本發(fā)明涉及半導體集成電路的制造領(lǐng)域，特別是涉及一種掩模版清潔裝置。本發(fā)明還涉及一種掩模版清潔方法。

背景技術(shù)：

1、掩模版是光刻工藝中必不可少的部件，掩模版上的圖案按照一定比例投射到晶圓上。若顆粒掉落到掩模版上，當顆粒達到一定大小時會對晶圓上的圖案造成影響。掩模版在使用和存儲過程中必不可免的會有顆粒掉落到掩模版上，所以去除掩模版表面的顆粒是不可缺少的。

2、如圖1所示，是現(xiàn)有掩模版清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；包括：設(shè)置在腔體101中的機械手102、吹氣裝置104和吹掃臺103，以及設(shè)置在腔體101外的承載臺105。

3、現(xiàn)有掩模版清潔方法包括如下步驟：

4、(1)通過機械手臂即機械手102的搬運，掩模版被裝載到吹掃臺103，吹掃臺103固定好掩模版。

5、(2)噴氣嘴以s形路徑吹掃整塊掩模版。如圖2所示，是現(xiàn)有掩模版清潔裝置在清潔過程中的吹掃路徑的示意圖；箭頭線106表示了s型路徑。

6、(3)以同樣方式吹掃反面后，掩模版被機械手臂裝載到掩模版盒子中，掩模版盒子放置在承載臺105上。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種掩模版清潔裝置，能增加吹掃清潔效果和效率并同時能減少吹掃氣體流量。為此，本發(fā)明還提供一種掩模版清潔方法。

2、為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的掩模版清潔裝置包括：吹掃臺和吹氣裝置。

3、所述吹掃臺的第一表面上設(shè)置有掩模版的放置部件，所述放置部件用于在清潔過程中放置并固定所述掩模版。

4、所述吹掃臺還和旋轉(zhuǎn)裝置連接。

5、所述吹氣裝置包括噴嘴，所述噴嘴用于噴出吹掃氣體，所述噴嘴和噴嘴移動裝置相連。

6、在所述清潔過程中，所述旋轉(zhuǎn)裝置帶動所述吹掃臺和所述掩模版旋轉(zhuǎn)，所述噴嘴移動裝置控制所述噴嘴移動并使所述噴嘴噴出所述吹掃氣體的吹掃位置沿從所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的路徑移動。

7、進一步的改進是，還包括：承載臺和機械手。

8、所述承載臺用于在清潔前或清潔后放置所述掩模版。

9、所述機械手用于在所述承載臺和所述吹掃臺之間移動所述掩模版或?qū)λ鲅谀０孢M行翻轉(zhuǎn)。

10、進一步的改進是，所述吹掃臺、所述吹氣裝置和所述機械手設(shè)置在清潔腔中，所述承載臺設(shè)置在所述清潔腔外。

11、進一步的改進是，所述吹掃氣體包括氮氣。

12、進一步的改進是，所述噴嘴移動裝置包括噴嘴轉(zhuǎn)動部件，通過所述噴嘴轉(zhuǎn)動部件控制所述噴嘴的角度并使所述吹掃氣體的流動方向和所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣的延伸方向呈鈍角。

13、進一步的改進是，在所述清潔過程中，所述吹掃氣體的吹掃位置沿從所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的直線路徑移動。

14、進一步的改進是，所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的正面或者所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的反面。

15、進一步的改進是，所述噴嘴移動裝置包括一伸縮部件，通過所述伸縮部件控制所述噴嘴移動。

16、為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的掩模版清潔方法包括如下步驟：

17、將掩模版放置并固定在吹掃臺的第一表面上設(shè)置的放置部件上。

18、和所述吹掃臺連接的旋轉(zhuǎn)裝置帶動所述吹掃臺和所述掩模版旋轉(zhuǎn)。

19、所述噴嘴噴出吹掃氣體到所述掩模版的被吹掃面實現(xiàn)對所述掩模版清潔，且在清潔過程中，在噴嘴移動裝置控制所述噴嘴移動并使所述噴嘴噴出所述吹掃氣體的吹掃位置沿從所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的路徑移動。

20、進一步的改進是，所述掩模版通過機械手從承載臺取出并移動放置在所述吹掃臺的所述放置部件上。

21、所述掩模版的清潔完成后，還包括通過所述機械手將所述掩模版從所述吹掃臺移動到所述承載臺的步驟。

22、所述掩模版的被吹掃面通過所述機械手對所述掩模版翻轉(zhuǎn)實現(xiàn)選定。

23、進一步的改進是，所述吹掃臺、所述吹氣裝置和所述機械手設(shè)置在清潔腔中，所述承載臺設(shè)置在所述清潔腔外。

24、進一步的改進是，所述吹掃氣體包括氮氣。

25、進一步的改進是，在所述清潔過程中，所述噴嘴移動裝置通過噴嘴轉(zhuǎn)動部件還控制所述噴嘴的角度并使所述吹掃氣體的流動方向和所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣的延伸方向呈鈍角。

26、進一步的改進是，在所述清潔過程中，所述吹掃氣體的吹掃位置沿從所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的直線路徑移動。

27、進一步的改進是，所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的正面或者所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的反面。

28、進一步的改進是，所述掩模版的正面和反面都需要被清潔，在對所述掩模版的正面和反面中的一個面作為被吹掃面清潔完成后；對所述掩模版進行翻轉(zhuǎn)，接著將所述掩模版的正面和反面中另一個面作為被吹掃面完成清潔。

29、本發(fā)明增加了吹掃臺的旋轉(zhuǎn)功能，結(jié)合吹掃臺帶動掩模版的旋轉(zhuǎn)以及噴嘴移動裝置對噴嘴的移動控制，其中旋轉(zhuǎn)本身帶來的離心力能實現(xiàn)將部分粘附力較小的污染顆粒去除，噴嘴噴出的吹掃氣體沿著離心力方向能進一步增加去除污染顆粒的力，實現(xiàn)對粘附力更大的顆粒的去除，所以，本發(fā)明能增加吹掃清潔效果。

30、另外，掩模版的旋轉(zhuǎn)還能使噴嘴的移動控制更加簡單，僅需實現(xiàn)從掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的路徑移動即可，這種路徑在最簡單的情況下能為一條直線路徑，和現(xiàn)有技術(shù)中復雜的s形路徑相比，本發(fā)明的噴嘴的移動路徑更加簡單且控制更加容易。

31、另外，本發(fā)明的掩模版的旋轉(zhuǎn)加噴嘴的中心往外移動的移動路徑控制，還能使得各位置包括中心到邊緣的各位置都能得到很好的吹掃；而現(xiàn)有方法中，s形路徑需要來回吹掃，很容易造成相鄰吹掃路徑的中心位置不能得到較好的吹掃，故存在吹掃薄弱區(qū)域，所以，本發(fā)明的吹掃路徑形成的吹掃效果更好，最后能進一步增加吹掃清潔效果。而且本發(fā)明的噴嘴移動路徑和現(xiàn)有方法的s路徑相比，本發(fā)明噴嘴位移路徑短，在更小的時間內(nèi)就能實現(xiàn)對掩模版的表面?zhèn)€位置的吹掃，故吹掃時間短，效率更高。

32、另外，本發(fā)明最后去除污染顆粒的力是由旋轉(zhuǎn)形成的離心力和吹掃氣體流動形成的吹掃力的合力，所以，在污染顆粒的粘附力相同的條件下，和現(xiàn)有方法相比，本發(fā)明去除污染顆粒所需要的吹掃氣體的流量能得到減少，故能減少吹掃氣體流量。

技術(shù)特征：

1.一種掩模版清潔裝置，其特征在于，包括：吹掃臺和吹氣裝置；

2.如權(quán)利要求1所述的掩模版清潔裝置，其特征在于，還包括：承載臺和機械手；

3.如權(quán)利要求2所述的掩模版清潔裝置，其特征在于：所述吹掃臺、所述吹氣裝置和所述機械手設(shè)置在清潔腔中，所述承載臺設(shè)置在所述清潔腔外。

4.如權(quán)利要求1所述的掩模版清潔裝置，其特征在于：所述吹掃氣體包括氮氣。

5.如權(quán)利要求1所述的掩模版清潔裝置，其特征在于：所述噴嘴移動裝置包括噴嘴轉(zhuǎn)動部件，通過所述噴嘴轉(zhuǎn)動部件控制所述噴嘴的角度并使所述吹掃氣體的流動方向和所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣的延伸方向呈鈍角。

6.如權(quán)利要求1所述的掩模版清潔裝置，其特征在于：在所述清潔過程中，所述吹掃氣體的吹掃位置沿從所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的直線路徑移動。

7.如權(quán)利要求1或2所述的掩模版清潔裝置，其特征在于：所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的正面或者所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的反面。

8.如權(quán)利要求1所述的掩模版清潔裝置，其特征在于：所述噴嘴移動裝置包括一伸縮部件，通過所述伸縮部件控制所述噴嘴移動。

9.一種掩模版清潔方法，其特征在于，包括如下步驟：

10.如權(quán)利要求9所述的掩模版清潔方法，其特征在于：所述掩模版通過機械手從承載臺取出并移動放置在所述吹掃臺的所述放置部件上；

11.如權(quán)利要求10所述的掩模版清潔方法，其特征在于：所述吹掃臺、所述吹氣裝置和所述機械手設(shè)置在清潔腔中，所述承載臺設(shè)置在所述清潔腔外。

12.如權(quán)利要求9所述的掩模版清潔方法，其特征在于：所述吹掃氣體包括氮氣。

13.如權(quán)利要求9所述的掩模版清潔方法，其特征在于：在所述清潔過程中，所述噴嘴移動裝置通過噴嘴轉(zhuǎn)動部件控制所述噴嘴的角度并使所述吹掃氣體的流動方向和所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣的延伸方向呈鈍角。

14.如權(quán)利要求9所述的掩模版清潔方法，其特征在于：在所述清潔過程中，所述吹掃氣體的吹掃位置沿從所述掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的直線路徑移動。

15.如權(quán)利要求9或10所述的掩模版清潔方法，其特征在于：所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的正面或者所述掩模版的被吹掃面為所述掩模版的反面。

16.如權(quán)利要求15所述的掩模版清潔方法，其特征在于：所述掩模版的正面和反面都需要被清潔，在對所述掩模版的正面和反面中的一個面作為被吹掃面清潔完成后；對所述掩模版進行翻轉(zhuǎn)，接著將所述掩模版的正面和反面中另一個面作為被吹掃面完成清潔。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種掩模版清潔裝置，包括：吹掃臺和吹氣裝置。吹掃臺的第一表面上設(shè)置有掩模版的放置部件，用于放置并固定掩模版。吹掃臺還和旋轉(zhuǎn)裝置連接。吹氣裝置包括噴嘴，噴嘴和噴嘴移動裝置相連。在清潔過程中，旋轉(zhuǎn)裝置帶動吹掃臺和掩模版旋轉(zhuǎn)，噴嘴移動裝置控制噴嘴移動并使噴嘴噴出吹掃氣體的吹掃位置沿從掩模版的被吹掃面的中心到邊緣方向的路徑移動。本發(fā)明還公開了一種掩模版清潔方法。本發(fā)明能增加吹掃清潔效果和效率并同時能減少吹掃氣體流量。

技術(shù)研發(fā)人員：李冬妮,何洪波
受保護的技術(shù)使用者：上海華力集成電路制造有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30