊；13:掩膜版分類模塊；14:掩膜版存儲(chǔ)模塊;20:蒸鍍?cè)O(shè)備;200:蒸鍍腔室;201:第一蒸鍍單元;202:第二蒸鍍單元；203:第三蒸鍍單元；2011-2014:蒸鍍腔室；2021-2024:蒸鍍腔室；2031:蒸鍍腔室；100:掩膜版組；1001:第一掩膜版組；1002:第二掩膜版組；1003:第三掩膜版組；101:卡匣；102:掩膜版；1021:金屬絲；121:缺陷檢測單元；122:掩膜版清洗單元；123:掩膜版制作/維修單元；124:圖形檢測單元；125:報(bào)廢單元;001:綁定掩膜版組；128:卡匣投入模塊；129:卡匣清洗單元。
【具體實(shí)施方式】
[0031]為使本公開實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本公開實(shí)施例的附圖，對(duì)本公開實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本公開的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；谒枋龅谋竟_的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無需創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本公開保護(hù)的范圍。
[0032]除非另外定義，本公開使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本公開所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分。同樣，“一個(gè)”、“一”或者“該”等類似詞語也不表示數(shù)量限制，而是表示存在至少一個(gè)?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
[0033]如圖1所不，本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版管理系統(tǒng)I，包括:掩膜版投入模塊11，掩膜版檢測和處理模塊12和掩膜版分類模塊13。
[0034]掩膜版投入模塊11被配置來提供至少一個(gè)掩膜版組，如圖2所示，每個(gè)掩膜版組100包括一個(gè)卡匣101和放置在卡匣101內(nèi)的多個(gè)掩膜版102。需要說明的是，圖2的卡匣101中示出了6個(gè)掩膜版102，但本公開的實(shí)施例的卡匣101中掩膜版102的數(shù)量不以此為限，亦可為其他數(shù)量。
[0035]掩膜版檢測和處理模塊12被配置來檢測掩膜版組中的多個(gè)掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理。
[0036]掩膜版分類模塊13被配置來將經(jīng)過處理并合格的掩膜版重新(再次)調(diào)整到掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。
[0037]掩膜版組管理方式即可以保證生產(chǎn)的高效進(jìn)行，也可保證使用前后掩膜版信息的完整統(tǒng)一。既保證了掩膜版投入的準(zhǔn)確性，同時(shí)減少了掩膜版的更換時(shí)間，也避免了單片掩膜版管控的繁瑣和風(fēng)險(xiǎn)。
[0038]經(jīng)過掩膜版檢測和處理模塊的掩膜版，存在判不合格(nogood，NG)情況，會(huì)出現(xiàn)同一個(gè)組的掩膜版分裝在不同卡匣里的情況，而掩膜版的分類管理可以使其再形成一個(gè)完整的掩膜版組，以便該掩膜版組投入使用。即在掩膜版(組)投入使用前，將多個(gè)掩膜版和一個(gè)卡匣綁定形成一個(gè)掩膜版組，以利后續(xù)投入使用。
[0039]例如，掩膜版組100可用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板的制作。以下以掩膜版組100用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板為例進(jìn)行說明。有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板通常在蒸鍍?cè)O(shè)備中進(jìn)行所需膜層的蒸鍍。例如，有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板包括gate層(柵極和柵線)、柵極絕緣層、有源層、data層(數(shù)據(jù)線和源漏極)、像素電極層、空穴傳輸層、空穴注入層、發(fā)光層、電子注入層、電子傳輸層、公共電極層。發(fā)光層例如包括可發(fā)出紅、綠、藍(lán)三種顏色的圖形，從而可使得顯示面板顯示彩色。發(fā)光層亦可發(fā)出其他顏色的光，本公開的實(shí)施例對(duì)此不作限定。例如，空穴傳輸層、空穴注入層、發(fā)光層、電子注入層、電子傳輸層、公共電極層可在蒸鍍?cè)O(shè)備中蒸鍍形成。在蒸鍍?cè)O(shè)備中，可在每一膜層的蒸鍍中均利用一張掩膜版，但不限于此。例如，在發(fā)光層的蒸鍍中，可以使用三張掩膜版分別形成紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素的圖形以發(fā)出紅、綠、藍(lán)三種顏色，但不限于此。需要說明的是，有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板的層結(jié)構(gòu)不限于上述例舉的情形。
[0040]如圖3所示，一些示例中，掩膜版檢測和處理模塊12包括:
[0041]缺陷檢測單元121，其被配置來檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物；
[0042]掩膜版清洗單元122，其被配置來對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版或使用后的掩膜版進(jìn)行清洗；
[0043]掩膜版制作/維修單元123，其被配置來對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版進(jìn)行維修或者重做。
[0044]掩膜版使用后需要進(jìn)行缺陷檢測。缺陷檢測主要檢測掩膜版上的異物例如顆粒物(Particle)數(shù)量，如檢測結(jié)果為NG，需要再次進(jìn)行清洗。
[0045]例如，掩膜版制作/維修單元123制作/維修掩膜版后，進(jìn)入掩膜版清洗單元122進(jìn)行清洗，清洗后進(jìn)入缺陷檢測單元121進(jìn)行缺陷檢測。
[0046]—些示例中，當(dāng)被檢測的掩膜版被缺陷檢測單元121第I次被判定不合格，則被送入掩膜版清洗單元122以進(jìn)行清洗，當(dāng)被檢測的掩膜版連續(xù)2次被判定不合格，則被送入掩膜版制作/維修單元123以進(jìn)行維修或重做。
[0047]一個(gè)示例中，清洗完成的掩膜版第一次在缺陷檢測中被判NG后，需要再次進(jìn)行清洗，上位系統(tǒng)會(huì)記錄掩膜版的NG次數(shù)為I。再次清洗完畢后，掩膜版需要再次進(jìn)行缺陷檢測，如果檢測結(jié)果仍為NG，上位系統(tǒng)會(huì)記錄NG次數(shù)為2，對(duì)應(yīng)的掩膜版會(huì)返回到掩膜版制作/維修單元進(jìn)行檢查和維修處理。清洗次數(shù)過多會(huì)導(dǎo)致掩膜版的損壞和清洗材料的浪費(fèi)。當(dāng)缺陷檢測結(jié)果OK時(shí)，上位系統(tǒng)會(huì)將對(duì)應(yīng)掩膜版的NG次數(shù)清零。
[0048]如圖4所示，一些示例中，掩膜版檢測和處理模塊12還包括:圖形檢測單元124，其被配置來檢測被檢測的掩膜版的圖形是否完好。例如，當(dāng)被檢測的掩膜版被圖形檢測單元124判定為不合格，則被送入掩膜版制作/維修單元123以進(jìn)行維修或重做。
[0049]如圖5所示，金屬絲1021橫縱交錯(cuò)構(gòu)成掩膜版102的圖形。掩膜版的圖形檢測時(shí)可檢測金屬絲1021是否完好。例如，掩膜版制作時(shí)，可將網(wǎng)狀的金屬絲一條一條的經(jīng)張緊工序固定在金屬框上。例如，可在張緊設(shè)備上將三條網(wǎng)狀金屬絲固定在金屬框上構(gòu)成圖5所示的掩膜版。需要說明的是，圖5只是示意性的例舉一種掩膜版，本公開的實(shí)施例中的掩膜版不限于圖中所示。
[0050]圖形(Pattern)檢測主要檢測掩膜版的金屬絲(電鍍絲)1021是否完好，如果檢測結(jié)果為NG，需要進(jìn)行維修工藝。
[0051]例如，一個(gè)示例中，掩膜版第一次在圖形檢測時(shí)，如果檢測值為NG，掩膜版會(huì)返回到掩膜版制作/維修單元進(jìn)行檢查和維修處理，上位系統(tǒng)也會(huì)記錄對(duì)應(yīng)掩膜版的NG次數(shù)為
I。當(dāng)圖形檢測結(jié)果OK時(shí)，上位系統(tǒng)會(huì)將對(duì)應(yīng)掩膜版的NG次數(shù)清零。
[0052]例如，經(jīng)過掩膜版檢測和處理模塊處理的掩膜版中，若在缺陷檢測和圖形檢測中被判定為不合格，則會(huì)分裝在不同卡匣里。
[0053]如圖6所示，一些示例中，掩膜版檢測和處理模塊12還包括:報(bào)廢單元125，其被配置來將不能維修的掩膜版進(jìn)行報(bào)廢處理。例如，報(bào)廢處理后，可在掩膜版制作/維修單元進(jìn)行重做。重做的掩膜版再經(jīng)清洗、缺陷檢測和圖形檢測等后續(xù)步驟并形成掩膜版組投入使用。
[0054]如圖7所示，一些示例提供的管理系統(tǒng)還包括:掩膜版存儲(chǔ)模塊14，其被配置來暫存檢測合格后的掩膜版組100。若掩膜版組100為一個(gè)完整的掩膜版組，則可以暫存在掩膜版存儲(chǔ)模塊14中備用。
[0055]例如，一個(gè)示例中，掩膜版投入后，在使用前首先要到清洗單元進(jìn)行清洗，清洗單元要對(duì)掩膜版的清洗次數(shù)進(jìn)行管控，防止掩膜版的使用壽命超過限定值。清洗完畢后，進(jìn)行缺陷檢測，如果顆粒物數(shù)量在限定范圍內(nèi)，再進(jìn)行圖形檢測。檢測OK后，會(huì)將掩膜版組暫存到掩膜版存儲(chǔ)模塊內(nèi)。當(dāng)需要使用掩膜版時(shí)，從掩膜版存儲(chǔ)模塊內(nèi)調(diào)出掩膜版組，投入使用設(shè)備進(jìn)行使用。使用過的掩膜版組需要回到清洗單元進(jìn)行掩膜版和卡匣的清洗。循環(huán)往復(fù)。
[0056]如圖7所示，一些示例中，掩膜版組100可用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示面板的制作。例如掩膜版組100可用于蒸鍍?cè)O(shè)備20中。蒸鍍?cè)O(shè)備20例如為蒸鍍機(jī)。例如，掩膜版組100所包括的多個(gè)掩膜版102屬于同一類型，或者，掩膜版組100所包括的多個(gè)掩膜版102包括至少兩個(gè)不同類型的掩膜版以用于蒸鍍?cè)O(shè)備的不同蒸鍍腔室。
[0057]掩膜版組管理方式即可以保證OLED顯示面板生產(chǎn)的高效進(jìn)行，也可保證蒸鍍前后掩膜版信息的完整統(tǒng)一。蒸鍍?cè)O(shè)備的每一個(gè)蒸鍍單元(蒸鍍?nèi)?，evaporat1n cluster)中都有多個(gè)腔室，而不同的腔室所需的掩膜版類型不同，當(dāng)掩膜版投入時(shí)需要對(duì)掩膜版類型進(jìn)行管理，將掩膜版以組為單位進(jìn)行管理最合適。這樣既保證了掩膜版投入的準(zhǔn)確性，同時(shí)減少了掩膜版的更換時(shí)間，也避免了單片掩膜版管控的繁瑣和風(fēng)險(xiǎn)。
[0058]如圖8所示，卡匣投入模塊128被配置來提供卡匣，卡匣經(jīng)卡匣清洗單元129清洗，再與掩膜版綁定成掩膜版組，所得掩膜版組可置于掩膜版存儲(chǔ)模塊14中存儲(chǔ)。
[0059]如圖9所示，蒸鍍?cè)O(shè)備20中有多個(gè)蒸鍍單元，每個(gè)蒸鍍單元有多個(gè)腔室200，例如，每個(gè)蒸鍍腔室中蒸鍍一個(gè)膜層。同一個(gè)蒸鍍單元中可有多個(gè)腔室用于蒸鍍同一膜層。圖9中示出了第一至第三共三個(gè)蒸鍍單元201-203，但不以此為限。第一蒸鍍單元201包括四個(gè)蒸鍍腔室2011-2014，例如，蒸鍍腔室2011和蒸鍍腔室2012可用于蒸鍍第一膜層，蒸鍍腔室2013和蒸鍍腔室2014可用于蒸鍍第二膜層，第一膜層和第二膜層各使用一種類型的掩膜版，第一掩膜版組1001可綁定兩種類型的掩膜版，例如，第一掩膜版組1001中可放置三張用于蒸鍍第一膜層的第一類型的掩膜版以及三張用于蒸鍍第二膜層的第二類型的掩膜版，但不限于此。例如，第一蒸鍍單元201內(nèi)可用于蒸鍍空穴注入層和空穴傳輸層，但不限于此。第二蒸鍍單元202包括四個(gè)蒸鍍腔室2021-2024，例如，可用于蒸鍍發(fā)光層中的某一顏色子像素和電子傳輸層，第二掩膜版組1002中綁定可用于第二蒸鍍單元202的多個(gè)掩膜版，例如，可放置三張用于蒸鍍某一顏色子像素的掩膜版和三張用于蒸鍍電子傳輸層的掩膜版，但不限于此。需要說明的是，各腔室對(duì)應(yīng)的掩膜版組的卡匣中綁定的掩膜版的數(shù)量可依據(jù)兩種膜層的蒸鍍時(shí)間來定，蒸鍍時(shí)間長的膜層對(duì)應(yīng)的掩膜版的數(shù)量少，蒸鍍時(shí)間短的膜層對(duì)應(yīng)的掩膜版的數(shù)量多，蒸鍍時(shí)間相差不多則可放置同等數(shù)量的掩膜版。例如，第三蒸鍍單元203包含一個(gè)蒸鍍腔室2031，第三掩膜版組1003中可放置多個(gè)掩膜版用于該蒸鍍腔室中膜層的蒸鍍。例如，蒸鍍腔室2031可用于蒸鍍陰極，但不以此為限。需要說明的是，本示例僅為示意性的說明，并不限于此。
[0060]一些示例中，掩膜版組的卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版的類型和數(shù)量，在掩膜版組被投入使用前保持不變。從而，一個(gè)掩膜版組的卡匣和與該卡匣綁定的掩膜版可以循環(huán)利用。與卡匣綁定的每個(gè)掩膜版的位置固定，從而可避免掩膜版的錯(cuò)用。當(dāng)蒸鍍?cè)O(shè)備需要掩膜版進(jìn)行OLED面板生產(chǎn)時(shí)，可從掩膜版存儲(chǔ)模塊內(nèi)調(diào)出掩膜版組，投入蒸鍍?cè)O(shè)備使用。蒸鍍使用過的掩膜版組需要回到清洗單元進(jìn)行掩膜版和卡匣的清洗。循環(huán)往復(fù)。
[0061]在一個(gè)示例中，在OLED顯示面板生產(chǎn)用掩膜版管理系統(tǒng)中，掩膜版制作/維修單元123被配置來對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版進(jìn)行制作或維修，掩膜版清洗單元122被配置來對(duì)使用后的掩膜版或經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版進(jìn)行清洗，缺陷檢測單元121被配置來進(jìn)行掩膜版的缺陷檢測，掩膜版在缺陷檢測單元中被判I次NG后，返回到掩膜版清洗單元122再次清洗，掩膜版在缺陷檢測工序被判2次NG后，返回到掩膜版制作/維修單元123重新檢修，圖形檢測單元124被配置來檢測被檢測的掩膜版的圖形是否完好，掩膜版在圖形檢測單元被判NG后，返回到掩膜版制作/維修單元123重新檢修，掩膜版存儲(chǔ)模塊14被配置來存儲(chǔ)經(jīng)檢測合格的掩膜版組，掩膜版分類模塊13被配置來對(duì)掩膜版進(jìn)行分類，將不完整的掩膜版組調(diào)整為完整的掩膜版組，完整的掩膜版組可投入蒸鍍?cè)O(shè)備使用，掩膜版在使用完成后回到掩膜版清洗單元進(jìn)行清洗。循環(huán)往復(fù)。
[0062]例如，上述掩膜版管理系統(tǒng)中，掩膜版清洗單元或卡匣清洗單元例如為清洗機(jī)，缺陷檢測單元例如為缺陷檢測器(顆粒物檢測儀)，圖形檢測單元例如為圖形檢測儀，掩膜版存儲(chǔ)模塊例如為存儲(chǔ)倉，但不限于此。
[0063]本公開一實(shí)施例提供一種掩膜版使用方法，如圖10所示，包括:
[0064]提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版；
[0065]檢測掩膜版組中的掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理；
[0066]將經(jīng)過掩膜版處理工序處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到掩膜版所屬的掩膜版組。
[0067]—些示例提供的掩膜版使用方法中，對(duì)掩膜版的檢測包括缺陷檢測，以檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物(顆粒物檢測)，然后對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版進(jìn)行清洗，或進(jìn)行維修或者重做。
[0068]通過對(duì)檢測結(jié)果的管控，可以對(duì)檢測結(jié)果不同的掩膜版進(jìn)行區(qū)分，以確保掩膜版按照檢測結(jié)果選擇下一步工藝。
[0069]如圖11所示，一些示例提供的掩膜版使用方法中，當(dāng)被檢測的掩膜版第I次被判定不合格，則重新進(jìn)行清洗，當(dāng)被檢測的掩膜版連續(xù)2次被判定不合格，則進(jìn)行維修或重做。
[0070]如圖12所示，一些示例提供的掩膜版使用方法中，對(duì)掩膜版的檢測還包括圖形檢測，以檢測被檢測的掩膜版的圖形是否完好。例如，當(dāng)被檢測的掩膜版被判定為不合格，則進(jìn)行維修或重做。
[0071]如圖13所示，一些示例提供的掩膜版使用方法中，掩膜版處理還包括將不能維修的掩膜版進(jìn)行報(bào)廢處理。
[0072]如圖14所示，一些示例提供的掩膜版使用方法還包括:暫存檢測合格后的掩膜版組。當(dāng)需要使用掩膜版組時(shí)，可從暫存處(例如掩膜版存儲(chǔ)模塊)取出進(jìn)行使用。
[0073]如圖15所示，若掩膜版組100不是一個(gè)完整的掩膜版組，則可從掩膜版存儲(chǔ)處(例如掩膜版存儲(chǔ)模塊14)調(diào)到缺陷檢測處(例如缺陷檢測單元)和/或者圖形檢測處(例如圖形檢測單元)進(jìn)行分類管理，將不完整的掩膜版組調(diào)整為一個(gè)完整的掩膜版組。例如，分類時(shí)，曾經(jīng)判NG的掩膜版會(huì)重新回到其對(duì)應(yīng)的掩膜版組內(nèi)，從而形成完整的掩膜版組。分類完成的掩膜版組可存儲(chǔ)待用(例如放到存儲(chǔ)模塊內(nèi)暫存待使用)。掩膜版的分類管理，保證了掩膜版組的準(zhǔn)確性，可防止錯(cuò)誤的掩膜版投入到蒸鍍?cè)O(shè)備的腔室內(nèi)，也可以減少因人員接觸掩膜版造成的破損。
[0074]一些示例提供的掩膜版使用方法中，將掩膜版組用于有機(jī)發(fā)光二極管顯示面版的制作。
[0075]—些示例提供的掩膜版使用方法中，掩膜版組所包括的多個(gè)掩膜版屬于同一類型，或者，掩膜版組所包括至少兩個(gè)不同類型的掩膜版以用于蒸鍍?cè)O(shè)備的不同蒸鍍腔室中。
[0076]—些示例提供的掩膜版使用方法還包括維持各掩膜版組的卡匣內(nèi)的掩膜版的類型和數(shù)量不變。
[0077]如圖16所示，在一個(gè)示例中，在OLED顯示面板生產(chǎn)用掩膜版管理方法中，掩膜版制作/維修后可進(jìn)行掩膜版的清洗，清洗后進(jìn)行缺陷，掩膜版在缺陷檢測工序中被判I次NG后，返回到掩膜版清洗工序重新清洗，掩膜版在缺陷檢測工序被判2次NG后，返回到掩膜版制作/維修工序重新檢修，缺陷檢測合格后進(jìn)行圖形檢測，掩膜版被判NG后，返回到掩膜版制作/維修工序重新檢修，圖形檢測合格后可將掩膜版組進(jìn)行存儲(chǔ)，不完整的掩膜版可進(jìn)行掩膜版的分類，將不完整的掩膜版組調(diào)整為完整的掩膜版組，完整的掩膜版組可投入蒸鍍?cè)O(shè)備使用，掩膜版在使用完成后可放入另一卡匣內(nèi)(避免污染其所在的掩膜版組中的未用的掩膜版)回到掩膜版清洗工序進(jìn)行清洗。循環(huán)往復(fù)。
[0078]本公開的實(shí)施例中，放置在卡匣101內(nèi)的多個(gè)掩膜版102經(jīng)過不同單元或工序后還要回到原來的位置上。即，一個(gè)卡匣101綁定多個(gè)掩膜版102，多個(gè)掩膜版102在卡匣內(nèi)的位置固定不變，掩膜版被報(bào)廢的情況下可重做后替換被報(bào)廢的掩膜版。
[0079]本公開實(shí)施例提供的掩膜版管理方法的效果可對(duì)應(yīng)參考本公開實(shí)施例提供的掩膜版管理系統(tǒng)，在此不再贅述。其他處亦可相互參見。
[0080]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)明白，本公開的實(shí)施例可提供為方法、裝置(設(shè)備)、或計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。因此，本公開的實(shí)施例可采用完全硬件實(shí)施例、完全軟件實(shí)施例、或結(jié)合軟件和硬件方面的實(shí)施例的形式。而且，本公開的實(shí)施例可采用在一個(gè)或多個(gè)其中包含有計(jì)算機(jī)可用程序代碼的計(jì)算機(jī)可用存儲(chǔ)介質(zhì)(包括但不限于磁盤存儲(chǔ)器、CD-ROM、光學(xué)存儲(chǔ)器等)上實(shí)施的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的形式。
[0081]本公開的實(shí)施例是參照根據(jù)本公開實(shí)施例的方法、裝置(設(shè)備)和計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的流程圖和/或方框圖來描述的。應(yīng)理解可由計(jì)算機(jī)程序指令實(shí)現(xiàn)流程圖和/或方框圖中的每一流程和/或方框、以及流程圖和/或方框圖中的流程和/或方框的結(jié)合。可提供這些計(jì)算機(jī)程序指令到通用計(jì)算機(jī)、專用計(jì)算機(jī)、嵌入式處理機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器以產(chǎn)生一個(gè)機(jī)器，使得通過計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器執(zhí)行的指令產(chǎn)生用于實(shí)現(xiàn)在流程圖一個(gè)流程或多個(gè)流程和/或方框圖一個(gè)方框或多個(gè)方框中指定的功能的
目.ο
[0082]這些計(jì)算機(jī)程序指令也可存儲(chǔ)在能引導(dǎo)計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備以特定方式工作的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)器中，使得存儲(chǔ)在該計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)器中的指令產(chǎn)生包括指令裝置的制造品，該指令裝置實(shí)現(xiàn)在流程圖一個(gè)流程或多個(gè)流程和/或方框圖一個(gè)方框或多個(gè)方框中指定的功能。
[0083]這些計(jì)算機(jī)程序指令也可裝載到計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備上，使得在計(jì)算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行一系列操作步驟以產(chǎn)生計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)的處理，從而在計(jì)算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行的指令提供用于實(shí)現(xiàn)在流程圖一個(gè)流程或多個(gè)流程和/或方框圖一個(gè)方框或多個(gè)方框中指定的功能的步驟。
[0084]例如，本公開的實(shí)施例中，掩膜版管理系統(tǒng)可以包括處理器、存儲(chǔ)器、和存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的計(jì)算機(jī)程序指令;計(jì)算機(jī)程序指令被處理器運(yùn)行時(shí)可實(shí)現(xiàn)例如掩膜版投入模塊11，掩膜版檢測和處理模塊12和掩膜版分類模塊13中至少一個(gè)指定的功能，進(jìn)一步例如可實(shí)現(xiàn)上述掩膜版投入模塊11，掩膜版檢測和處理模塊12和掩膜版分類模塊13、掩膜版存儲(chǔ)模塊14、缺陷檢測單元121;掩膜版清洗單元122、掩膜版制作/維修單元123、圖形檢測單元124、報(bào)廢單元125、卡匣投入模塊128、卡匣清洗單元129中的至少一個(gè)指定的全部或部分功能。
[0085]例如，本公開的一個(gè)實(shí)施例提供一種掩膜版管理系統(tǒng)，包括:處理器、存儲(chǔ)器和存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的計(jì)算機(jī)程序指令，在計(jì)算機(jī)程序指令被處理器運(yùn)行時(shí)執(zhí)行以下步驟:提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)所述掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在所述卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版；檢測所述掩膜版組中的多個(gè)掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理;將經(jīng)過處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。
[0086]有以下幾點(diǎn)需要說明:
[0087](I)本公開實(shí)施例附圖中，只涉及到與本公開實(shí)施例涉及到的結(jié)構(gòu)，其他結(jié)構(gòu)可參考通常設(shè)計(jì)。
[0088](2)在不沖突的情況下，本公開的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
[0089]以上所述，僅為本公開的【具體實(shí)施方式】，但本公開的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本公開揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本公開的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本公開的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩膜版管理系統(tǒng)，包括: 掩膜版投入模塊，其被配置來提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)所述掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在所述卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版； 掩膜版檢測和處理模塊，其被配置來檢測所述掩膜版組中的多個(gè)掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理； 掩膜版分類模塊，其被配置來將經(jīng)過處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管理系統(tǒng)，其中，所述掩膜版檢測和處理模塊包括: 缺陷檢測單元，其被配置來檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物； 掩膜版清洗單元，其被配置來對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版或使用后的掩膜版進(jìn)行清洗； 掩膜版制作/維修單元，其被配置來對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版進(jìn)行維修或者重做。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的管理系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述被檢測的掩膜版被所述缺陷檢測單元第I次被判定不合格，則被送入所述掩膜版清洗單元以進(jìn)行清洗，當(dāng)所述被檢測的掩膜版連續(xù)2次被判定不合格，則被送入所述掩膜版制作/維修單元以進(jìn)行維修或重做。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的管理系統(tǒng)，其中，所述掩膜版檢測和處理模塊還包括: 圖形檢測單元，其被配置來檢測所述被檢測的掩膜版的圖形是否完好。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的管理系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述被檢測的掩膜版被所述圖形檢測單元判定為不合格，則被送入所述掩膜版制作/維修單元以進(jìn)行維修或重做。6.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一所述的管理系統(tǒng)，其中，所述掩膜版檢測和處理模塊還包括: 報(bào)廢單元，其被配置來將不能維修的掩膜版進(jìn)行報(bào)廢處理。7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的管理系統(tǒng)，還包括: 存儲(chǔ)模塊，其被配置來暫存檢測合格后的所述掩膜版組。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的管理系統(tǒng)，其中，所述掩膜版組用于有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的制作。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管理系統(tǒng)，其中，所述掩膜版組所包括的多個(gè)掩膜版屬于同一類型，或者，所述掩膜版組所包括的多個(gè)掩膜版包括至少兩個(gè)不同類型的掩膜版以用于蒸鍍?cè)O(shè)備的不同蒸鍍腔室。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的管理系統(tǒng)，其中，所述掩膜版組的卡匣內(nèi)的所述多個(gè)掩膜版的類型和數(shù)量，在所述掩膜版組被投入使用前保持不變。11.一種掩膜版使用方法，包括: 提供至少一個(gè)掩膜版組，每個(gè)所述掩膜版組包括一個(gè)卡匣和放置在所述卡匣內(nèi)的多個(gè)掩膜版； 檢測所述掩膜版組中的掩膜版，并根據(jù)檢測結(jié)果對(duì)需要處理的掩膜版進(jìn)行對(duì)應(yīng)的掩膜版處理； 將經(jīng)過所述掩膜版處理工序處理并合格的掩膜版重新調(diào)整到所述掩膜版所屬的掩膜版組。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的使用方法，其中，對(duì)所述掩膜版的檢測包括缺陷檢測，以檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物，然后對(duì)經(jīng)檢測存在缺陷的掩膜版進(jìn)行清洗，或進(jìn)行維修或者重做。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的使用方法，其中，當(dāng)所述被檢測的掩膜版第I次被判定不合格，則再次進(jìn)行清洗，當(dāng)所述被檢測的掩膜版連續(xù)2次被判定不合格，則進(jìn)行維修或重做。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的使用方法，其中，對(duì)所述掩膜版的檢測還包括圖形檢測，以檢測所述被檢測的掩膜版的圖形是否完好。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的使用方法，其中，當(dāng)所述被檢測的掩膜版被判定為不合格，則進(jìn)行維修或重做。16.根據(jù)權(quán)利要求11-15任一所述的使用方法，其中，所述掩膜版處理還包括將不能維修的掩膜版進(jìn)行報(bào)廢處理。17.根據(jù)權(quán)利要求11-15任一所述的使用方法，還包括:暫存檢測合格后的所述掩膜版組。18.根據(jù)權(quán)利要求11-15任一所述的使用方法，其中，將所述掩膜版組用于有機(jī)發(fā)光二極管顯示面版的制作。19.根據(jù)權(quán)利要求11-15任一所述的使用方法，其中，所述掩膜版組所包括的多個(gè)掩膜版屬于同一類型，或者，所述掩膜版組所包括至少兩個(gè)不同類型的掩膜版以用于蒸鍍?cè)O(shè)備的不同蒸鍍腔室中。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的使用方法，還包括維持各所述掩膜版組的所述卡匣內(nèi)的所述掩膜版的類型和數(shù)量不變。
【文檔編號(hào)】G03F1/66GK105974729SQ201610354130
【公開日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年5月25日
【發(fā)明人】張小華, 劉少華, 劉振宇, 閆冬, 崔富毅
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司