專利名稱：狹縫型復印機曝光系統(tǒng)的反差控制裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明一般涉及照射待復印的資料原件時使用的曝光系統(tǒng)，更具體地說，涉及其中的原件由一狹縫曝光燈光掃描的這樣一種系統(tǒng)。本發(fā)明提供一種在利用曝光系統(tǒng)產生復制圖象時調節(jié)反差(或稱對比度)用的機構。
已知許多種復印裝置，其中資料原件受到照射，而照射被引到感光介質上，以產生圖象?？梢允褂酶鞣N感光面，例如常規(guī)靜電復印法中的帶電感光鼓。作為另外的例子，可以使用其它介質，例如常規(guī)的照相膠卷或諸如在美國專利NO.4，440，846和4，399，209中公開的微囊感光介質。
照射資料原件的常用方法是利用一狹縫曝光燈光掃描資料。在一種典型的先有技術的配置中，位于拋物柱面反射器內的線狀光源將一狹縫光引到放置原件的平面上。光線從原件反射并用透鏡或其它聚焦機構收集，其后引到感光介質上?？梢砸黄鹨苿庸庠春途劢瓜到y(tǒng)通過原件，以掃描資料，或者可以移動原件通過光源和聚焦系統(tǒng)。
在這樣一種復印裝置中，能夠控制輸出圖象中的反差水平是有利的。雖然在由文字或線條圖形組成的圖象中希望產生高的反差，但當復印連續(xù)色調的原件時，此種高反差導致低質量的復制。因為可能會期待一種特定的復印設備復制任何種類的原件，所以控制反差能大大地增強設備的工作性能。
已知可以利用“遮擋”曝光來降低反差。此種曝光是一種感光介質的非完全成象曝光。一旦進行曝光，這種曝光就具有降低或軟化圖象反差的效果。遮擋曝光可以在成象曝光之前、之后或同時進行。
人們希望能夠控制遮擋曝光的程度，以便控制反差。利用固定的遮擋曝光，在文字或線條圖形之類的圖象區(qū)域中復制圖象的密度可能低到無法接受。利用諸如輔助遮擋光源之類機構或利用同一光源提供分開的遮擋曝光和成象曝光，可以形成受控的遮擋曝光。但是，這些技術具有缺點，就是所需的控制系統(tǒng)給復印設備增加了費用和復雜性。在輔助燈的情況下，由于附加的光源還增加了額外的費用和復雜性。在使用分開的遮擋曝光和成象曝光時，增加了產生圖象所需的時間。在兩種情況下，設備的能源需求都增加了。
因此，需要一種方便的機構，利用它提供一種復制圖象的反差控制用的受控的遮擋曝光。這樣一種機構應當是易于控制的，同時對復制設備只增加相當小的費用和復雜性。
為了滿足上述要求，本發(fā)明提供一種資料原件曝光裝置，其中，利用遮擋曝光通過減小資料原件的復制圖象的反差來控制反差。遮擋曝光是通過用漫反射器蓋住曝光燈聚焦系統(tǒng)的一部分視場來實現(xiàn)的。因此一部分曝光燈光被漫反射入聚焦系統(tǒng)中并照射到感光介質上。達到的遮擋程度通過反射器的位置調整來控制。
根據(jù)這一概念，本發(fā)明提供一種包括原件支承機構的資料原件曝光裝置。一個照射原件上狹縫區(qū)域用的狹縫曝光系統(tǒng)包括一個將曝光燈光引到支承的原件上用的光源，也包括將從原件的視場內反射的曝光燈光引向感光介質用的機構。提供一個機構，用于在原件支承系統(tǒng)和曝光系統(tǒng)之間產生相對運動，以掃描曝光燈光和原件上的視場。
一個漫反射器機構從光源接受一部分曝光燈光并漫反射該部分光。一個可調的漫反射器定位機構將漫反射器機構定位在支承機構和曝光系統(tǒng)之間，以擋住原件上的一部分視場?？烧{的漫反射器定位機構還能夠調整被漫反射器機構擋住的視場相對部分?？烧{的漫反射器定位機構的后一特征可以包括將漫反射器機構選擇性地移入和移出視場的機構。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種資料(或文件)復制系統(tǒng)，其中復制圖象的反差可以受到控制;并提供一種為復制的目的對資料原件進行曝光用的裝置，其中反差可以受到控制;還提供這樣一種裝置，其中反差控制是通過使用遮擋曝光來實現(xiàn)的;以及提供這樣一種裝置，其中遮擋曝光控制的實現(xiàn)既簡單又花費不大。
從下面的說明、附圖和附屬權利要求中可以清楚地看到本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點。


圖1是如本發(fā)明所述的反差控制裝置的示意圖;
圖2是反差控制裝置的漫反射器的安裝調整結構的頂視部分示意圖;
圖3是表示復制圖象中作為外加曝光能量對數(shù)值(logE)的函數(shù)的光密度(D)的圖線，用以舉例說明反差控制裝置的效果。
參考圖1可以看到一個如本發(fā)明所述的資料原件曝光系統(tǒng)的實施例。一個掃描曝光系統(tǒng)10安置在玻璃板12的下面，資料原件14可以以面向下的位置放置在玻璃板上。掃描系統(tǒng)10包括一或多個(圖示兩個)曝光燈光源16。這些線狀光源被安置在拋物柱面反射器18內，反射器將曝光燈光引向玻璃板12的下面，照射資料原件14的一個狹縫形區(qū)域。曝光燈光被反射進聚焦系統(tǒng)20內，該系統(tǒng)將狹縫形曝光區(qū)域聚焦在感光面22上。一個合適的驅動機構24以本技術中熟知的方式與掃描系統(tǒng)10相配接，使得整個掃描系統(tǒng)10可以如箭頭26所示地移動，從而讓狹縫形曝光區(qū)域掃描過整個資料原件14。
曝光燈16屬于適宜于待曝光的感光面22使用的已知類型。此種感光面可以是常規(guī)的靜電復印機中的帶電感光板。作為另一種方式，感光面22可以是一種微囊形的感光介質，如美國專利NO.4，440，846和NO.4，399，209中所公開的。在這樣一種介質中，成象薄板包括一個支承基片，用以支承基片表面上的微囊層。微囊具有由可以光硬化的光敏成分構成的內部物相和一種成色劑。微囊以圖象方式接受光化輻射曝光并捕集輻射，使成色劑與顯影物質相反應，以生成圖象。
美國專利NO.4，399，209公開了作為傳輸成象系統(tǒng)的感光介質。成象薄片與后繼曝光的受光薄片相接觸。受光薄片包括一個具有支承片基的顯影薄片，支承片基的表面上有一層顯影物質。在兩種薄片安置接觸后，微囊開始捕集輻射。美國專利NO.4，440，846公開了一種整裝的成象系統(tǒng)，其中成象薄片具有與微囊共同沉積在薄片表面上的顯影物質。
聚焦系統(tǒng)20可以是掃描狹縫型復印機通常使用的那些眾所周知的任何一種聚焦系統(tǒng)。例如，可以使用SelfocTM透鏡陣列。作為替代，可以使用球面透鏡。
其次，雖然此處描述的特定實施例為資料原件保持靜止而光源和聚焦系統(tǒng)進行掃描，但也可以是后兩部分保持靜止而資料原件和感光面進行掃描。兩種方法在復印機技術中都是眾所周知的。
在本發(fā)明中，反差的減小是利用遮擋曝光來達到的。此遮擋曝光的程度是可以控制的，以便產生反差控制。遮擋曝光是利用漫反射器28蓋住聚焦系統(tǒng)20的一部分視場來實現(xiàn)的。此種反射器可以是任何合適的漫反射表面，如已經漆白的金屬板。遮擋曝光的程度是通過板28沿箭頭30指示的方向的位置調整來控制的。從燈16來的曝光燈光的一部分投射到板28上并被漫反射。反射光的一部分為聚焦系統(tǒng)20所接受，并被引到感光面22上。通過調整被板28蓋住的資料原件14的部分視場，就可以調節(jié)遮擋曝光的程度。將板28移出聚焦系統(tǒng)視場或完全蓋住視場，可以產生0至100%的遮擋曝光。
雖然圖1中為清楚起見圖示的間隔較遠，但板28的位置最好相當靠近玻璃板12和資料原件14。
可以使用任何適當?shù)暮啽阏{整機構，這取決于所使用的復印機裝置和特定曝光聚焦系統(tǒng)的具體構造。通常，板28相對于燈16和聚焦系統(tǒng)20的相對位置一旦確定下來，板28的這個相對位置就應當保持固定。但是，可能會有需要移動板28的場合，比如當復印一個同時具有文字和圖形部分的原件的時候。
參考圖2可以看到一種調整板28的位置的結構。應當注意到，圖2中所示的整個設備相對于曝光燈和聚焦系統(tǒng)是安裝在某一位置上的。在圖1所示的掃描系統(tǒng)10相對于資料原件14移動的實施例中，圖2中所示的調整設備是作為掃描系統(tǒng)10的一部分而安裝的。
纜繩32以圖2中所示的方式圍繞許多個滑輪34延伸。板28通過適當?shù)倪B接機構36連接在纜繩32上。纜繩32和板28安置在燈16(為了清楚起見從圖2中省去了反射器18)和聚焦系統(tǒng)20的上面。
調整桿38連接在纜繩32上，以便可以沿直線的兩個方向移動并由纜繩32定位。纜繩32上面安裝了一個導板40，導板40有一個狹縫42，桿38穿過狹縫42延伸。桿38沿圖2中向左方向的移動將導致板28沿箭頭44所示的方向移動，以便減弱板28的反射光并從而增大反差。桿38沿相反方向的移動產生相反的結果。通過適當?shù)匾苿訔U38，可以調整板28阻擋聚焦系統(tǒng)20的視場的程度。
參考圖3可以看出反差控制用的遮擋曝光的預期效果，其中復制圖象的光密度(D)表示成曝光能量的對數(shù)(LogE)的函數(shù)。雖然其它感光介質也能預期產生相似的曲線，但圖3中所示的曲線特別用來舉例說明上述微囊感光介質的性能。曲線46表示不存在任何遮擋曝光時介質的性能?？梢钥闯銮€在Dmin和Dmax值之間的高的平均斜率是相當陡的。曲線48、50和52舉例說明遮擋曝光的增加水平，因而表示反差水平的下降?？梢钥闯?，當遮擋曝光量增大時，圖3中表示的曲線的平均斜率降低了。
此處公開的設備的一個優(yōu)點是，遮擋曝光使用為成象曝光提供光化輻射用的同一光源。因此，只要光源和介質的匹配是合適的，那末遮擋曝光的匹配也就是合適的。在使用輔助燈光獲得遮擋曝光的場合，這種匹配可能是困難的。
從圖3也應當注意到，達到Dmin的下限曝光水平與用于實施反差控制的遮擋曝光量無關。因此，可以提供獨立的亮度控制，以增強控制系統(tǒng)的靈活性。
作為白色漫反射器的替代，可以使用彩色板28或位于板28前的彩色濾光器，以影響遮擋曝光的色成分。這種方法對于進一步控制輸出圖象的質量來說可能是需要的，雖然裝置要增加一些額外的復雜性。
最后，從圖3也可以注意到，雖然本發(fā)明的裝置影響圖示曲線的平均斜率，但曲線的形狀按預定的方式變化，而完全控制曲線形狀是不可能的。但是，缺乏此種控制的這一缺點，相信可以由此處公開的反差控制系統(tǒng)的低的復雜性、費用和能源需要來補償。
雖然此處說明的設備的形狀構成了本發(fā)明的最佳實施例，但可以理解，本發(fā)明并不限于設備的這些精確形狀，而是可以在其中作出變化，而并不偏離在附屬的權利要求中確定的本發(fā)明的范圍。
權利要求
1.一種資料原件曝光裝置，它包括支承原件的機構；在原件上照射一個狹縫區(qū)域用的狹縫曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括一個將曝光燈光引到支承的原件上的光源和將從原件的視場內反射的曝光燈光引向感光介質的機構；在上述原件支承機構和上述曝光系統(tǒng)之間產生相對運動以便掃描上述曝光燈光和上述原件上的視場用的機構；漫反射器機構，用于接受從上述光源來的一部分曝光燈光并漫反射上述曝光燈光；可調的漫反射器定位機構，用于將上述漫反射器機構定位在上述支承機構和上述曝光系統(tǒng)之間，以擋住一部分上述視場，并調整被上述漫反射器機構擋住的上述視場的相對部分。
2.一種如權利要求1所述的裝置，其特征是上述可調的漫反射器定位機構包括將上述漫反射器機構選擇性地移入和移出上述視場用的機構。
3.一種如權利要求2所述的裝置，其特征是上述原件支承機構包括一個原件用的平面支承件，上述漫反射器機構確定一個平面反射表面，該反射表面被設置在平行于上述平面支承件的第一平面內，而且其中上述選擇性移動機構使上述反射表面在上述第一平面內移動。
4.一種如權利要求3所述的裝置，其特征是上述選擇性移動機構使上述反射表面垂直于上述狹縫區(qū)域移動。
5.一種如權利要求3所述的裝置，其特征是上述漫反射器機構是一種平面反射板。
6.一種如權利要求5所述的裝置，還包括沿垂直于上述狹縫區(qū)域的方向選擇性地移動上述反射板的機構。
全文摘要
一種復印機用的資料原件曝光裝置，它利用遮擋曝光通過減小資料原件復制圖象的反差來控制反差。遮擋曝光是通過用漫反射器蓋住曝光燈聚焦系統(tǒng)的一部分視場而實現(xiàn)的。一部分曝光燈光因此而漫反射入聚焦系統(tǒng)并照射到感光介質上。達到的擋光程度是通過反射器的位置調整來控制的。
文檔編號G03G15/047GK1045871SQ9010160
公開日1990年10月3日 申請日期1990年3月23日 優(yōu)先權日1989年3月23日
發(fā)明者布萊因特·拉森 申請人:米德公司