1.一種基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述方法包括：
獲得標準版圖幾何信息數(shù)據(jù)庫；
獲得待匹配版圖幾何信息；
將所述待匹配版圖幾何信息和所述標準版圖幾何信息數(shù)據(jù)庫中的幾何信息進行匹配；
根據(jù)所述匹配結果選取第一標準版圖；
將所述第一標準版圖所對應的光刻解決方案作為所述待匹配版圖的光刻解決方案候選，預測所述待匹配版圖的光刻解決方案。
2.根據(jù)權利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述獲得標準版圖幾何信息數(shù)據(jù)庫包括：
獲得標準版圖集合以及集合中各個標準版圖對應的光刻解決方案；
根據(jù)所述標準版圖獲得所述標準版圖的幾何信息；
對所述標準版圖幾何信息進行統(tǒng)計與分類；
根據(jù)所述標準版圖幾何信息的提取結果、統(tǒng)計結果、分類結果，獲得所述標準版圖幾何信息，并存入數(shù)據(jù)庫。
3.根據(jù)權利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述獲得待匹配版圖幾何信息包括：
獲得待匹配版圖的特征圖形；
根據(jù)所述特征圖形獲得所述特征圖形的幾何信息；
對所述特征圖形幾何信息進行統(tǒng)計與分類；
根據(jù)所述特征圖形幾何信息的提取結果、統(tǒng)計結果、分類結果，獲得所述待匹配版圖幾何信息，并存儲。
4.根據(jù)權利要求2所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述標準版圖的幾何信息包括：
標準版圖中所有圖形的線寬、間距、角對角的寬度、角對角的間距。
5.根據(jù)權利要求2所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述對標準版圖幾何信息進行統(tǒng)計包括：
統(tǒng)計標準版圖圖形的最大寬度、最小寬度、最大長度、最小長度、最大間距、最小間距、角對角的最大寬度、角對角的最小寬度、角對角的最大間距、角對角的最小間距、平均長度、平均寬度、角對角的平均寬度、角對角的平均間距、平均密度。
6.根據(jù)權利要求3所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述特征圖形的幾何信息包括：
特征圖形的線寬、間距、角對角的寬度、角對角的間距。
7.根據(jù)權利要求3所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述對特征圖形幾何信息進行統(tǒng)計包括：
統(tǒng)計特征圖形的最大寬度、最小寬度、最大長度、最小長度、最大間距、最小間距、角對角的最大寬度、角對角的最小寬度、角對角的最大間距、角對角的最小間距、平均長度、平均寬度、角對角的平均寬度、角對角的平均間距、平均密度。
8.根據(jù)權利要求3所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述特征圖形為所述待匹配版圖的全部版圖圖形或從版圖圖形中截取的特征區(qū)域，所述從版圖圖形中截取的特征區(qū)域為反映版圖實際結構的具有代表性的圖形。
9.根據(jù)權利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述匹配結果包括：
所述待匹配版圖與所述標準版圖的幾何信息相似度的評價結果、單項幾何指標匹配結果分布圖表和分析報告。
10.根據(jù)權利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預測方法，其特征在于，所述光刻解決方案包括：
光源形貌、光源偏振態(tài)、掩模版極性、數(shù)值孔徑、光刻疊層信息、焦深、曝光寬容度、掩模誤差增強因子、工藝窗口。