本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及顯示器領(lǐng)域，具體涉及適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。

背景技術(shù)：

2014年以后，窄邊框顯示器大行其道，如今這種潮流可以說是遍及各個顯示領(lǐng)域。

手機也流行窄邊框，電視也流行窄邊框，就連一直滯后發(fā)展的筆記本電腦，也出現(xiàn)了窄邊框的產(chǎn)品。

窄邊框?qū)τ诋a(chǎn)品的品質(zhì)提升，其作用也是非常明顯的。窄邊框可以讓產(chǎn)品更加時尚，這是最直觀的作用。采用窄邊框設(shè)計的顯示產(chǎn)品，對于尺寸的利用更有優(yōu)勢，同樣的尺寸(包含外邊框)，窄邊框的產(chǎn)品屏幕顯示面積更大，對于筆記本以及手機來說，意味著更小的機身，更大的尺寸。

對于大屏幕的顯示器來說，產(chǎn)品的氣質(zhì)提升，對于追求時尚的用戶來說也是很有意義的。

目前現(xiàn)有技術(shù)的窄邊框設(shè)計是將框膠(sealant)設(shè)計于遮光層(bm)上，由于bm本身不透光，這會導(dǎo)致框膠的接著力或是強度不足，因此現(xiàn)有技術(shù)中采用在tft玻璃(又稱t側(cè)玻璃)對應(yīng)框膠的位置上，將金屬層由原本的全部遮蔽改為狹縫設(shè)計，并將原本由cf玻璃(又稱c側(cè)玻璃)側(cè)曝光方式改為t側(cè)玻璃曝光方式，以由上述的設(shè)計方式來確?？蚰z的設(shè)計強度可與預(yù)期相同。然而，這種設(shè)計方式需要將c側(cè)玻璃翻轉(zhuǎn)才能通過t側(cè)玻璃以進(jìn)行曝光，不利于生產(chǎn)效率的提高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種能夠通過c側(cè)玻璃進(jìn)行曝光的適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。

框膠的設(shè)置目的主要在于阻擋水氣，框膠與玻璃的接著力很強，而bm與玻璃的接著力差。如果框膠完全站在bm上，那水氣有可能會從bm滲入或是在面板有變形的狀況下，bm可能會從玻璃上面剝離。所以現(xiàn)有技術(shù)如果要做窄邊框的產(chǎn)品，均要保持框膠與玻璃有接著，這樣才能同時實現(xiàn)產(chǎn)品的窄邊框化和保留框膠良好的接著力，因此，現(xiàn)有技術(shù)在設(shè)計窄邊框產(chǎn)品時采用的均是將bm層設(shè)置在cf玻璃層，而將tft玻璃層側(cè)的金屬層設(shè)計成狹縫式以方便框膠層曝光。但是現(xiàn)有技術(shù)的這種工藝需要在制作過程中將基板翻轉(zhuǎn)以進(jìn)行曝光，從而使得基板的制作過程延長。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，將設(shè)置在cf玻璃層和ito層之間的bm設(shè)置成非連續(xù)的，能夠在保證框膠與玻璃的優(yōu)異的接著力的同時實現(xiàn)框膠層的曝光，從而能夠避免在基板的制作過程中需要將基板進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，縮短了工藝時間。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板，該基板從上至下依次包括：cf玻璃層、遮光層和ito層，其中，所述遮光層為非連續(xù)的，且包括連續(xù)遮光區(qū)和非連續(xù)遮光區(qū)。

“基板從上至下依次包括”并不表示基板的被應(yīng)用的方向，本發(fā)明僅是為了方便描述清楚而設(shè)定了從上至下的方向。

優(yōu)選地，所述非連續(xù)遮光區(qū)中含有至少兩個遮光部分，相鄰兩個遮光部分之間具有間隙。

優(yōu)選地，相鄰兩個遮光部分之間的間隙的寬度為s，且各個所述s獨立地為大于25微米。

優(yōu)選地，所述連續(xù)遮光區(qū)和所述非連續(xù)遮光區(qū)之間具有寬度為s的間隙，所述s為大于25微米。

優(yōu)選地，各個所述遮光部分的寬度l相同或不同，各個所述l獨立地為大于50微米且大于等于s。

本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，設(shè)置l獨立地為大于50微米且大于等于s時，可以在保證框膠層進(jìn)行照光的同時保證框膠層具有優(yōu)異的接著強度。

優(yōu)選地，所述連續(xù)遮光區(qū)設(shè)置在近基板中心區(qū)，以及所述非連續(xù)遮光區(qū)設(shè)置在遠(yuǎn)基板中心區(qū)。

所述遠(yuǎn)基板中心區(qū)也為近基板邊緣區(qū)域。

優(yōu)選地，所述ito層的上表面的一部分與所述遮光層直接接觸而另一部分與所述cf玻璃層中未覆蓋有所述遮光層的區(qū)域直接接觸。在本發(fā)明中，所述ito層連續(xù)設(shè)置在所述cf玻璃層的覆蓋有所述遮光層的下表面上，從而使得所述ito層為連續(xù)層，該處的連續(xù)層與前述的不連續(xù)的遮光層是相對的概念。通過前文描述可知，遮光層為不連續(xù)的層，這種不連續(xù)的遮光層使得未覆蓋遮光層的那部分cf玻璃層裸露。同時，通過設(shè)置連續(xù)的ito層，使得該ito層的上表面的一部分與所述遮光層直接接觸而另一部分與所述cf玻璃層中未覆蓋有所述遮光層的區(qū)域直接接觸。

優(yōu)選地，所述ito層的材料的成分主要為銦錫氧化物。

優(yōu)選地，該基板還包括框膠層，該框膠層設(shè)置在所述ito層的下表面的遠(yuǎn)基板中心區(qū)，且所述框膠層的至少部分在所述基板的厚度方向上與所述遮光層有重疊長度d，且該重疊長度d小于所述框膠層的寬度d。所述框膠層的至少部分在所述基板的厚度方向上與所述遮光層有重疊長度d表示，所述框膠層的至少部分與所述遮光層之間間隔有ito層，因此，所述框膠層與所述遮光層之間通過間隔ito層而在所述基板的厚度方向上有重疊長度d(并不是直接接觸而重疊)。

優(yōu)選情況下，形成所述框膠層的材料包括丙烯酸、環(huán)氧樹脂和光引發(fā)劑。

優(yōu)選地，所述d大于等于1/2d且小于d。更優(yōu)選地，所述d為500～1500微米。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過限定所述d大于等于1/2d且小于d時能夠確保采用本發(fā)明所述結(jié)構(gòu)的基板的框膠層充分曝光。

優(yōu)選情況下，所述ito層的下表面上具有第一臺階部，且該第一臺階部的踢面設(shè)置在所述遮光層的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣以外。在此，所述遮光層的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣是指所述遮光層的非連續(xù)遮光層的最邊緣。

優(yōu)選地，所述框膠層的上表面上具有對應(yīng)于所述第一臺階部的第二臺階部。也即，所述第二臺階部的踢面與所述第一臺階部的踢面重合。

優(yōu)選情況下，該基板還包括上表面的部分區(qū)域設(shè)置有金屬層的tft玻璃層，該tft玻璃層上設(shè)置有金屬層的側(cè)表面(即上表面)與所述框膠層的下表面結(jié)合，并且，所述框膠層的下表面和所述tft玻璃層的上表面之間不直接接觸，而是間隔有所述金屬層。

本發(fā)明的所述基板的近基板中心區(qū)還可以設(shè)置擴展cf像素層，該擴展cf像素層優(yōu)選設(shè)置在所述遮光層的連續(xù)遮光區(qū)與ito層之間，從而，所述ito層覆蓋所述擴展cf像素層。

優(yōu)選情況下，所述ito層的下表面的近基板中心區(qū)部分設(shè)置有第一配向?qū)印?/p>

優(yōu)選情況下，所述tft玻璃層的上表面的近基板中心區(qū)部分設(shè)置有第二配向?qū)?。?yōu)選地，該第二配向?qū)拥暮穸扰c所述金屬層的厚度可以相同。更優(yōu)選，所述第二配向?qū)雍退鼋饘賹又g不直接連接。

所述第一配向?qū)雍退龅诙湎驅(qū)拥钠矫嬷g留有間隙。

優(yōu)選情況下，在所述框膠層的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣部分設(shè)置有銀遷移層，該銀遷移層的上表面和下表面分別與ito層的下表面和金屬層的上表面直接接觸。

在本發(fā)明中，所述框膠層的上下表面以及所述銀遷移層的上下表面分別與ito層的下表面和金屬層的上表面直接接觸，且所述框膠層和所述銀遷移層的最大厚度相同，所述框膠層和所述銀遷移層的厚度使得所述框膠層的近基板中心區(qū)形成一個空間為活化區(qū)，該活化區(qū)內(nèi)可以填充例如液晶。

在沒有特別說明的情況下，本發(fā)明對所述基板中的各個層的厚度并沒有特別的限制，可以為本領(lǐng)域內(nèi)常規(guī)設(shè)置的厚度。

在沒有特別說明的情況下，本發(fā)明對所述基板中的各個層的材料沒有特別的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)常規(guī)使用的材料種類進(jìn)行選擇。

根據(jù)一種優(yōu)選的具體實施方式，本發(fā)明的所述適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板包括：cf玻璃層、遮光層、擴展cf像素層、ito層、第一配向?qū)印⒖蚰z層、銀遷移層、第二配向?qū)?、金屬層和tft玻璃層，

所述遮光層覆蓋在所述cf玻璃層的下表面的局部，該遮光層包括連續(xù)遮光區(qū)和非連續(xù)遮光區(qū)，且所述連續(xù)遮光區(qū)設(shè)置在近基板中心區(qū)，所述非連續(xù)遮光區(qū)設(shè)置在遠(yuǎn)基板中心區(qū)；

所述擴展cf像素層設(shè)置在所述遮光層的連續(xù)遮光區(qū)的下表面，

所述ito層連續(xù)設(shè)置在所述cf玻璃層的覆蓋有所述遮光層的表面上，使得該ito層的上表面的一部分與所述擴展cf像素層的下表面直接接觸，一部分與所述遮光層的下表面直接接觸，而另一部分與所述cf玻璃層中未覆蓋有所述遮光層的區(qū)域直接接觸；

所述第一配向?qū)釉O(shè)置在所述ito層的下表面的近基板中心區(qū)部分；

所述框膠層設(shè)置在所述ito層的下表面的遠(yuǎn)基板中心區(qū)，且所述框膠層的至少部分在所述基板的厚度方向上與所述遮光層有重疊長度d，且該重疊長度d小于所述框膠層的寬度d，

所述銀遷移層設(shè)置在所述框膠層的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣，且所述銀遷移層與所述框膠層的厚度相同，

所述金屬層連續(xù)設(shè)置在所述tft玻璃層的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的上表面，以及所述第二配向?qū)釉O(shè)置在所述tft玻璃層的近基板中心區(qū)的上表面，并且所述tft玻璃層的上表面通過所述金屬層的上表面與所述框膠層的下表面接觸。

本發(fā)明的基板中還可以包括像素單元層，例如rgb像素單元。

本發(fā)明對于形成所述適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板的方法沒有特別的限制，在本發(fā)明提供了前述所述適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠根據(jù)本領(lǐng)域的常規(guī)技術(shù)手段得到本發(fā)明的所述適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。例如先將cf玻璃入料，然后配向膜轉(zhuǎn)印，接著配向?qū)由?；以及tft玻璃入料，然后配向膜轉(zhuǎn)印，依次進(jìn)行配向?qū)由?、框膠涂布和液晶滴定；然后將cf玻璃與tft玻璃對組，并依次進(jìn)行曝光和烘烤。

本發(fā)明除了提供窄邊框產(chǎn)品技術(shù)外，基板中的框膠層依然能夠維持完全遮擋水氣，防止水氣從遮光層竄入至cf玻璃層和tft玻璃層之間的區(qū)域；本發(fā)明的適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板在制作過程中不需要將基板翻轉(zhuǎn)以進(jìn)行曝光，從而縮短了生產(chǎn)周期。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板的邊緣區(qū)域的結(jié)構(gòu)的截面示意圖。

圖2是包括圖1的邊緣區(qū)域的適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板的邊框結(jié)構(gòu)的截面示意圖。

附圖標(biāo)記說明

1、cf玻璃層2、遮光層

21、連續(xù)遮光區(qū)22、非連續(xù)遮光區(qū)

3、ito層4、框膠層

5、金屬層6、tft玻璃層

7、擴展cf像素層8、第一配向?qū)?/p>

9、第二配向?qū)?0、銀遷移層

11、活化區(qū)

具體實施方式

在本文中所披露的范圍的端點和任何值都不限于該精確的范圍或值，這些范圍或值應(yīng)當(dāng)理解為包含接近這些范圍或值的值。對于數(shù)值范圍來說，各個范圍的端點值之間、各個范圍的端點值和單獨的點值之間，以及單獨的點值之間可以彼此組合而得到一個或多個新的數(shù)值范圍，這些數(shù)值范圍應(yīng)被視為在本文中具體公開。

以下結(jié)合圖1說明本發(fā)明的適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板從上至下依次包括：

cf玻璃層1、遮光層2和ito層3，其中，所述遮光層2為非連續(xù)的，且包括連續(xù)遮光區(qū)21和非連續(xù)遮光區(qū)22。

優(yōu)選情況下，所述非連續(xù)遮光區(qū)22中含有至少兩個遮光部分，相鄰兩個遮光部分之間具有間隙。

優(yōu)選地，相鄰兩個遮光部分之間的間隙的寬度為s，且各個所述s獨立地為大于25微米。

優(yōu)選地，所述連續(xù)遮光區(qū)21和所述非連續(xù)遮光區(qū)22之間具有寬度為s的間隙，所述s為大于25微米。

優(yōu)選地，各個所述遮光部分的寬度l相同或不同，各個所述l獨立地為大于50微米且大于等于s。

優(yōu)選地，所述連續(xù)遮光區(qū)21設(shè)置在近基板中心區(qū)，以及所述非連續(xù)遮光區(qū)22設(shè)置在遠(yuǎn)基板中心區(qū)。

優(yōu)選地，所述ito層3的上表面的一部分與所述遮光層2直接接觸而另一部分與所述cf玻璃層1中未覆蓋有所述遮光層2的區(qū)域直接接觸。

優(yōu)選地，所述ito層3的材料的成分主要為銦錫氧化物。

優(yōu)選地，該基板還包括框膠層4，該框膠層4設(shè)置在所述ito層3的下表面的遠(yuǎn)基板中心區(qū)，且所述框膠層4的至少部分在所述基板的厚度方向上與所述遮光層2有重疊長度d，且該重疊長度d小于所述框膠層4的寬度d。

優(yōu)選情況下，形成所述框膠層4的材料包括丙烯酸、環(huán)氧樹脂和光引發(fā)劑。

優(yōu)選地，所述d大于等于1/2d且小于d。更優(yōu)選地，所述d為500～1500微米。

優(yōu)選地，所述ito層3的下表面上具有第一臺階部，且該第一臺階部的踢面設(shè)置在所述遮光層2的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣以外。

優(yōu)選情況下，所述框膠層4的上表面上具有對應(yīng)于所述第一臺階部的第二臺階部。

優(yōu)選情況下，該基板還包括上表面的部分區(qū)域設(shè)置有金屬層5的tft玻璃層6，該tft玻璃層6上設(shè)置有金屬層5的側(cè)表面(即上表面)與所述框膠層4的下表面結(jié)合，并且，所述框膠層4的下表面和所述tft玻璃層6的上表面之間不直接接觸，而是間隔有所述金屬層5。

本發(fā)明的所述基板的近基板中心區(qū)還可以設(shè)置擴展cf像素層7，該擴展cf像素層7優(yōu)選設(shè)置在所述遮光層2的連續(xù)遮光區(qū)21與ito層3之間，從而，所述ito層3覆蓋所述擴展cf像素層7。

優(yōu)選情況下，所述ito層3的下表面的近基板中心區(qū)部分設(shè)置有第一配向?qū)?。

優(yōu)選情況下，所述tft玻璃層6的上表面的近基板中心區(qū)部分設(shè)置有第二配向?qū)?。優(yōu)選地，該第二配向?qū)?的厚度與所述金屬層5的厚度相同。更優(yōu)選，所述第二配向?qū)?和所述金屬層5之間不直接連接。

所述第一配向?qū)?和所述第二配向?qū)?的平面之間留有間隙。

優(yōu)選情況下，在所述框膠層4的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣部分設(shè)置有銀遷移層10，該銀遷移層10的上表面和下表面分別與ito層3的下表面和金屬層5的上表面直接接觸。

在本發(fā)明中，所述框膠層4的上下表面以及所述銀遷移層10的上下表面分別與ito層3的下表面和金屬層5的上表面直接接觸，且所述框膠層4和所述銀遷移層10的最大厚度相同，所述框膠層4和所述銀遷移層10的厚度使得所述框膠層4的近基板中心區(qū)形成一個空間為活化區(qū)11，該活化區(qū)11內(nèi)可以填充例如液晶。

根據(jù)一種優(yōu)選的具體實施方式，為了更加清楚地說明本發(fā)明的所述適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板的結(jié)構(gòu)，以下結(jié)合圖2進(jìn)行詳細(xì)描述，本發(fā)明的所述適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板包括：cf玻璃層1、遮光層2、擴展cf像素層7、ito層3、第一配向?qū)?、框膠層4、銀遷移層10、第二配向?qū)?、金屬層5和tft玻璃層6，

所述遮光層2覆蓋在所述cf玻璃層1的下表面的局部，該遮光層2包括連續(xù)遮光區(qū)21和非連續(xù)遮光區(qū)22，且所述連續(xù)遮光區(qū)21設(shè)置在近基板中心區(qū)，所述非連續(xù)遮光區(qū)22設(shè)置在遠(yuǎn)基板中心區(qū)；

所述擴展cf像素層7設(shè)置在所述遮光層2的連續(xù)遮光區(qū)21的下表面，

所述ito層3連續(xù)設(shè)置在所述cf玻璃層1的覆蓋有所述遮光層2的表面上，使得該ito層3的上表面的一部分與所述擴展cf像素層7的下表面直接接觸，一部分與所述遮光層2的下表面直接接觸，而另一部分與所述cf玻璃層1中未覆蓋有所述遮光層2的區(qū)域直接接觸；

所述第一配向?qū)?設(shè)置在所述ito層3的下表面的近基板中心區(qū)部分；

所述框膠層4設(shè)置在所述ito層3的下表面的遠(yuǎn)基板中心區(qū)，且所述框膠層4的至少部分在所述基板的厚度方向上與所述遮光層2有重疊長度d，且該重疊長度d小于所述框膠層4的寬度d，

所述銀遷移層10設(shè)置在所述框膠層4的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的邊緣，并且所述銀遷移層10的最大厚度與所述框膠層4的最大厚度相同，

所述金屬層5連續(xù)設(shè)置在所述tft玻璃層6的遠(yuǎn)基板中心區(qū)的上表面，以及所述第二配向?qū)?設(shè)置在所述tft玻璃層6的近基板中心區(qū)的上表面，并且所述tft玻璃層6的上表面通過所述金屬層5的上表面與所述框膠層4和所述銀遷移層10的下表面接觸。

以下將通過實施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。

實施例1

采用前述優(yōu)選的具體實施方式所述的方法制備窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。

并且，在本實施例中：

d為500微米，d為800微米，s為40微米，l為65微米。

得到具有如圖2所示結(jié)構(gòu)的窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。

本實施例的框膠層的曝光可以通過使得uv光照從cf玻璃層那側(cè)射入即可，不必將面板進(jìn)行翻轉(zhuǎn)以進(jìn)行曝光，縮短了生產(chǎn)周期。

采用本實施例的方法和條件批量生產(chǎn)300片大板之后，使用大燈箱檢查基板,發(fā)現(xiàn)95％以上的基板均沒有液晶穿刺框膠層而導(dǎo)致的液晶外漏現(xiàn)象，并且本實施例批量生產(chǎn)的基板的框膠層的接著強度優(yōu)異。

實施例2

采用前述優(yōu)選的具體實施方式所述的方法制備窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。

并且，在本實施例中：

d為700微米，d為1200微米，s為60微米，l為60微米。

得到具有如圖2所示結(jié)構(gòu)的窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板。

本實施例的框膠層的曝光可以通過使得uv光照從cf玻璃層那側(cè)射入即可，不必將面板進(jìn)行翻轉(zhuǎn)以進(jìn)行曝光，縮短了生產(chǎn)周期。

采用本實施例的方法和條件批量生產(chǎn)300片大板之后，使用大燈箱檢查基板,發(fā)現(xiàn)96％以上的基板均沒有液晶穿刺框膠層而導(dǎo)致的液晶外漏現(xiàn)象，并且本實施例批量生產(chǎn)的基板的框膠層的接著強度優(yōu)異。

由上述結(jié)果可以看出，本發(fā)明除了提供窄邊框產(chǎn)品技術(shù)外，基板中的框膠層依然能夠維持完全遮擋水氣，防止水氣從遮光層竄入至cf玻璃層和tft玻璃層之間的區(qū)域；本發(fā)明的適用于窄邊框產(chǎn)品的框膠層曝光的基板在制作過程中不需要將基板翻轉(zhuǎn)以進(jìn)行曝光，從而縮短了生產(chǎn)周期。

以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但是，本發(fā)明并不限于此。在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡單變型，包括各個技術(shù)特征以任何其它的合適方式進(jìn)行組合，這些簡單變型和組合同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容，均屬于本發(fā)明的保護范圍。