面分別位于同一平面，第一、第二摭板2、3交疊處的厚度仍為單獨的第一或第二摭板2、3的厚度，掩膜的厚度均勻。這樣的設(shè)置一方面不需要在掩膜邊框I上挖槽，能夠降低掩膜邊框I返修拋光時平面度的加工難度，易于對掩膜邊框I進行重復(fù)利用；另一方面解決了現(xiàn)有的較大尺寸的組合式掩膜板在掩膜重疊位置處存在一個掩膜的厚度差而產(chǎn)生陰影效應(yīng)(Shadow effect)的技術(shù)問題。
[0052]具體的，所述第一凹槽21沿第一摭板2長度方向的尺寸等于第二摭板3的寬度，所述第二凹槽31沿第二摭板3長度方向的尺寸等于第一摭板2的寬度，使得所述第一、第二摭板2、3通過第一、第二凹槽21、31較為緊密的相互嵌合。
[0053]所述第一、第二凹槽21、31的深度之和等于所述第一摭板2或第二摭板3的厚度，優(yōu)選的，所述第一、第二凹槽21、31的深度均為所述第一摭板2或第二摭板3厚度的1/2，從而所述第一、第二摭板2、3通過第一、第二凹槽21、31相互嵌合、交疊后，所述第一、第二摭板2、3的上表面位于同一平面，所述第一、第二摭板2、3的下表面亦位于同一平面。
[0054]進一步的，所述第一、第二摭板2、3通過第一、第二凹槽21、31相互嵌合、交疊的部位再經(jīng)激光焊接使所述第一摭板2與第二摭板3牢固連接。
[0055]所述組合式掩膜板可應(yīng)用于OLED有機材料以及氟化鋰(LiF)等無機材料的蒸鍍，也可應(yīng)用于其它真空熱蒸鍍領(lǐng)域，還可應(yīng)用于其它方式的成膜制程，如網(wǎng)印、鐳射轉(zhuǎn)印、噴涂成膜等。
[0056]請參閱圖13，結(jié)合圖7至圖12，本發(fā)明還提供一種組合式掩膜板的制作方法，包括如下步驟:
[0057]步驟1、通過蝕刻或激光制作數(shù)條第一摭板2與數(shù)條第二摭板3。
[0058]所述數(shù)條第一摭板2與數(shù)條第二摭板3的厚度相等；所述第一摭板2與第二摭板3欲交疊的部位設(shè)有貫穿該第一摭板2寬度的第一凹槽21，所述第二摭板3與第一摭板2欲交疊的部位設(shè)有貫穿該第二摭板3寬度的第二凹槽31。
[0059]具體的，所述第一凹槽21沿第一摭板2長度方向的尺寸等于第二摭板3的寬度，所述第二凹槽31沿第二摭板3長度方向的尺寸等于第一摭板2的寬度。所述第一、第二凹槽21、31的深度之和等于所述第一摭板2或第二摭板3的厚度，優(yōu)選的，所述第一、第二凹槽21、31的深度均為所述第一摭板2或第二摭板3厚度的1/2。
[0060]步驟2、提供掩膜邊框1，將所述數(shù)條第一摭板2的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I的短邊上，所述數(shù)條第二摭板3的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I的長邊上。
[0061]所述數(shù)條第一摭板2與數(shù)條第二摭板3相互交疊，形成具有多個成膜孔4的網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)，該網(wǎng)格結(jié)構(gòu)即構(gòu)成掩膜圖形。所述第一、第二摭板2、3通過第一、第二凹槽21、31相互嵌合、交疊在一起，并使得所述第一、第二摭板2、3的上、下表面分別位于同一平面。
[0062]所述步驟2可以有兩種實施方式。如圖14A、14B所示，該步驟2可先將數(shù)條第一摭板2與數(shù)條第二摭板3進行交疊，形成網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)之后，再將數(shù)條第一、第二摭板2、3的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I上。
[0063]如圖15A、15B所示，該步驟2還可先將所述數(shù)條第一摭板2的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I上，再相應(yīng)將第二摭板3的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I上，形成網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，在該實施方式中，也可先將所述數(shù)條第二摭板3的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I上，再相應(yīng)將第一摭板2的兩端通過點焊固定于掩膜邊框I上，形成網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)。
[0064]步驟3、對所述第一、第二摭板2、3通過第一、第二凹槽21、31相互嵌合、交疊的部位進行激光焊接，使所述第一摭板2與第二摭板3牢固連接。
[0065]至此，完成該組合式掩膜板的制作。
[0066]通過上述方法制作的組合式掩膜板，其掩膜邊框I無需挖槽，掩膜的厚度均勻，能夠降低掩膜邊框I返修拋光時平面度的加工難度，易于對掩膜邊框I進行重復(fù)利用，避免了現(xiàn)有較大尺寸的組合式掩膜板陰影效應(yīng)的產(chǎn)生。
[0067]綜上所述，本發(fā)明提供的組合式掩膜板及其制作方法，將掩膜邊框與第一、第二摭板組合，設(shè)置第一、第二摭板的厚度相同，且第一、第二摭板通過第一、第二凹槽相互嵌合、交疊，使得所述第一、第二摭板的上、下表面分別位于同一平面，第一、第二摭板交疊處的厚度仍為單獨的第一或第二摭板的厚度，從而實現(xiàn)掩膜邊框無需挖槽，掩膜的厚度均勻，能夠降低掩膜邊框返修拋光時平面度的加工難度，易于對掩膜邊框進行重復(fù)利用，避免了現(xiàn)有的較大尺寸的組合式掩膜板陰影效應(yīng)的產(chǎn)生。
[0068]以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種組合式掩膜板，其特征在于，包括掩膜邊框(I)、數(shù)條并列平行于掩膜邊框(I)長邊的第一摭板(2)、及數(shù)條并列平行于掩膜邊框(I)短邊的第二摭板(3); 所述數(shù)條第一摭板(2)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)的短邊上，所述數(shù)條第二摭板(3)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)的長邊上；所述數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)相互交疊，形成具有多個成膜孔(4)的網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)； 所述數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)的厚度相等；所述第一摭板(2)與第二摭板(3)交疊的部位設(shè)有貫穿該第一摭板(2)寬度的第一凹槽(21)，所述第二摭板(3)與第一摭板(2)交疊的部位設(shè)有貫穿該第二摭板(3)寬度的第二凹槽(31);所述第一、第二摭板(2、3)通過第一、第二凹槽(21、31)相互嵌合、交疊，并使得所述第一、第二摭板(2、3)的上、下表面分別位于同一平面。
2.如權(quán)利要求1所述的組合式掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽(21)沿第一摭板(2)長度方向的尺寸等于第二摭板(3)的寬度，所述第二凹槽(31)沿第二摭板(3)長度方向的尺寸等于第一摭板(2)的寬度。
3.如權(quán)利要求1所述的組合式掩膜板，其特征在于，所述第一、第二凹槽(21、31)的深度之和等于所述第一摭板(2)或第二摭板(3)的厚度。
4.如權(quán)利要求3所述的組合式掩膜板，其特征在于，所述第一、第二凹槽(21、31)的深度均為所述第一摭板(2)或第二摭板(3)厚度的1/2。
5.如權(quán)利要求1所述的組合式掩膜板，其特征在于，所述第一、第二摭板(2、3)通過第一、第二凹槽(21、31)相互嵌合、交疊的部位再經(jīng)激光焊接使所述第一摭板(2)與第二摭板(3)牢固連接。
6.一種組合式掩膜板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟: 步驟1、通過蝕刻或激光制作數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3); 所述數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)的厚度相等；所述第一摭板(2)與第二摭板(3)欲交疊的部位設(shè)有貫穿該第一摭板(2)寬度的第一凹槽(21)，所述第二摭板(3)與第一摭板(2)欲交疊的部位設(shè)有貫穿該第二摭板(3)寬度的第二凹槽(31)； 步驟2、提供掩膜邊框(I)，將所述數(shù)條第一摭板(2)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)的短邊上，所述數(shù)條第二摭板(3)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)的長邊上； 所述數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)相互交疊，形成具有多個成膜孔(4)的網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)；所述第一、第二摭板(2、3)通過第一、第二凹槽(21、31)相互嵌合、交疊在一起，并使得所述第一、第二摭板(2、3)的上、下表面分別位于同一平面； 步驟3、對所述第一、第二摭板(2、3)通過第一、第二凹槽(21、31)相互嵌合、交疊的部位進行激光焊接，使所述第一摭板(2)與第二摭板(3)牢固連接。
7.如權(quán)利要求6所述的組合式掩膜板的制作方法，其特征在于，所述步驟2先將數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)進行交疊，再將數(shù)條第一、第二摭板(2、3)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)上。
8.如權(quán)利要求6所述的組合式掩膜板的制作方法，其特征在于，所述步驟2先將所述數(shù)條第一摭板(2)的兩端或第二摭板(3)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)上，再相應(yīng)將第二摭板(3)的兩端或第一摭板(2)的兩端通過點焊固定于掩膜邊框(I)上。
9.如權(quán)利要求6所述的組合式掩膜板的制作方法，其特征在于，所述第一凹槽(21)沿第一摭板(2)長度方向的尺寸等于第二摭板(3)的寬度，所述第二凹槽(31)沿第二摭板(3)長度方向的尺寸等于第一摭板(2)的寬度；所述第一、第二凹槽(21、31)的深度之和等于所述第一摭板(2)或第二摭板(3)的厚度。
10.如權(quán)利要求9所述的組合式掩膜板的制作方法，其特征在于，所述第一、第二凹槽(21,31)的深度均為所述第一摭板(2)或第二摭板(3)厚度的1/2。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種組合式掩膜板及其制作方法。該組合式掩膜板包括掩膜邊框(1)、數(shù)條第一摭板(2)、及數(shù)條第二摭板(3)；所述數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)相互交疊，形成具有多個成膜孔(4)的網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)；所述數(shù)條第一摭板(2)與數(shù)條第二摭板(3)的厚度相等；所述第一摭板(2)與第二摭板(3)交疊的部位設(shè)有貫穿該第一摭板(2)寬度的第一凹槽(21)，所述第二摭板(3)與第一摭板(2)交疊的部位設(shè)有貫穿該第二摭板(3)寬度的第二凹槽(31)；所述第一、第二摭板(2、3)通過第一、第二凹槽(21、31)相互嵌合、交疊，并使得所述第一、第二摭板(2、3)的上、下表面分別位于同一平面。
【IPC分類】G03F1-80, G03F1-68, G03F1-64
【公開號】CN104536260
【申請?zhí)枴緾N201410851833
【發(fā)明人】吳聰原, 劉亞偉
【申請人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月31日