一種紅色舞臺濾光片及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種紅色舞臺濾光片及其制備方法，屬于濾光片技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)在的各種演出需要大量使用舞臺燈光，所謂舞臺燈光，是指運(yùn)用舞臺燈光設(shè)備 和技術(shù)手段，隨著劇情的發(fā)展，以光色及其變化顯示環(huán)境、渲染氣氛、突出中心人物，創(chuàng)造舞 臺空間感、時間感，塑造舞臺演出的外部形象，并提供必要的燈光效果，例如風(fēng)、雨、云、水、 電等。其中，各種顏色的光學(xué)薄膜濾光片是舞臺燈光的光路系統(tǒng)中不可缺少的元件。光學(xué) 薄膜濾光片是指通過在光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料等材料表面鍍制單層或多層光學(xué)薄膜，利用光 的干涉效應(yīng)濾除特定波段內(nèi)的光的一種光學(xué)元件。光學(xué)薄膜濾光片一般使用多層薄膜，各 層薄膜的厚度可以任意調(diào)節(jié)，從而實(shí)現(xiàn)對不同波段光的濾除。
[0003] 現(xiàn)階段用于舞臺燈光的光學(xué)薄膜濾光片主要存在如下問題：（1)薄膜層數(shù)較少， 導(dǎo)致反射區(qū)有較高的殘余透過率，同時透過區(qū)平均透過率較低，且曲線上升的斜率較??； (2)薄膜層數(shù)較多，雖然解決了上述問題，但層數(shù)太多使工藝復(fù)雜，成本偏高。
[0004] 本發(fā)明在較少的薄膜層數(shù)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了透過區(qū)的高透過率和反射區(qū)的高反射 率，有效解決了上述兩方面的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明公開了一種紅色舞臺濾光片；
[0006] 本發(fā)明還公開了上述濾光片的制備方法；
[0007] 本發(fā)明所述濾光片在較少的薄膜層數(shù)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了紅光波段610?780nm高透 射及380?590nm波段高截止，610?780nm波段平均透過率為99. 3%，380?590nm波段 平均透過率低于4%，曲線上升的斜率較大，濾光片制作簡單，成本低。
[0008] 本發(fā)明的技術(shù)方案為：
[0009] 一種紅色舞臺濾光片，包括基體層，在所述基體層表面設(shè)有由TiOj莫層和5102膜 層交替組成的多層膜結(jié)構(gòu)，且靠近所述基體層表面的第一層及靠近空氣界面的最外層均為 TiOj莫層，所述多層膜結(jié)構(gòu)的厚度為1240-1270nm。
[0010] 本發(fā)明所述濾光片實(shí)現(xiàn)了紅光波段610?780nm高透射及380?590nm波段高截 止。
[0011] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，所述多層膜結(jié)構(gòu)為21層膜結(jié)構(gòu)，且各層的厚度均不相同。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，從基體層至靠近空氣界面的最外層依次為：厚度為36-37nm 的Ti02膜層，厚度為66-67nm的SiO2膜層，厚度為54-55nm的TiO2膜層，厚度為90-9lnm的 Si02膜層，厚度為54-55nm的TiO2膜層，厚度為57-58nm的SiO2膜層，厚度為82-83nm的 Ti02膜層，厚度為70-71nm的SiO2膜層，厚度為52-53nm的TiO2膜層，厚度為85-86nm的 Si02膜層，厚度為52-53nm的TiO2膜層，厚度為88-89nm的SiO2膜層，厚度為51-52nm的 Ti02膜層，厚度為64-65nm的SiO2膜層，厚度為39-40nm的TiO2膜層，厚度為44-45nm的 Si02膜層，厚度為27-28nm的TiO2膜層，厚度為75-76nm的SiO2膜層，厚度為57-58nm的Ti02膜層，厚度為83-84nm的SiO2膜層，厚度為21-22nm的TiO2膜層。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，從基體層至靠近空氣界面的最外層依次為：厚度為36.llnm 的Ti02膜層，厚度為66. 99nm的SiO2膜層，厚度為54. 75nm的TiO2膜層，厚度為90. 7nm的Si02膜層，厚度為54. 99nm的TiO2膜層，厚度為57.llnm的SiO2膜層，厚度為82. 34nm的 Ti02膜層，厚度為70nm的SiO2膜層，厚度為52. 95nm的TiO2膜層，厚度為85. 73nm的SiO2 膜層，厚度為52. 68nm的Ti02膜層，厚度為88. 58nm的SiO2膜層，厚度為51. 71nm的TiO2 膜層，厚度為64.lnm的Si02膜層，厚度為39. 24nm的TiO2膜層，厚度為44. 71nm的SiO2膜 層，厚度為27. 92nm的Ti02膜層，厚度為75. 69nm的SiO2膜層，厚度為57. 47nm的TiO2膜 層，厚度為83. 39nm的Si02膜層，厚度為21. 78nm的TiO2膜層。
[0014] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，所述基體層為紅光透明基片。
[0015] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，所述紅光透明基片為K9玻璃。
[0016] 上述濾光片的制備方法，具體步驟包括：
[0017](1)清洗基體層，將清洗后的基體層放置真空室內(nèi)；
[0018] (2)抽真空至LOXKT3?2. 0X10-3Pa，升溫至 180 ?230°C，充氧至 2.8XKT2? 3. 3Xl(T2Pa;
[0019](3)待真空室壓強(qiáng)穩(wěn)定后開始鍍膜：鍍制第一層Ti02膜層，鍍膜時間及控制速率 根據(jù)所需厚度控制；
[0020](4)根據(jù)不同的膜料，交替鍍制多層Ti02膜層和SiO2膜層；
[0021] (5)鍍膜完畢后，在高真空度下降溫至25-50°C，放氣后取出，即得，所述高真空度 是指 1. 0X10_3?2. 0X10 _3Pa。
[0022] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，步驟（1)中，清洗基體層的方式為超聲波清洗。
[0023] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的，步驟（4)中，對Ti02膜層和5102膜層進(jìn)行預(yù)熔料處理，TiOj莫 層預(yù)熔料處理的控制速率為2.0-3.0A/S，Si02膜層預(yù)熔料處理的2.5 -3.5A/s，交替鍍制多層 Ti02膜層和Si02膜層。
[0024] 本發(fā)明的有益效果為：
[0025] 本發(fā)明所述濾光片在較少的薄膜層數(shù)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了紅光波段610?780nm高透 射及380?590nm波段高截止，610?780nm波段平均透過率為99. 3%，380?590nm波段 平均透過率低于4%，曲線上升的斜率較大，濾光片制作簡單，成本低。
【附圖說明】
[0026] 圖1為本發(fā)明所述濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027] 圖1中，所述濾光片的最底層為基底層，在所述基體層表面交替設(shè)有Ti02膜層和 Si02膜層；
[0028]圖2為本發(fā)明所述濾光片濾光膜透射曲線；
[0029] 圖2中，610?780nm波段平均透過率為99. 3%，380?590nm波段平均透過率低 于4%，曲線上升的斜率較大。
【具體實(shí)施方式】
[0030] 下面結(jié)合說明書附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步限定，但不限于此。
[0031] 實(shí)施例1
[0032] 一種紅色舞臺濾光片，包括基體層，在所述基體層表面設(shè)有由TiOj莫層和5102膜 層交替組成的多層膜結(jié)構(gòu)，且靠近所述基體層表面的第一層及靠近空氣界面的最外層均為TiOj莫層，所述多層膜結(jié)構(gòu)的厚度為1240nm。
[0033] 本發(fā)明所述濾光片實(shí)現(xiàn)了紅光波段610?780nm高透射及380?590nm波段高截 止。
[0034] 本實(shí)施例所述濾光片如圖1所示。
[0035] 實(shí)施例2
[0036] 根據(jù)實(shí)施例1所述濾光片，其區(qū)別在于，所述多層膜結(jié)構(gòu)的厚度為1270nm。
[0037] 實(shí)施例3
[0038] 根據(jù)實(shí)施例1所述濾光片，其區(qū)別在于，所述多層膜結(jié)構(gòu)的厚度為1255nm。
[0039] 實(shí)施例4
[0040] 根據(jù)實(shí)施例1-3任一所述濾光片，其區(qū)別在于，所述多層膜結(jié)構(gòu)為21層膜結(jié)構(gòu)，且 各層的厚度均不相同。
[0041] 實(shí)施例5
[0042] 根據(jù)實(shí)施例4所述濾光片，其區(qū)別在于，從基體層至靠近空氣界面的最外層依次 為：厚度為36nm的Ti02膜層，厚度為66nm的SiO2膜層，厚度為54nm的TiO2膜層，厚度為 90nm的Si02膜層，厚度為54nm的TiO2膜層，厚度為57nm的SiO2膜層，厚度為82nm的TiO2 膜層，厚度為70nm的Si02膜層，厚度為52nm的TiO2膜層，厚度為85nm的SiO2膜層，厚度 為52nm的Ti02膜層，厚度為88nm的SiO2膜層，厚度為51nm的TiO2膜層，厚度為64nm的 Si02膜層，厚度為39nm的TiO2膜層，厚度為44nm的SiO2膜層，厚度為27nm的TiO2膜層， 厚度為75nm的Si02膜層，厚度為57nm的TiO2膜層，厚度為83nm的SiO2膜層，厚度為21nm 的Ti02膜層。
[0043] 實(shí)施例6
[0044] 根據(jù)實(shí)施例4所述濾光片，其區(qū)別在于，從基體層至靠近空氣界面的最外層依次 為：厚度為37nm的Ti02膜層，厚度為67nm的SiO2膜層，厚度為55nm的TiO2膜層，厚度為 91nm的Si02膜層，厚度為55nm的TiO2膜層，厚度為58nm的SiO2膜層，厚度為83nm的TiO2 膜層，厚度為71nm的Si02膜層，厚度為53nm的TiO2膜層，厚度為86nm的SiOJ莫層，厚度 為53nm的Ti02膜層，厚度為89nm的SiO2膜層，厚度為52nm的TiO2膜層，厚度為65nm的 Si02膜層，厚度為40nm的TiO2膜層，厚度為45nm的SiO2膜層，厚度為28nm的TiO2膜層， 厚度為76nm的Si02膜層，厚度為58nm的TiO2膜層，厚度為84nm的SiO2膜層，厚度為22nm 的Ti02膜層。
[0045] 實(shí)施例7
[0046] 根據(jù)實(shí)施例4所述濾光片，其區(qū)別在于，從基體層至靠近空氣界面的最外層依次 為從基體層至靠近空氣界面的最外層依次為：厚度為36. 5nm的TiOj莫層，厚度為66. 5nm 的Si02膜層，厚度為54. 5nm的TiO2膜層，厚度為90. 5nm的SiO2膜層，厚度為54. 5nm的 Ti02膜層，厚度為57. 5nm的SiO2膜層，厚度為82. 5nm的TiO2膜層，厚度為70. 5nm的SiO2 膜層，厚度為52. 5nm的Ti02膜層