感光性轉(zhuǎn)印材料、圖案形成方法及蝕刻方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種感光性轉(zhuǎn)印材料、圖案形成方法及蝕刻方法，所述感光性轉(zhuǎn)印材料包括支撐體與感光性樹脂組合物層，前述感光性樹脂組合物層含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸產(chǎn)生劑，所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(a1)，且前述感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)，所述感光性轉(zhuǎn)印材料為正型，且耐熱矩形性優(yōu)異、耐蝕刻劑性優(yōu)異、抗蝕劑剝離性優(yōu)異、加工時(shí)的揚(yáng)塵少。【專利說(shuō)明】感光性轉(zhuǎn)印材料、圖案形成方法及蝕刻方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種感光性轉(zhuǎn)印材料、圖案形成方法及蝕刻方法?！?br>背景技術(shù)：
】有機(jī)EL顯示裝置、液晶顯示裝置、靜電電容型輸入裝置等中設(shè)置有形成有圖案的層間絕緣膜。在形成該層間絕緣膜時(shí)，從用于獲得所需的圖案形狀的工序數(shù)較少、且可獲得充分的平坦性等考慮，廣泛使用如下方法:隔著具有所期望的圖案的掩膜，對(duì)使用感光性轉(zhuǎn)印材料轉(zhuǎn)印至任意的基板上的感光性樹脂組合物層進(jìn)行曝光，局部性地固化后進(jìn)行顯影。感光性樹脂組合物根據(jù)感光系統(tǒng)的不同，而分成照射了活性光線的部分作為圖像而殘留的負(fù)型、及未照射活性光線的部分作為圖像而殘留的正型。若為負(fù)型則曝光部固化，因此在所獲得的圖案形狀不良的情況下必須連同基板一起廢棄。另一方面，若為正型則使用通過(guò)照射活性光線而產(chǎn)生酸的光敏劑來(lái)提高曝光部的溶解性，因此在圖案曝光的時(shí)間點(diǎn)曝光部及未曝光部均未固化，在所獲得的圖案形狀不良的情況下通過(guò)整面曝光等而可對(duì)基板進(jìn)行再利用（重新加工(rework))。因此，從所謂的重新加工性優(yōu)異的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選正型的感光性樹脂組合物。作為使用這種正型感光性樹脂組合物的轉(zhuǎn)印材料的例子，已知有專利文獻(xiàn)1~3中所記載的轉(zhuǎn)印材料。在專利文獻(xiàn)1中記載有一種轉(zhuǎn)印薄膜，其包括支撐薄膜、及由正型感放射線性樹脂組合物形成在該支撐薄膜上的樹脂膜。在該文獻(xiàn)中，作為正型感放射線性樹脂組合物，記載有含有如下的聚合物、感放射線性酸產(chǎn)生劑、及有機(jī)溶劑的化學(xué)放大型的正型感放射線性樹脂組合物，前述聚合物具有含有通過(guò)酸而解離并產(chǎn)生酸性官能基的酸解離性官能基的結(jié)構(gòu)單元及交聯(lián)結(jié)構(gòu)，且具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物尤其使用具有源自含有乙烯性雙鍵的單體的交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物。在該文獻(xiàn)中記載有若將正型感放射線性樹脂組合物用作鍍覆圖案化用的干膜抗蝕劑，則靈敏度或分辨性等優(yōu)異，并且與基板的密合性優(yōu)異，顯影后在開口部不會(huì)產(chǎn)生殘?jiān)梢种棋兏埠蟮臉渲ぎa(chǎn)生裂紋，且可抑制鍍覆對(duì)于樹脂膜的壓入，并且相對(duì)于曝光量的變化所形成的圖案的尺寸變化小，并且，即便因環(huán)境中所存在的胺而產(chǎn)生T型頂（Τ-^ρ)，也可將其消除。尤其據(jù)專利文獻(xiàn)1的[0050]段的記載，在形成鍍覆造形物的情況下，當(dāng)通過(guò)鍍覆而在對(duì)樹脂膜進(jìn)行圖案化所形成的槽中形成金屬柱時(shí)，若為強(qiáng)度弱的樹脂膜則存在樹脂膜的槽變形的問(wèn)題，但若使用專利文獻(xiàn)1的正型感放射線性樹脂組合物，則可在樹脂膜中形成乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)，因此可形成牢固的樹脂膜，而可形成側(cè)壁垂直的金屬柱。并且，在專利文獻(xiàn)1的[0058]中，記載有相對(duì)于其他結(jié)構(gòu)單元的合計(jì)，包含0.1~10摩爾％的含有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元，由此不會(huì)膠化且作為抗蝕劑，能夠獲得適合得到良好的解析度的分子量，并顯現(xiàn)出充分的耐鍍覆性。當(dāng)將該專利文獻(xiàn)1中所記載的含有具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物的正型感放射線性樹脂組合物用作抗蝕阻劑時(shí)，為了賦予耐蝕刻劑性而需要顯影后的熱處理，對(duì)于該觀點(diǎn)并無(wú)記載。另外，在專利文獻(xiàn)1中記載有可將轉(zhuǎn)印薄膜的樹脂膜的厚度設(shè)為5~200μπι來(lái)使用。在專利文獻(xiàn)2中記載有一種使用將化學(xué)放大型的正型感光性樹脂組合物涂布于支撐體上所形成的感光性元件來(lái)形成光阻圖案的方法。在專利文獻(xiàn)2中記載有一種化學(xué)放大型的正型感光性樹脂組合物，其包括:在分子內(nèi)具有由酸切斷的鍵及2個(gè)以上的乙烯性不飽和鍵的熱聚合性化合物、使前述熱聚合性化合物的熱聚合反應(yīng)開始的熱聚合引發(fā)劑、以及通過(guò)照射活性能量射線而產(chǎn)生酸的化合物。在該文獻(xiàn)中公開有一種使用具有-O-C-O-部位的熱聚合性化合物的正型感光性樹脂組合物。然而，專利文獻(xiàn)2的熱聚合性化合物并非聚合物(polymer)，而僅記載有聚合性化合物(單體）。在專利文獻(xiàn)2的[0021]中記載有熱聚合性化合物的-0-C-0-部位由酸切斷而分解成-OH基與酮化合物，且因該-OH基的形成而可溶于堿性的水溶液中，因此熱聚合性化合物的-0-C-0-部位并不保護(hù)酸基。另外，在專利文獻(xiàn)2的實(shí)施例中利用甲醇對(duì)曝光后的固化膜進(jìn)行顯影，因此專利文獻(xiàn)2也未研究為了提高利用堿性的水溶液的顯影性，而使用具有酸基的熱聚合性化合物。在專利文獻(xiàn)3中記載有通過(guò)如下的樹脂圖案的制造方法，能夠減少烘烤工序后所獲得的燒性印刷電路(FlexiblePrintedCircuit，F(xiàn)PC)的翹曲、提高機(jī)械物性、改善耐溶劑性，前述樹脂圖案的制造方法包括:將正型感光性樹脂組合物涂布于膜基材上，接著進(jìn)行脫溶劑來(lái)制作感光性干膜的工序;將前述感光性干膜壓接于配置有圖案的基板上來(lái)形成感光層的工序;透過(guò)掩膜對(duì)前述感光層照射活性光線的工序;利用堿性水溶液對(duì)前述感光層進(jìn)行顯影的工序;利用選自由水及酸性水溶液所組成的群中的至少1種溶劑對(duì)前述感光層進(jìn)行淋洗的工序;對(duì)前述整個(gè)感光層照射活性光線的工序；以及在l〇〇°C~400°C下進(jìn)行固化的工序。在專利文獻(xiàn)3的化學(xué)放大型的正型干膜中，作為堿可溶性樹脂而使用聚酰亞胺樹脂，作為通過(guò)照射活性光線而產(chǎn)生酸的光敏劑而組合使用萘醌二迭氮化合物，但對(duì)于堿可溶性樹脂具有酸基的保護(hù)基的方式并無(wú)記載。以往技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本專利第4544219號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本專利第4654938號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3:日本特開2010-211109號(hào)公報(bào)發(fā)明的概要發(fā)明要解決的技術(shù)課題在此，當(dāng)使用轉(zhuǎn)印薄膜來(lái)形成圖案時(shí)，要求顯影后的熱處理后的耐蝕刻劑性良好、且抗蝕劑剝離性良好。當(dāng)使用含有具有通過(guò)酸而解離并產(chǎn)生酸性官能基的酸解離性官能基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物時(shí)，從促進(jìn)通過(guò)酸而解離并產(chǎn)生酸性官能基的酸解離性官能基的脫離的觀點(diǎn)考慮，要求在曝光顯影時(shí)進(jìn)行后烘干(曝光顯影后的加熱）。并且，在使用不具有酸基的保護(hù)基的樹脂的情況下，從提高形成有圖案的抗蝕劑部對(duì)于蝕刻液的耐受性的觀點(diǎn)考慮，有時(shí)也要求進(jìn)行后烘干。當(dāng)進(jìn)行后烘干時(shí)，從蝕刻后的金屬圖案的解析度的觀點(diǎn)考慮，后烘干后的圖案部分的剖面形狀為圓頂形、無(wú)角且頂錐角較小（所謂的耐熱矩形性良好)變得重要。然而，如專利文獻(xiàn)1使用具有特有的保護(hù)基、且具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物的轉(zhuǎn)印薄膜中，有時(shí)后烘干后的抗蝕劑剝離性會(huì)劣化。并且，可知在不使用具有保護(hù)基的聚合物，而使用具有保護(hù)基的單體的專利文獻(xiàn)2中記載的轉(zhuǎn)印薄膜，在耐熱矩形性的方面留有不滿意之處。并且，在使用不具有酸基的保護(hù)基的聚酰亞胺樹脂，并將在曝光時(shí)產(chǎn)生氮的萘醌二迭氮用于光敏劑的專利文獻(xiàn)3中記載的方法中，當(dāng)制成轉(zhuǎn)印材料時(shí)存在如下的缺陷：因材料的加工等而有揚(yáng)塵，受其影響容易在圖案中產(chǎn)生缺陷。本發(fā)明要解決的課題是提供一種耐熱矩形性優(yōu)異、耐蝕刻劑性優(yōu)異、抗蝕劑剝離性優(yōu)異、加工時(shí)的揚(yáng)塵少的正型感光性轉(zhuǎn)印材料。用于解決技術(shù)課題的手段本發(fā)明人等進(jìn)行努力研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)通過(guò)使用如下的感光性轉(zhuǎn)印材料，可獲得耐熱矩形性優(yōu)異、耐蝕刻劑性優(yōu)異、抗蝕劑剝離性優(yōu)異、加工時(shí)的揚(yáng)塵少的感光性轉(zhuǎn)印材料，從而可解決上述課題，前述感光性轉(zhuǎn)印材料包括支撐體與感光性樹脂組合物層，感光性樹脂組合物層含有如下的聚合物成分、及光酸產(chǎn)生劑，所述聚合物成分含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元，且感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)。用于解決上述課題的具體手段即本發(fā)明如下。[1]一種感光性轉(zhuǎn)印材料，其包括支撐體與感光性樹脂組合物層，感光性樹脂組合物層含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸產(chǎn)生劑，所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，且感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)。[2]根據(jù)[1]所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)為具有羧基或酚性羥基由縮醛的形式保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元。[3]根據(jù)[1]或[2]所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選感光性樹脂組合物層含有(C)雜環(huán)狀化合物。[4]根據(jù)[3]所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選相對(duì)于感光性樹脂組合物層的總固體成分量，（C)雜環(huán)狀化合物的含量為0.1質(zhì)量％~10質(zhì)量％。[5]根據(jù)[3]或[4]所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選(C)雜環(huán)狀化合物具有環(huán)氧基。[6]根據(jù)[1]至[5]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物為含有下述通式(Al)或通式(ΑΓ)所表示的構(gòu)成單元的聚合物。通式(Al)[化學(xué)式1](通式(Al)中，R1及R2分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R1及R2的任一個(gè)為烷基或芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2與R3可連接而形成環(huán)狀醚，R4表示氫原子或甲基。）通式(ΑΓ)[化學(xué)式2](通式(ΑΓ)中，R11及R12分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R11及R12的任一個(gè)為烷基或芳基，R13表示烷基或芳基，R11或R12與R13可連接而形成環(huán)狀醚，R14分別獨(dú)立地表示氫原子、羥基、鹵素原子、烷基、烷氧基、烯基、芳基、芳烷基、烷氧基幾基、羥基烷基、芳基幾基或環(huán)烷基。）[7]根據(jù)[1]至[6]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選感光性樹脂組合物層包含2種以上的(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物作為聚合物成分，且含有具有下述通式(A2'）所表示的構(gòu)成單元的聚合物作為(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物。通式(A2'）[化學(xué)式3](通式(A2'）中，R31及R32分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R31及R32的任一個(gè)為烷基或芳基，R33表示烷基或芳基，R31或R32與R33可連接而形成環(huán)狀醚，R34表示氫原子或甲基，Xt3表示單鍵或亞芳基。）[8]根據(jù)[1]至[7]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選感光性樹脂組合物層的膜厚為0.5~ΙΟμπι。[9]根據(jù)[1]至[8]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選在感光性樹脂組合物層中進(jìn)一步含有敏化劑。[10]根據(jù)[1]至[9]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，優(yōu)選在感光性樹脂組合物層中進(jìn)一步含有堿性化合物。[11]根據(jù)[1]至[10]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，所述感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選進(jìn)一步包括感光性樹脂組合物層的保護(hù)膜。[12]根據(jù)[1]至[11]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，所述感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選為用于形成可去除的蝕刻用抗蝕劑的感光性轉(zhuǎn)印材料。[13]-種圖案形成方法，其包括:使用根據(jù)[1]至[12]中任一個(gè)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，在基板的至少一個(gè)面上形成感光性樹脂組合物層的感光性樹脂組合物層形成工序;對(duì)感光性樹脂組合物層進(jìn)行曝光的曝光工序；以及對(duì)經(jīng)曝光的感光性樹脂組合物層進(jìn)行顯影的顯影工序。[14]根據(jù)[13]所述的圖案形成方法，所述方法優(yōu)選進(jìn)一步具有對(duì)包含進(jìn)行顯影而獲得的感光性樹脂組合物層的圖案進(jìn)行加熱處理的后烘干工序。[15]-種蝕刻方法，其包括:將通過(guò)根據(jù)[13]或[14]所述的圖案形成方法所制作的圖案用作蝕刻用抗蝕劑來(lái)進(jìn)行蝕刻的工序；以及在蝕刻處理后通過(guò)化學(xué)處理來(lái)去除圖案的工序。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，可提供一種耐熱矩形性優(yōu)異、耐蝕刻劑性優(yōu)異、抗蝕劑剝離性優(yōu)異、加工時(shí)的揚(yáng)塵少的正型感光性轉(zhuǎn)印材料。【附圖說(shuō)明】圖1是表示包含可使用本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料而形成的透明電極圖案的靜電電容型輸入裝置的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖2是表示本發(fā)明中的前面板的一例的說(shuō)明圖。圖3是表示本發(fā)明中的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說(shuō)明圖。圖4是表不形成有開口部的強(qiáng)化處理玻璃的一例的俯視圖。圖5是表示形成有掩膜層的前面板的一例的俯視圖。圖6是表不形成有第一透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。圖7是表不形成有第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。圖8是表示形成有與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要件的前面板的一例的俯視圖?！揪唧w實(shí)施方式】以下，對(duì)本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料、圖案形成方法及蝕刻方法進(jìn)行說(shuō)明。以下所記載的構(gòu)成要件的說(shuō)明有時(shí)基于本發(fā)明的代表性的實(shí)施方式或具體例來(lái)進(jìn)行，但本發(fā)明并不限定于這種實(shí)施方式或具體例。另外，在本說(shuō)明書中，使用"~"來(lái)表示的數(shù)值范圍是指將"~"的前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值而包含的范圍。[感光性轉(zhuǎn)印材料]本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料包括支撐體與感光性樹脂組合物層，前述感光性樹脂組合物層含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸產(chǎn)生劑，所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，且前述感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)。通過(guò)這種結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料為正型，且耐熱矩形性優(yōu)異、耐蝕刻劑性優(yōu)異、抗蝕劑剝離性優(yōu)異、加工時(shí)的揚(yáng)塵少。并且，本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選處理性優(yōu)異，尤其更優(yōu)選粘性(粘著性)小。尤其，與使用聚合性化合物(單體)的日本專利第4654938號(hào)公報(bào)中所記載的正型感光性樹脂組合物相比，含有前述聚合物成分的本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料的前述處理性、粘性優(yōu)異。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料進(jìn)一步優(yōu)選靈敏度優(yōu)異、分辨率良好，且線寬穩(wěn)定性優(yōu)異。以下，對(duì)本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料的優(yōu)選方式進(jìn)行說(shuō)明。{支撐體}本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料包含支撐體。作為支撐體，可使用具有可撓性，且在加壓下或加壓及加熱下不產(chǎn)生顯著的變形、收縮或伸展的材料。作為這種支撐體的例子，可舉出聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中，尤其優(yōu)選雙軸延伸聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜。支撐體的厚度并無(wú)特別限制，通常為5~200μπι的范圍，從易處理性、通用性等的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選10~150μηι的范圍。并且，支撐體可為透明，也可含有染料化硅、氧化鋁溶膠(Aluminasol)、鉻鹽、鋯鹽等。并且，可通過(guò)日本特開2005-221726號(hào)公報(bào)中所記載的方法等，對(duì)本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料中所使用的前述支撐體賦予導(dǎo)電性。{感光性樹脂組合物層}本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料包含感光性樹脂組合物層，前述感光性樹脂組合物層含有前述(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸產(chǎn)生劑，所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，且前述感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料是前述感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)的感光性轉(zhuǎn)印材料，由于不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)，因此具有溶劑溶解性、顯影時(shí)的溶解性的優(yōu)點(diǎn)。具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的日本專利第4544219號(hào)中所公開的正型感放射性樹脂組合物或使用它的轉(zhuǎn)印薄膜無(wú)法獲得這種優(yōu)點(diǎn)。另外，在日本專利第4544219號(hào)的[0058]中記載有在日本專利第4544219號(hào)中所記載的正型感放射性樹脂組合物中所使用的特定的聚合物(A)中，相對(duì)于具有2個(gè)以上的乙烯性不飽和雙鍵的單體(1)以外的結(jié)構(gòu)單元(具有酸解離性官能基的結(jié)構(gòu)單元、具有羧基的結(jié)構(gòu)單元、其他結(jié)構(gòu)單元等）的合計(jì)100摩爾％，源自具有2個(gè)以上的乙烯性不飽和雙鍵的單體(1)的結(jié)構(gòu)單元(具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元)優(yōu)選0.1~10摩爾％。"乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)"是指通過(guò)使用具有2個(gè)以上的乙烯性不飽和雙鍵的單體的均聚物或共聚物所形成的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。前述感光性樹脂組合物不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)是指在前述感光性樹脂組合物中，實(shí)質(zhì)上不含具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選前述感光性樹脂組合物除了不具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)之外，也不具有包括其他交聯(lián)結(jié)構(gòu)在內(nèi)的一切交聯(lián)結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選前述感光性樹脂組合物也不含具有乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物，更優(yōu)選也不含具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選前述感光性樹脂組合物也不含具有交聯(lián)性基團(tuán)的單體。并且，本說(shuō)明書中，作為乙烯性交聯(lián)性基團(tuán)，可舉出具有乙烯性不飽和雙鍵的基團(tuán)。前述感光性樹脂組合物中，優(yōu)選具有乙烯性交聯(lián)性基的聚合物的含量及含有交聯(lián)性基的單體的含量的合計(jì)為小于0.1質(zhì)量％，更優(yōu)選為小于0.01質(zhì)量％。尤其，含有交聯(lián)性基的單體中，優(yōu)選不含具有2個(gè)以上的交聯(lián)性基的單體，前述感光性樹脂組合物中，優(yōu)選具有2個(gè)以上的交聯(lián)性基的單體的含量為小于0.1質(zhì)量％，更優(yōu)選為小于0.01質(zhì)量％。另外，這里所說(shuō)的前述感光性樹脂組合物的成分的比例為相對(duì)于除溶劑以外的總固體成分的比例。前述(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物中，優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元，更優(yōu)選相對(duì)于前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元的混合比例為小于0.1摩爾％，尤其優(yōu)選為小于0.01摩爾％。<成分A:聚合物成分>前述感光性樹脂組合物層中，前述(A)聚合物成分包括:含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物。前述(A)聚合物成分可進(jìn)一步包含這些以外的聚合物。只要無(wú)特別描述，則本發(fā)明中的(A)聚合物成分（以下，有時(shí)稱為"(A)成分"）是指包含視需要而添加的其他聚合物的聚合物成分。<<構(gòu)成單元(al)>>通過(guò)前述(A)聚合物成分含有構(gòu)成單元(al)，而可制成具有靈敏度極高的感光性樹脂組合物層的感光性轉(zhuǎn)印材料。作為本發(fā)明中的"酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)"中的酸基或酸分解性基，可使用作為酸基及酸分解性基所公知的基團(tuán)，并無(wú)特別限定。作為具體的酸基，可優(yōu)選舉出羧基、及酚性羥基。并且，作為酸分解性基，可使用比較容易由酸分解的基團(tuán)（例如后述的式(Al)或式(ΑΓ)所表示的基團(tuán)的酯結(jié)構(gòu)、四氫吡喃酯基、或四氫呋喃酯基等的縮醛系官能基）、或比較難以由酸分解的基團(tuán)（例如叔丁基酯基等叔烷基、碳酸叔丁基酯基等碳酸叔烷基酯基）。具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)優(yōu)選具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元、或具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料更優(yōu)選前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)為具有羧基或酚性羥基由縮醛的形式保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元。以下，依次對(duì)具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元、及具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元分別進(jìn)行說(shuō)明。<<<具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元>>>上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元是指，具有酚性羥基的構(gòu)成單元具有在以下進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明的由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元。作為上述具有酚性羥基的構(gòu)成單元，從靈敏度的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選源自羥基苯乙烯、或α-甲基羥基苯乙烯的構(gòu)成單元(例如酚醛清漆類的樹脂中的構(gòu)成單元）的羥基由酸分解性基保護(hù)的構(gòu)成單元，從還進(jìn)一步提高解析度的觀點(diǎn)考慮，更優(yōu)選為含有下述通式(Al)或通式(ΑΓ)所表示的構(gòu)成單元的聚合物。通式(Al)[化學(xué)式4]通式(Al)中，R1及R2分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R1及R2的任一個(gè)為烷基或芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2與R3可連接而形成環(huán)狀醚，R4表示氫原子或甲基。前述通式(Al)中，當(dāng)R1及R2為烷基時(shí)，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基。當(dāng)R1及R2為芳基時(shí)，優(yōu)選苯基。R1及R2分別優(yōu)選氫原子或碳數(shù)為1~4的烷基，更優(yōu)選至少一個(gè)為氫原子。前述通式(Al)中，R3表示烷基或芳基，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基，更優(yōu)選碳數(shù)為1~6的烷基。R1或R2與R3可連接而形成環(huán)狀醚，優(yōu)選R1或R2與R3連接而形成環(huán)狀醚。前述環(huán)狀醚的環(huán)元數(shù)并無(wú)特別限制，但優(yōu)選5或6，更優(yōu)選5。前述通式(Al)中，R4表示氫原子或甲基，優(yōu)選氫原子。通式(ΑΓ)[化學(xué)式5]通式(ΑΓ)中，R11及R12分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R11及R12的任一個(gè)為烷基或芳基，R13表示烷基或芳基，R11或R12與R13可連接而形成環(huán)狀醚，R14分別獨(dú)立地表示氫原子、羥基、鹵素原子、烷基、烷氧基、烯基、芳基、芳烷基、烷氧基幾基、羥基烷基、芳基幾基或環(huán)烷基。前述通式(ΑΓ)中，當(dāng)R11及R12為烷基時(shí)，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基。當(dāng)R11及R12為芳基時(shí)，優(yōu)選苯基。R11及R12分別優(yōu)選氫原子或碳數(shù)為1~4的烷基，更優(yōu)選至少一個(gè)為氫原子。前述通式(ΑΓ)中，R13表示烷基或芳基，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基，更優(yōu)選碳數(shù)為1~6的烷基。R11或R12與R13可連接而形成環(huán)狀醚。前述通式(ΑΓ)中，R14表示氫原子或甲基，優(yōu)選氫原子。作為可用于上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元的上述酸分解性基，可使用公知的酸分解性基，并無(wú)特別限定。酸分解性基之中，從感光性樹脂組合物的基本物性，尤其是靈敏度或圖案形狀、感光性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性、接觸孔的形成性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選具有由縮醛保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元。進(jìn)而，酸分解性基之中，從靈敏度的觀點(diǎn)考慮，更優(yōu)選為酚性羥基為下述通式(al-ΙΟ)所表示的由縮醛的形式保護(hù)的保護(hù)酚性羥基。另外，在酚性羥基為下述通式(al-ΙΟ)所表示的由縮醛的形式保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的情況下，保護(hù)酚性羥基的整體變成-Ar-0-CR1()1R1()2(0R1()3)的結(jié)構(gòu)。另外，Ar表示亞芳基。通式(al-10)[化學(xué)式6](式(al-ΙΟ)中，Rm及Rlt32分別獨(dú)立地表示氫原子或烷基，但是，排除Rm與Rlt32均為氫原子的情況。Rlt33表示烷基。Rm或Rlt32與Rlt33可連接而形成環(huán)狀醚）上述通式(al-ΙΟ)中，Rm~Rlt33分別獨(dú)立地表示氫原子或烷基，上述烷基可為直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的任一種。其中，不存在Rm及Rlt32均表示氫原子的情況，Rm及Rlt32的至少一個(gè)表不烷基。上述通式(al-ΙΟ)中，當(dāng)R1()1、R1()2及Rlt33表示烷基時(shí)，上述烷基可為直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的任一種。作為上述直鏈狀或支鏈狀的烷基，優(yōu)選碳數(shù)為1~12，更優(yōu)選碳數(shù)為1~6，進(jìn)一步優(yōu)選碳數(shù)為1~4。具體而言，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、正己基、環(huán)己基(2,3_二甲基-2-丁基）、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。作為上述環(huán)狀烷基，優(yōu)選碳數(shù)為3~12，更優(yōu)選碳數(shù)為4~8，進(jìn)一步優(yōu)選碳數(shù)為4~6。作為上述環(huán)狀烷基，例如可列舉:環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基、降冰片基、異冰片基等。上述烷基可具有取代基，作為取代基，可例示鹵素原子、芳基、烷氧基。當(dāng)具有鹵素原子作為取代基時(shí)，R1IRlt^Rlt33成為鹵代烷基，當(dāng)具有芳基作為取代基時(shí)，R1IRlt^Rlt33成為芳烷基。作為上述鹵素原子，可例示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，這些鹵素原子之中，優(yōu)選氟原子或氯原子。并且，作為上述芳基，優(yōu)選碳數(shù)為6~20的芳基，更優(yōu)選碳數(shù)為6~12，具體而言，可例示苯基、α-甲基苯基、萘基等，作為經(jīng)芳基取代的烷基整體，即芳烷基，可例示芐基、α-甲基芐基、苯乙基、萘基甲基等。作為上述烷氧基，優(yōu)選碳數(shù)為1~6的烷氧基，更優(yōu)選碳數(shù)為1~4,更優(yōu)選為甲氧基或乙氧基。并且，當(dāng)上述烷基為環(huán)烷基時(shí)，上述環(huán)烷基可具有碳數(shù)為1~10的直鏈狀或支鏈狀的烷基作為取代基，當(dāng)烷基為直鏈狀或支鏈狀的烷基時(shí)，可具有碳數(shù)為3~12的環(huán)烷基作為取代基。這些取代基也可由上述取代基進(jìn)一步取代。上述通式(al-10)中，當(dāng)R1()1、R1()2及R1()3表示芳基時(shí)，上述芳基優(yōu)選碳數(shù)為6~12,更優(yōu)選碳數(shù)為6~10。上述芳基可具有取代基，作為上述取代基，可優(yōu)選地例示碳數(shù)為1~6的烷基。作為芳基，例如可例不苯基、甲苯基、娃烷基、枯烯基、1_奈基等。另外，R1()1、R1()2及Rlt33可相互鍵合，并與這些所鍵合的碳原子一同形成環(huán)。作為Rltn與R1()2、R1()1與Rlt33或Rlt32與Rlt33鍵合時(shí)的環(huán)結(jié)構(gòu)，例如可列舉:環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、四氫呋喃基、金剛烷基及四氫吡喃基等。另外，上述通式(al-10)中，優(yōu)選Rm及Rlt32的任一個(gè)為氫原子或甲基。酚性羥基的縮醛酯結(jié)構(gòu)的優(yōu)選例可例示Rm=甲基、Rlt32=氫原子、Rlt33=乙基的情況，或例如，Riqi=甲基、Riq2=氫原子、Riq3=乙基且Rm及Riq3相互鍵合而形成5元環(huán)的情況，或Riqi=R1q2=Riq3=甲基的情況，或Rm=Rlt32=甲基且Rlt33=芐基的情況。并且，作為用于形成具有酚性羥基由縮醛的形式保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元的聚合性單體，例如可舉出日本特開2011-215590號(hào)公報(bào)的0042段落中所記載的聚合性單體等。這些聚合性單體之中，從透明性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選甲基丙烯酸4-羥基苯酯的1-烷氧基烷基保護(hù)體、甲基丙烯酸4-羥基苯酯的四氫吡喃基保護(hù)體。作為酚性羥基的縮醛保護(hù)基的具體例，可舉出1-烷氧基烷基，例如可列舉1-乙氧基乙基、1-甲氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基、1-(2-氯乙氧基）乙基、1-(2-乙基己氧基）乙基、1-正丙氧基乙基、1-環(huán)己氧基乙基、1-(2-環(huán)己基乙氧基）乙基、1-芐氧基乙基等，這些基可單獨(dú)使用、或?qū)?種以上組合使用。用于形成上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元的聚合性單體可使用市售的聚合性單體，也可使用通過(guò)公知的方法所合成的聚合性單體。例如，可通過(guò)在酸催化劑的存在下使具有酚性羥基的化合物與乙烯基醚進(jìn)行反應(yīng)來(lái)合成。上述合成也可事先使具有酚性羥基的單體與其他單體進(jìn)行共聚，然后在酸催化劑的存在下與乙烯基醚進(jìn)行反應(yīng)。作為上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元的優(yōu)選的具體例，可例示下述的構(gòu)成單元，但本發(fā)明并不限定于這些。相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的聚合物，在含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物中，具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的共聚比例優(yōu)選10~50%，更優(yōu)選20~40%，尤其優(yōu)選25~40摩爾％。并且，在將所有聚合物成分（當(dāng)前述聚合物成分為2種以上的聚合物的混合物時(shí)，是指所含有的所有聚合物)分解成構(gòu)成單元(單體單元(MonomerUnit))后，相對(duì)于所有構(gòu)成單元的摩爾數(shù)，具有酸基由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元(al)的比例優(yōu)選0~40摩爾％，更優(yōu)選10~35摩爾％，尤其優(yōu)選15~30摩爾％。<<<具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元>>>上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元是具有保護(hù)羧基的構(gòu)成單元，所述保護(hù)羧基是具有羧基的構(gòu)成單元的羧基由以下詳細(xì)說(shuō)明的酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基。作為可用于上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的上述具有羧基的構(gòu)成單元，并無(wú)特別限制，可使用公知的構(gòu)成單元。例如可舉出：源自不飽和一元羧酸、不飽和二元羧酸、不飽和三元羧酸等分子中具有至少1個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(al-1-1)，或同時(shí)具有乙烯性不飽和基與源自酸酐的結(jié)構(gòu)的構(gòu)成單元(al-1-2)。以下，分別對(duì)可用作上述具有羧基的構(gòu)成單元的源自分子中具有至少1個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(al-1-l)、及同時(shí)具有乙烯性不飽和基與源自酸酐的結(jié)構(gòu)的構(gòu)成單元(al_l_2)依次進(jìn)行說(shuō)明。<<<<源自分子中具有至少1個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(al-1-l)>>>>作為上述源自分子中具有至少1個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(al-1-l)，可使用如以下所列舉的不飽和羧酸作為本發(fā)明中所使用的不飽和羧酸。即，作為不飽和一元羧酸，例如可列舉:丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、桂皮酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-丁二酸、2_(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2_(甲基)丙烯酰氧基乙基-鄰苯二甲酸等。并且，作為不飽和二元羧酸，例如可列舉:順丁烯二酸、反丁烯二酸、衣康酸、檸康酸、中康酸等。并且，用于獲得具有羧基的構(gòu)成單元的不飽和多元羧酸也可為其酸酐。具體而言，可列舉順丁烯二酸酐、衣康酸酐、檸康酸酐等。并且，不飽和多元羧酸也可為多元羧酸的單(2-甲基丙烯酰氧基烷基)酯，例如可列舉:丁二酸單(2-丙烯酰氧基乙基)酯、丁二酸單(2-甲基丙烯酰氧基乙基）酯、鄰苯二甲酸單（2-丙烯酰氧基乙基）酯、鄰苯二甲酸單（2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯等。進(jìn)而，不飽和多元羧酸也可為其兩末端二羧基聚合物的單（甲基)丙烯酸酯，例如可列舉ω-羧基聚己內(nèi)酯單丙烯酸酯、ω-羧基聚己內(nèi)酯單甲基丙烯酸酯等。并且，作為不飽和羧酸，也可使用丙烯酸-2-羧基乙酯、甲基丙烯酸-2-羧基乙酯、順丁烯二酸單烷基酯、反丁烯二酸單烷基酯、4-羧基苯乙烯等。其中，從顯影性的觀點(diǎn)考慮，為了形成上述源自分子中具有至少1個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(al-1-l)，優(yōu)選使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2_(甲基)丙烯酰氧基乙基-丁二酸、2_(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2_(甲基)丙烯酰氧基乙基-鄰苯二甲酸、或不飽和多元羧酸的酐等，更優(yōu)選使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酉支。上述源自分子中具有至少1個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(al-1-l)可單獨(dú)包含1種，也可包含2種以上。<<<<同時(shí)具有乙烯性不飽和基與源自酸酐的結(jié)構(gòu)的構(gòu)成單元(al-1-2)>>>>同時(shí)具有乙烯性不飽和基與源自酸酐的結(jié)構(gòu)的構(gòu)成單元(al-1-2)優(yōu)選源自使具有乙烯性不飽和基的構(gòu)成單元中所存在的羥基與酸酐進(jìn)行反應(yīng)而獲得的單體的單元。作為上述酸酐，可使用公知的酸酐，具體而言，可列舉:順丁烯二酸酐、丁二酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、氯菌酸酐（chlorendicanhydride)等二元酸酐；偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐、聯(lián)苯四羧酸酐等酸酐。這些酸酐之中，從顯影性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、或丁二酸酐。從顯影性的觀點(diǎn)考慮，上述酸酐對(duì)于羥基的反應(yīng)率優(yōu)選10~100摩爾％，更優(yōu)選30~100摩爾％。作為可用于上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的上述酸分解性基，可使用上述可用于前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的酸分解性基。這些酸分解性基之中，從感光性樹脂組合物的基團(tuán)本物性，特別是靈敏度或圖案形狀、接觸孔的形成性、感光性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選羧基為由縮醛的形式保護(hù)的保護(hù)羧基。進(jìn)而，酸分解性基之中，從靈敏度的觀點(diǎn)考慮，更優(yōu)選羧基為前述通式(al-10)所表示的由縮醛的形式保護(hù)的保護(hù)羧基。另外，在羧基為前述通式(al-10)所表示的由縮醛的形式保護(hù)的保護(hù)羧基的情況下，保護(hù)羧基的整體變成-(C=O)-O-CRltnRlt32(ORlt33)的結(jié)構(gòu)。用于形成具有前述通式(al-10)所表示的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合性單體可使用市售的聚合性單體，也可使用通過(guò)公知的方法所合成的聚合性單體。例如，可通過(guò)日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0037~0040段落中所記載的合成方法等來(lái)合成。上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元之中，從提高靈敏度的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選下述通式(A2'）所表示的構(gòu)成單元。[化學(xué)式10]通式(A2'）(通式(A2'）中，R31及R32分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，至少R31及R32的任一個(gè)為烷基或芳基，R33表示烷基或芳基，R31或R32與R33可連接而形成環(huán)狀醚，R34表示氫原子或甲基，Xt3表示單鍵或亞芳基。）前述通式(A2'）中，當(dāng)R31及R32為烷基時(shí)，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基。當(dāng)R31及R32為芳基時(shí)，優(yōu)選苯基。R31及R32優(yōu)選分別為氫原子或碳數(shù)為1~4的烷基。前述通式(A2'）中，R33表示烷基或芳基，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基，更優(yōu)選碳數(shù)為1~6的烷基。前述通式(A2'）中，R31或R32與R33可連接而形成環(huán)狀醚，優(yōu)選R31或R32與R33連接而形成環(huán)狀醚。前述環(huán)狀醚的環(huán)元數(shù)并無(wú)特別限制，但優(yōu)選5或6，更優(yōu)選為5。前述通式(A2'）中，R34表示氫原子或甲基，優(yōu)選氫原子。前述通式(A2'）中，Xt3表示單鍵或亞芳基，優(yōu)選單鍵。前述通式(A2'）所表示的構(gòu)成單元之中，從進(jìn)一步提高靈敏度的觀點(diǎn)考慮，更優(yōu)選下述通式(A2"）所表示的結(jié)構(gòu)單元。[化學(xué)式11]通式(A2"）(式中，R121表示氫原子或碳數(shù)為1~4的烷基，R122~R128分別獨(dú)立地表示氫原子或碳數(shù)為1~4的烷基。）前述通式(A2"）中，R121優(yōu)選氫原子或甲基。前述通式(A2"）中，R122~R128優(yōu)選氫原子。作為上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的優(yōu)選的具體例，可例示下述的構(gòu)成單元。另外，R表示氫原子或甲基。相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合物，在含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物中，具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的共聚比例優(yōu)選5~60摩爾％，更優(yōu)選10~50摩爾％，尤其優(yōu)選30~50摩爾％。并且，在將所有聚合物成分分解成構(gòu)成單元(單體單元)后，相對(duì)于所有構(gòu)成單元的摩爾數(shù)，具有酸基由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元(al)的比例優(yōu)選0~60摩爾％，更優(yōu)選10~50摩爾％，尤其優(yōu)選15~25摩爾％。<<其他構(gòu)成單元>>前述感光性樹脂組合物層的前述(A)成分除上述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)以外，也可含有這些以外的其他構(gòu)成單元(a3)。上述聚合物成分(A)中所使用的聚合物，即含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物也可含有這些其他構(gòu)成單元(a3)作為共聚成分。并且，與上述前述聚合物成分(A)中所使用的含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物不同，也可以實(shí)質(zhì)上不含具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，而含有其他構(gòu)成單元的聚合物含有其他構(gòu)成單JLi(￡l3)D作為成為其他構(gòu)成單元(a3)的單體，除如前述感光性樹脂組合物無(wú)法形成乙稀性交聯(lián)結(jié)構(gòu)般的單體以外，并無(wú)特別限制，成為其他構(gòu)成單元(a3)的單體優(yōu)選僅具有1個(gè)聚合性基(或交聯(lián)性基團(tuán)）的單體，即優(yōu)選并非含有2個(gè)以上的交聯(lián)性基團(tuán)的單體。作為成為其他構(gòu)成單元(a3)的單體，例如可列舉:苯乙烯類、（甲基)丙烯酸烷基酯、（甲基)丙烯酸環(huán)狀烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不飽和二元羧酸二酯、雙環(huán)不飽和化合物類、順丁烯二酰亞胺化合物類、不飽和芳香族化合物、共輒二烯類化合物、不飽和一元羧酸、不飽和二元羧酸、不飽和二元羧酸酐、其他不飽和化合物。并且，如后述，也可含有具有酸基的構(gòu)成單元。成為其他構(gòu)成單元(a3)的單體可單獨(dú)使用、或?qū)?種以上組合使用。具體而言，構(gòu)成單元(a3)可列舉由以下化合物等形成的構(gòu)成單元:苯乙烯、叔丁氧基苯乙稀、甲基苯乙稀、羥基苯乙稀、α-甲基苯乙稀、乙酰氧基苯乙稀、甲氧基苯乙稀、乙氧基苯乙烯、氯苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、4-羥基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯、（甲基)丙烯酸、（甲基)丙烯酸甲酯、（甲基)丙烯酸乙酯、（甲基)丙烯酸正丙酯、（甲基）丙烯酸異丙酯、（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯、（甲基）丙烯酸2-羥基丙酯、（甲基)丙烯酸芐酯、（甲基)丙烯酸異冰片酯、丙烯腈、乙二醇單乙酰乙酸酯單（甲基)丙烯酸酯等。除此以外，可列舉日本特開2004-264623號(hào)公報(bào)的0021~0024段落中所記載的化合物。并且，作為其他構(gòu)成單元(a3)，從電特性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選苯乙烯類、具有脂肪族環(huán)式骨架的基團(tuán)。具體而言，可列舉:苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、羥基苯乙烯、α_甲基苯乙烯、（甲基）丙烯酸二環(huán)戊酯、（甲基）丙烯酸環(huán)己酯、（甲基）丙烯酸異冰片酯、（甲基）丙稀酸節(jié)酯等。進(jìn)而，作為其他構(gòu)成單元(a3)，從密合性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選（甲基)丙烯酸烷基酯。具體而言，可列舉（甲基)丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯等，更優(yōu)選為（甲基)丙烯酸甲酯。構(gòu)成含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(a1)的聚合物的構(gòu)成單元中，上述構(gòu)成單元（a3)的含有率優(yōu)選60摩爾％以下，更優(yōu)選50摩爾％以下，進(jìn)一步優(yōu)選40摩爾％以下。下限值可為0摩爾％，但例如可設(shè)為1摩爾％以上，進(jìn)一步可設(shè)為5摩爾％以上。若為上述數(shù)值的范圍內(nèi)，則由感光性樹脂組合物所獲得的固化膜的各種特性變得良好。優(yōu)選具有含有酸基的構(gòu)成單元作為其他構(gòu)成單元(a3)。通過(guò)具有含有酸基的構(gòu)成單元，而易溶解于堿性的顯影液中，本發(fā)明的效果得以更有效地發(fā)揮。本發(fā)明中的酸基是指pKa為10以下的質(zhì)子解離性基。通常，使用可形成酸基的單體作為含有酸基的構(gòu)成單元，而將酸基導(dǎo)入至聚合物中。通過(guò)在聚合物中包含這種含有酸基的構(gòu)成單元，而存在易溶解于堿性的顯影液中的傾向。作為前述其他構(gòu)成單元中所使用的含有酸基的構(gòu)成單元的酸基，可例示源自羧酸基的酸基、源自磺酰胺基的酸基、源自膦酸基的酸基、源自磺酸基的酸基、源自酚性羥基的酸基、磺酰胺基、磺?；啺坊?，優(yōu)選源自羧酸基的酸基及/或源自酚性羥基的酸基。前述其他構(gòu)成單元中所使用的含有酸基的構(gòu)成單元更優(yōu)選為相對(duì)于源自苯乙烯的構(gòu)成單元、或源自乙烯基化合物的構(gòu)成單元，取代有酸基的構(gòu)成單元，或者源自（甲基)丙烯酸的構(gòu)成單元。進(jìn)而，從對(duì)于顯影液的溶解性、或使膜的物理物性最優(yōu)選化的觀點(diǎn)考慮，也優(yōu)選具有含有酸基的酯的構(gòu)成單元。在本發(fā)明中，從靈敏度的觀點(diǎn)考慮，尤其優(yōu)選含有具有羧基的構(gòu)成單元、或具有酚性羥基的構(gòu)成單元作為前述其他構(gòu)成單元(a3)。含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元作為前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物，優(yōu)選含有前述其他構(gòu)成單元(a3)之中，源自酚性羥基的構(gòu)成單元作為共聚成分，更優(yōu)選含有源自羥基苯乙烯或α-甲基羥基苯乙烯的構(gòu)成單元作為共聚成分，尤其優(yōu)選含有源自羥基苯乙烯的構(gòu)成單元作為共聚成分。當(dāng)酸基為酚性酸基時(shí)，相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的聚合物，在含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的聚合物中，含有酸基的構(gòu)成單元的共聚比例優(yōu)選50~90摩爾％，更優(yōu)選為60~75摩爾％。并且，當(dāng)酸基為羧酸性酸基時(shí)，相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的聚合物，優(yōu)選0~30摩爾％，更優(yōu)選為5~10摩爾％。相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的聚合物，在含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚基的構(gòu)成單元的聚合物中，含有酸基的酯的構(gòu)成單元的共聚比例優(yōu)選0~30摩爾％，更優(yōu)選0~10摩爾％，尤其優(yōu)選0摩爾％。含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元作為前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物，優(yōu)選含有前述其他構(gòu)成單元(a3)之中的源自羧酸基的構(gòu)成單元及/或其酯作為共聚成分，更優(yōu)選含有源自（甲基)丙烯酸、（甲基)丙烯酸芐酯或（甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的構(gòu)成單元作為共聚成分。當(dāng)酸基為酚性酸基時(shí)，相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的羧基的構(gòu)成單元的聚合物，在含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合物中，含有酸基的構(gòu)成單元的共聚比例優(yōu)選50~90摩爾％，更優(yōu)選為60~75摩爾％。并且，當(dāng)酸基為羧酸性酸基時(shí)，相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的羧基的構(gòu)成單元的聚合物，優(yōu)選0~30摩爾％，更優(yōu)選為5~10摩爾％。相對(duì)于含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合物，在含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合物中，含有酸基的酯的構(gòu)成單元的共聚比例優(yōu)選10~80摩爾％，更優(yōu)選為30~70摩爾％，尤其優(yōu)選40~60摩爾％。<聚合物成分的優(yōu)選實(shí)施方式>上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元與上述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元相比，顯影快。因此，當(dāng)欲在曝光后對(duì)前述感光性樹脂組合物層快速地進(jìn)行顯影時(shí)，優(yōu)選具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元。相反地，當(dāng)欲使顯影變慢時(shí)，優(yōu)選使用具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元。在本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料中，前述(A)聚合物成分中，含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(a1)的聚合物可為1種，也可為2種以上。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選包含2種以上的含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物作為前述聚合物成分。其中，更優(yōu)選為包含含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元的聚合物、及含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合物作為前述聚合物成分。從提高靈敏度的觀點(diǎn)考慮，本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料尤其優(yōu)選前述感光性樹脂組合物層包含2種以上的含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物作為前述聚合物成分，且含有具有前述通式(A2'）所表示的構(gòu)成單元的聚合物作為含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物。從同時(shí)提高靈敏度及解析度的觀點(diǎn)考慮，尤其優(yōu)選前述感光性樹脂組合物層包含2種以上的含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物作為前述聚合物成分，且含有具有前述通式(Al)或前述通式(ΑΓ)所表示的構(gòu)成單元的聚合物中的至少一個(gè)、與具有前述通式(A2'）所表示的構(gòu)成單元的聚合物作為含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物。當(dāng)包含2種以上的含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物作為前述聚合物成分時(shí)，以質(zhì)量比計(jì)，含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元的聚合物與含有前述具有由酸分解性基保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元的聚合物的比例優(yōu)選10:90~100:0，更優(yōu)選30:70~60:40，尤其優(yōu)選1:1。<<含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(a1)的聚合物的分子量>>以聚苯乙烯換算重量平均分子量計(jì)，含有前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物的分子量?jī)?yōu)選1，000~200,000,更優(yōu)選2,000~50,000的范圍。若為上述數(shù)值的范圍內(nèi)，則各種特性良好。數(shù)量平均分子量與重量平均分子量的比（分散度)優(yōu)選I.〇~5.0，更優(yōu)選1.05~3.5。<<聚合物成分(A)的制造方法>>并且，關(guān)于(A)成分的合成法，也已知有各種方法，若舉出一例，則可通過(guò)利用聚合引發(fā)劑，使至少含有用于形成上述(al)及上述(a3)所表示的構(gòu)成單元的聚合性單體的聚合性單體混合物在有機(jī)溶劑中進(jìn)行聚合來(lái)合成。并且，也可通過(guò)所謂的高分子反應(yīng)來(lái)合成。相對(duì)于總固體成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選以50~99.9質(zhì)量份的比例含有(A)成分，更優(yōu)選以70~98質(zhì)量份的比例含有(A)成分。<<其他聚合物成分>>并且，與上述聚合物成分(A)中所使用的含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物不同，也可包含實(shí)質(zhì)上不含具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，而含有其他構(gòu)成單元的聚合物。當(dāng)于上述聚合物成分(A)中所使用的聚合物不同，包含實(shí)質(zhì)上不含具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，而含有其他構(gòu)成單元的聚合物時(shí)，在所有聚合物成分中，前述聚合物的配制量?jī)?yōu)選60質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為40質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為20質(zhì)量％以下。在前述感光性樹脂組合物層中，可僅包含1種這些實(shí)質(zhì)上不含構(gòu)成單元(al)而含有其他構(gòu)成單元(a3)的聚合物，也可包含2種以上的聚合物。作為這些實(shí)質(zhì)上不含構(gòu)成單元(al)而含有其他構(gòu)成單元(a3)的聚合物，優(yōu)選不具有乙烯性交聯(lián)性基的聚合物，作為前述不具有乙烯性交聯(lián)性基的聚合物，例如可使用聚羥基苯乙烯，也可使用市售的SMA1000P、SMA2000P、SMA3000P、SMA1440F、SMA17352P、SMA2625P、SMA3840F(以上，Sartomer公司制造），ARUFONUC-3000、ARUF0NUC-3510、ARUF0NUC-3900、ARUF0NUC-3910、ARUF0NUC-3920、ARUF0NUC-3080(W1，T0AG0SEIC0.，LTDU造），Joncryl690、Joncryl678、Joncryl67、Joncryl586(以上，BASF公司制造）等。另一方面，前述感光性樹脂組合物中，作為不含構(gòu)成單元(al)而含有其他構(gòu)成單元(a3)的聚合物，從使前述感光性樹脂組合物無(wú)法形成乙烯性交聯(lián)結(jié)構(gòu)的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選具有乙烯性交聯(lián)性基的聚合物的含量小于0.1質(zhì)量％，更優(yōu)選為小于0.01質(zhì)量％。<成分B:光酸產(chǎn)生劑>前述感光性樹脂組合物層含有(B)光酸產(chǎn)生劑。本發(fā)明中所使用的光酸產(chǎn)生劑(也稱為"(B)成分"。）為可通過(guò)照射紫外線、遠(yuǎn)紫外線、X射線、荷電粒子束等放射線而產(chǎn)生酸的化合物。作為本發(fā)明中所使用的（B)光酸產(chǎn)生劑（也稱為"(B)成分"），優(yōu)選與波長(zhǎng)為300nm以上，優(yōu)選波長(zhǎng)為300nm~450nm的活性光線感應(yīng)而產(chǎn)生酸的化合物，但不受其化學(xué)結(jié)構(gòu)限制。并且，關(guān)于與波長(zhǎng)為300nm以上的活性光線不直接感應(yīng)的光酸產(chǎn)生劑，若為通過(guò)與敏化劑并用來(lái)與波長(zhǎng)為300nm以上的活性光線感應(yīng)而產(chǎn)生酸的化合物，則也可與敏化劑組合后優(yōu)選地使用。通過(guò)放射線的照射所產(chǎn)生的酸的PKa的值優(yōu)選4.0以下，更優(yōu)選為3.0以下。下限值并無(wú)特別規(guī)定，例如可設(shè)為-10.0以上。作為前述(B)光酸產(chǎn)生劑，可舉出離子性光酸產(chǎn)生劑與非離子性光酸產(chǎn)生劑。作為非離子性光酸產(chǎn)生劑的例子，可列舉:三氯甲基-均三嗪類、重氮甲烷化合物、酰亞胺磺酸酯化合物、及肟磺酸酯化合物等。這些之中，從絕緣性的觀點(diǎn)考慮，本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選前述(B)光酸產(chǎn)生劑為肟磺酸酯化合物。這些光酸產(chǎn)生劑可單獨(dú)使用1種、或組合2種以上而使用。作為三氯甲基-均三嗪類、及重氮甲烷衍生物的具體例，可例示日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0083~0088段落中所記載的化合物。作為肟磺酸酯化合物，即具有肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，可優(yōu)選地例示含有下述通式(BI)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，這些內(nèi)容可被編入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。通式(BI)[化學(xué)式13](通式（BI)中，Ru衣不玩S坱方S。汲很線衣不與兵他S的璉貧。）任何基均可被取代，R21中的烷基可為直鏈狀，也可為分支狀，也可為環(huán)狀。以下說(shuō)明所容許的取代基。作為R21的烷基，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的直鏈狀或分支狀烷基。R21的烷基可由碳數(shù)為6~11的芳基、碳數(shù)為1~10的烷氧基、或環(huán)烷基(包含7,7_二甲基-2-氧代降冰片基等橋環(huán)式脂環(huán)基，優(yōu)選雙環(huán)烷基等)取代。作為R21的芳基，優(yōu)選碳數(shù)為6~11的芳基，更優(yōu)選為苯基或萘基。R21的芳基可由低級(jí)烷基、烷氧基或鹵素原子取代。也優(yōu)選含有上述通式(BI)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的上述化合物為下述通式(B2)所表示的肟磺酸酯化合物。[化學(xué)式14](式(B2)中，R42表不烷基或芳基，X1()表不烷基、烷氧基、或鹵素原子，m4表不O~3的整數(shù)，當(dāng)m4為2或3時(shí)，多個(gè)X1t3可相同，也可不同。）作為X1t3的烷基優(yōu)選碳數(shù)為1~4的直鏈狀或分支狀烷基。作為X1t3的烷氧基優(yōu)選碳數(shù)為1~4的直鏈狀或分支狀烷氧基。作為X1t3的鹵素原子優(yōu)選氯原子或氟原子。m4優(yōu)選O或1。上述通式(B2)中，尤其優(yōu)選m4為I，X1()為甲基，X1()的取代位置為鄰位，R42為碳數(shù)為1~10的直鏈狀烷基、7，7-二甲基-2-氧代降冰片基甲基、或?qū)妆郊柞；幕衔?。含有上述通?BI)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，優(yōu)選下述通式(B3)所表示的肟磺酸酯化合物。[化學(xué)式15](式(B3)中，R43的含義與式(B2)中的R42相同，X11表示鹵素原子、羥基、碳數(shù)為1~4的烷基、碳數(shù)為1~4的烷氧基、氰基或硝基，n4表示0~5的整數(shù)。）[0082]作為上述通式(B3)中的R43,優(yōu)選甲基、乙基、正丙基、正丁基、正辛基、三氟甲基、五氟乙基、全氟-正丙基、全氟-正丁基、對(duì)甲苯基、4-氯苯基或五氟苯基，尤其優(yōu)選正辛基。X1優(yōu)選碳數(shù)為1~5的烷氧基，更優(yōu)選為甲氧基。n4優(yōu)選0~2，尤其優(yōu)選0~1。作為上述通式(B3)所表示的化合物的具體例，可列舉:α-(甲基磺酰氧基亞胺基)芐基氰、α-(乙基磺酰氧基亞胺基)芐基氰、α-(正丙基磺酰氧基亞胺基)芐基氰、α-(正丁基磺酰氧基亞胺基)芐基氰、α-(4_甲苯磺酰氧基亞胺基)芐基氰、α_[(甲基磺酰氧基亞胺基)-4_甲氧基苯基]乙腈、α-[(乙基磺酰氧基亞胺基)-4_甲氧基苯基]乙腈、α-[(正丙基磺酰氧基亞胺基)-4_甲氧基苯基]乙腈、α-[(正丁基磺酰氧基亞胺基)-4_甲氧基苯基]乙腈、α-[(4-甲苯磺酰氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基]乙腈。作為優(yōu)選的肟磺酸酯化合物的具體例，可列舉下述化合物(i)~(viii)等，可單獨(dú)使用1種、或并用2種以上?；衔铮╥)~（viii)可作為市售品而獲得。并且，也可與其他種類的(B)光酸產(chǎn)生劑組合使用。[化學(xué)式16]含有上述通式(BI)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，優(yōu)選下述通式(OS-I)所表示的化合物。[化學(xué)式17]通式(OS-I)上述通式(OS-I)中，R411表示氫原子、烷基、烯基、烷氧基、烷氧基羰基、?；?、氨基甲?；?、氨磺?；⒒腔?、氰基、芳基、或雜芳基。R412表示烷基、或芳基。X401表示-0-、-S-、-NH-、-NR415-、-Ofe-、-CR416H-、或-CR415R417-，R415~R417表示烷基、或芳基。R421~R424分別獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、烯基、烷氧基、胺基、烷氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、酰胺基、磺基、氰基、或芳基。R421~R424中的2個(gè)可分別相互鍵合而形成環(huán)。作為R421~R424,優(yōu)選氫原子、素原子、及烷基，并且，也可優(yōu)選地舉出R421~R424中的至少2個(gè)相互鍵合而形成芳基的方式。其中，從靈敏度的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選R421~R424均為氫原子的方式。已述的官能基均可進(jìn)一步具有取代基。上述通式(OS-I)所表示的化合物，更優(yōu)選為下述通式(0S-2)所表示的化合物。[化學(xué)式18]通式(0S-2)上述通式(0S-2)中，R4()1、R4()2、R421~R424的含義分別與式(0S-1)中的R4()1、R4()2、R421~R424相同，并且，優(yōu)選例也相同。這些之中，更優(yōu)選上述通式(0S-1)及上述通式(0S-2)中的R4qi為氰基、或芳基的方式，最優(yōu)選為由上述通式(0S-2)表示，且R4tn為氰基、苯基或萘基的方式。并且，在上述肟磺酸酯化合物中，關(guān)于肟或苯并噻唑環(huán)的立體結(jié)構(gòu)(E、Z等），分別可為任一個(gè)，也可為混合物。作為可適宜地用于本發(fā)明的上述通式(0S-1)所表示的化合物的具體例，可列舉日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0128~0132段落中所記載的化合物(例示化合物b-Ι~b-34)，但本發(fā)明并不限定于此。在本發(fā)明中，作為含有上述通式(BI)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，優(yōu)選下述通式(0S-3)、下述通式(0S-4)或下述通式(0S-5)所表示的肟磺酸酯化合物。[化學(xué)式19](通式(0S-3)~通式(0S-5)中，R22、R25及R28分別獨(dú)立地表示烷基、芳基或雜芳基，R23、R26及R29分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、芳基或鹵素原子，R24、R27及R3q分別獨(dú)立地表示鹵素原子、烷基、烷氧基、橫酸基、氣基橫醜基或烷氧基橫醜基，X1~X3分別獨(dú)立地表不氧原子或硫原子，η1~η3分別獨(dú)立地表示1或2,m1~m3分別獨(dú)立地表示0~6的整數(shù)）上述通式(OS-3)~(OS-5)中，R22、R25及R28中的烷基、芳基或雜芳基可具有取代基。上述式(0S-3)~(0S-5)中，作為R22、R25及R28中的烷基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為1~30的烷基。并且，上述通式(OS-3)~(OS-5)中，作為R22、R25及R28中的芳基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為6~30的芳基。并且，上述通式(OS-3)~(OS-5)中，作為R1中的雜芳基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為4~30的雜芳基。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，R22、R25及R28中的雜芳基只要至少1個(gè)環(huán)為雜芳環(huán)即可，例如雜芳環(huán)與苯環(huán)也可進(jìn)行縮環(huán)。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，R23、R26及R29優(yōu)選氫原子、烷基或芳基，更優(yōu)選為氫原子或烷基。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，優(yōu)選在化合物中存在2個(gè)以上的R23、R26及R29中的1個(gè)或2個(gè)為烷基、芳基或鹵素原子，更優(yōu)選為1個(gè)為烷基、芳基或鹵素原子，尤其優(yōu)選1個(gè)為烷基、且其余為氫原子。作為R23、R26及R29中的烷基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為1~12的烷基，更優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為1~6的烷基。作為R23、R26及R29中的芳基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為6~30的芳基。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，X1~X3分別獨(dú)立地表示O或S，優(yōu)選O。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，含有X1~X3作為環(huán)元的環(huán)為5元環(huán)或6元環(huán)。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，η1~η3分別獨(dú)立地表示1或2,當(dāng)X1~X3為O時(shí)，優(yōu)選η1~η3分別獨(dú)立地為1，并且，當(dāng)X1~X3為S時(shí)，優(yōu)選η1~η3分別獨(dú)立地為2。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，R24、R27及R3q分別獨(dú)立地表示鹵素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺?；蛲檠趸酋；?。其中，優(yōu)選R24、R27及R3t3分別獨(dú)立地為烷基或烷氧基。R24、R27及R3t3中的烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺酰基及烷氧基磺?；删哂腥〈Ｉ鲜鐾ㄊ?OS-3)~(OS-5)中，作為R24、R27及R3t3中的烷基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為1~30的烷基。上述通式(OS-3)~(OS-5)中，作為R24、R27及R3t3中的烷氧基，優(yōu)選可具有取代基的總碳數(shù)為1~30的烷氧基。并且，上述通式(OS-3)~(OS-5)中，m1~m3分別獨(dú)立地表示0~6的整數(shù)，優(yōu)選0~2的整數(shù)，更優(yōu)選為〇或1，尤其優(yōu)選〇。并且，關(guān)于上述(OS-3)~(OS-5)的各個(gè)取代基的優(yōu)選范圍與日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0092~0109段落中所記載的(OS-3)~(OS-5)的取代基的優(yōu)選范圍相同。并且，含有上述通式(BI)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，尤其優(yōu)選下述通式(OS-6)~(OS-11)的任一個(gè)所表示的肟磺酸酯化合物。[化學(xué)式20](式(OS-6)~(OS-11)中，R3tn~R3t36表示烷基、芳基或雜芳基，R3t37表示氫原子或溴原子，R3°8~R31°、R313、R316及R318分別獨(dú)立地表示氫原子、碳數(shù)為1~8的烷基、??素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或氯苯基，R311及R314分別獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、甲基或甲氧基，R312、R315、R317及R319分別獨(dú)立地表示氫原子或甲基。）上述通式（0S-6)~（OS-Il)中的優(yōu)選范圍與日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的Ol10~0112段落中所記載的(0S-6)~(OS-11)的優(yōu)選范圍相同。作為上述通式(0S-3)~上述通式(0S-5)所表示的肟磺酸酯化合物的具體例，可舉出日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0114~0120段落中所記載的化合物，但本發(fā)明并不限定于這些化合物。在前述感光性樹脂組合物層中，相對(duì)于感光性樹脂組合物中的所有樹脂成分(優(yōu)選為總固體成分，更優(yōu)選為聚合物的合計(jì)）1〇〇質(zhì)量份，優(yōu)選使用0.1~10質(zhì)量份的(B)非離子性光酸產(chǎn)生劑，更優(yōu)選使用0.5~10質(zhì)量份的(B)非離子性光酸產(chǎn)生劑。也可并用2種以上。作為離子性光酸產(chǎn)生劑的例子，可列舉:二芳基碘鑰鹽類、三芳基锍鹽類、四級(jí)銨鹽類等。這些之中，優(yōu)選三芳基锍鹽類及二芳基碘鑰鹽類。用作離子性光酸產(chǎn)生劑的三芳基锍鹽類由下述通式(1)表示。通式(1)[化學(xué)式21](通式（1)中，R5()5、R5()6及R5t37分別表示可具有取代基的烷基或芳香族基，在烷基的情況下，可相互連接而形成環(huán);X_表示共輒堿。）作為R5()5、R5()6及R5t37中的烷基，優(yōu)選碳數(shù)為1~10的烷基，也可具有取代基。作為這種烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、叔丁基、戊基、新戊基、己基、環(huán)己基、庚基、辛基等。其中，優(yōu)選甲基、乙基、叔丁基。并且，當(dāng)R5Q5、R5Q6及R5q7中的2個(gè)以上為烷基時(shí)，優(yōu)選該2個(gè)以上的烷基相互連接而形成環(huán)，作為這種環(huán)形式，優(yōu)選含有硫原子的形式且為5元環(huán)(硫雜環(huán)戊烷）、及6元環(huán)(硫雜環(huán)己烷）。作為R5()5、R5()6及R5t37中的芳香族基，優(yōu)選碳數(shù)為6~30的芳香族基，也可具有取代基。作為這種芳香族基，可列舉:苯基、萘基、4-甲氧基苯基、4-氯苯基、4-甲基苯基、4-叔丁基苯基、4-苯硫基苯基、2，4,6_三甲基苯基、4-甲氧基-1-萘基、4-(4'_二苯基锍基苯硫基)苯基(4-(4'-diphenylsulfoniophenyllthio)phenyl)〇并且，通式（1)所表示的離子性光酸產(chǎn)生劑也可通過(guò)R5t35~R5t37的任一個(gè)進(jìn)行鍵合而形成二聚體等多聚體。例如，前述4-(4'_二苯基锍基苯硫基）苯基為二聚體的一例，前述4-(4'_二苯基锍基苯硫基)苯基中的對(duì)陰離子與Γ相同。作為R5()5、R5()6及R5t37中的烷基及芳香族基可具有的取代基，優(yōu)選芳香族基，具體而言，尤其優(yōu)選苯基、4-甲氧基苯基、4-氯苯基、4-(4'_二苯基锍基苯硫基)苯基。這些取代基可由上述取代基進(jìn)一步取代。作為X_中的共輒堿，優(yōu)選烷基磺酸的共輒堿、芳基磺酸的共輒堿、BY4IY表示鹵素原子。以下也同樣如此。）、PY6'AsY6'SbY6'或下述通式(3)或通式(4)所表示的一價(jià)的陰離子，尤其優(yōu)選烷基磺酸的共輒堿、芳基磺酸的共輒堿、PYfT、或通式(3)所表示的一價(jià)的陰離子。作為烷基磺酸及芳基磺酸的共輒堿，優(yōu)選碳數(shù)為1~7的烷基磺酸的共輒堿，進(jìn)一步更優(yōu)選碳數(shù)為1~4的烷基磺酸的共輒堿，若以酸的形式表述，則例如尤其優(yōu)選甲磺酸、三氟甲磺酸、正丙烷磺酸、庚烷磺酸。作為芳基磺酸的共輒堿，若以酸的形式表述，則例如可列舉苯磺酸、氯苯磺酸、對(duì)甲苯磺酸。X_中的BY4_、PY6_、AsY6'SbYfT中的Y優(yōu)選氟原子、氯原子，尤其優(yōu)選氟原子。[化學(xué)式22](通式（3)及通式（4)中，R^、Rw及分別獨(dú)立地表不碳原于數(shù)為1~10的烷基、碳原子數(shù)為1~10的具有氟原子的烷基、或者R521與R522通過(guò)碳原子數(shù)為2~6的亞烷基或碳原子數(shù)為2~6的具有氟原子的亞烷基相互鍵合而成的環(huán)。）通式⑶及通式⑷中，作為R521、R522及R523中的碳原子數(shù)為1~10的烷基，例如可列舉：甲基、乙基、丁基、叔丁基、環(huán)己基、辛基等。并且，作為碳原子數(shù)為1~10的具有氟原子的烷基，例如可列舉:三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十二氟戊基、全氟辛基等。這些之中，R521、R522及R523優(yōu)選碳原子數(shù)為1~10的具有氟原子的烷基，尤其優(yōu)選碳原子數(shù)為1~6的具有氟原子的烷基。通式（3)及通式(4)中，作為R521與R522相互鍵合而形成環(huán)時(shí)的碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，可列舉:亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基等。并且，作為碳原子數(shù)為2~6的具有氟原子的亞烷基，可列舉：四氟亞乙基、六氟亞丙基、八氟亞丁基、十氟亞戊基、^^一氟亞己基等。這些之中，當(dāng)R521與R522相互鍵合而形成環(huán)時(shí)，優(yōu)選通過(guò)碳原子數(shù)為2~6的具有氟原子的亞烷基來(lái)進(jìn)行鍵合，尤其優(yōu)選通過(guò)碳原子數(shù)為2~4的具有氟原子的亞烷基來(lái)進(jìn)行鍵合。并且，作為通式（1)所表示的離子性光酸產(chǎn)生劑，優(yōu)選下述通式(5)所表示的光酸產(chǎn)生劑。[化學(xué)式23](式中，!^'!^'!^^及妒^分別獨(dú)立地表示可具有取代基的烷基或芳香族基義一及八一分別獨(dú)立地表示可具有取代基的二價(jià)的芳香族基，χρ及X2_分別獨(dú)立地表示共輒堿。）R51°、R511、R512及R513中的烷基及芳香族基的含義與通式(1)的R5°5、R5°6及R5q7所表示的烷基及芳香族基相同，優(yōu)選方式也相同。并且，可具有的取代基也相同。χρ及X2_中的共輒堿的含義與通式(1)的X_所表示的共輒堿相同，優(yōu)選方式也相同。作為Ar3及Ar4中的二價(jià)的芳香族基，優(yōu)選亞苯基或亞萘基，尤其優(yōu)選亞苯基。作為用作離子性光酸產(chǎn)生劑的三芳基锍鹽類的具體例，可列舉:三苯基锍三氟甲磺酸鹽、三苯基锍三氟乙酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基锍三氟甲磺酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基锍三氟乙酸鹽、4-苯硫基苯基二苯基锍三氟甲磺酸鹽或4-苯硫基苯基二苯基锍三氟乙酸鹽等。作為市售的化合物，可列舉:TPS-102、TPS-103、TPS-105、TPS-106、TPS-109、TPS-300、TPS-1000，MDS-103、MDS-105、MDS-109、MDS-205、MDS-209，BDS-109，DTS-103、DTS-105，MNPS-109，HDS-109(以上，MidoriKagakuCo.,Ltd.制造），GSID-26-l、CyracureUVI-6976(以上，BASF公司制造）。用作離子性光酸產(chǎn)生劑的二芳基碘鑰鹽類由下述通式(2)的通式表示。通式(2)[化學(xué)式24](通式(2)中，R5t38及R5t39分別獨(dú)立地表示可具有取代基的芳香族基，X-表示共輒堿。）通式(2)中，R5t38及R5t39中的芳香族基的含義與通式(1)的R5()5、R5()6及R5t37所表示的芳香族基相同，優(yōu)選方式也相同。通式(2)中，X1-中的共輒堿的含義與通式（1)的)T所表示的共輒堿相同，優(yōu)選方式也相同。并且，通式(2)所表示的光酸產(chǎn)生劑也可通過(guò)R5t38~R5t39進(jìn)行鍵合而形成二聚體等多聚體。例如，前述4_(4'_二苯基锍基苯硫基）苯基（0114有一樣的）為二聚體的一例，前述4-(4二苯基锍基苯硫基)苯基中的對(duì)陰離子與前述Γ相同。作為用作離子性光酸產(chǎn)生劑的二芳基碘鑰鹽類的具體例，可列舉:二苯基碘鑰三氟乙酸鹽、二苯基碘鑰三氟甲磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯基碘鑰三氟甲磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯基碘鑰三氟乙酸鹽、苯基，4-(2'-羥基-Γ-十四氧基）苯基碘鑰三氟甲磺酸鹽、4-(2'-羥基-Γ-十四氧基)苯基碘鑰六氟銻酸鹽、苯基，4-(2'_羥基-Γ-十四氧基)苯基碘鑰-對(duì)甲苯磺酸鹽等。作為市售的化合物，可列舉:DPI-105、DPI-106、DPI-109、DPI-201，BI-105，MPI-105、MPI-106、MPI-109，BBI-102、BBI-103、BBI-105、BBI-106、BBI-109、BBI-110、BBI-201、BBI-300，BBI-301(以上，MidoriKagakuCo.,Ltd.制造）。作為用作離子性光酸產(chǎn)生劑的四級(jí)銨鹽類的具體例，可列舉:四甲基銨丁基三(2,6_二氟苯基)硼酸鹽、四甲基銨己基三(對(duì)氯苯基)硼酸鹽、四甲基銨己基三(3-三氟甲基苯基)硼酸鹽、芐基二甲基苯基銨丁基三(2，6-二氟苯基)硼酸鹽、芐基二甲基苯基銨己基三(對(duì)氯苯基)硼酸鹽、芐基二甲基苯基銨己基三(3-三氟甲基苯基)硼酸鹽等。除上述具體例以外，作為(B)成分的具體例，可舉出如下的化合物，但本發(fā)明并不限定于這些。[化學(xué)式25]相對(duì)于聚合物成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的成分B的含量?jī)?yōu)選0.1~10質(zhì)量份，更優(yōu)選0.5~5質(zhì)量份。若成分B的含量為0.1質(zhì)量份以上，則容易獲得所期望的靈敏度(高靈敏度化），并且，若為10質(zhì)量份以下，則容易確保涂膜的透明性。并且，非離子性光酸產(chǎn)生劑的添加量?jī)?yōu)選1質(zhì)量％以下，優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含非離子性光酸產(chǎn)生劑的方式。<成分D:溶劑>前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選含有溶劑。前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選作為使本發(fā)明的必需成分、及后述的任意的成分溶解于溶劑中而成的溶液來(lái)制備。作為前述感光性樹脂組合物層中所使用的溶劑，可使用公知的溶劑，可例示：乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、酯類、酮類、酰胺類、內(nèi)酯類等。并且，作為前述感光性樹脂組合物層中所使用的溶劑的具體例，也可列舉日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0174~0178段落中所記載的溶劑，這些內(nèi)容可被編入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。并且，視需要也可向這些溶劑中進(jìn)一步添加芐基乙醚、二己醚、乙二醇單苯醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、芐醇、茴香醚、乙酸芐酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯等溶劑。這些溶劑可單獨(dú)使用1種、或混合2種以上而使用。可用于本發(fā)明的溶劑優(yōu)選單獨(dú)使用1種、或并用2種，更優(yōu)選并用2種，進(jìn)一步優(yōu)選并用丙二醇單烷基醚乙酸酯類或二烷基醚類、二乙酸酯類與二乙二醇二烷基醚類、或酯類與丁二醇烷基醚乙酸酯類。并且，作為成分D，優(yōu)選沸點(diǎn)為130°C以上且小于160°C的溶劑，沸點(diǎn)為160°C以上的溶劑，或這些的混合物。作為沸點(diǎn)為130°C以上且小于160°C的溶劑，可例示：丙二醇單甲醚乙酸酯（沸點(diǎn)為146Γ)、丙二醇單乙醚乙酸酯（沸點(diǎn)為158°C)、丙二醇甲基-正丁醚(沸點(diǎn)為155°C)、丙二醇甲基-正丙醚(沸點(diǎn)為131°C)。作為沸點(diǎn)為160°C以上的溶劑，可例示:3_乙氧基丙酸乙酯(沸點(diǎn)為170°C)、二乙二醇甲基乙基醚(沸點(diǎn)為176°C)、丙二醇單甲醚丙酸酯(沸點(diǎn)為160°C)、二丙二醇甲醚乙酸酯(沸點(diǎn)為213°C)、3-甲氧基丁醚乙酸酯(沸點(diǎn)為171°C)、二乙二醇二乙醚(沸點(diǎn)為189°C)、二乙二醇二甲醚(沸點(diǎn)為162°C)、丙二醇二乙酸酯（沸點(diǎn)為190°C)、二乙二醇單乙醚乙酸酯（沸點(diǎn)為220°C)、二丙二醇二甲醚(沸點(diǎn)為175°C)、1，3-丁二醇二乙酸酯(沸點(diǎn)為232°C)。相對(duì)于感光性樹脂組合物中的所有樹脂成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的溶劑的含量?jī)?yōu)選50~95質(zhì)量份，更優(yōu)選60~90質(zhì)量份。<成分E:敏化劑>前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選在與(B)光酸產(chǎn)生劑的組合中含有敏化劑，以促進(jìn)光酸產(chǎn)生劑的分解，尤其當(dāng)使用非離子性光酸產(chǎn)生劑時(shí)，優(yōu)選含有敏化劑。敏化劑吸收活性光線或放射線而成為電子激發(fā)狀態(tài)。成為電子激發(fā)狀態(tài)的敏化劑與光酸產(chǎn)生劑接觸，而產(chǎn)生電子移動(dòng)、能量移動(dòng)、發(fā)熱等作用。由此，光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生化學(xué)變化而分解，并生成酸。通過(guò)含有敏化劑，曝光靈敏度進(jìn)一步提升，并且，當(dāng)使用可見光的吸收效率低的非離子性光酸產(chǎn)生劑時(shí)，在曝光光源為g射線、h射線的混合射線的情況下特別有效。作為敏化劑，優(yōu)選蒽衍生物、叮啶酮衍生物、硫雜蒽酮衍生物、香豆素衍生物、堿性苯乙烯基衍生物、二苯乙烯基苯衍生物，更優(yōu)選蒽衍生物。作為蒽衍生物，優(yōu)選蒽、9，10-二丁氧基蒽、9，10-二氯蒽、2-乙基-9，10-二甲氧基蒽、9-羥甲基蒽、9-溴蒽、9-氯蒽、9,10-二溴蒽、2-乙基蒽、9,10-二甲氧基蒽。作為吖啶酮衍生物，優(yōu)選吖啶酮、N-丁基-2-氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、2-甲氧基吖啶酮、N-乙基-2-甲氧基吖啶酮。作為硫雜蒽酮衍生物，優(yōu)選硫雜蒽酮、二乙基硫雜蒽酮、I-氯-4-丙氧基硫雜蒽酮、2-氯硫雜蒽酮。作為香豆素衍生物，優(yōu)選香豆素-1、香豆素-6H、香豆素-110、香豆素-102。作為堿性苯乙烯基衍生物，可列舉2-(4-二甲胺基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(4-二甲胺基苯乙烯基)苯并噻唑、2-(4-二甲胺基苯乙烯基)萘噻唑。作為二苯乙烯基苯衍生物，可列舉二苯乙烯基苯、二(4-甲氧基苯乙烯基)苯、二（3,4，5-三甲氧基苯乙烯基)苯。作為敏化劑的具體例，可舉出下述具體例，但本發(fā)明并不限定于這些。另外，在下述中，Me表不甲基，Et表不乙基，Bu表不丁基。相對(duì)于聚合性成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的敏化劑的含量?jī)?yōu)選0.1~10質(zhì)量份，更優(yōu)選〇.5~5質(zhì)量份。通過(guò)將敏化劑的含量設(shè)為0.1質(zhì)量份以上，而容易獲得所期望的靈敏度，并且，通過(guò)設(shè)為10質(zhì)量份以下，而容易確保涂膜的透明性。<成分S:堿性化合物>前述感光性樹脂組合物層可含有堿性化合物。作為堿性化合物，可從化學(xué)放大抗蝕劑中所使用的堿性化合物中任意地選擇來(lái)使用。例如可列舉:脂肪族胺、芳香族胺、雜環(huán)式胺、氫氧化四級(jí)銨、羧酸的四級(jí)銨鹽等。作為這些的具體例，可列舉日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0204~0207段落中所記載的化合物，這些內(nèi)容可被編入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。具體而言，作為脂肪族胺，例如可列舉:三甲胺、二乙胺、三乙胺、二-正丙胺、三-正丙胺、二-正戊胺、三-正戊胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二環(huán)己胺、二環(huán)己基甲胺等。作為芳香族胺，例如可列舉:苯胺、芐基胺、N，N-二甲基苯胺、二苯基胺等。作為雜環(huán)式胺，例如可列舉:吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲胺基吡啶、咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯并咪唑、2，4，5-三苯基咪唑、煙堿、煙堿酸、煙堿酰胺、喹啉、8-羥基喹啉、吡嗪、吡唑、噠嗪、嘌呤、吡咯啶、哌啶、哌嗪、嗎啉、4-甲基嗎啉、1，5-二氮雜雙環(huán)[4.3.0]-5-壬烯、1，8_二氮雜雙環(huán)[5.3.0]-7-^碳烯等。作為氫氧化四級(jí)銨，例如可列舉:氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四-正丁基銨、氫氧化四-正己基銨等。作為羧酸的四級(jí)銨鹽，例如可列舉：乙酸四甲基銨、苯甲酸四甲基銨、乙酸四-正丁基銨、苯甲酸四-正丁基銨等?？捎糜诒景l(fā)明的堿性化合物可單獨(dú)使用1種，也可并用2種以上。相對(duì)于感光性樹脂組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的堿性化合物的含量?jī)?yōu)選〇.001~3質(zhì)量份，更優(yōu)選0.005~1質(zhì)量份。<成分F:雜環(huán)狀化合物>前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選視需要而含有雜環(huán)狀化合物。通過(guò)添加雜環(huán)狀化合物，而可使由前述感光性樹脂組合物層所獲得的固化膜變成更牢固的膜，線寬穩(wěn)定性也提升。作為雜環(huán)狀化合物，只要不具有乙烯性交聯(lián)性基，則并無(wú)特別限制。例如可添加以下前述的分子內(nèi)具有環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁基的化合物、含有烷氧基甲基的雜環(huán)狀化合物，除此以外，可添加各種環(huán)狀醚、環(huán)狀酯（內(nèi)酯)等含氧單體、或環(huán)狀胺、噁唑啉等含氮單體，進(jìn)一步可添加娃、硫、磷等具有d電子的雜環(huán)單體等。相對(duì)于感光性樹脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的雜環(huán)狀化合物的添加量?jī)?yōu)選0.01~50質(zhì)量份，更優(yōu)選0.1~10質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選1~5質(zhì)量份。通過(guò)在該范圍內(nèi)添加，而可獲得機(jī)械強(qiáng)度優(yōu)異的固化膜，且可獲得耐化學(xué)品性優(yōu)異的固化膜，線寬穩(wěn)定性也提升。雜環(huán)狀化合物也可并用多種，在此情況下，將所有雜環(huán)狀化合物加以合計(jì)來(lái)計(jì)算含量。[分子內(nèi)具有環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁基的化合物]作為分子內(nèi)具有環(huán)氧基的化合物的具體例，可列舉:雙酸A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹月旨、苯酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、脂肪族環(huán)氧樹脂等。這些可作為市售品而獲得。例如可列舉：JER828、JER1007、JER157S70(MitsubishiChemicalCorporation·制造），JERl57S65(MitsubishiChemicalHoldingsCorporation.制造)等，日本特開2011-221494號(hào)公報(bào)的0189段落中所記載的市售品等。除此以外，可列舉:ADEKARESINEP-4000S、ADEKARESINEP-4003S、ADEKARESINEP-4010S、ADEKARESINEP-4011S(以上，ADEKACORPORATION.制造），NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上，ADEKACORPORATION.制造），DenacolEX-611、EX-612、EX-614、EX-614B、EX-622、EX-512、EX-521、EX-411、EX-421、EX-313、EX-314、EX-321、EX-211、EX-212、EX-810、EX-811、EX-850、EX-851、EX-821、EX-830、EX-832、EX-841、EX-911、EX-941、EX-920、EX-931、EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L、DLC-201、DLC-203、DLC-204、DLC-205、DLC-206、DLC-301、DLC-402、EX-111、EX-121、EX-141、EX-145、EX-146』父-147』父-171』父-192(以上恥8&86〇1611^6父（：〇鄺〇抑^〇11.制造），￥!1-300、￥!1-301、丫!1-302、￥!1-315、￥!1-324、￥!1-325(以上附口口〇115七661〇1611^。&1(：〇.，1^(1.制造），〇611(?1(162021P、2081、2000、3000，EHPE3150，EpoleadGT400,CelvenusB0134、B0177(DaicelCorporation.制造)等。這些可單獨(dú)使用I種、或?qū)?種以上組合使用。這些之中，更優(yōu)選地列舉雙酸A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂及脂肪族環(huán)氧基、脂肪族環(huán)氧樹脂，尤其優(yōu)選地舉出脂肪族環(huán)氧樹脂。作為分子內(nèi)具有氧雜環(huán)丁基的化合物的具體例，可使用AR0NE0XETANE0XT-201、0XT-211、0XT-212、0XT-213、OXT-121、0XT-221、OX-SQ、PNOX(以上，T0AG0SEICO·，LTD·制造）。并且，含有氧雜環(huán)丁基的化合物優(yōu)選單獨(dú)使用、或與含有環(huán)氧基的化合物混合使用。這些之中，從改善線寬穩(wěn)定性的觀點(diǎn)考慮，本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選前述(C)雜環(huán)狀化合物具有環(huán)氧基。并且，也可適宜地使用于分子內(nèi)具有烷氧基硅烷結(jié)構(gòu)與雜環(huán)狀結(jié)構(gòu)兩者的化合物。例如可列舉：γ-縮水甘油醚丙基三烷氧基硅烷、γ-縮水甘油醚丙基烷基二烷氧基硅烷、β-(3,4_環(huán)氧環(huán)己基）乙基三烷氧基硅烷。這些之中，更優(yōu)選為γ-縮水甘油醚丙基三烷氧基硅烷。這些可單獨(dú)使用1種、或組合2種以上而使用。<成分W:表面活性劑>前述感光性樹脂組合物層可含有表面活性劑。作為表面活性劑，可使用陰離子系、陽(yáng)離子系、非離子系、或兩性的任一種，但優(yōu)選的表面活性劑為非離子系表面活性劑。作為非離子系表面活性劑的例子，可列舉:聚氧乙烯高級(jí)烷基醚類、聚氧乙烯高級(jí)烷基苯醚類、聚氧乙烯二醇的高級(jí)脂肪酸二酯類、硅酮類、氟類表面活性劑。并且，可列舉以下商品名：KP(Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制造），Polyflow(KYOEISHACHEMICALCO.,LTD.制造），Eftop(JEMCO公司制造），Megafac(DICCorporation.制造），F(xiàn)luorad(Sumitomo3MLimited制造），AsahiGuard、Surflon(ASAHIGLASSCO.,LTD.制造），PolyFox(0MN0VASolutionInc.制造），SH_8400(Toray-Dowcorningsilicone)等各系列。并且，作為表面活性劑，可列舉如下的共聚物作為優(yōu)選例，該共聚物含有下述通式（I-1)所表示的結(jié)構(gòu)單元A及結(jié)構(gòu)單元B，且將四氫呋喃(THF)作為溶劑時(shí)的由凝膠滲透色譜法所測(cè)定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)為1，000以上且10,000以下。通式（I-I)(通式(I-I)中，R4qi及R4q3分別獨(dú)立地表示氫原子或甲基，R4q2表示碳數(shù)為1以上且4以下的直鏈亞烷基，R4t34表示氫原子或碳數(shù)為1以上且4以下的烷基，L表示碳數(shù)為3以上且6以下的亞烷基，P及q為表示聚合比的質(zhì)量百分率，P表示10質(zhì)量％以上且80質(zhì)量％以下的數(shù)值，q表示20質(zhì)量％以上且90質(zhì)量％以下的數(shù)值，r表示1以上且18以下的整數(shù)，s表示1以上且10以下的整數(shù)。）上述L優(yōu)選下述通式（1-2)所表示的分支亞烷基。通式（1-2)中的R4t35表示碳數(shù)為1以上且4以下的烷基，從相容性與對(duì)于被涂布面的潤(rùn)濕性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選碳數(shù)為1以上且3以下的烷基，更優(yōu)選碳數(shù)為2或3的烷基。p與q的和(p+q)優(yōu)選p+q=100,即為100質(zhì)量％。通式(1-2)[化學(xué)式30]上述共聚物的重量平均分子量(Mw)更優(yōu)選為1，500以上且5，000以下。此外，也可使用日本專利第4502784號(hào)公報(bào)的[0017]段落、日本特開2009-237362號(hào)公報(bào)的[0060]~[0071]段落中所記載的表面活性劑。這些表面活性劑可單獨(dú)使用1種、或混合2種以上而使用。相對(duì)于感光性樹脂組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的表面活性劑的添加量?jī)?yōu)選10質(zhì)量份以下，更優(yōu)選為0.001~10質(zhì)量份，進(jìn)一步更優(yōu)選為0.01質(zhì)量份~3質(zhì)量份。<其他成分>在前述感光性樹脂組合物層中，除上述成分以外，可進(jìn)一步向前述感光性樹脂組合物層中添加金屬氧化物粒子、雜環(huán)狀化合物以外的交聯(lián)劑、烷氧基硅烷化合物、抗氧化劑、分散劑、酸增殖劑、顯影促進(jìn)劑、導(dǎo)電性纖維、著色劑、增塑劑、熱自由基產(chǎn)生劑、熱酸產(chǎn)生劑、紫外線吸收劑、增粘劑、及有機(jī)或無(wú)機(jī)的防沉淀劑等公知的添加劑。例如，當(dāng)將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用于靜電電容型輸入裝置的掩膜層的形成時(shí)，優(yōu)選使感光性樹脂組合物中含有著色劑，而制成著色感光性樹脂組合物層。并且，當(dāng)將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用于靜電電容型輸入裝置的透明電極圖案時(shí)，優(yōu)選使感光性樹脂組合物層中含有導(dǎo)電性纖維等，而制成導(dǎo)電性感光性樹脂組合物層。[金屬氧化物粒子]為了調(diào)節(jié)折射率或透光性，前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選含有金屬氧化物粒子。金屬氧化物粒子由于透明性高、具有透光性，因此可獲得折射率高、透明性優(yōu)異的正型感光性樹脂組合物。金屬氧化物粒子優(yōu)選折射率比包含除前述粒子以外的材料的樹脂組合物的折射率高的粒子，具體而言，更優(yōu)選在具有400~750nm的波長(zhǎng)的光中的折射率為1.50以上的粒子，進(jìn)一步優(yōu)選折射率為1.70以上的粒子，尤其優(yōu)選折射率為1.90以上的粒子。其中，所謂在具有400~750nm的波長(zhǎng)的光中的折射率為1.50以上，是指在具有上述范圍的波長(zhǎng)的光中的平均折射率為1.50以上，無(wú)需在具有上述范圍的波長(zhǎng)的所有光中的折射率為1.50以上。并且，平均折射率是對(duì)于具有上述范圍的波長(zhǎng)的各光的折射率的測(cè)定值的總和除以測(cè)定點(diǎn)的數(shù)量所得的值。另外，本發(fā)明中的金屬氧化物粒子的金屬也包含13、3;[、66、48、313、16等半金屬。作為透光性、折射率高的金屬氧化物粒子，優(yōu)選包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更優(yōu)選氧化鈦、鈦復(fù)合氧化物、氧化鋅、氧化鋯、銦/錫氧化物、銻/錫氧化物，進(jìn)一步優(yōu)選氧化鈦、鈦復(fù)合氧化物、氧化鋯，尤其優(yōu)選氧化鈦、氧化鋯，最優(yōu)選二氧化鈦。作為二氧化鈦，優(yōu)選折射率特別高的金紅石型。為了賦予分散穩(wěn)定性，也可利用有機(jī)材料對(duì)這些金屬氧化物粒子的表面進(jìn)行處理。從樹脂組合物的透明性的觀點(diǎn)考慮，成分C的平均一次粒徑優(yōu)選1~200nm，尤其優(yōu)選3~80nm。其中，利用電子顯微鏡測(cè)定任意的200個(gè)粒子的粒徑，并將其算術(shù)平均作為粒子的平均一次粒徑。并且，當(dāng)粒子的形狀并非球形時(shí)，將最長(zhǎng)的邊作為直徑。并且，金屬氧化物粒子可單獨(dú)使用1種，也可并用2種以上。前述感光性樹脂組合物層中的金屬氧化物粒子的含量只要考慮對(duì)由樹脂組合物所獲得的光學(xué)構(gòu)件所要求的折射率或透光性等，而適宜決定即可，相對(duì)于前述感光性樹脂組合物層的總固體成分，優(yōu)選設(shè)為5~80質(zhì)量％，更優(yōu)選設(shè)為10~70質(zhì)量％。[雜環(huán)狀化合物以外的交聯(lián)劑:封閉型異氰酸酯化合物]在前述感光性樹脂組合物層中，也可優(yōu)選地采用封閉型異氰酸酯系化合物作為交聯(lián)劑。封閉型異氰酸酯化合物只要是具有封閉型異氰酸酯基的化合物，則并無(wú)特別限制，但從固化性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選在1分子內(nèi)具有2個(gè)以上的封閉型異氰酸酯基的化合物。另外，本發(fā)明中的封閉型異氰酸酯基是指可通過(guò)熱而生成異氰酸酯基的基團(tuán)，例如，可優(yōu)選地例示使封閉劑與異氰酸酯基進(jìn)行反應(yīng)來(lái)保護(hù)異氰酸酯基的基團(tuán)。并且，前述封閉型異氰酸酯基優(yōu)選可通過(guò)90°C~250°C的熱而生成異氰酸酯基的基團(tuán)。并且，作為封閉型異氰酸酯化合物，其骨架并無(wú)特別限定，只要是在1分子中具有2個(gè)異氰酸酯基的化合物，則可為任何化合物，可為脂肪族、脂環(huán)族或芳香族的聚異氰酸酯，例如可適宜地使用：2,4_甲苯二異氰酸酯、2,6_甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1，6_六亞甲基二異氰酸酯、1，3_三亞甲基二異氰酸酯、1，4_四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4_三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4_三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1，9_九亞甲基二異氰酸酯、1，10-十亞甲基二異氰酸酯、1，4_環(huán)己烷二異氰酸酯、2,2'_二乙醚二異氰酸酯、二苯基甲烷-4，4'-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對(duì)二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙(環(huán)己基異氰酸酯）、環(huán)己烷-1，3-二亞甲基二異氰酸酯、環(huán)己烷-1，4-二亞甲基二異氰酸酯、1，5-萘二異氰酸酯、對(duì)苯二異氰酸酯、3，3亞甲基二甲苯-4，4二異氰酸酯、4，4二苯醚二異氰酸酯、四氯亞苯基二異氰酸酯、降冰片烷二異氰酸酯、氫化1，3-苯二甲基二異氰酸酯、氫化M-苯二甲基二異氰酸酯等異氰酸酯化合物及由這些化合物衍生出的預(yù)聚物型的骨架的化合物。這些之中，尤其優(yōu)選甲苯二異氰酸酯(TolyleneDiisocyanate，TDI)或二苯基甲燒二異氰酸酯（DiphenylMethaneDiisocyanate，MDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HexamethyleneDiisocyanate，HDI)、異佛爾酉同二異氛酉愛(ài)酯（IsophoroneDiisocyanate,IPDI)〇作為前述感光性樹脂組合物層中的封閉型異氰酸酯化合物的母結(jié)構(gòu)，可列舉:縮二脲型、異氰脲酸酯型、加合物型、二官能預(yù)聚物型等。作為形成前述封閉型異氰酸酯化合物的封閉結(jié)構(gòu)的封閉劑，可列舉:肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑類化合物、酰亞胺類化合物等。這些之中，尤其優(yōu)選選自肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物中的封閉劑。作為前述肟化合物，可列舉肟、及酮肟，具體而言，可例示:丙酮肟、甲醛肟、環(huán)己烷肟、甲基乙基酮肟、環(huán)己酮肟、二苯甲酮肟、丙酮肟等。作為前述內(nèi)酰胺化合物，可例示:ε-己內(nèi)酰胺、γ-丁內(nèi)酰胺等。作為前述酚化合物，可例示:苯酚、萘酚、甲酚、二甲酚、鹵素取代苯酚等。作為前述醇化合物，可例示：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、環(huán)己醇、乙二醇單烷基醚、丙二醇單烷基釀、乳酸烷基醋等。作為前述胺化合物，可列舉一級(jí)胺及二級(jí)胺，可為芳香族胺、脂肪族胺、脂環(huán)族胺的任一種，可例示:苯胺、二苯基胺、乙烯亞胺、聚乙烯亞胺等。作為前述活性亞甲基化合物，可例示:丙二酸二乙酯、丙二酸二甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸甲酯等。作為前述吡唑化合物，可例示:吡唑、甲基吡唑、二甲基吡唑等。作為前述硫醇化合物，可例示:烷基硫醇、芳基硫醇等?？捎糜谇笆龈泄庑詷渲M合物層的封閉型異氰酸酯化合物可作為市售品而獲得，例如可優(yōu)選地使用：CoronateAPStableM、Coronate2503、2515、2507、2513、2555、MillionateMS_50(以上，NipponPolyurethaneIndustryCo.,Ltd.制造），TakenateΒ_830、Β_815Ν、B-820NSU、B-842N、B-846N、B-870N、B-874N、B-882N(以上，MitsuiChemicals，Inc·制造），Duranate17B-60PX、17B-60P、TPA-B80X、TPA-B80E、MF-B60X、MF-B60B、MF-K60X、MF-K60B、E402-B80B、SBN-70D、SBB-70P、K6000(以上，AsahiKaseiChemicalsCorporation·制造），DesmodurBLl100、BL1265MPA/X、BL3575/1、BL3272MPA、BL3370MPA、BL3475BA/SN、BL5375MPA、VPLS2078/2、BL4265SN、PL340、PL350、SumidurBL3175(以上，SumikaBayerUrethaneCo.,Ltd.制造）等。[烷氧基硅烷化合物]前述感光性樹脂組合物層優(yōu)選含有烷氧基硅烷化合物。若使用烷氧基硅烷化合物，則可提升由前述感光性樹脂組合物層所形成的膜與基板的密合性，進(jìn)而可調(diào)整由前述感光性樹脂組合物層所形成的膜的性質(zhì)。作為烷氧基硅烷化合物，優(yōu)選具有二烷氧基硅烷結(jié)構(gòu)的化合物或具有三烷氧基硅烷結(jié)構(gòu)的化合物，更優(yōu)選具有三烷氧基硅烷結(jié)構(gòu)的化合物。烷氧基硅烷化合物所具有的烷氧基的碳數(shù)優(yōu)選1~5。烷氧基硅烷化合物的分子量?jī)?yōu)選100~500,更優(yōu)選150~400?？捎糜谇笆龈泄庑詷渲M合物層的烷氧基硅烷化合物優(yōu)選提升成為基材的無(wú)機(jī)物(例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物，金、銅、鉬、鈦、鋁等金屬)與絕緣膜的密合性的化合物。另外，作為前述烷氧基硅烷化合物，也可使用具有烷氧基硅烷結(jié)構(gòu)、且也包含在前述雜環(huán)狀化合物中的化合物(3-縮水甘油醚丙基三甲氧基硅烷等）。具體而言，公知的硅烷偶聯(lián)劑等也有效。作為硅烷偶聯(lián)劑，例如可列舉：γ-胺基丙基三甲氧基硅烷、γ-胺基丙基三乙氧基硅烷、γ-縮水甘油醚丙基三烷氧基硅烷、γ-縮水甘油醚丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-锍基丙基三烷氧基硅烷、β-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基）乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。這些可單獨(dú)使用1種、或組合2種以上而使用。并且，也可優(yōu)選地采用下述具體例中所示的化合物。[化學(xué)式31]上述具體例中，Ph為苯基。前述感光性樹脂組合物層中的烷氧基硅烷化合物可不必特別限定于這些，可使用公知的化合物。相對(duì)于感光性樹脂組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的烷氧基硅烷化合物的含量?jī)?yōu)選0.1~30質(zhì)量份，更優(yōu)選0.5~30質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選5~25質(zhì)量份。在本發(fā)明中，通過(guò)設(shè)為5~25質(zhì)量份的比例，當(dāng)綜合性地評(píng)價(jià)靈敏度、絕緣性及保存穩(wěn)定性時(shí)，變得特別優(yōu)異。[抗氧化劑]前述感光性樹脂組合物層可含有抗氧化劑?？珊泄目寡趸瘎┳鳛榭寡趸瘎?。通過(guò)添加抗氧化劑，具有如下的優(yōu)點(diǎn):可防止固化膜的著色、或可減少由分解所引起的膜厚減少，并且，耐熱透明性優(yōu)異。作為這種抗氧化劑，例如可列舉:磷類抗氧化劑、酰胺類、酰肼類、受阻胺類抗氧化劑、硫黃類抗氧化劑、酚類抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。這些當(dāng)中，從固化膜的著色、膜厚減少的觀點(diǎn)考慮，尤其優(yōu)選酚類抗氧化劑、酰胺系抗氧化劑、酰肼系抗氧化劑、硫黃類抗氧化劑。這些可單獨(dú)使用1種，也可混合2種以上。作為酸類抗氧化劑的市售品，例如可列舉:AdekastabAO_15、AdekastabAO-18、AdekastabAO-20、AdekastabAO-23、AdekastabAO-30、AdekastabAO-37、AdekastabAO-40、AdekastabA0_50、AdekastabA0_51、AdekastabA0_60、AdekastabA0_70、AdekastabA0_80、AdekastabA0_330、AdekastabA0_412S、AdekastabA0_503、AdekastabA-611、AdekastabA_612、AdekastabA_613、AdekastabPEP_4C、AdekastabPEP_8、AdekastabPEP_8W、AdekastabPEP_24G、AdekastabPEP_36、AdekastabPEP_36Z、AdekastabHP-10、Adekastab2112、Adekastab260、Adekastab522A、AdekastabI178、Adekastab1500、AdekastabC、Adekastab135A、Adekastab3010、AdekastabTPP、AdekastabCDA-1、AdekastabCDA_6、AdekastabZS_27、AdekastabZS_90、AdekastabZS_91(以上，ADEKACORPORATION.制造），Irganox245FF、Irganox1010FF、Irganox1010、IrganoxMD1024、Irganox1035FF、IrganoxI035、Irganox1098、Irganox1330、IrganoxI520L、Irganox3114、Irganox1726、Irgafos168、Irgamod295(BASF公司制造）等。其中，可適宜地使用AdekastabA0_60、AdekastabA0-80、Irganox1726、Irganox1035、Irganox1098〇相對(duì)于感光性樹脂組合物的總固體成分，抗氧化劑的含量?jī)?yōu)選0.1~10質(zhì)量％，更優(yōu)選0.2~5質(zhì)量％，尤其優(yōu)選0.5~4質(zhì)量％。通過(guò)設(shè)為該范圍內(nèi)，所形成的膜可獲得充分的透明性、且圖案形成時(shí)的靈敏度也變得良好。并且，也可將"高分子添加劑的新進(jìn)展(NIKKANKOGYOSHMBUN，LTD.)"中所記載的各種紫外線吸收劑、或金屬鈍化劑等作為抗氧化劑以外的添加劑，添加至前述感光性樹脂組合物層中。[分散劑]前述感光性樹脂組合物層可使用公知的分散劑作為分散劑，優(yōu)選具有酸基的分散劑。[酸增殖劑]為了提升靈敏度，前述感光性樹脂組合物層可使用酸增殖劑?？捎糜诒景l(fā)明的酸增殖劑是可通過(guò)酸催化劑反應(yīng)而進(jìn)一步產(chǎn)生酸并使反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)的酸濃度上升的化合物，且為在不存在酸的狀態(tài)下穩(wěn)定地存在的化合物。這種化合物通過(guò)1次反應(yīng)而增加1種以上的酸，因此伴隨反應(yīng)的進(jìn)展，反應(yīng)加速地進(jìn)行，但所產(chǎn)生的酸本身會(huì)誘發(fā)自分解，因此此處所產(chǎn)生的酸的強(qiáng)度以酸解離常數(shù)、PKa計(jì)，優(yōu)選為3以下，尤其優(yōu)選為2以下。作為酸增殖劑的具體例，可列舉：日本特開平10-1508號(hào)公報(bào)的0203~0223段落、日本特開平10-282642號(hào)公報(bào)的0016~0055段落、及日本特表平9-512498號(hào)公報(bào)第39頁(yè)第12行~第47頁(yè)第2行中所記載的化合物，這些內(nèi)容可被編入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。作為可用于本發(fā)明的酸增殖劑，可列舉通過(guò)由酸產(chǎn)生劑所產(chǎn)生的酸而分解，并產(chǎn)生二氯乙酸、三氯乙酸、甲磺酸、苯磺酸、三氟甲磺酸、苯基膦酸等PKa為3以下的酸的化合物。具體而言，可列舉如下的化合物等：[化學(xué)式33]從曝光部與未曝光部的溶解對(duì)比度的觀點(diǎn)考慮，相對(duì)于光酸產(chǎn)生劑100質(zhì)量份，將酸增殖劑在感光性樹脂組合物中的含量?jī)?yōu)選設(shè)為10~1，〇〇〇質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為20~500質(zhì)量份。[顯影促進(jìn)劑]前述感光性樹脂組合物層可含有顯影促進(jìn)劑。作為顯影促進(jìn)劑，可參考日本特開2012-042837號(hào)公報(bào)的0171~0172段落中的記載，該內(nèi)容可被編入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。顯影促進(jìn)劑可單獨(dú)使用1種，也可并用2種以上。從靈敏度與殘膜率的觀點(diǎn)考慮，相對(duì)于感光性樹脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，前述感光性樹脂組合物層中的顯影促進(jìn)劑的添加量?jī)?yōu)選0~30質(zhì)量份，更優(yōu)選0.1~20質(zhì)量份，最優(yōu)選為0.5~10質(zhì)量份。[其他添加劑]并且，作為其他添加劑，也可使用日本特開2012-8223號(hào)公報(bào)的0120~0121段落中所記載的熱自由基產(chǎn)生劑、W02011/136074A1中所記載的含氮化合物及熱酸產(chǎn)生劑，這些內(nèi)容可被編入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。進(jìn)而，前述感光性樹脂組合物可使用日本專利第4502784號(hào)公報(bào)的[0018]段落中所記載的熱聚合防止劑，進(jìn)而，可使用日本特開2000-310706號(hào)公報(bào)的[0058]~[0071]段落中所記載的其他添加劑、日本特開2005-221726號(hào)公報(bào)中所記載的材料等，但并不限定于此。<感光性樹脂組合物層的膜厚>感光性樹脂組合物層的膜厚優(yōu)選0.5~ΙΟμπι。若感光性樹脂組合物層的膜厚為ΙΟμπι以下，則圖案的解析度提升，若為〇.5μπι以上，則對(duì)于蝕刻液的耐受性提升。作為前述感光性樹脂組合物層的膜厚，進(jìn)一步優(yōu)選〇.8~5μπι，尤其優(yōu)選1.0~3.Ομπι。<感光性樹脂組合物層的形成方法>以規(guī)定的比例且以任意的方法將各成分混合，然后進(jìn)行攪拌溶解來(lái)制備感光性樹脂組合物。例如，也可事先使成分分別溶解于溶劑中而制成溶液后，以規(guī)定的比例將這些溶液混合來(lái)制備樹脂組合物。如上制備的組合物溶液也可在使用孔徑為0.2μπι的過(guò)濾器等進(jìn)行過(guò)濾后，供于使用。{其他層}在本發(fā)明中所使用的感光性轉(zhuǎn)印材料中，可在感光性樹脂組合物與臨時(shí)支撐體之間設(shè)置剝離層、或在感光性樹脂組合物的表面進(jìn)一步設(shè)置保護(hù)膜（以下，也稱為覆蓋膜)等而適宜地構(gòu)成。本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料優(yōu)選進(jìn)一步包含前述感光性樹脂組合物層的保護(hù)膜。<感光性轉(zhuǎn)印材料的制作方法>本發(fā)明中的感光性轉(zhuǎn)印材料可通過(guò)將感光性樹脂組合物層用涂布液涂布于臨時(shí)支撐體上，并進(jìn)行干燥來(lái)層疊感光性樹脂組合物層而適宜地制作。也可包含進(jìn)一步層疊前述感光性樹脂組合物層的保護(hù)膜的工序。[圖案形成方法]本發(fā)明的圖案形成方法包括:使用本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料，在基板的至少一個(gè)面上形成感光性樹脂組合物層的感光性樹脂組合物層形成工序;對(duì)前述感光性樹脂組合物層進(jìn)行曝光的曝光工序；以及對(duì)經(jīng)曝光的前述感光性樹脂組合物層進(jìn)行顯影的顯影工序。本發(fā)明的蝕刻方法包括:將通過(guò)本發(fā)明的圖案形成方法所制作的圖案用作蝕刻用抗蝕劑來(lái)進(jìn)行蝕刻的工序；以及在前述蝕刻處理后通過(guò)化學(xué)品處理來(lái)去除前述圖案的工序。以下，關(guān)于將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用作抗蝕阻劑(蝕刻圖案)來(lái)獲得光阻圖案的情況，以形成靜電電容型輸入裝置的透明電極圖案的方法為例，對(duì)本發(fā)明的圖案形成方法及本發(fā)明的蝕刻方法進(jìn)行說(shuō)明。(覆蓋膜去除工序）當(dāng)本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料具有前述覆蓋膜時(shí)，本發(fā)明的圖案形成方法優(yōu)選具有從本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料中去除前述覆蓋膜的覆蓋膜去除工序。此時(shí)，在前述感光性樹脂組合物層形成工序中，優(yōu)選使用去除了前述覆蓋膜的本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料，在基板的至少一個(gè)面上形成感光性樹脂組合物層。(感光性樹脂組合物層形成工序）感光性樹脂組合物層形成工序是使用本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料，在基板的至少一個(gè)面上形成感光性樹脂組合物層的工序。前述感光性樹脂組合物層形成工序優(yōu)選將去除了前述覆蓋膜的前述感光性轉(zhuǎn)印材料的前述感光性樹脂組合物轉(zhuǎn)印至基材上的工序。此時(shí)，在將前述感光性轉(zhuǎn)印材料的感光性樹脂組合物層壓在基材上后，可去除前述支撐體(臨時(shí)支撐體)來(lái)使用，也可不去除支撐體（臨時(shí)支撐體)來(lái)使用。當(dāng)在殘留臨時(shí)支撐體的狀態(tài)下進(jìn)行下述的曝光時(shí)，在曝光后實(shí)施剝離。在對(duì)于光掩膜的異物附著等方面，優(yōu)選在殘留臨時(shí)支撐體的狀態(tài)下進(jìn)行曝光的情況，另一方面，在剝離臨時(shí)支撐體來(lái)進(jìn)行曝光的情況下，具有不存在臨時(shí)支撐體中的異物的影響的優(yōu)點(diǎn)。感光性樹脂組合物向基材表面上的轉(zhuǎn)印（貼合)可通過(guò)將感光性樹脂組合物重疊在基材表面，并進(jìn)行加壓、加熱來(lái)進(jìn)行。貼合時(shí)可使用層壓機(jī)、真空層壓機(jī)、及可進(jìn)一步提高生產(chǎn)性的自動(dòng)切割層壓機(jī)等公知的層壓機(jī)。(曝光工序、顯影工序、及其他工序）在本發(fā)明中，作為前述曝光工序、顯影工序、及其他工序的例子，也可適宜地使用日本特開2006-23696號(hào)公報(bào)的[0035]~[0051]段落中所記載的方法。前述曝光工序是對(duì)轉(zhuǎn)印至基材上的前述感光性樹脂組合物層進(jìn)行曝光的工序。具體而言，可列舉如下的方法:在形成于前述基材上的感光性樹脂組合物層的上方配置規(guī)定的掩膜，之后隔著前述掩膜而從掩膜上方進(jìn)行曝光。其中，作為前述曝光的光源，只要可照射能夠使感光性樹脂組合物層固化的波長(zhǎng)區(qū)域的光（例如365nm、405nm等），則可適宜選定來(lái)使用。具體而言，可列舉:超高壓萊燈、高壓萊燈、金屬鹵化物燈等。作為曝光量，通常為5~200mJ/cm2左右，優(yōu)選為10~100mJ/cm2左右。另外，圖案化曝光可在剝離支撐體后進(jìn)行，也可在剝離支撐體前進(jìn)行曝光，之后剝離支撐體。可為隔著掩膜的曝光，也可為使用激光等的數(shù)字曝光。除了利用顯影液對(duì)經(jīng)(圖案化)曝光的前述感光性樹脂組合物層，以可獲得所期望的圖案的方式進(jìn)行顯影的狹義的含義的顯影工序以外，前述顯影工序還包含將感光性轉(zhuǎn)印材料可具有的其他層(例如熱塑性樹脂層或其他中間層)去除的工序。前述顯影工序優(yōu)選利用顯影液對(duì)經(jīng)（圖案化)曝光的前述感光性樹脂組合物層，以可獲得所期望的圖案的方式進(jìn)行顯影的狹義的含義的顯影工序。前述顯影可使用顯影液來(lái)進(jìn)行。作為前述顯影液，并無(wú)特別限制，可使用日本特開平5-72724號(hào)公報(bào)中所記載的顯影液等公知的顯影液。另外，顯影液優(yōu)選感光性樹脂組合物層進(jìn)行溶解型的顯影行為的顯影液，例如，優(yōu)選以0.05~5moI/L的濃度含有pKa=7~13的化合物的顯影液，可進(jìn)一步添加少量的與水具有混合性的有機(jī)溶劑。作為與水具有混合性的有機(jī)溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單-正丁醚、芐醇、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、ε_(tái)己內(nèi)酯、γ-丁內(nèi)酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內(nèi)酰胺、N-甲基吡咯啶酮等。前述有機(jī)溶劑的濃度優(yōu)選〇.1質(zhì)量％~30質(zhì)量％。并且，在前述顯影液中，可進(jìn)一步添加公知的表面活性劑。表面活性劑的濃度優(yōu)選〇.01質(zhì)量％~10質(zhì)量％。作為前述顯影的方式，可為攪拌式顯影、噴淋顯影、噴淋&旋轉(zhuǎn)顯影、浸漬顯影等的任一種。其中，若對(duì)前述噴淋顯影進(jìn)行說(shuō)明，則通過(guò)噴淋而將顯影液吹附至曝光后的感光性樹脂組合物中，由此可將正型中的曝光部分去除。并且，優(yōu)選在顯影后，通過(guò)噴淋來(lái)吹附洗滌劑等，并一邊利用刷子等進(jìn)行摩擦，一邊將顯影殘?jiān)コ?。顯影液的液溫優(yōu)選20°C~40°C，并且，顯影液的pH優(yōu)選8~13。本發(fā)明的圖案形成方法優(yōu)選進(jìn)一步具有對(duì)包含前述進(jìn)行顯影而獲得的感光性樹脂組合物層的圖案進(jìn)行加熱處理的后烘干工序。通過(guò)具有前述后烘干工序，在前述感光性樹脂組合物層中可促進(jìn)由酸所引起的保護(hù)基的脫離，而優(yōu)選。從使保護(hù)基脫離的活化能下降、避免曝光后的加熱處理的觀點(diǎn)考慮，本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料中的前述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)優(yōu)選通過(guò)縮醛來(lái)保護(hù)羧基。前述后烘干的加熱優(yōu)選在〇.08~1.2atm的環(huán)境下進(jìn)行，更優(yōu)選在0.5atm以上的環(huán)境下進(jìn)行。另一方面，更優(yōu)選在I.Iatm以下的環(huán)境下進(jìn)行，尤其優(yōu)選在1.0atm以下的環(huán)境下進(jìn)行。進(jìn)而，從不使用特別的減壓裝置而可減少制造成本的觀點(diǎn)考慮，尤其優(yōu)選在約Iatm(大氣壓)環(huán)境下進(jìn)行。前述后烘干的溫度優(yōu)選為110~170°C，更優(yōu)選為120~160°C，尤其優(yōu)選為130~150°C。前述后烘干的時(shí)間優(yōu)選為1~30分鐘，更優(yōu)選為2~10分鐘，尤其優(yōu)選為2~4分鐘。前述后烘干可在空氣環(huán)境下進(jìn)行，也可在氮?dú)庵脫Q環(huán)境下進(jìn)行，但從不使用特別的減壓裝置而可減少制造成本的觀點(diǎn)考慮，尤其優(yōu)選在空氣環(huán)境下進(jìn)行。本發(fā)明的圖案形成方法也可具有后曝光工序等其他工序。前述后曝光工序是在前述顯影工序后、前述后烘干工序前，對(duì)經(jīng)顯影的感光性樹脂組合物進(jìn)行整面曝光的工序。(蝕刻）本發(fā)明的蝕刻方法包含將通過(guò)本發(fā)明的圖案形成方法所制作的圖案用作蝕刻用抗蝕劑來(lái)進(jìn)行蝕刻的工序。前述蝕刻可通過(guò)日本特開2010-152155公報(bào)的[0048]~[0054]段落等中所記載的公知的方法而應(yīng)用蝕刻、抗蝕劑剝離。例如，作為蝕刻的方法，可舉出通常所進(jìn)行的浸漬在蝕刻液中的濕式蝕刻法。用于濕式蝕刻的蝕刻液只要結(jié)合蝕刻的對(duì)象而適宜選擇酸性類型或堿性類型即可。作為酸性類型的蝕刻液，可例示:鹽酸、硫酸、氟酸、磷酸等單一酸性成分的水溶液，酸性成分與氯化鐵、氟化銨、高錳酸鉀等的鹽的混合水溶液等。也可使用將多種酸性成分組合而成的酸性成分。并且，作為堿性類型的蝕刻液，可例示:如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨、有機(jī)胺、氫氧化四甲基銨等有機(jī)胺的鹽等單一堿成分的水溶液，堿成分與高錳酸鉀等的鹽的混合水溶液等。也可使用將多種堿成分組合而成的堿成分。蝕刻液的溫度并無(wú)特別限定，但優(yōu)選為45°C以下。在本發(fā)明中，用作蝕刻掩膜(蝕刻圖案）的樹脂圖案是使用上述感光性樹脂組合物來(lái)形成，由此對(duì)于這種溫度范圍內(nèi)的酸性及堿性的蝕刻液發(fā)揮特別優(yōu)異的耐受性。因此，在蝕刻工序中防止樹脂圖案剝離，而選擇性地蝕刻不存在樹脂圖案的部分。在前述蝕刻后，為了防止線污染，視需要可進(jìn)行清洗工序、干燥工序。關(guān)于清洗工序，例如在常溫下利用純水對(duì)基材清洗10~300秒來(lái)進(jìn)行，關(guān)于干燥工序，只要使用鼓風(fēng)，并適宜調(diào)整鼓風(fēng)壓力(〇·1~5kg/cm2左右)來(lái)進(jìn)行即可。本發(fā)明的蝕刻方法包含在前述蝕刻處理后通過(guò)化學(xué)品處理來(lái)去除前述圖案（以下，也稱為樹脂圖案)的工序。接著，作為樹脂圖案的剝離方法，并無(wú)特別限定，例如可舉出：在30~80°C，優(yōu)選為50~80°C下使基材在攪拌中的剝離液中浸漬5~30分鐘的方法。在本發(fā)明中，用作蝕刻掩膜的樹脂圖案如上前述在45°C以下顯示出優(yōu)異的耐藥液性，但若藥液溫度變成50°C以上，則顯示出因堿性的剝離液而膨潤(rùn)的性質(zhì)。根據(jù)這種性質(zhì)，若使用50~80°C的剝離液進(jìn)行剝離工序，則具有工序時(shí)間縮短、樹脂圖案的剝離殘?jiān)兩龠@一優(yōu)點(diǎn)。即，在前述蝕刻工序與剝離工序之間對(duì)于藥液溫度設(shè)定溫度差，由此在本發(fā)明中用作蝕刻掩膜的樹脂圖案在蝕刻工序中發(fā)揮良好的耐藥液性，另一方面，在剝離工序中顯示出良好的剝離性，而可同時(shí)滿足耐藥液性與剝離性這兩個(gè)相反的特性。作為剝離液，例如可列舉:使氫氧化鈉、氫氧化鉀等無(wú)機(jī)堿成分，或三級(jí)胺、四級(jí)銨鹽等有機(jī)堿成分溶解于水、二甲基亞颯、N-甲基吡咯啶酮、或這些的混合溶液中而成的剝離液。也可使用前述剝離液，通過(guò)噴霧法、噴淋法、覆液法等來(lái)進(jìn)行剝離。(形成靜電電容型輸入裝置的電極圖案的方法）對(duì)將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用作抗蝕阻劑(蝕刻圖案)來(lái)獲得靜電電容型輸入裝置的電極圖案的情況進(jìn)行說(shuō)明。前述靜電電容型輸入裝置優(yōu)選具有前面板，并在前述前面板的非接觸側(cè)至少具有下述(1)~(4)的要件，且通過(guò)本發(fā)明的圖案形成方法及本發(fā)明的蝕刻方法來(lái)形成前述(2)、（3)中的至少1個(gè)。(1)掩膜層(2)多個(gè)墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸所形成的多個(gè)第一透明電極圖案(3)與前述第一透明電極圖案電性絕緣、且包含在與前述第一方向交叉的方向上延伸所形成的多個(gè)墊部分的多個(gè)第二電極圖案(4)使前述第一透明電極圖案與前述第二電極圖案電性絕緣的絕緣層并且，前述靜電電容型輸入裝置中，第二電極圖案也可為透明電極圖案。以下，有時(shí)對(duì)第二電極圖案為透明電極圖案的情況進(jìn)行說(shuō)明，但并不限定于這種方式。進(jìn)而，前述靜電電容型輸入裝置可進(jìn)一步具有下述(5)，優(yōu)選通過(guò)本發(fā)明的圖案形成方法及本發(fā)明的蝕刻方法來(lái)形成前述(2)、（3)及(5)中的至少1個(gè)。(5)與前述第一透明電極圖案及前述第二電極圖案的至少一個(gè)電性連接、且與前述第一透明電極圖案及前述第二電極圖案不同的導(dǎo)電性要件前述靜電電容型輸入裝置優(yōu)選以覆蓋前述（1)~(5)的要件的全部或一部分的方式進(jìn)一步設(shè)置透明保護(hù)層。首先，對(duì)靜電電容型輸入裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示靜電電容型輸入裝置的構(gòu)成的剖視圖。在圖1中，靜電電容型輸入裝置10包括:前面板1、掩膜層2、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導(dǎo)電性要件6、及透明保護(hù)層7。前面板1由玻璃基板等透光性基板構(gòu)成，可使用以CorningInc.的大猩猩玻璃(GorillaGlass)為代表的強(qiáng)化玻璃等。并且，在圖1中，將前面層1的設(shè)置有各要件之側(cè)稱為非接觸面。在前述靜電電容型輸入裝置10中，使手指等與前面板1的接觸面(非接觸面的相反面)接觸等來(lái)進(jìn)行輸入。以下，有時(shí)將前面板稱為"基材"。并且，在前面板1的非接觸面上設(shè)置有掩膜層2。掩膜層2是在觸控面板前面板的非接觸側(cè)形成的顯示區(qū)域周圍的邊框狀的圖案，其為了使引繞配線等不被看到而形成。在前述靜電電容型輸入裝置10中，如圖2所示，以覆蓋前面板1的一部分的區(qū)域（圖2中輸入面以外的區(qū)域）的方式設(shè)置有掩膜層2。進(jìn)而，在前面板1中，如圖2所示，可在一部分中設(shè)置開口部8。在開口部8中，可設(shè)置利用按壓的機(jī)械式開關(guān)。在前面板1的接觸面上形成有多個(gè)第一透明電極圖案3、多個(gè)第二透明電極圖案4、及絕緣層5,前述多個(gè)第一透明電極圖案3由多個(gè)墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸所形成，前述多個(gè)第二透明電極圖案4與第一透明電極圖案3電性絕緣、且包含在與第一方向交叉的方向上延伸所形成的多個(gè)墊部分，前述絕緣層5使第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電性絕緣。前述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、及后述的導(dǎo)電性要件6例如可通過(guò)ITO(IndiumTinOxide)或IZO(IndiumZincOxide)等透光性的導(dǎo)電性金屬氧化膜來(lái)制作。作為這種金屬膜，可列舉：IT0膜;六1、211、0^6、附、0、1〇等的金屬膜舊02等的金屬氧化膜等。此時(shí)，各要件的膜厚可設(shè)為10~200nm。并且，因通過(guò)煅燒來(lái)使非晶的ITO膜變成多晶的ITO膜，因此也可減少電阻。并且，前述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、及后述的導(dǎo)電性要件6優(yōu)選將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用作抗蝕阻劑(蝕刻圖案)來(lái)形成。此外，也可使用感光性轉(zhuǎn)印材料來(lái)制造，該感光性轉(zhuǎn)印材料具有使用了前述導(dǎo)電性纖維的感光性樹脂組合物。當(dāng)通過(guò)ITO等來(lái)形成第一導(dǎo)電性圖案等時(shí)，可參考日本專利第4506785號(hào)公報(bào)的[0014]~[0016]段落等。并且，第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一個(gè)可橫跨前面板1的非接觸面、及掩膜層2的與前面板1為相反側(cè)的面這兩個(gè)區(qū)域來(lái)設(shè)置。在圖1中，表示第二透明電極圖案橫跨前面板1的非接觸面、及掩膜層2的與前面板1為相反側(cè)的面這兩個(gè)區(qū)域來(lái)設(shè)置的圖。使用圖3對(duì)第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4進(jìn)行說(shuō)明。圖3是表示本發(fā)明中的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說(shuō)明圖。如圖3所示，第一透明電極圖案3是墊部分3a經(jīng)由連接部分3b而在第一方向上延伸來(lái)形成。并且，第二透明電極圖案4通過(guò)絕緣層5而與第一透明電極圖案3電性絕緣、且包含在與第一方向交叉的方向（圖3中的第二方向）上延伸所形成的多個(gè)墊部分。其中，當(dāng)形成第一透明電極圖案3時(shí)，可將前述墊部分3a與連接部分3b作為一體來(lái)制作，也可僅制作連接部分3b，而將墊部分3a與第二透明電極圖案4作為一體來(lái)制作（圖案化）。當(dāng)將墊部分3a與第二透明電極圖案4作為一體來(lái)制作（圖案化）時(shí)，如圖3所示，以如下方式形成各層:連接部分3b的一部分與墊部分3a的一部分相連接、且第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4通過(guò)絕緣層5而電性絕緣。在圖1中，在掩膜層2的與前面板1為相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置有導(dǎo)電性要件6。導(dǎo)電性要件6是與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一個(gè)電性連接、且與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4不同的要件。在圖1中，示出有導(dǎo)電性要件6與第二透明電極圖案4連接的圖。并且，在圖1中，以將各構(gòu)成要件全部覆蓋的方式設(shè)置有透明保護(hù)層7。透明保護(hù)層7也可以以僅覆蓋各構(gòu)成要件的一部分的方式構(gòu)成。絕緣層5與透明保護(hù)層7可為相同的材料，也可為不同的材料。作為構(gòu)成絕緣層5與透明保護(hù)層7的材料，優(yōu)選表面硬度、耐熱性高的材料，可使用公知的感光性硅氧烷樹脂材料、丙烯酸樹脂材料等。在前述靜電電容型輸入裝置的制造方法中，前述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及導(dǎo)電性要件6中的至少1個(gè)優(yōu)選將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用作抗蝕阻劑(蝕刻圖案）進(jìn)行蝕刻處理來(lái)形成。并且，優(yōu)選黑色的掩膜層2與絕緣層5、及視需要的透明保護(hù)層7的至少一個(gè)要件也使用依次具有臨時(shí)支撐體與熱塑性樹脂層、及光固化性樹脂層的感光性膜來(lái)形成。前述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及導(dǎo)電性要件6中的至少1個(gè)優(yōu)選將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用作抗蝕阻劑(蝕刻圖案)進(jìn)行蝕刻處理來(lái)形成。當(dāng)通過(guò)蝕刻處理來(lái)形成前述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及不同的導(dǎo)電性要件6時(shí)，首先在形成有黑色的掩膜層2等的前面板1的非接觸面上，針對(duì)設(shè)置有黑色的掩膜層2的部分至少設(shè)置無(wú)機(jī)絕緣層，并通過(guò)濺鍍而在前面板1的非接觸面上或無(wú)機(jī)絕緣層上形成ITO等的透明電極層。接著，使用具有蝕刻用光固化性樹脂層作為前述光固化性樹脂層的本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料，并通過(guò)曝光、顯影而在前述透明電極層上形成蝕刻圖案。之后，對(duì)透明電極層進(jìn)行蝕刻來(lái)對(duì)透明電極進(jìn)行圖案化，并將蝕刻圖案去除，由此可形成第一透明電極圖案3等。當(dāng)使用具有導(dǎo)電性光固化性樹脂層的前述感光性膜，形成前述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及不同的導(dǎo)電性要件6時(shí)，可通過(guò)如下方式來(lái)形成:在前述前面板1的表面上，針對(duì)設(shè)置有黑色的掩膜層2的部分至少設(shè)置無(wú)機(jī)絕緣層，并將前述導(dǎo)電性光固化性樹脂層轉(zhuǎn)印至前面板1的非接觸面上或無(wú)機(jī)絕緣層上。前述掩膜層2、絕緣層5及透明保護(hù)層7可通過(guò)使用感光性膜，并將光固化性樹脂層轉(zhuǎn)印至前面板1上來(lái)形成。例如，當(dāng)形成黑色的掩膜層2時(shí)，可通過(guò)使用具有黑色光固化性樹脂層作為光固化性樹脂層的前述感光性膜，并將前述黑色光固化性樹脂層轉(zhuǎn)印至前述前面板1的表面上來(lái)形成。當(dāng)形成絕緣層5時(shí)，可通過(guò)使用具有絕緣性的光固化性樹脂層作為前述光固化性樹脂層的前述感光性膜，并將前述光固化性樹脂層轉(zhuǎn)印至形成有第一透明電極圖案或第二透明電極圖案的前述前面板1的表面上來(lái)形成。當(dāng)形成透明保護(hù)層7時(shí)，可通過(guò)使用具有透明的光固化性樹脂層作為前述光固化性樹脂層的前述感光性膜，并將前述光固化性樹脂層轉(zhuǎn)印至形成有各要件的前述前面板1的表面上來(lái)形成。作為前述靜電電容型輸入裝置的形態(tài)例，可列舉圖4~圖8的形態(tài)。圖4是表示形成有開口部8的強(qiáng)化處理玻璃11的一例的俯視圖。圖5是表示形成有掩膜層2的前面板的一例的俯視圖。圖6是表不形成有第一透明電極圖案3的前面板的一例的俯視圖。圖7是表不形成有第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的前面板的一例的俯視圖。圖8是表示形成有與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要件6的前面板的一例的俯視圖。這些圖是表示對(duì)上述說(shuō)明加以具體化的例的圖，本發(fā)明的范圍并不由這些附圖限定性地進(jìn)行解釋。當(dāng)將本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料用作抗蝕阻劑(蝕刻圖案)來(lái)形成前述透明電極圖案或其他導(dǎo)電性要件等時(shí)，將感光性轉(zhuǎn)印材料層壓在基材上后，曝光成所需的圖案狀，在正型材料的情況下對(duì)曝光部分進(jìn)行顯影處理來(lái)加以去除，由此可獲得圖案。此時(shí)，顯影可利用不同的液體對(duì)熱塑性樹脂層與感光性樹脂組合物層進(jìn)行顯影去除，也可利用相同的液體來(lái)去除。視需要，也可組合刷子或高壓噴嘴等公知的顯影設(shè)備。顯影后，視需要可進(jìn)行后曝光、后烘干。并且，為了提高之后的轉(zhuǎn)印工序中的由層壓所產(chǎn)生的感光性樹脂組合物層的密合性，可事先對(duì)基材(前面板）的非接觸面實(shí)施表面處理。作為前述表面處理，優(yōu)選實(shí)施使用硅烷化合物的表面處理(硅烷偶合處理）。優(yōu)選具有與感光性樹脂進(jìn)行相互作用的官能基作為硅烷偶聯(lián)劑。例如通過(guò)噴淋來(lái)吹附硅烷偶合液(Ν-β(胺基乙基）γ-胺基丙基三甲氧基硅烷0.3質(zhì)量％水溶液，商品名:KBM603，Shin_EtsuChemicalCo.,Ltd.制造)20秒，并進(jìn)行純水噴淋清洗。之后，通過(guò)加熱來(lái)進(jìn)行反應(yīng)。也可使用加熱槽，即便是層壓機(jī)的基板預(yù)加熱，也可促進(jìn)反應(yīng)?！鹅o電電容型輸入裝置、及具備靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要件的圖像顯示裝置》通過(guò)使用本發(fā)明的圖案形成方法所獲得的靜電電容型輸入裝置、及具備前述靜電電容型輸入裝置作為構(gòu)成要件的圖像顯示裝置可應(yīng)用"最新觸控面板技術(shù)"（2009年7月6日發(fā)行，TechnoTimes公司）、三谷雄二監(jiān)修，"觸控面板的技術(shù)與開發(fā)"、CMC出版(2004，12)、FPDInternational2009ForumΤ-ll講演教材、CypressSemiconductorCorporation·應(yīng)用指南AN2292等中所公開的結(jié)構(gòu)。實(shí)施例以下，列舉實(shí)施例來(lái)更具體地對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說(shuō)明。只要不脫離本發(fā)明的主旨，則以下的實(shí)施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理程序等可適宜變更。因此，本發(fā)明的范圍并不限定于以下所示的具體例。另外，只要事先無(wú)特別說(shuō)明，則"份"為質(zhì)量基準(zhǔn)。在以下的合成例中，以下的符號(hào)分別表示以下的化合物。MATHF:甲基丙烯酸2-四氫呋喃酯(合成品）MAEVE:甲基丙稀酸1-乙氧基乙酯(WakoPureChemicalIndustries，Ltd.制造）PHS:對(duì)羥基苯乙烯PHS-EVE:對(duì)羥基苯乙烯的1-乙氧基乙基保護(hù)體PHS-THF:對(duì)羥基苯乙烯的2-四氫呋喃基保護(hù)體MAA:甲基丙稀酸(WakoPureChemicalIndustries,Ltd.制造）HEMA:甲基丙稀酸羥基乙酯(WakoPureChemical,Ltd.制造）BzMA:甲基丙烯酸芐酯EDM:二乙二醇乙基甲基醚PGMEA:丙二醇單甲醚乙酸酯[合成例I=PHS-EVE的合成]在燒瓶中，溶解堿可溶性樹脂(VP-8000NipponSodaCo.，Ltd.制造)20g及丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)320g，并進(jìn)行減壓蒸餾，而將水與PGMEA共沸餾去。在確認(rèn)含水量充分變低后，添加乙基乙烯基醚24g及對(duì)甲苯磺酸0.35g，并在室溫下攪拌1小時(shí)。向其中添加三乙胺〇.28g并停止反應(yīng)。向反應(yīng)液中添加乙酸乙酯，進(jìn)一步進(jìn)行水洗后，通過(guò)減壓餾去來(lái)將乙酸乙酯、水、共沸部分的PGMEA餾去，而獲得作為由酸分解性基保護(hù)的堿可溶性樹脂的PHS-EVE。所獲得的樹脂的重量平均分子量為11，000。并且，多分散度為1.13。聚合物PHS-EVE的結(jié)構(gòu)為對(duì)羥基苯乙烯的1-乙氧基乙基保護(hù)體/對(duì)羥基苯乙烯共聚物(30摩爾％/70摩爾％)。PHS-EVE[化學(xué)式34][合成例2=PHS-THF的合成]在燒瓶中，溶解堿可溶性樹脂(VP-8000NipponSodaCo.，Ltd.制造）15.6g及丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)100g，并進(jìn)行減壓蒸餾，而將水與PGMEA共沸餾去。在確認(rèn)含水量充分變低后，添加2，3-二氫呋喃2.7g及對(duì)甲苯磺酸0.015g，并在室溫下攪拌2小時(shí)。向其中添加三乙胺0.090g并停止反應(yīng)。向反應(yīng)液中添加乙酸乙酯，進(jìn)一步進(jìn)行水洗后，通過(guò)減壓餾去來(lái)將乙酸乙酯、水餾去，而獲得作為保護(hù)率為25摩爾％的可溶性樹脂的聚合物PHS-THF。所獲得的樹脂的重量平均分子量為12,000。并且，多分散度為1.13。聚合物PHS-THF的結(jié)構(gòu)為對(duì)羥基苯乙烯的2-四氫呋喃基保護(hù)體/對(duì)羥基苯乙烯共聚物(30摩爾％/70摩爾％)。PHS-THF[化學(xué)式35][合成例3:聚合物酚醛清漆_EVE(1-乙氧基乙基保護(hù)體）的合成」以與日本特開2003-98671號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1相同的方法來(lái)合成。所獲得的樹脂的重量平均分子量為5，000。并且，多分散度為7.0。聚合物酚醛清漆-EVE[化學(xué)式36][合成例4:MAEVE共聚物的合成]如下合成MAEVE共聚物。向乙基乙烯基醚144.2份(2摩爾當(dāng)量）中添加啡噻嗪0.5份，在反應(yīng)系統(tǒng)中一邊冷卻至IO°C以下一邊滴加甲基丙烯酸86.1份（1摩爾當(dāng)量）后，在室溫(25°C)下攪拌4小時(shí)。添加對(duì)甲苯磺酸吡啶鑰5.0份后，在室溫下攪拌2小時(shí)，然后在室溫下放置一夜。向反應(yīng)液中添加碳酸氫鈉5份及硫酸鈉5份，在室溫下攪拌1小時(shí)，將不溶物過(guò)濾后在40°C以下進(jìn)行減壓濃縮，對(duì)殘?jiān)狞S色油狀物進(jìn)行減壓蒸餾，而獲得作為無(wú)色油狀物的沸點(diǎn)(bp.)43~45°C/7mmHg餾分的甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(MAEVE)134.0份。在氮?dú)鈿饬飨?，將所獲得的甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(63.28份(0.4摩爾當(dāng)量））、BzMA(52.83份(0.3摩爾當(dāng)量））、1^六(8.61份(0.1摩爾當(dāng)量））、冊(cè)1^(26.03份(0.2摩爾當(dāng)量））及EDM(110.8份)的混合溶液加熱至70°C。一邊對(duì)該混合溶液進(jìn)行攪拌，一邊歷時(shí)2.5小時(shí)滴加自由基聚合引發(fā)劑V_65(商品名，（WakoPureChemicalIndustries，Ltd.制造，4份）及EDM(100.〇份）的混合溶液。滴加結(jié)束后，在70°C下進(jìn)行4小時(shí)反應(yīng)，由此獲得將MAEVE用作單體的1種所合成的MAEVE共聚物的EDM溶液(固體成分濃度:40%)。所獲得的MAEVE共聚物的通過(guò)凝膠滲透色譜法(GPC)所測(cè)定的重量平均分子量為15，000〇MAEVE共聚物[化學(xué)式37][合成例5=MATHF共聚物的合成]先將甲基丙稀酸(868，1111〇1)冷卻至15<€，然后添加樟腦磺酸(4.68,0.021]1〇1)。向該溶液中滴加2-二氫呋喃(71g，Imol，1.0當(dāng)量）。攪拌1小時(shí)后，添加飽和碳酸氫鈉(500mL)，并利用乙酸乙酯（500mL)進(jìn)行萃取，利用硫酸鎂進(jìn)行干燥后，將不溶物過(guò)濾，然后在40°C以下進(jìn)行減壓濃縮，對(duì)殘?jiān)狞S色油狀物進(jìn)行減壓蒸餾，而獲得作為無(wú)色油狀物的沸點(diǎn)(bp.)54~56°C/3.5mmHg餾分的甲基丙烯酸四氫-2H-呋喃-2-基酯(MATHF)125g(產(chǎn)率為80%)。除使用所獲得的甲基丙烯酸四氫-2H-呋喃-2-基酯來(lái)代替甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯以外，以與合成例4的MEVE共聚物的合成相同的方式合成MATHF共聚物。所獲得的MATHF共聚物的通過(guò)凝膠滲透色譜法(GPC)所測(cè)定的重量平均分子量為14，000〇MATHF共聚物[化學(xué)式38][實(shí)施例1~實(shí)施例16以及比較例1及比較例2]<1.感光性樹脂組合物的制備>(感光性樹脂組合物的制備）以成為下述表1所示的組成的方式，使各成分溶解混合(所有感光性樹脂組合物中所添加的表面活性劑l(F-554)在下述表1中省略記載），然后使用孔徑為0.2μπι的聚四氟乙烯制過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，而獲得感光性樹脂組合物涂布液。另外，混合比為下述表2中所記載的固體成分組成，并設(shè)為IO質(zhì)量％PGMEA溶液。表示實(shí)施例及比較例中所使用的各化合物的簡(jiǎn)稱的詳細(xì)情況如下。(上述合成例中所記載的以外的粘合劑）PHS:下述結(jié)構(gòu)的對(duì)羥基苯乙稀[化學(xué)式39]酚醛清漆:下述結(jié)構(gòu)的酚醛清漆樹脂(MEIWAPLASTICINDUSTRIES，LTD.制造，（A)不含具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元的聚合物）[化學(xué)式40](單體）單體A:根據(jù)日本專利第4654938號(hào)公報(bào)的[0126]~[0130]段落中所記載的方法所合成的下述結(jié)構(gòu)的化合物(在聚合后形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)）。[化學(xué)式41](光酸產(chǎn)生劑）PAG-1:根據(jù)日本特表2002-528451號(hào)公報(bào)的[0108]段落中所記載的方法所合成的下述結(jié)構(gòu)的化合物(Ts部分表示對(duì)甲苯磺?；?。[化學(xué)式42]NAI-105:下述結(jié)構(gòu)的三氟甲磺酸-1,8-萘二甲酰亞胺[化學(xué)式43](光敏劑）NQD(萘醌二迭氮）：下述結(jié)構(gòu)的化合物（制造商：DaitoChemix公司制造，型號(hào):DTEP-250)[化學(xué)式44](熱聚合引發(fā)劑）引發(fā)劑1:下述結(jié)構(gòu)的2，2_偶氮雙異丁腈(AIBN)[化學(xué)式45](敏化劑）(堿性化合物）堿性化合物1:下述結(jié)構(gòu)的化合物(制造商:TOYOKASEICO.,LTD.制造，型號(hào):CMTU)敏化劑1:下述結(jié)構(gòu)的二丁氧基蒽（制造商:KAWASAKIKASEICHEMICALSLTD.制造，型號(hào):9，10-二丁氧基蒽）[化學(xué)式46][化學(xué)式47](雜環(huán)狀化合物）雜環(huán)狀化合物l:DenacolEX_321L(NagaseChemteXCorporation.制造）雜環(huán)狀化合物2:下述結(jié)構(gòu)的3-縮水甘油醚丙基三甲氧基硅烷(商品名，KBM-403Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制造）[化學(xué)式48](表面活性劑）表面活性劑I:F-554,下述結(jié)構(gòu)式所表不的含有全氟烷基的非離子表面活性劑(DICCorporation·制造）[化學(xué)式49]<2.感光性轉(zhuǎn)印材料的制作>使用狹縫狀噴嘴，以干燥膜厚變成2.Ομπι的方式，將下述表1及表2中所記載的組成的各實(shí)施例及比較例的感光性樹脂組合物涂布于厚度為75μπι的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜支撐體(臨時(shí)支撐體)上，并在100°C的對(duì)流烤箱中進(jìn)行2分鐘干燥。最后，壓接聚乙烯膜(Tredegar公司制造，0SM-N)作為保護(hù)膜。如此制作臨時(shí)支撐體與感光性樹脂組合物層及保護(hù)膜成為一體的實(shí)施例1~實(shí)施例16、比較例1及比較例2的感光性轉(zhuǎn)印材料。[評(píng)價(jià)]通過(guò)以下的各評(píng)價(jià)的方法中所記載的方法對(duì)各實(shí)施例及比較例的感光性轉(zhuǎn)印材料進(jìn)行評(píng)價(jià)。將所獲得的結(jié)果記載于下述表1中。<使用基板>作為各評(píng)價(jià)中的使用基板即附有銅(Cu)的薄膜的PET，使用通過(guò)濺鍍法以500nm的厚度在厚度為188μπι的PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二酯)上所制作的附有Cu的PET。使用前，利用IN的鹽酸在室溫下清洗30sec，而將表面的氧化物去除。<粘性的評(píng)價(jià)〉利用手指按壓所制作的感光性轉(zhuǎn)印材料的表面，將感覺(jué)到粘著性設(shè)為1分，將不粘著設(shè)為5分。<靈敏度的評(píng)價(jià)>在層壓輥溫度130°C下對(duì)附有Cu的PET基板進(jìn)行層壓，而制作附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板。不剝離PET臨時(shí)支撐體而隔著掩膜對(duì)所制作的附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板進(jìn)行曝光/PET臨時(shí)支撐體剝離/顯影，將ΙΟμπι的線與空間圖案正好變成ΙΟμπι的曝光量設(shè)為最優(yōu)選曝光量并評(píng)價(jià)靈敏度。1分:需要l〇〇mJ/cm2以上的曝光量2分:需要50mJ/cm2以上且小于100mJ/cm2的曝光量3分:需要20mJ/cm2以上且小于50mJ/cm2的曝光量4分:需要10mJ/cm2以上且小于20mJ/cm2的曝光量5分:需要小于lOmJ/cm2的曝光量<解析度的評(píng)價(jià)>在層壓輥溫度130°C下對(duì)附有Cu的PET基板進(jìn)行層壓，而制作附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板。不剝離PET臨時(shí)支撐體而隔著掩膜對(duì)所制作的附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板進(jìn)行曝光/PET臨時(shí)支撐體剝離/顯影，將線與空間圖案之中可進(jìn)行解析的最小的圖案設(shè)為解析度。1分:解析度為5μηι以上2分:3·Ομπι進(jìn)行解析，但2·5μηι不進(jìn)行解析3分:2·5μηι進(jìn)行解析，但2·Ομπι不進(jìn)行解析4分:2·Ομπι進(jìn)行解析，但1·5μηι不進(jìn)行解析5分:1.5μηι進(jìn)行解析。<耐熱矩形性的評(píng)價(jià)>在層壓輥溫度130Γ下對(duì)附有Cu的PET基板進(jìn)行層壓，而制作附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板。不剝離PET臨時(shí)支撐體而隔著掩膜對(duì)所制作的附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板進(jìn)行曝光/PET臨時(shí)支撐體剝離/顯影，之后在140°C下進(jìn)行3分鐘后烘干，并對(duì)后烘干后的3μπι的線與空間圖案部分的形狀的矩形性進(jìn)行評(píng)價(jià)。1分:剖面形狀為圓頂狀且無(wú)角，頂錐角小于45°2分:剖面形狀為圓頂狀且無(wú)角，頂錐角為45°以上且小于60°3分:剖面形狀為圓頂狀且無(wú)角，頂錐角為60°以上且小于75°4分:剖面形狀中有角，頂錐角為60°以上且小于75°5分:剖面形狀中有角，頂錐角為75°以上<線寬穩(wěn)定性的評(píng)價(jià)>在層壓輥溫度130Γ下對(duì)附有Cu的PET基板進(jìn)行層壓，而制作附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板。不剝離PET臨時(shí)支撐體而隔著掩膜，以ΙΟμπι的線與空間圖案正好變成ΙΟμπι的曝光量，對(duì)所制作的附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板進(jìn)行曝光/PET臨時(shí)支撐體剝離/顯影，準(zhǔn)備10片前述附有線與空間圖案的基板，利用光學(xué)式測(cè)量器ZYGONewView7200(ZYG0公司制造），在每1片基板上對(duì)10個(gè)點(diǎn)測(cè)定ΙΟμπι的線寬，并計(jì)算共計(jì)100個(gè)點(diǎn)的實(shí)測(cè)線寬的標(biāo)準(zhǔn)偏差(〇)。評(píng)價(jià)基準(zhǔn)如下。1:標(biāo)準(zhǔn)偏差〇為0.4μηι以上2:標(biāo)準(zhǔn)偏差〇為〇.25μηι以上且小于0.4μηι3:標(biāo)準(zhǔn)偏差〇為〇.15μηι以上且小于0.25μηι4:標(biāo)準(zhǔn)偏差σ為0.Ιμηι以上且小于0.15μηι5:標(biāo)準(zhǔn)偏差σ小于〇.Ιμηι<耐蝕刻劑性評(píng)價(jià)>在層壓輥溫度130Γ下對(duì)附有Cu的PET基板進(jìn)行層壓，而制作附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板。不剝離PET臨時(shí)支撐體而隔著具有線寬為ΙΟμπι的透過(guò)部的掩膜對(duì)所制作的附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板進(jìn)行曝光/PET臨時(shí)支撐體剝離/顯影，之后在140Γ下進(jìn)行3分鐘后烘干，在35°C下在銅蝕刻液(ADEKACORPORATION.制造的ADEKATECDP(A液/B液/純水=1/2/10(質(zhì)量比）的混合液））中浸漬5分鐘，并對(duì)抗蝕劑線的剝落進(jìn)行評(píng)價(jià)。將無(wú)剝落設(shè)為5分，將一部分剝尚設(shè)為3分，將全部剝尚設(shè)為1分。<抗蝕劑剝離性評(píng)價(jià)>在層壓輥溫度130°C下對(duì)附有Cu的PET基板進(jìn)行層壓，而制作附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板。不剝離PET臨時(shí)支撐體而隔著具有線寬為IOum的透過(guò)部的掩膜對(duì)所制作的附有感光性轉(zhuǎn)印材料的玻璃基板進(jìn)行曝光/PET臨時(shí)支撐體剝離/顯影，之后在140°C下進(jìn)行3分鐘后烘干，在7〇°C下浸漬在抗蝕劑剝離液MS2001，F(xiàn)UJIFILMElectronicMaterialsCo.，Ltd.制造）中，并評(píng)價(jià)剝離時(shí)間。將在5分鐘以下被剝離的情況設(shè)為5分，將7分鐘以下設(shè)為4分，將9分鐘以下設(shè)為3分，將11分鐘以下設(shè)為2分，將超過(guò)11分鐘設(shè)為1分。<加工時(shí)的揚(yáng)塵性評(píng)價(jià)>利用刀以20cm的長(zhǎng)度在感光性轉(zhuǎn)印材料中切入切口，并利用顯微鏡對(duì)該切口部分進(jìn)行觀察，清點(diǎn)在切口剖面上附著有50μπι以上的尺寸的異物的數(shù)量。將異物的尺寸設(shè)為異物的最大長(zhǎng)度。如下進(jìn)行評(píng)價(jià)。1:異物數(shù)量為100個(gè)以上2:異物數(shù)量為50~99個(gè)3:異物數(shù)量為20~49個(gè)4:異物數(shù)量為5~19個(gè)5:異物數(shù)量為4個(gè)以下[表1]根據(jù)上述表1及表2,可知本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料為正型，且耐熱矩形性優(yōu)異、耐蝕刻劑性優(yōu)異、抗蝕劑剝離性優(yōu)異、加工時(shí)的揚(yáng)塵少。另一方面，可知在感光性樹脂組合物中不含(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物，并使用具有2個(gè)乙烯性不飽和雙鍵的單體成分來(lái)形成可形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的感光性樹脂組合物層的比較例1的感光性轉(zhuǎn)印材料的耐熱矩形性差、耐蝕刻劑性差、抗蝕劑剝離性差、揚(yáng)塵性也差。可知使用含有具有未由酸分解性基保護(hù)的酸基的結(jié)構(gòu)單元的酚醛清漆類的聚合物來(lái)代替含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元）的聚合物的比較例2的感光性轉(zhuǎn)印材料的耐熱矩形性差，揚(yáng)塵性也差。另外，可知本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料的粘性、靈敏度、解析力及線寬穩(wěn)定性也良好。[實(shí)施例101~實(shí)施例115]<向1?基板上的貼合、利用蝕刻的圖案形成>在ITO基板上，使用HitachiIndustries.制造的LamicI型，以橡膠輯溫度130°C、線壓lOON/cm、搬送速度2.2m/min，將實(shí)施例1~實(shí)施例15的感光性轉(zhuǎn)印材料層壓在以140°C進(jìn)行了加熱的基板上。之后，使用高壓汞燈，從掩膜上以100mJ/cm2(照度為20mW/cm2)照射i射線(365nm)。之后，利用堿性水溶液進(jìn)行顯影而形成圖案。之后，在蝕刻工序前以140°C進(jìn)行3分鐘的后烘干加熱處理。將該光阻圖案用作蝕刻用抗蝕劑(所謂的掩膜），在40°C下使ITO基板在ITO蝕刻劑(3%草酸水溶液）中浸漬lmin，由此利用濕式蝕刻進(jìn)行ITO的圖案加工。之后，在70°C下在抗蝕劑剝離液(MS2001，F(xiàn)UJIFILMElectronicMaterialsCo.,Ltd.制造）中浸漬7min，然后將上述光阻圖案剝離。可知將實(shí)施例1~實(shí)施例15的感光性轉(zhuǎn)印材料用作蝕刻用抗蝕劑而獲得的ITO圖案為無(wú)缺陷、可用作靜電電容型輸入裝置用的透明電極圖案的程度。即，可知本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料即便在用作可去除的抗蝕阻劑時(shí)，也顯示出良好的特性。[實(shí)施例116]在實(shí)施例101中，如實(shí)施例16在曝光前不剝離PET而進(jìn)行曝光，之后剝離PET，除此之外，與實(shí)施例101以同樣的方式進(jìn)行?？芍@得的ITO圖案為無(wú)缺陷、可用作靜電電容型輸入裝置用的透明電極圖案的程度。即，可知本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料即便在用作可去除的抗蝕阻劑時(shí)，也顯示出良好的特性。[實(shí)施例201~實(shí)施例216]在實(shí)施例101~實(shí)施例116中，使用通過(guò)濺鍍法所形成的具有Cu膜(1000nm厚)的PET，且在蝕刻中使用過(guò)氧化氫/硫酸系蝕刻液，除此之外，以同樣的方式實(shí)施?？芍@得的Cu圖案為無(wú)缺陷、可用作靜電電容型輸入裝置用的透明電極圖案的程度。即，可知本發(fā)明的感光性轉(zhuǎn)印材料即便在用作可去除的抗蝕阻劑時(shí)，也顯示出良好的特性。符號(hào)說(shuō)明1-前面板，2-掩膜層，3-第一透明電極圖案，3a-墊部分，3b-連接部分，4-第二透明電極圖案，5-絕緣層，6-導(dǎo)電性要件，7-透明保護(hù)層，8-開口部，10-靜電電容型輸入裝置，11-強(qiáng)化處理玻璃，C-第一方向，D-第二方向?！局鳈?quán)項(xiàng)】1.一種感光性轉(zhuǎn)印材料，所述感光性轉(zhuǎn)印材料包括支撐體與感光性樹脂組合物層，所述感光性樹脂組合物層含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸產(chǎn)生劑，所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)，所述感光性樹脂組合物不具有乙締性交聯(lián)結(jié)構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，所述具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)為具有簇基或酪性徑基由縮醒的形式保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，所述感光性樹脂組合物層含有(C)雜環(huán)狀化合物。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，相對(duì)于所述感光性樹脂組合物層的總固體成分量，所述(C)雜環(huán)狀化合物的含量為0.1質(zhì)量％~10質(zhì)量％。5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，所述(C)雜環(huán)狀化合物具有環(huán)氧基。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，所述(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物為含有下述通式(A1)或通式(ΑΓ)所表示的構(gòu)成單元的聚合物；通式(A1)通式(A1)中，Ri及R2分別獨(dú)立地表示氨原子、烷基或芳基，至少Ri及R2的任一個(gè)為烷基或芳基，R3表示烷基或芳基，Ri或R2與R3可連接而形成環(huán)狀酸，R4表示氨原子或甲基；通式(ΑΓ)通式(ΑΓ)中，Rii及rU分別獨(dú)立地表示氨原子、烷基或芳基，至少Rii及rU的任一個(gè)為燒基或芳基，ru表示烷基或芳基，Rii或ru與ru可連接而形成環(huán)狀酸，rm分別獨(dú)立地表示氨原子、徑基、面素原子、烷基、烷氧基、締基、芳基、芳烷基、烷氧基幾基、徑基烷基、芳基幾基或環(huán)烷基。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，所述感光性樹脂組合物層包含巧巾W上的所述(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物作為所述聚合物成分，且含有具有下述通式(A2'）所表示的構(gòu)成單元的聚合物作為所述(A)含有具有酸基由酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元(al)的聚合物；通式(A2'）通式(A2'）中，護(hù)1及R32分別獨(dú)立地表示氨原子、烷基或芳基，至少護(hù)1及R32的任一個(gè)為燒基或芳基，R33表示烷基或芳基，護(hù)1或R32與R33可連接而形成環(huán)狀酸，R34表示氨原子或甲基，表示單鍵或亞芳基。8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，所述感光性樹脂組合物層的膜厚為0.5~ΙΟμπι。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，在所述感光性樹脂組合物層中進(jìn)一步含有敏化劑。10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，其中，在所述感光性樹脂組合物層中進(jìn)一步含有堿性化合物。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，所述感光性轉(zhuǎn)印材料進(jìn)一步包括所述感光性樹脂組合物層的保護(hù)膜。12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，所述感光性轉(zhuǎn)印材料為用于形成能去除的蝕刻用抗蝕劑的感光性轉(zhuǎn)印材料。13.-種圖案形成方法，其包括：使用根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的感光性轉(zhuǎn)印材料，在基板的至少一個(gè)面上形成感光性樹脂組合物層的感光性樹脂組合物層形成工序;對(duì)所述感光性樹脂組合物層進(jìn)行曝光的曝光工序；W及對(duì)經(jīng)曝光的所述感光性樹脂組合物層進(jìn)行顯影的顯影工序。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案形成方法，所述方法進(jìn)一步具有對(duì)包含進(jìn)行所述顯影而獲得的感光性樹脂組合物層的圖案進(jìn)行加熱處理的后烘干工序。15.-種蝕刻方法，其包括：將通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的圖案形成方法所制作的圖案用作蝕刻用抗蝕劑來(lái)進(jìn)行蝕刻的工序；w及在所述蝕刻處理后通過(guò)化學(xué)藥品處理來(lái)去除所述圖案的工序。【文檔編號(hào)】G03F7/039GK105849637SQ201480069251【公開日】2016年8月10日【申請(qǐng)日】2014年12月1日【發(fā)明人】佐藤守正【申請(qǐng)人】富士膠片株式會(huì)社