一種曝光設備的制造方法
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種曝光設備，尤其涉及一種接近式曝光設備。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，現(xiàn)有的接近式曝光設備在曝光過程中，其曝光精度會受到環(huán)境溫度、光罩(Mask)形變以及曝光承載平臺平坦度等因素的影響。
[0003]而在現(xiàn)有的液晶面板的制作過程中，通常利用接近式曝光設備在玻璃基板上曝光形成預定圖案。由于現(xiàn)有的接近式曝光設備的曝光精度受到上述因素的影響，所以利用這樣的接近式曝光設備在玻璃基板上曝光形成的預定圖案的周邊會出現(xiàn)不規(guī)則的現(xiàn)象。這樣，在之后的對盒形成液晶面板的過程中，陣列基板上的薄膜晶體管與彩色濾光片基板上的像素之間會出現(xiàn)偏差，當這個偏差達到3 μπι以上時，對盒形成的液晶面板就會出現(xiàn)漏光和對比度下降等不良現(xiàn)象，嚴重影響產(chǎn)品的品質(zhì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種曝光設備，光照射系統(tǒng)，用于照射出光線；光優(yōu)化系統(tǒng)，用于接收所述光線，并對所述光線進行光線均勻化；光會聚系統(tǒng)，用于接收經(jīng)光線均勻化后的光線，并對經(jīng)光線均勻化后的光線進行會聚；微位移調(diào)整系統(tǒng)，用于對所述光會聚系統(tǒng)的邊緣區(qū)域進行微位移調(diào)整，從而對處于所述光會聚系統(tǒng)的邊緣區(qū)域的光線進行光路調(diào)整；光反射系統(tǒng)，用于接收經(jīng)會聚后的光線，并將經(jīng)會聚后的光線反射至曝光面。
[0005]進一步地，所述光會聚系統(tǒng)為球面聚光鏡。
[0006]進一步地，所述微位移調(diào)整系統(tǒng)為壓電陶瓷微位移驅(qū)動器；其中，在所述球面聚光鏡的各角落處及各邊中心位置處均設置壓電陶瓷微位移驅(qū)動器。
[0007]進一步地，所述球面聚光鏡的各角落處的壓電陶瓷微位移驅(qū)動器驅(qū)動所述球面聚光鏡的各角落在具有預定半徑的圓形區(qū)域內(nèi)微位移移動。
[0008]進一步地，所述預定半徑不大于1.4 μ m。
[0009]進一步地，所述球面聚光鏡的各邊中心位置處的壓電陶瓷微位移驅(qū)動器驅(qū)動所述球面聚光鏡的各邊在具有預定距離范圍的直線區(qū)域內(nèi)微位移移動。
[0010]進一步地，所述預定距離范圍不小于-1.4 μπι且不大于1.4 μπι。
[0011]進一步地，所述光照射系統(tǒng)包括:聚光罩，其截面形狀呈拋物線形；光源，設置于所述拋物線的頂點處；其中，所述聚光罩對所述光源產(chǎn)生的光線進行會聚；第一反射鏡，用于將經(jīng)所述聚光罩會聚后的光線反射至所述光優(yōu)化系統(tǒng)。
[0012]進一步地，所述光優(yōu)化系統(tǒng)包括:控制開關，用于根據(jù)控制指令打開或關閉；集光器，用于當所述控制開關打開時，對經(jīng)由處于打開狀態(tài)的所述控制開關通過的光線進行光線均勻化。
[0013]進一步地，所述光反射系統(tǒng)包括:第二反射鏡，用于接收經(jīng)所述光會聚系統(tǒng)會聚后的光線，并將經(jīng)會聚后的光線反射至曝光面；照度計，設置于所述第二反射鏡之下，用于量測照射至所述第二反射鏡的光線的照度。
[0014]本發(fā)明的有益效果:在聚光鏡的各角落處和各邊的中心位置處設置壓電陶瓷微位移驅(qū)動器，利用該壓電陶瓷微位移驅(qū)動器對聚光鏡的角落及邊緣進行微位移調(diào)整，使得處于聚光鏡的邊緣區(qū)域中的光線的光路被進行微調(diào)節(jié)，優(yōu)化了照射到光罩上的部分光路，實現(xiàn)對曝光精度的補正。利用根據(jù)本發(fā)明的實施例的曝光設備在玻璃基板上曝光形成預定圖案時，可以適當修正預定圖案的位置，從而在對盒形成液晶面板時，陣列基板上的薄膜晶體管與彩色濾光片基板上的像素之間出現(xiàn)的偏差減小或者不會出現(xiàn)偏差，進而使對盒形成的液晶面板不出現(xiàn)漏光現(xiàn)象，以提升產(chǎn)品的品質(zhì)。
【附圖說明】
[0015]通過結(jié)合附圖進行的以下描述，本發(fā)明的實施例的上述和其它方面、特點和優(yōu)點將變得更加清楚，附圖中:
[0016]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的曝光設備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2是根據(jù)本發(fā)明的實施例的利用壓電陶瓷微位移驅(qū)動器對球面聚光鏡進行微位移調(diào)整的示意圖；
[0018]圖3是根據(jù)本發(fā)明的實施例的曝光光線被微調(diào)整前后的對曝光圖案的修正示意圖。
【具體實施方式】
[0019]以下，將參照附圖來詳細描述本發(fā)明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實際應用，從而使本領域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實施例和適合于特定預期應用的各種修改。
[0020]在附圖中，相同的標號在整個說明書和附圖中可用來表示相同的元件。
[0021]將理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語“第一”、“第二”等來描述各種元件，但是這些元件不應受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅用于將一個元件與另一個元件區(qū)分開來。
[0022]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的曝光設備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]參照圖1，根據(jù)本發(fā)明的實施例的曝光設備包括:光照射系統(tǒng)10、光優(yōu)化系統(tǒng)20、光會聚系統(tǒng)30、微位移調(diào)整系統(tǒng)40以及光反射系統(tǒng)50。
[0024]光照射系統(tǒng)10照射出光線L。進一步地，在本實施例中，光照射系統(tǒng)10照射出的光線L為紫外光線，但本發(fā)明并不限制于此。
[0025]光優(yōu)化系統(tǒng)20接收光照射系統(tǒng)10照射出的光線L，并對所述光線L進行照度均勻及光線均一。光優(yōu)化系統(tǒng)20將經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L出射至光會聚系統(tǒng)30。
[0026]光會聚系統(tǒng)30接收光優(yōu)化系統(tǒng)20出射的經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L，并對經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L進行會聚。
[0027]在光會聚系統(tǒng)30對經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L進行會聚之時或之后，微位移調(diào)整系統(tǒng)40對光會聚系統(tǒng)30的邊緣區(qū)域進行微位移調(diào)整，從而完成對處于光會聚系統(tǒng)30的邊緣區(qū)域的經(jīng)會聚后的光線L進行調(diào)整。應當說明的是，在這個調(diào)整過程中，微位移調(diào)整系統(tǒng)40不會產(chǎn)生對光會聚系統(tǒng)30的中心區(qū)域的微位移調(diào)整，從而也就不會產(chǎn)生對處于光會聚系統(tǒng)30的中心區(qū)域的經(jīng)會聚后的光線L的調(diào)整，進而能夠保證處于光會聚系統(tǒng)30的中心區(qū)域的經(jīng)會聚后的光線L的光量，即能夠保證中心光路的光線L的光量。光會聚系統(tǒng)30將經(jīng)會聚后的光線L(其中包括經(jīng)微位移調(diào)整系統(tǒng)40調(diào)整的光線L)出射至光反射系統(tǒng)50。
[0028]光反射系統(tǒng)50接收光會聚系統(tǒng)30出射的經(jīng)會聚后的光線L，并將經(jīng)會聚后的光線L反射至光罩(即曝光面)60。
[0029]具體地，在本實施例中，照射光系統(tǒng)10包括:聚光罩11、光源12及第一反射鏡13。聚光罩11的截面形狀呈拋物線形，光源12設置于拋物線的頂點處。在本實施例中，優(yōu)選地，光源12采用超高壓水銀燈泡，但本發(fā)明并不限制于此。光源12產(chǎn)生的光線L經(jīng)聚光罩11會聚后出射至第一反射鏡13，第一反射鏡13對經(jīng)聚光罩11會聚后的光線L反射出射至光優(yōu)化系統(tǒng)20。
[0030]光優(yōu)化系統(tǒng)20包括:控制開關21及集光器22。在本實施例中，控制開關21可根據(jù)控制指令(其可由曝光設備的控制系統(tǒng)發(fā)出)打開或關閉；其中，當控制開關21根據(jù)打開控制指令打開時，光線L經(jīng)由控制開關21通過。光線L經(jīng)由處于打開狀態(tài)的控制開關21通過后，照射到集光器22上，集光器22對光線L進行照度均勻和光線均一。集光器22將經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L出射至光會聚系統(tǒng)30。
[0031]在本實施例中，優(yōu)選地，光會聚系統(tǒng)30由聚光鏡構(gòu)成，該聚光鏡可例如是球面聚光鏡，但本發(fā)明并不限制于此；例如，光會聚系統(tǒng)30也可以是其他合適類型的能夠會聚光的元器件構(gòu)成。球面聚光鏡30接收集光器22出射的經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L，并對經(jīng)照度均勻和光線均一后的光線L進行會聚。
[0032]在本實施例中，優(yōu)選地，微位移調(diào)整系統(tǒng)40由壓電陶瓷微位移驅(qū)動器構(gòu)成，但本發(fā)明并不限制于此；例如，微位移調(diào)整系統(tǒng)40也可以由其他合適類型的能夠?qū)η蛎婢酃忡R30的局部進行微小位移調(diào)整的元器件。
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