技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法，包括：設(shè)計(jì)主圖形，所述主圖形為需要曝光顯影的各種圖形的集合；基于添加規(guī)則在主圖形上添加亞分辨率輔助圖形；進(jìn)行光刻仿真；掃描仿真結(jié)果,計(jì)算主圖形中各個(gè)圖形經(jīng)曝光后的尺寸，獲取無法達(dá)到設(shè)計(jì)目標(biāo)值或足夠工作窗口的圖形，設(shè)為工藝薄弱圖形；在工藝薄弱圖形周圍空隙添加滿足光刻版可制造性規(guī)則的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)的亞分辨率輔助圖形。通過在工藝薄弱圖形附近增加旋轉(zhuǎn)的亞分辨率輔助圖形，在原本受限無法添加輔助圖形的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)輔助圖形的添加，進(jìn)一步提升了主圖形對比度。因此，本發(fā)明具有提升薄弱點(diǎn)工藝窗口的顯著特點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：盧意飛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海集成電路研發(fā)中心有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.10
技術(shù)公布日：2017.08.18