本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種在條狀色阻上設(shè)置特征圖形、保證自動光學(xué)檢測中抓取到最小重復(fù)單元的陣列基板、顯示裝置及陣列基板的制造方法。

背景技術(shù)：

隨著LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)技術(shù)的發(fā)展，人們對色阻層的性能要求越來越高，研究人員一直致力于將色阻層與陣列基板集成在一起，比較常用的有COA(color filter on array，彩膜位于陣列基板)技術(shù)，即將薄膜晶體管和色阻層均制備在同一基板上。

在采用COA結(jié)構(gòu)的陣列基板的制備過程中，一般先在基板上形成驅(qū)動器件層，然后在驅(qū)動器件層的上方形成色阻層。由于色阻層對可見光的透過率較低，在色阻制備完成后，會形成色阻層將其他膜層全部覆蓋，從AOI(Automatic Optic Inspection，光學(xué)自動檢測)設(shè)備上只能看到色阻層而看不到其他膜層。AOI設(shè)備是基于光學(xué)原理來對生產(chǎn)中遇到的常見缺陷進(jìn)行檢測的設(shè)備，通常地，對設(shè)置有薄膜晶體管的基板都需要進(jìn)行光學(xué)自動檢測。

然而如果色阻層中包含的色阻是長條形，，那么AOI設(shè)備只能抓取在色阻延伸方向延伸的第一組對邊。如圖1所示，示出了一種具有條狀色阻的色阻層1’的俯視圖，AOI設(shè)備只能在一個方向上抓取到第一組對邊A1’，而在與此方向垂直的另一方向上則無法抓取到第二組對邊，無法獲取最小重復(fù)單元，這樣就無法執(zhí)行光學(xué)檢測，從而引起不良率升高，或引起產(chǎn)能降低。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術(shù)中的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種陣列基板，保證自動光學(xué)檢測中抓取到最小重復(fù)單元，即使采用條狀色阻也可以進(jìn)行光學(xué)檢測。

本發(fā)明實施例提供一種陣列基板，包括：

基板，

多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線，所述掃描線沿第一方向排列，且沿第二方向延伸；

色阻層，所述色阻層、所述掃描線和所述數(shù)據(jù)線位于所述基板的同一側(cè)，所述色阻層包括多條不同顏色的條狀色阻，所述條狀色阻沿所述第一方向延伸，沿所述第二方向排列；

所述條狀色阻中設(shè)置有多個沿所述第一方向排列的特征圖形，且相鄰兩個沿所述第一方向排列的特征圖形在所述第一方向的節(jié)距為相鄰兩條所述掃描線在所述第一方向的節(jié)距的整數(shù)倍。

可選地，所述條狀色阻中還設(shè)置有多個沿所述第二方向排列的特征圖形。

可選地，相鄰兩個沿所述第二方向排列的特征圖形在所述第二方向上的節(jié)距為一所述條狀色阻在所述第二方向的寬度的整數(shù)倍。

可選地，所有所述特征圖形組成特征圖形矩陣。

可選地，所述第一方向垂直于所述第二方向。

可選地，所述特征圖形包括所述條狀色阻中的凹陷、凸起或通孔。

可選地，所述特征圖形為矩形，且所述矩形的一邊平行于所述第二方向。

可選地，所述特征圖形為圓角矩形。

可選地，所述特征圖形設(shè)置于兩條相鄰的所述條狀色阻之間。

可選地，所述特征圖形為兩條相鄰的所述條狀色阻的部分鋸齒邊緣相互嚙合的圖案。

可選地，還包括薄膜晶體管，在所述基板的法線方向，所述條狀色阻部分與所述薄膜晶體管交疊并有交疊區(qū)域，所述特征圖形位于所述交疊區(qū)域中。

可選地，所述特征圖形為所述條狀色阻中的通孔，所述通孔朝向所述薄膜晶體管的一端連通至所述薄膜晶體管的源/漏極金屬層。

可選地，在所述基板的法線方向，所述特征圖形不與所述掃描線存在交疊，且所述特征圖形不與所述數(shù)據(jù)線存在交疊。

可選地，還包括黑矩陣，所述黑矩陣與所述色阻層位于所述基板的同一側(cè)，在所述基板的法線方向，所述特征圖形與所述黑矩陣交疊。

本發(fā)明還涉及一種顯示裝置，包括上述的陣列基板。

本發(fā)明還涉及一種陣列基板的制備方法，包括以下步驟：

提供一基板；

在所述的基板的同一側(cè)形成多個掃描線、多個數(shù)據(jù)線和一色阻層，所述掃描線沿第一方向排列，且沿第二方向延伸；所述色阻層包括多條不同顏色的條狀色阻，所述條狀色阻沿第一方向延伸，沿第二方向排列；

所述條狀色阻中設(shè)置有多個沿所述第一方向排列的特征圖形，且相鄰所述特征圖形在所述第一方向的節(jié)距為相鄰兩條所述掃描線在所述第一方向的節(jié)距的整數(shù)倍。

可選地，所述條狀色阻中還設(shè)置有多個沿所述第二方向排列的特征圖形。

可選地，所述第一方向垂直于所述第二方向。

本發(fā)明所提供的陣列基板、顯示裝置及陣列基板的制造方法具有下列優(yōu)點：

本發(fā)明提供了一種在條形色阻上設(shè)置特征圖形的技術(shù)方案，在自動光學(xué)檢測過程中，不僅可以基于條狀色阻的邊界或特征圖形的邊界/連線來選取在第一方向延伸的第一組對邊，也可以基于特征圖形的邊界/連線來選取在第二方向延伸的第二組對邊，由第一組對邊和第二組對邊的交叉處得到最小重復(fù)單元，保證自動光學(xué)檢測中可以正常進(jìn)行，即使采用條狀色阻也可以進(jìn)行光學(xué)檢測，降低陣列基板生產(chǎn)過程中的不良率，提高產(chǎn)能。

附圖說明

通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點將會變得更明顯。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的具有條狀色阻的色阻層的俯視圖；

圖2是本發(fā)明的特征圖形在俯視圖中一設(shè)置方式的示意圖；

圖3是本發(fā)明的一實施例中陣列基板的截面圖；

圖4是本發(fā)明的未形成色阻層時的陣列基板的俯視圖；

圖5是本發(fā)明的特征圖形在俯視圖中另一設(shè)置方式的示意圖；

圖6是本發(fā)明的特征圖形在俯視圖中再一設(shè)置方式的示意圖；

圖7是本發(fā)明的另一實施例中陣列基板的截面圖；

圖8是本發(fā)明的再一實施例中陣列基板的截面圖。

具體實施方式

現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而，示例實施方式能夠以多種形式實施，且不應(yīng)被理解為限于在此闡述的實施方式；相反，提供這些實施方式使得本發(fā)明將全面和完整，并將示例實施方式的構(gòu)思全面地傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。在圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同或類似的結(jié)構(gòu)，因而將省略對它們的重復(fù)描述。

本發(fā)明實施例提供一種陣列基板，在條狀色阻上設(shè)置特征圖形，從而通過特征圖形的輔助來實現(xiàn)自動光學(xué)檢測過程中最小重復(fù)單元的抓取。

如圖2所示，為本發(fā)明的特征圖形在俯視圖中一設(shè)置方式的示意圖。其中，色阻層1中包括多個不同顏色的條狀色阻，所述條狀色阻沿一第一方向延伸，沿一第二方向排列。圖中的色阻層1中設(shè)置有多個沿所述第一方向排列的特征圖形4。其中，第一方向即為圖中的Y方向，第二方向即為圖中的X方向。

部分AOI設(shè)備對最小重復(fù)單元的抓取，需要探測最小重復(fù)單元在兩個相互垂直的方向上的兩組對邊，根據(jù)兩組對邊交叉的部分選取最小重復(fù)單元。

如圖2所示，在AOI設(shè)備進(jìn)行光學(xué)檢測的過程中，不僅可以抓取到在第一方向延伸的第一組對邊A1，也可以抓取到在第二方向延伸的第二組對邊A2，由兩組對邊A1和A2交叉的部分組成最小重復(fù)單元。第一組對邊A1可以根據(jù)條狀色阻的邊界進(jìn)行抓取，第二組對邊A2可以根據(jù)各個特征圖形的邊界進(jìn)行抓取。

該特征圖形4可選為矩形，且進(jìn)一步可選為圓角矩形。這樣有利于AOI設(shè)備的抓取，即可以依據(jù)特征圖形4沿第二方向延伸的邊界抓取第二組對邊A2。

如圖3所示，為本發(fā)明一實施例中的陣列基板的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。該陣列基板包括在圖中Z方向從下至上的：基板3、驅(qū)動器件層2和色阻層1，在該實施例中，特征圖形4為設(shè)置在色阻層1中的凹陷。

本發(fā)明實施例的驅(qū)動器件層2可以包括多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線。如圖4所示，為本發(fā)明實施例的未形成色阻層時的陣列基板的俯視圖。圖中示出了掃描線21和數(shù)據(jù)線22。此處掃描線21的排列方向即為第一方向Y，延伸方向即為第二方向X。且此處所述第一方向Y可選垂直于所述第二方向X。

在所述第一方向Y上排列的相鄰兩個特征圖形4在第一方向Y上的節(jié)距為相鄰兩條掃描線在第一方向Y的節(jié)距的整數(shù)倍。即，在第一方向Y上相鄰的兩個特征圖形4對應(yīng)位置之間的距離是一個子像素在第一方向Y上的長度的整數(shù)倍，并且可選為一倍。由此保證特征圖形4在色阻層1上的平均分布，在第二方向上延伸的第二組對邊A2在第一方向Y的間距也可以保證最小。在實際應(yīng)用中，此處整數(shù)倍也可以選取其他的倍數(shù)，而不限于此處可選的一倍。此外，當(dāng)只有兩個特征圖形4時，相鄰兩個特征圖形4在第一方向Y上的節(jié)距可以是兩個特征圖形4的中心點之間的距離。

如圖5所示，為本發(fā)明的特征圖形在俯視圖中另一設(shè)置方式的示意圖。其中，色阻層1中設(shè)置有多行多列的特征圖形4，所有所述特征圖形4組成特征圖形矩陣。

在該實施例中，第一組對邊A1不僅可以依靠條狀色阻的邊界進(jìn)行抓取，也可以依據(jù)同一列特征圖形4的連線進(jìn)行抓取；又因為所有特征圖形4不僅在所述第一方向排列，也在所述第二方向排列，在抓取第二組對邊A2時，也可以依據(jù)同一行特征圖形4的連線進(jìn)行抓取。

在實際應(yīng)用中，該特征圖形4也可以設(shè)置為其他形狀，例如圓形、半圓形、圓弧形、三角形、梯形等，而不限于圖5中示出的和此處列舉的情況。

另外，在實際應(yīng)用中，特征圖形4的行數(shù)和列數(shù)也可以根據(jù)實際需要進(jìn)行調(diào)整，均能實現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)效果，并屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。結(jié)合參考圖4和圖5，本發(fā)明的同一行特征圖形4的連線可選平行于所述掃描線21。當(dāng)各個特征圖形4為矩形時，特征圖形4在第二方向X延伸的邊可選平行于所述掃描線21。

本發(fā)明的同一列特征圖形4的連線可選平行于所述數(shù)據(jù)線22。當(dāng)各個特征圖形4為矩形時，特征圖形4在第一方向Y延伸的邊可選平行于所述數(shù)據(jù)線22。

另外，在沿所述第二方向X排列有多列特征圖形4的情況下，沿所述第二方向X排列的兩個特征圖形4在第二方向上的節(jié)距為條狀色阻在第二方向上的寬度的整數(shù)倍。在圖5中示出的可選實施例中，色阻層1中包括有三種顏色的條狀色阻：紅色、藍(lán)色和綠色，特征圖形4在第二方向上的節(jié)距為條狀色阻寬度的三倍，各個像素又包括三個子像素，即特征圖形4在第二方向上的節(jié)距也為第二方向上像素的間距的整數(shù)倍，且可選為一倍。當(dāng)色阻層1中包括有四種顏色的條狀色阻時，特征圖形4在第二方向上的節(jié)距也可以為條狀色阻寬度的四倍或四的倍數(shù)。此處列舉的僅為可選的實施方式，在實際應(yīng)用中，選擇其他的倍數(shù)也是可以實現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)效果的。

如圖6所示，為本發(fā)明的特征圖形在俯視圖中另一設(shè)置方式的示意圖。其中特征圖形4設(shè)置于兩條相鄰的條狀色阻之間，且為兩條相鄰的條狀色阻的部分鋸齒邊緣相互嚙合的圖案。采用這種方式的特征圖形4，同樣地不僅可以抓取到在第一方向延伸的第一組對邊A1，也可以抓取到在第二方向延伸的第二組對邊A2。同樣地，圖中示出的也僅為一種可選的實施方式，在實際應(yīng)用中，特征圖形4的形狀也可以采用其他的方式，例如波浪形圖案等，特征圖形的行數(shù)和列數(shù)也可以根據(jù)實際需要進(jìn)行調(diào)整，均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。另外，本發(fā)明的特征圖形4不僅可以設(shè)置為色阻層1上的凹陷，也可以設(shè)置為色阻層1上的通孔或突起。

如圖7所示，為本發(fā)明的另一實施例的陣列基板的剖視示意圖。其中特征圖形4為色阻層1中的通孔。且當(dāng)掃描線21和數(shù)據(jù)線22的交叉處設(shè)置有薄膜晶體管時，該通孔朝向薄膜晶體管的一端可選連通至薄膜晶體管的源/漏極金屬層。

如圖8所示，為本發(fā)明的再一實施例的陣列基板的剖視示意圖。其中特征圖形4為色阻層1上的突起。此時，特征圖形4可以與色阻層1一體設(shè)置，也可以不是一體設(shè)置。即，特征圖形4的形成可以是：形成色阻層1中某種顏色的色阻，然后通過半掩膜曝光形成色阻條和特征圖形4；或者特征圖形4的形成可以是：在色阻層1成沉積有機膜層或者無機膜層，然后通過曝光或者干刻形成特征圖形4。

另外，如圖3、7、8所示，在所述基板3的法線方向上，當(dāng)掃描線21和數(shù)據(jù)線22的交叉處設(shè)置有薄膜晶體管時，所述條狀色阻部分與所述薄膜晶體管交疊并有交疊區(qū)域，所述特征圖形4在所述基板3的垂直投影可選位于交疊區(qū)域在所述基板3的垂直投影中。由于黑矩陣作為遮光層需要遮擋住各個薄膜晶體管的部分，因此在所述基板3的法線方向上，所述特征圖形4在基板3的垂直投影位于所述黑矩陣在基板3的垂直投影中，也就不會影響包含該陣列基板的顯示面板的顯示效果。

另外，在基板3的法線方向，所述特征圖形4在基板3的垂直投影可選不與掃描線21在基板3的垂直投影存在交疊，且特征圖形4在基板3的垂直投影可選不與數(shù)據(jù)線22在基板3的垂直投影存在交疊。

在本發(fā)明的圖2、5、6中示出的各個特征圖形4在俯視圖中的形狀和尺寸是彼此相同的，這樣在工藝上更利于實現(xiàn)。然而在實際應(yīng)用中，各個特征圖形4在俯視圖中具有不同的形狀和尺寸也是可以實現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)效果的，均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

另外，在本發(fā)明的圖3、7、8中示出的各個特征圖形4在陣列基板的截面圖中的形狀和尺寸是彼此相同的，這樣在工藝上更利于實現(xiàn)。然而在實際應(yīng)用中，各個特征圖形4在截面圖中具有不同的形狀和尺寸也是可以實現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)效果的，均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

本發(fā)明實施例還提供一種顯示裝置，包括上述的陣列基板。所述顯示裝置可以是電腦顯示器、手機、平板電腦、電子相冊等廣泛應(yīng)用的顯示裝置。采用該種陣列基板的顯示裝置，在陣列基板制程階段，即使陣列基板中采用條狀色阻，也可以采用AOI設(shè)備進(jìn)行光學(xué)檢測，降低不良率，也避免了在顯示裝置使用過程中可能出現(xiàn)的故障，減小返修率，提升了用戶體驗。

本發(fā)明實施例還提供一種陣列基板的制備方法，包括以下步驟：

提供一基板；

在所述的基板的同一側(cè)形成多個掃描線、多個數(shù)據(jù)線和一色阻層，所述掃描線沿第一方向排列，且沿第二方向延伸；所述色阻層包括多條不同顏色的條狀色阻，所述條狀色阻沿第一方向延伸，沿第二方向排列；

所述條狀色阻中設(shè)置有多個沿所述第一方向排列的特征圖形，且相鄰所述特征圖形在所述第一方向的節(jié)距為相鄰兩條所述掃描線在所述第一方向的節(jié)距的整數(shù)倍。

進(jìn)一步地，所述條狀色阻中還可以設(shè)置有多個沿第二方向排列的特征圖形，且第一方向可選與第二方向垂直。這樣，增加了特征圖形的數(shù)量，更有利于AOI設(shè)備進(jìn)行光學(xué)檢測。

在陣列基板制備完成后，即可以采用AOI設(shè)備對陣列基板進(jìn)行光學(xué)檢測，首先在第一方向和第二方向分別選取最小重復(fù)單元的兩組對邊，具體地，可以基于特征圖形的邊界/連線來選取在第二方向延伸的第二組對邊A2，可以基于條狀色阻的邊界或特征圖形的邊界/連線來選取在第一方向延伸的第一組對邊A1。

在兩個方向上選取兩組對邊A1、A2后，即得到一個位于兩組對邊的交叉處的類似矩形的最小重復(fù)單元，然后通過最小重復(fù)單元與陣列基板其他部分的比對，從而進(jìn)行陣列基板中焊接、組裝等工藝的精密檢查，如果存在有工藝不良的情況，在陣列基板制備階段就可以發(fā)現(xiàn)，可以及時處理，減小顯示裝置的不良率，減小返修率，提高產(chǎn)能。

本發(fā)明所提供的陣列基板、顯示裝置及陣列基板的制造方法具有下列優(yōu)點：

本發(fā)明提供了一種在條形色阻上設(shè)置特征圖形的技術(shù)方案，在自動光學(xué)檢測過程中，不僅可以基于條狀色阻的邊界或特征圖形的邊界/連線來選取在第一方向延伸的第一組對邊，也可以基于特征圖形的邊界/連線來選取在第二方向延伸的第二組對邊，由第一組對邊和第二組對邊的交叉處得到最小重復(fù)單元，保證自動光學(xué)檢測中可以抓取到最小重復(fù)單元，即使采用條狀色阻也可以進(jìn)行光學(xué)檢測，降低陣列基板生產(chǎn)過程中的不良率，提高產(chǎn)能。

以上內(nèi)容是結(jié)合具體的可選實施方式對本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。