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背光模組及其的制作方法與流程

文檔序號:12457749閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種背光模組,其特征在于,包括:

導(dǎo)光板,其一個板面為出光面;

反射膜,所述反射膜包括覆蓋在所述出光面上的正面區(qū),

其中,所述正面區(qū)內(nèi)設(shè)置有僅能透射偏振光的反射光柵區(qū),所述反射膜的反射面朝向所述導(dǎo)光板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述反射光柵區(qū)位于出光面的中部,所述反射膜覆蓋在出光面邊緣的部分形成用于遮光的遮光區(qū)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,導(dǎo)光板的一個側(cè)面為入光面,

所述反射膜還包括依次覆蓋在所述導(dǎo)光板除入光面的各個側(cè)面上的多個側(cè)面區(qū)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述導(dǎo)光板還包括與所述出光面相對的背面,

所述反射膜還包括覆蓋在所述背面上的背面區(qū)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的背光模組,其特征在于,所述反射膜包括透明的柔性板以及依次層疊在柔性板上的透明介質(zhì)層和金屬反射層,

所述柔性板與所述導(dǎo)光板相抵接,所述金屬反射層在所述反射光柵區(qū)內(nèi)的部分設(shè)置成線柵。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的背光模組,其特征在于,所述線柵的周期的范圍取值為20~500nm,其占空比為0.1~0.9。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的背光模組,其特征在于,所述透明介質(zhì)層的材料包括SiO2、SiO、MgO、Si3N4、TiO2、Ta2O5中的一種或多種。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的背光模組,其特征在于,金屬反射層的材料采用Al、Ag或Au。

9.一種制作背光模組的方法,包括以下步驟:

S10:將透明介質(zhì)層沉積在柔性板的一個板面上;

S20:將金屬反射層沉積在透明介質(zhì)層上;

S30:對金屬反射層進(jìn)行圖案化處理后形成線柵;

S40:將柔性板的另一個板面連接到導(dǎo)光板上,并使得線柵覆蓋在導(dǎo)光板的出光面上。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,在步驟S30中采用光刻工藝對金屬反射層進(jìn)行圖案化處理。

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