本發(fā)明屬于電力設(shè)備射線探傷技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種適用于普通試驗室的x射線底片暗室處理裝置。

背景技術(shù)：

根據(jù)國家電網(wǎng)公司關(guān)于金具無損檢測及電廠設(shè)備無損檢測要求，金具整體、設(shè)備焊縫等處需要進行x射線檢測，射線檢測后的底片需要放置至完全無光的暗室進行處理。由于暗室完全無光的特殊要求，多數(shù)企業(yè)內(nèi)部試驗室條件無法滿足暗室要求，給底片沖洗帶來不便，影響檢測進度。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，而提出一種適用于普通試驗室的x射線底片暗室處理裝置。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題是采取以下技術(shù)方案實現(xiàn)的：

一種適用于普通試驗室的x射線底片暗室處理裝置，包括底部及四壁由黑色遮光塑料板制成，頂部由遮光黑色軟體布料制成的箱體，在箱體的底板上由前至后依次安裝有取片隔板、顯影隔板及停顯隔板，將箱體內(nèi)部區(qū)隔成取片區(qū)、顯影區(qū)、停顯區(qū)及定影區(qū)，取片隔板、顯影隔板及停顯隔板高度相同，且頂端與箱體頂面的軟體布料保持x射線底片通過的距離，在箱體前側(cè)壁上制有兩個對稱的帶有防光松緊套的手孔，在取片區(qū)中部上方的軟體布料上制有橫向前部單向拉鏈，在定影區(qū)中部上方的軟體布料上制有橫向后部單向拉鏈，在取片區(qū)中部上方的軟體布料上制有縱向雙向拉鏈，縱向雙向拉鏈由取片區(qū)向后延伸至定影區(qū)，在軟體布料的下方沿縱向雙向拉鏈兩側(cè)縱向固裝兩條縱向滑桿，在縱向雙向拉鏈上的縱向雙向拉頭下方固裝一根隨縱向雙向拉頭一同移動的橫桿，在橫桿兩端固裝套環(huán)，套環(huán)分別套在兩條縱向滑桿上，保障橫桿沿縱向滑桿的平行滑動，同時，在橫桿兩端下方固裝底片夾子，夾住底片的底片夾子隨橫桿的移動將底片分別帶到顯影區(qū)、停顯區(qū)及定影區(qū)。

而且，所述縱向雙向拉鏈在縱向雙向拉頭移動時始終保持合攏的封閉狀態(tài)。

而且，所述底片夾子緊貼取片隔板、顯影隔板及停顯隔板的上端移動。

本發(fā)明的優(yōu)點和積極效果是：

1、本發(fā)明的普通試驗室的x射線底片暗室處理裝置，是適用于任何試驗室的底片處理裝置，能夠進行快速底片沖洗并得出結(jié)果。

2、發(fā)明的x射線底片暗室處理裝置，節(jié)約了底片沖洗的時間，提高了工作效率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

以下對本發(fā)明實施例做進一步詳述：需要強調(diào)的是，本發(fā)明所述的實施例是說明性的，而不是限定性的，因此本發(fā)明并不限于具體實施方式中所述的實施例，凡是由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案得出的其它實施方式，同樣屬于本發(fā)明保護的范圍。

一種適用于普通試驗室的x射線底片暗室處理裝置，如圖1或2所示，包括底部及四壁由黑色遮光塑料板制成，頂部由遮光黑色軟體布料制成的箱體1，在箱體的底板上由前至后依次安裝有取片隔板3、顯影隔板4及停顯隔板5，將箱體內(nèi)部區(qū)隔成取片區(qū)、顯影區(qū)、停顯區(qū)及定影區(qū)，取片隔板、顯影隔板及停顯隔板高度相同，且頂端與箱體頂面的軟體布料保持x射線底片通過的距離，在箱體前側(cè)壁上制有兩個對稱的帶有防光松緊套的手孔7，在取片區(qū)中部上方的軟體布料上制有橫向前部單向拉鏈6，在定影區(qū)中部上方的軟體布料上制有橫向后部單向拉鏈11，在取片區(qū)中部上方的軟體布料上制有縱向雙向拉鏈10，縱向雙向拉鏈由取片區(qū)向后延伸至定影區(qū)，在軟體布料的下方沿縱向雙向拉鏈兩側(cè)縱向固裝兩條滑桿9，在縱向雙向拉頭2的下方固裝一根隨縱向雙向拉頭一同移動的橫桿12，在橫桿兩端固裝套環(huán)，套環(huán)分別套在兩條縱向滑桿上，保障橫桿沿滑桿的平行滑動，同時，在橫桿兩端固裝底片夾子8，夾住底片的底片夾子隨橫桿的移動將底片分別帶到顯影區(qū)、停顯區(qū)及定影區(qū)。

在本發(fā)明的具體實施中，所述縱向雙向拉鏈在縱向雙向拉頭移動時始終保持合攏的封閉狀態(tài)，縱向雙向拉頭帶動底片移動的過程中始終處于避光狀態(tài)。

在本發(fā)明的具體實施中，所述底片夾子緊貼取片隔板、顯影隔板及停顯隔板的上端移動，當在顯影區(qū)放有顯影液，定影區(qū)放有定影液時，底片能夠充分浸泡在顯影液或定影液中，完成底片的顯像過程。

工作過程

前部單向拉鏈可將帶有保護套的底片放入箱體內(nèi)部，后部單向拉鏈可將處理過的底片取出，雙向拉鏈的作用為拉動拉鏈時防止有光進入，損傷底片。試驗人員雙手伸入手孔，將底片從防護層內(nèi)取出，夾在夾子上，拉動雙向拉頭，底片隨滑桿依次進入顯影區(qū)、停顯區(qū)及定影區(qū)，每個區(qū)域停留時間按底片沖洗標準決定。

使用x射線底片暗室處理裝置可完全按照底片沖洗相關(guān)規(guī)定進行，不會影響試驗結(jié)果，可以在任意試驗室及現(xiàn)場進行底片沖洗，降低試驗室條件。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種適用于普通試驗室的X射線底片暗室處理裝置，包括箱體，在箱體底板上依次安裝取片隔板、顯影隔板及停顯隔板，將箱體內(nèi)部區(qū)隔成取片區(qū)、顯影區(qū)、停顯區(qū)及定影區(qū)，在箱體前側(cè)壁上制有兩個手孔，在取片區(qū)上方的布料上制有橫向前部單向拉鏈，在定影區(qū)上方的布料上制有橫向后部單向拉鏈，在取片區(qū)上方的布料上制有縱向雙向拉鏈，在布料下方沿縱向雙向拉鏈兩側(cè)固裝兩條縱向滑桿，在縱向雙向拉頭下方固裝隨拉頭移動的橫桿，橫桿沿縱向滑桿平行滑動，在橫桿兩端固裝底片夾子。本發(fā)明適用于任何試驗室的底片處理裝置，能進行快速底片沖洗并得出結(jié)果，節(jié)約時間，提高工作效率。

技術(shù)研發(fā)人員：李田;葉芳;李慶釗;齊文艷;傅思偉;劉創(chuàng)華;張迅達;甘智勇;郭軍科;陳韶瑜;文黎;溫力;曹建偉
受保護的技術(shù)使用者：國網(wǎng)天津市電力公司;國家電網(wǎng)公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.19
技術(shù)公布日：2017.07.14