本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板及其驅(qū)動方法、顯示面板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)中，由于薄膜晶體管基板上的膜層種類和膜厚不同，造成基板膜層表面存在高低起伏的固有形貌，這種不平整的形貌會嚴重影響取向工藝的均一性；參照圖1(a)所示，為經(jīng)過取向工藝后的一個像素單元的俯視圖，該像素單元A被數(shù)據(jù)線11、數(shù)據(jù)線12以及柵線13、柵線14圍設(shè)而成，其中，取向方向為虛線箭頭所示，在進行摩擦取向工藝時，結(jié)合圖1(b)所示的沿圖1(a)中a-a切割線切割得到的剖視圖，摩擦輪15在固定位置高速旋轉(zhuǎn)(旋轉(zhuǎn)方向為ω方向)，而基板16沿與取向方向相反的方向移動，從而，使得摩擦輪15在基板16上產(chǎn)生摩擦痕跡，形成所需的取向方向。

然而，考慮到取向方向已經(jīng)確定，那么，針對該像素單元A而言，由于數(shù)據(jù)線的存在而導(dǎo)致基板表面有落差，進而，數(shù)據(jù)線11、柵線13靠近像素單元A的一側(cè)邊形成遮蔽區(qū)域x1，數(shù)據(jù)線12、柵線14靠近像素單元A的一側(cè)邊形成非遮蔽區(qū)域(未示出)；在取向工藝進行時，參照圖1(b)所示，摩擦輪15上的摩擦布的絨毛能夠充分接觸摩擦迎面相對的非遮蔽區(qū)域，而無法充分接觸摩擦遮蔽區(qū)域x1；從而，這種接觸摩擦不均勻會導(dǎo)致遮蔽區(qū)域x1錨定能較弱，非遮蔽區(qū)域錨定能較強。進一步，遮蔽區(qū)域x1的液晶分子排列混亂，非遮蔽區(qū)域的液晶分子排列近乎與像素單元A內(nèi)的排布規(guī)則一樣有序，因而，遮蔽區(qū)域x1易發(fā)生漏光等不良現(xiàn)象，影響顯示品質(zhì)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供一種彩膜基板及其驅(qū)動方法、顯示面板及顯示裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在傳統(tǒng)黑矩陣無法有效改善遮蔽區(qū)域漏光的問題。

本發(fā)明實施例采用以下技術(shù)方案：

一種彩膜基板，包括：基底，位于所述基底一側(cè)的彩色光阻，黑矩陣，所述黑矩陣包含多個沿第一方向延伸的黑矩陣條以及多個沿與所述第一方向垂直的第二方向延伸的黑矩陣條；還包括：

在所述基底的正投影分別位于各沿所述第一方向延伸和/或沿所述第二方向延伸的黑矩陣條兩側(cè)的第一可控遮擋部和第二可控遮擋部；且在所述彩膜基板處于工作狀態(tài)時，位于同一所述黑矩陣條兩側(cè)的所述第一可控遮擋部和所述第二可控遮擋部其中一呈透明狀，另一至少部分呈遮光狀。

可選地，所述第一可控遮擋部與所述第二可控遮擋部在所述基底上的正投影與相應(yīng)的黑矩陣條在所述基底上的正投影無縫銜接。

該技術(shù)方案可提升遮擋黑矩陣條任一側(cè)漏光的效果，有效改善漏光問題。

可選地，各所述黑矩陣條與所述彩色色阻同層且位于彩色光阻之間的縫隙處，所述第一可控遮擋部和第二可控遮擋部位于所述基底的另一側(cè)。

可選地，各黑矩陣條位于所述基底的另一側(cè)；所述第一可控遮擋部和所述第二可控遮擋部與相應(yīng)的黑矩陣條位于所述基底的同側(cè)。

可選地，所述第一可控遮擋部和所述第二可控遮擋部與相應(yīng)的黑矩陣條位于同一平面上，且相接觸。

由于黑矩陣條與可控遮擋層同層，從而，避免了光在彩膜基板內(nèi)行進時造成的散射等問題，更為有效的實現(xiàn)對信號線邊緣區(qū)域漏光的遮擋。

可選地，各所述第一可控遮擋部和第二可控遮擋部包含多個可控遮擋條，其中，所述多個可控遮擋條相互絕緣且并排設(shè)置。

該技術(shù)方案可提升遮擋漏光的精準度，實現(xiàn)對不同漏光現(xiàn)象的處理，有效提升改善的效率。

可選地，位于同一所述黑矩陣條兩側(cè)的所述第一可控遮擋部和所述第二可控遮擋部相對于該黑矩陣條呈鏡像設(shè)置。

該技術(shù)方案可保證改善漏光時的均一性。

可選地，各所述各個可控遮擋條的寬度相同。

該方案可保證相鄰可控遮擋條之間的調(diào)整幅度相同，以便于靈活實現(xiàn)對漏光的遮擋。

可選地，各所述第一可控遮擋部和各所述第二可控遮擋部包括層疊設(shè)置的第一透明電極和第二透明電極，以及夾設(shè)在所述第一透明電極和所述第二透明電極之間的電致變色層；

其中，所述電致變色層在所述第一透明電極和所述第二透明電極施加電壓時呈現(xiàn)透明狀，未施加電壓時呈現(xiàn)遮光狀；或，所述電致變色層在所述第一透明電極和所述第二透明電極施加電壓時呈現(xiàn)遮光狀，未施加電壓時呈現(xiàn)透明狀。

可選地，所述第一可控遮擋部以及第二可控遮擋部的寬度取值范圍為1.8μm-3.2μm。

該技術(shù)方案既可以實現(xiàn)對漏光的有效遮擋，還可以保證像素單元的開口率。

一種顯示面板，包括：所述的彩膜基板，以及與所述彩膜基板相對設(shè)置的陣列基板，夾設(shè)在所述彩膜基板與所述陣列基板之間的液晶層。

該技術(shù)方案所涉及的顯示面板既實現(xiàn)對漏光區(qū)域的遮光作用，又保證了正常區(qū)域的開口率。

一種顯示裝置，包括所述的顯示面板。

該技術(shù)方案所涉及的顯示裝置既實現(xiàn)對漏光區(qū)域的遮光作用，又保證了正常區(qū)域的開口率。

一種驅(qū)動權(quán)所述的彩膜基板的方法，包括：

在根據(jù)彩膜基板的摩擦取向方向確定遮蔽區(qū)域和非遮蔽區(qū)域之后，將所述遮蔽區(qū)域?qū)?yīng)的可控遮擋部調(diào)整為至少部分遮光，將所述非遮蔽區(qū)域?qū)?yīng)的可控遮擋部調(diào)整為透光。

本發(fā)明的有益效果如下：

該技術(shù)方案中，在黑矩陣條兩側(cè)(可不在同一水平面上)分別設(shè)置第一可控遮擋部與第二可控遮擋部，第一可控遮擋部在基底上的正投影與第二可控遮擋部在基底上的正投影分別位于沿第一方向延伸和/或沿第二方向延伸的黑矩陣條兩側(cè)，在不改變黑矩陣條的前提下，能夠有效控制遮擋信號線的膜層的寬度，具體通過調(diào)整黑矩陣條兩側(cè)中任一側(cè)的可控遮擋部，使得相應(yīng)可控遮擋部變?yōu)橹辽俨糠终诠鉅?，以實現(xiàn)遮擋漏光的目的，同時，針對另一側(cè)的可控遮擋部，使之保持透明狀，以保證一定的開口率。這樣，針對任一黑矩陣條兩側(cè)的區(qū)域，可以分別進行調(diào)整控制，既實現(xiàn)對漏光的遮擋，又保證了正常區(qū)域的開口率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡要介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1(a)-圖1(b)為現(xiàn)有技術(shù)中進行取向工藝時的原理示意圖；

圖2(a)為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖2(b)為圖2(a)所示的彩膜基板貼合陣列基板后形成的顯示面板示意圖；

圖3(a)-圖3(c)分別為本發(fā)明所涉及的三種類型的彩膜基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖5(a)-圖5(b)為第一可控遮擋部與第二可控遮擋部的具體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之三；

圖7(a)為可控遮擋部在工作狀態(tài)時的原理示意圖；

圖7(b)為可控遮擋部在非工作狀態(tài)時的原理示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步地詳細描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

下面通過具體的實施例對本發(fā)明所涉及的技術(shù)方案進行詳細描述，本發(fā)明包括但并不限于以下實施例。

如圖2(a)所示，為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，該彩膜基板主要包括：基底21，位于基底21一側(cè)的彩色光阻22，黑矩陣23，其中，該黑矩陣23包含多個沿第一方向延伸的黑矩陣條231以及多個沿與第一方向垂直的第二方向延伸的黑矩陣條231；此外，該彩膜基板還包括：在基底的正投影分別位于各沿第一方向延伸和/或沿第二方向延伸的黑矩陣條231兩側(cè)的第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25，在彩膜基板處于工作狀態(tài)時，位于同一黑矩陣條兩側(cè)的第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25其中一呈透明狀，另一至少部分呈遮光狀；為了更好的說明本發(fā)明彩膜基板的結(jié)構(gòu)以及該結(jié)構(gòu)所能達到的技術(shù)效果，可結(jié)合圖2(b)中由圖2(a)所示的彩膜基板貼合陣列基板后形成的顯示面板示意圖，黑矩陣條231在與彩膜基板A相對設(shè)置的陣列基板B上的正投影覆蓋陣列基板B的信號線L1；第一可控遮擋部24與第二可控遮擋部25均沿信號線L1方向延伸，在此需要說明的是，信號線L1的方向為圖示中垂直于剖面的方向；第一可控遮擋部24在基底21上的正投影與第二可控遮擋部25在基底21上的正投影分別位于黑矩陣條231的兩側(cè)，以實現(xiàn)在彩膜基板處于工作狀態(tài)時，位于同一黑矩陣條兩側(cè)的第一可控遮擋部和第二可控遮擋部其中一呈透明狀，另一至少部分呈遮光狀。

需要說明的是，上述實施例中所涉及的黑矩陣條的位置并不限于上述圖示2(a)中表示的位置，其僅作為一個示例來說明。

在本發(fā)明實施例中，第一可控遮擋部與第二可控遮擋部是分設(shè)在黑矩陣條兩側(cè)的，而黑矩陣中的黑矩陣條是分別沿第一方向以及第二方向延伸的，那么，第一可控遮擋部與第二可控遮擋部的具體圖案可以包括以下類型：

類型1：僅在沿第一方向延伸的黑矩陣條的兩側(cè)設(shè)置有第一可控遮擋部和第二可控遮擋部

具體地，參照圖3(a)所示，該方案中黑矩陣呈網(wǎng)格排布，具體的排布方式可以是同層設(shè)置也可以是異層設(shè)置，需要根據(jù)實際的設(shè)計需求設(shè)置。在每個沿第一方向(例如為數(shù)據(jù)線延伸方向)延伸的黑矩陣條231兩側(cè)，布設(shè)有第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25，從而，實現(xiàn)對數(shù)據(jù)線兩側(cè)可能出現(xiàn)的漏光的遮擋。

類型2：僅在沿第二方向延伸的黑矩陣條的兩側(cè)設(shè)置有第一可控遮擋部和第二可控遮擋部

參照圖3(b)所示，在每個沿第二方向(例如柵線延伸方向)延伸的黑矩陣條231的兩側(cè)，布設(shè)有第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25，從而，實現(xiàn)對柵線兩側(cè)可能出現(xiàn)的漏光進行遮擋。

類型3：在沿第一方向延伸的黑矩陣條以及沿第二方向延伸的黑矩陣條的兩側(cè)均設(shè)置有第一可控遮擋部和第二可控遮擋部

參照圖3(c)所示，在每個沿第一方向(例如數(shù)據(jù)線延伸方向)延伸的黑矩陣條231兩側(cè)，布設(shè)有第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25，同時，在每個沿第二方向(例如柵線延伸方向)延伸的黑矩陣條231兩側(cè)，布設(shè)有第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25，從而，實現(xiàn)對數(shù)據(jù)線兩側(cè)以及柵線兩側(cè)可能出現(xiàn)的漏光進行遮擋。

進一步，基于圖3(c)所示的方案，沿第一方向(例如數(shù)據(jù)線方向)延伸的黑矩陣條231兩側(cè)設(shè)置的第一可控遮擋部24、第二可控遮擋部25與沿第二方向(例如柵線方向)延伸的黑矩陣條231兩側(cè)的第一可控遮擋部24、第二可控遮擋部25同層設(shè)置，且在交叉區(qū)域絕緣跨接。從而，實現(xiàn)了同時對數(shù)據(jù)線兩側(cè)以及柵線兩側(cè)可能出現(xiàn)的漏光進行遮擋，而且，還通過絕緣跨接防止相互干擾。

通過該技術(shù)方案，在彩膜基板的黑矩陣條兩側(cè)(可不在同一水平面上)分別設(shè)置第一可控遮擋部、第二可控遮擋部，在不改變現(xiàn)有黑矩陣寬度的前提下，能夠通過控制可控遮擋部實現(xiàn)遮擋信號線任一側(cè)由于取向不均勻而導(dǎo)致的漏光的目的；具體地，在彩膜基板處于工作狀態(tài)時，位于同一所述黑矩陣條兩側(cè)的所述第一可控遮擋部和所述第二可控遮擋部，其中對應(yīng)遮蔽區(qū)域的可控遮擋部至少部分呈遮光狀，以實現(xiàn)遮擋漏光的目的，同時，對應(yīng)非遮蔽區(qū)域的可控遮擋部呈透明狀，以保證一定的開口率。

可選地，在本發(fā)明實施例中，參照圖2(a)所示，第一可控遮擋部24與第二可控遮擋部25在基底上的正投影與相應(yīng)的黑矩陣條231在基底上的正投影無縫銜接?？紤]到在信號線的兩側(cè)，越是靠近信號線的位置處，其在進行摩擦取向工藝時被接觸的可能性就越小，因而，該處的錨定能越弱，進而導(dǎo)致此處易發(fā)生漏光；由此，第一可控遮擋部24與第二可控遮擋部25與黑矩陣條231無縫銜接，可提升遮擋信號線任一側(cè)漏光的效果，有效改善漏光問題。

基于上述實施例所提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)，下面根據(jù)黑矩陣條的具體位置可進一步存在以下兩種彩膜基板結(jié)構(gòu)：

結(jié)構(gòu)1：

參照圖4所示，各黑矩陣條231與彩色光阻22同層且位于彩色光阻22之間的縫隙處，第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25位于基底21的另一側(cè)。

結(jié)構(gòu)2：

參照圖2(a)所示，各黑矩陣條231位于基底21的另一側(cè)，其中，第一可控遮擋部24與第二可控遮擋部25與相應(yīng)的黑矩陣條231位于基底的同側(cè)。

優(yōu)選地，仍參照圖2(a)所示，第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25與相應(yīng)的黑矩陣條231位于同一平面上，且相接觸。

由于黑矩陣條與可控遮擋部同層，從而，避免了光在彩膜基板內(nèi)行進時造成的散射等問題，更為有效的實現(xiàn)對信號線邊緣區(qū)域漏光的遮擋。

在本發(fā)明實施例中，第一可控遮擋部和第二可控遮擋部中包含可控遮擋條：

一種可實現(xiàn)的方案，第一可控遮擋部與第二可控遮擋部均包含一個可控遮擋條，參照圖5(a)所示，第一可控遮擋部24包含一個可控遮擋條L1，第二可控遮擋部25包含一個可控遮擋條R1，其實，可以理解為第一可控遮擋部24為可控遮擋條L1，第二可控遮擋部25為可控遮擋條R1。

另一種可實現(xiàn)的方案，各第一可控遮擋部和各第二可控遮擋部包含多個可控遮擋條，其中，多個可控遮擋條相互絕緣且并排設(shè)置。參照圖5(b)所示，第一可控遮擋部24包含可控遮擋條L1、可控遮擋條L2、可控遮擋條L3；第二可控遮擋部25包含可控遮擋條R1、可控遮擋條R2、可控遮擋條R3。圖5(b)中示出的第一可控遮擋部和第二可控遮擋部包含了相等個數(shù)的可控遮擋條，其實，本發(fā)明并不限于此，還涵蓋第一可控遮擋部和第二可控遮擋部包含不相等個數(shù)的可控遮擋條的方案。

其實，考慮到遮光特性，第一可控遮擋部與第二可控遮擋部中每個可控遮擋部僅包含一個可控遮擋條，即可實現(xiàn)對信號線任一側(cè)的漏光的遮擋。因此，圖5(a)所示的結(jié)構(gòu)較為簡單，實現(xiàn)較為便捷。然而，考慮到液晶分子的排布不規(guī)則性，每次施加電壓后的偏轉(zhuǎn)方向以及偏轉(zhuǎn)程度可能不一致，進而，會導(dǎo)致漏光程度以及寬度不一致，因而，本發(fā)明為了提升遮擋漏光的精準度，第一可控遮擋部與第二可控遮擋部中每個可控遮擋部可以包含多個可控遮擋條，從而，實現(xiàn)對不同漏光現(xiàn)象的處理，有效提升改善的效率。

需要說明的是，為了便于說明，在圖5(a)-圖5(b)中，第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25分別以虛線框表示，且以黑矩陣條的中軸線(圖中虛線條所示)為界限分設(shè)在黑矩陣條(未示出)兩側(cè)。

一般情況下，針對同一信號線，其任意一側(cè)的邊緣成為遮蔽區(qū)域的可能性是相等的，因此，為了保證改善漏光時的均一性，可選地，基于圖5(b)所示的方案，位于同一黑矩陣條231兩側(cè)的第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25相對于該黑矩陣條呈鏡像設(shè)置。具體參照圖5(b)所示，第一可控遮擋部24中包含可控遮擋條L1、可控遮擋條L2、可控遮擋條L3；第二可控遮擋部25中包含可控遮擋條R1、可控遮擋條R2、可控遮擋條R3；其中，可控遮擋條L1與可控遮擋條R1以黑矩陣條231的軸線對稱設(shè)置，同理，可控遮擋條L2與可控遮擋條R2以黑矩陣條231的軸線對稱設(shè)置，可控遮擋條L3與可控遮擋條R3以黑矩陣條231的軸線對稱設(shè)置。

可選地，在本發(fā)明實施例中，參照圖6所示，第一可控遮擋部24和第二可控遮擋部25中的各個可控遮擋條的寬度相同，從而，保證相鄰可控遮擋條之間的調(diào)整幅度相同，以便于靈活實現(xiàn)對漏光的遮擋。

在本發(fā)明實施例中，各第一可控遮擋部和各第二可控遮擋部可以為其他可實現(xiàn)透明與非透明的膜層結(jié)構(gòu)，可選地，參照圖7(a)-圖7(b)所示，以第一可控遮擋部為例，該第一可控遮擋部包括層疊設(shè)置的第一透明電極201和第二透明電極202，以及夾設(shè)在第一透明電極201和第二透明電極202之間的電致變色層203；其中，電致變色層203在第一透明電極201和第二透明電極202施加電壓時呈現(xiàn)透明狀，未施加電壓時呈現(xiàn)遮光狀；或，電致變色層203在第一透明電極201和第二透明電極202施加電壓時呈現(xiàn)遮光狀，未施加電壓時呈現(xiàn)透明狀。需要說明的是，圖7(a)與圖7(b)僅以電致變色層203在第一透明電極201和第二透明電極202施加電壓時呈現(xiàn)遮光狀，未施加電壓時呈現(xiàn)透明狀為例。其中，電致變色層的材料為有機導(dǎo)電聚合物，在電致變色層兩側(cè)的電極施加有電壓時，電致變色材料對光線的反射率和吸收率提高，對光線的透過率降低，在外觀上體現(xiàn)為黑色；當取消施加在電致變色層兩側(cè)的電極上的電壓時，電致變色材料對光線的反射率和吸收率降低，對光線的透過率提高，在外觀上體現(xiàn)為透明。另外，需要說明的是，當可控遮擋部為上述電致變色結(jié)構(gòu)時，第一可控遮擋部以及第二可控遮擋部需設(shè)置在彩膜基板的出光側(cè)；由于第一可控遮擋部以及第二可控遮擋部需要施加電壓才可以工作，因而，設(shè)置于彩膜基板的出光側(cè)，一方面可以避免對其他膜層的干擾，另一方面，可以降低布線復(fù)雜度。

可選地，本發(fā)明實施例中所涉及的第一可控遮擋部以及第二可控遮擋部的寬度取值范圍為1.8μm-3.2μm，厚度取值范圍為1μm-1.7μm；可選地，第一可控遮擋部以及第二可控遮擋部的寬度具體為3μm，從而，既可以實現(xiàn)對漏光的有效遮擋，還可以保證像素單元的開口率。

進一步，依據(jù)上述各個實施例可知，為了實現(xiàn)更為精確的遮擋控制，第一可控遮擋部、第二可控遮擋部中的各個可控遮擋條分別連接不同的控制端；這樣，就可以根據(jù)實際的漏光區(qū)域確定第一可控遮擋部或第二可控遮擋部中對應(yīng)的可控遮擋條的個數(shù)，一般情況下，會按照由靠近信號線至遠離信號線的順序，例如：參照圖6所示，第一可控遮擋部對應(yīng)遮蔽區(qū)域，若該遮蔽區(qū)域的漏光情況嚴重，則可同時控制可控遮擋條L1、可控遮擋條L2、可控遮擋條L3呈遮光狀；若該遮蔽區(qū)域的漏光情況不嚴重，則可僅控制可控遮擋條L1為遮光狀，或者，控制可控遮擋條L1、可控遮擋條L2呈透明狀。

同理，本發(fā)明還提供了一種顯示面板，參照圖8所示，該顯示面板包括：上述任一實施例所涉及的彩膜基板P1，以及與彩膜基板P1相對設(shè)置的陣列基板P2，夾設(shè)在彩膜基板P1與陣列基板P2之間的液晶層P3。該顯示面板中的彩膜基板P1能夠?qū)崿F(xiàn)對由于取向不均勻而導(dǎo)致信號線邊緣漏光的遮擋的目的。

此外，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的任意一種顯示面板，其中，所述顯示裝置可以為手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。對于該顯示裝置的其它必不可少的組成部分均為本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解具有的，在此不做贅述，也不應(yīng)作為對本發(fā)明的限制。

同時，本發(fā)明實施例還提供了一種驅(qū)動上述的彩膜基板的方法，主要包括：在根據(jù)彩膜基板的摩擦取向方向確定遮蔽區(qū)域和非遮蔽區(qū)域之后，將所述遮蔽區(qū)域?qū)?yīng)的可控遮擋部調(diào)整為至少部分遮光，將所述非遮蔽區(qū)域?qū)?yīng)的可控遮擋部調(diào)整為透光。

盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。