本公開涉及液晶顯示器(LCD)以及制造該液晶顯示器的方法。

背景技術：

一般地，液晶顯示器(LCD)包括陣列基板、面對陣列基板的對基板、以及插置在陣列基板和對基板之間的液晶層。LCD包括在其中布置多個像素以顯示圖像的顯示區(qū)域以及設置在顯示區(qū)域周圍并在其中放置驅動電路的非顯示區(qū)域。

近來，已經發(fā)展了采用陣列上濾色器(COA)基板的高透射率LCD，在陣列上濾色器基板中濾色器形成在陣列基板上。在該LCD中，COA基板可能在其聯(lián)接到具有光阻擋構件的對基板時與對基板未對準。為了防止該問題，正在開發(fā)在其中光阻擋構件形成在COA基板上的陣列上黑矩陣(BOA)基板。此外，正在開發(fā)黑色柱間隔物(BCS)。BCS通過利用相同材料與光阻擋圖案同時地形成柱間隔物而獲得，該柱間隔物保持光阻擋圖案和基板之間的間隔。

在BOA或BCS結構中，公共電壓可以通過密封構件中包括的導電球而被施加到設置在對基板上的公共電極。為此，用于施加公共電壓的開口可以形成在光阻擋圖案中。然而，盡管形成開口，但導電球和公共電極也可能由于光阻擋圖案的厚度而難以彼此接觸。為了解決該問題，虛設濾色器可以被放置在該開口下面以形成臺階。

在大尺寸面板的情形下，光阻擋圖案和虛設濾色器通常利用縫針式照射(stitch-shot)法制造。然而，在利用該方法形成時，光阻擋圖案和虛設濾色器可具有不同的縫針式照射構造，并且光阻擋圖案的開口可能與用于形成臺階的虛設濾色器未對準。結果，設置在開口下面的金屬可能暴露，并且被暴露的金屬反射的光會被看到。

技術實現要素：

本公開的方面提供一種顯示裝置以及制造該顯示裝置的方法，該顯示裝置被構造為防止由設置在短路點下面的金屬引起的反射。

然而，本公開的方面不限于此處闡述的這些。對于本公開所屬領域中的普通技術人員而言，通過參考以下給出的示例性實施方式的詳細描述，本公開的以上和其它方面將變得更加明顯。

根據本公開的方面，提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括：第一基板和第二基板，包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，并且被放置為彼此面對；液晶層，插置在第一基板和第二基板之間；光阻擋圖案，包括形成在非顯示區(qū)域中的第一基板上的開口部分；以及虛設顏色層，設置在第一基板上的開口部分下面并在與開口部分相應的位置處，其中開口部分和虛設顏色層在一方向上延伸。

第一基板還可以包括設置在非顯示區(qū)域中的扇出部分，開口部分和虛設顏色層可以跨扇出部分延伸。

開口部分的長度和虛設顏色層的長度可以大于顯示區(qū)域的寬度。

虛設顏色層的寬度可以大于或等于開口部分的寬度。

開口部分可以完全交疊虛設顏色層。

第一基板還可以包括：設置在非顯示區(qū)域中的扇出部分以及由開口部分暴露的公共電壓線，其中公共電壓線在一方向上延伸以橫越扇出部分。

顯示裝置還可以包括設置在非顯示區(qū)域中的密封構件，其中開口部分設置在由密封構件內部的區(qū)域交疊的區(qū)域中。

虛設顏色層可以設置在由密封構件內部的所述區(qū)域交疊的所述區(qū)域中。

顯示裝置還可以包括由開口部分暴露的公共電壓線，其中公共電壓線設置在由密封構件內部的所述區(qū)域交疊的所述區(qū)域中。

密封構件可以包括導電構件。

顯示裝置還可以包括：設置在第二基板上的公共電極；以及由開口部分暴露的公共電壓線，其中導電構件設置在公共電極和公共電壓線之間以接觸公共電極和公共電壓線。

第一基板還可以包括設置在非顯示區(qū)域中的扇出部分以及被扇出部分至少部分地交疊的光阻擋金屬層。

虛設顏色層可以是藍色的。

虛設顏色層可以包括順序地層疊的第一虛設顏色層和第二虛設顏色層， 其中第一虛設顏色層和第二虛設顏色層具有不同的顏色。

第一虛設顏色層可以是紅色的，第二虛設顏色層可以是藍色的。

開口部分可以包括放置為彼此面對的第一開口和第二開口，顯示區(qū)域插置在第一開口和第二開口之間。

虛設顏色層可以包括與第一開口相應的第一虛設顏色層以及與第二開口相應的第二虛設顏色層。

第一開口和第一虛設顏色層可以跨扇出部分延伸。

第一和第二開口的長度以及第一和第二虛設顏色層的長度可以大于顯示區(qū)域的寬度。

根據本公開的另一方面，提供一種制造顯示裝置的方法，該方法包括：在包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域的第一基板上在非顯示區(qū)域中形成虛設顏色層，使其在一方向上延伸；以及在虛設顏色層上形成光阻擋圖案，其中光阻擋圖案包括開口部分，該開口部分對應于虛設顏色層并且在與其中虛設顏色層延伸的方向基本上相同的方向上延伸。

第一基板還可以包括設置在非顯示區(qū)域中的扇出部分，開口部分和虛設顏色層可以跨扇出部分延伸。

開口部分的長度和虛設顏色層的長度可以大于顯示區(qū)域的寬度。

開口部分和虛設顏色層可以利用縫針式照射方法形成。

該方法還可以包括：在第一基板上在顯示區(qū)域中形成第一濾色器層；以及在第一基板上在顯示區(qū)域中形成第二濾色器層，其中虛設顏色層與第一濾色器層或第二濾色器層同時形成。

開口部分可以包括放置為彼此面對的第一開口和第二開口，顯示區(qū)域插置在第一開口和第二開口之間，虛設顏色層可以包括與第一開口部分相應的第一虛設顏色層以及與第二開口相應的第二虛設顏色層。

第一基板還可以包括設置在非顯示區(qū)域中的扇出部分，第一開口和第一虛設顏色層可以跨扇出部分延伸。

附圖說明

通過參考附圖考慮在此處公開的詳細的示例性實施方式，本公開的以上和其它方面及特征將變得更加明顯，在圖中：

圖1是根據本公開的實施方式的顯示裝置的示意性平面圖；

圖2是圖1的區(qū)域‘A’的放大圖；

圖3是沿圖2的線III-III'截取的截面圖；

圖4是圖1的顯示裝置的短路點結構的示意性平面圖；

圖5是圖1的區(qū)域‘B’的放大圖；

圖6是沿圖5的線VI-VI'截取的截面圖；

圖7是圖1的區(qū)域‘C’的放大圖；

圖8是沿圖7的線VIII-VIII'截取的截面圖；

圖9是沿著與圖5的線VI-VI'相應的線截取的根據本公開另一實施方式的顯示裝置的截面圖；

圖10和11是沿著與圖5的線VI-VI'相應的線截取的根據本公開的其它實施方式的顯示裝置的截面圖；

圖12和13示出根據本公開的其它實施方式的顯示裝置的短路點；

圖14是根據本公開另一實施方式的顯示裝置的示意性平面圖；以及

圖15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25和26是示出根據本公開的實施方式的制造顯示裝置的方法的步驟的截面圖。

具體實施方式

在此處示例性實施方式的描述中，相同的附圖標記通篇指代相同的元件。當前公開的示例性實施方式可以變化，而不應被理解為限制本公開。因此，示例性實施方式僅在以下通過參考附圖被描述以說明本公開的多個方面。

一個元件連接到或聯(lián)接到另一元件的描述包括其中一個元件直接連接到另一元件的情形或其中中間元件插置在元件之間的情形。然而，一個元件直接連接或直接聯(lián)接到另一元件的描述表示在元件之間沒有中間元件。術語“和/或”包括一個或多個相關列舉項目的任意和所有組合。

在本說明書中的單數表述還包括復數表述。術語“包括”和/或“包含”并未排除一個或多個其它組件、步驟、操作和/或器件的存在或添加的可能性。

在以下的描述中，假設根據本公開的一些示例性實施方式的顯示裝置是液晶顯示(LCD)裝置，但是本公開不限于此。也就是，除LCD裝置以外，本公開也可應用于各種顯示裝置。

在下文中，將參考附圖描述本公開的實施方式。

圖1是根據本公開的實施方式的顯示裝置10的示意性平面圖。圖2是圖1的區(qū)域‘A’的放大圖。圖3是沿圖2的線III-III'截取的截面圖。圖4是圖1的顯示裝置10的短路點結構的示意性平面圖。圖5是圖1的區(qū)域‘B’的放大圖。圖6是沿圖5的線VI-VI'截取的截面圖。圖7是圖1的區(qū)域‘C’的放大圖。圖8是沿圖7的線VIII-VIII'截取的截面圖。

參考圖1至8，顯示裝置10包括第一顯示基板100、面對第一顯示基板100的第二顯示基板200、以及插置在第一顯示基板100和第二顯示基板200之間的液晶層300。

顯示裝置10包括顯示區(qū)域DA和非顯示區(qū)域NDA。布置成矩陣的多個像素可以被限定在顯示區(qū)域DA中。

像素電極182可以設置在第一顯示基板100的顯示區(qū)域DA的每個像素中。像素電極182可以通過薄膜晶體管(TFT)接收數據電壓。公共電極212可以形成在顯示區(qū)域DA的整個表面上作為交疊所有的像素的單件(single piece)并且設置在第二顯示基板200上。像素電極182可以與公共電極212一起產生電場，由此控制插置在像素電極182和公共電極212之間的液晶層300的液晶分子的排列方向。

提供數據驅動信號的數據驅動器400和提供柵驅動信號的柵驅動器500可以設置在第一顯示基板100的顯示區(qū)域DA之外。

數據驅動器400可以從時序控制器(未示出)接收圖像信號和數據控制信號。數據驅動器400可以響應于數據控制信號而產生與圖像信號相應的模擬數據電壓。數據驅動器400可以經由數據傳輸線142a和數據線142向每個像素提供數據電壓。數據傳輸線142a和數據線142可以彼此電連接。

數據驅動器400可以包括多個數據驅動器芯片410。數據驅動器芯片410可以安裝在相應的第一柔性印刷電路板(FPCB)420上并因此連接到非顯示區(qū)域NDA中的驅動電路板430和數據焊盤(未示出)。雖然在圖中未示出，在其上安裝數據驅動器芯片410的第一FPCB 420可以通過各向異性導電膜分別連接到相應的數據焊盤。

柵驅動器500可以響應于從安裝在驅動電路板430上的時序控制器(未示出)接收的柵控制信號而產生柵信號。柵信號可以經由柵線112被逐行且順序地提供到像素。柵驅動器500可以利用非晶硅柵(ASG)方法與非顯示區(qū)域NDA一體地實現。然而，這僅是一示例，柵驅動器500的實現方法不 限于ASG方法。例如，柵驅動器500也可以利用其中柵驅動器安裝在FPCB上的帶載封裝(TCP)方法或玻璃上芯片(COG)方法實現。

第一顯示基板100和第二顯示基板200可以通過由密封劑制成的密封構件250接合在一起。密封構件250可以被放置在非顯示區(qū)域NDA中，也就是，在每個第一顯示基板100和第二顯示基板200的外圍區(qū)域中。

在一些實施方式中，設置在非顯示區(qū)域NDA中的密封構件250可以像四邊形帶一樣地成形，如圖4所示。然而，這僅是一示例，密封構件250的形狀不限于四邊形帶，而是可以根據顯示裝置10的結構而變化。

在一些實施方式中，密封構件250可以包括導電構件。例如，密封構件250可以包括導電球CB，如圖6所示。施加到公共電壓線(116,184)的公共電壓可以經由導電構件被提供到設置在第二基板202上的公共電極212。在圖6的實施方式中，導電球CB被作為導電構件的示例示出。然而，本公開不限于此，密封構件250中包括的導電構件可具有各種橫截面形狀，諸如橢圓形和多邊形橫截面形狀。

公共電壓線(116,184)可以設置在非顯示區(qū)域NDA中。公共電壓線(116,184)可以設置在第一基板102的邊緣上。公共電壓線(116,184)可以沿第一基板102的邊緣設置。

公共電壓線(116,184)可以包括第一公共電壓線116和第二公共電壓線184。第二公共電壓線184可以設置在第一公共電壓線116上。第一公共電壓線116和第二公共電壓線184可以通過形成在柵絕緣層122、鈍化層152和有機層172中的孔116a而彼此電連接。

具體地，第一公共電壓線116可以接觸設置在孔116a中的第二公共電壓線184，通過光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)暴露的第二公共電壓線184可以接觸導電球CB。導電球CB可以接觸設置在第二基板202上的公共電極212。因此，施加到第一公共電壓線116的公共電壓可以經由第二公共電壓線184和導電球CB被提供到公共電極212。

在一些實施方式中，第一公共電壓線116可以設置在與柵布線(112,114)相同的水平處，這在后面描述。第二公共電壓線184可以設置在與像素電極182相同的水平處，這在后面描述。然而，這僅是一示例，用于向公共電極212施加公共電壓的結構不限于以上結構。

第一公共電壓線116可以包括用于改善第一公共電壓線116與第二公共 電壓線184的接觸的第一公共電壓線擴展部分116E。第一公共電壓線擴展部分116E的寬度可以比除了第一公共電壓線擴展部分116E之外的整個第一公共電壓線116的寬度大。

在一示例性實施方式中，第一公共電壓線擴展部分116E可以設置在一對相鄰的扇出部分FO之間。為了描述的方便，將首先限定扇出部分FO。如以上已經提及的，多個數據傳輸線142a可以從每個數據驅動芯片410延伸。設置在非顯示區(qū)域NDA中的所述多個數據傳輸線142a可以連接到設置在顯示區(qū)域DA中的多個數據線142。扇出部分FO可以由從每個數據驅動芯片410延伸的所述多個數據傳輸線142a中的兩個最外面的數據傳輸線142a限定。換言之，扇出部分FO可以被定義為在從每個數據驅動芯片410延伸的所述多個數據傳輸線142a中的兩個最外面的數據傳輸線142a之間的區(qū)域。如圖1所示，可以提供多個扇出部分FO。

圖1示出了其中扇出部分FO是梯形的示例，但是本公開不限于該示例。也就是，扇出部分FO的形狀可以根據需要變化。

圖1示出其中第一公共電壓線擴展部分116E與數據驅動器400相鄰地設置的示例，但是第一公共電壓線擴展部分116E的位置不限于該示例。也就是，第一公共電壓線擴展部分116E是用于促進第一公共電壓線116和第二公共電壓線184之間的接觸，第一公共電壓線116的與第二公共電壓線184接觸的部分可以是第一公共電壓線擴展部分116E。換言之，在另一示例性實施方式中，第一公共電壓線116和第二公共電壓線184可以在非顯示區(qū)域NDA中的任何地方彼此接觸(也就是，第一公共電壓線116和第二公共電壓線184沒有被特別限制為在鄰近扇出部分FO的區(qū)域中彼此接觸，如圖1所示)。因此，第一公共電壓線116的與第二公共電壓線184接觸的部分可以用第一公共電壓線擴展部分116E替換。

為了在本公開中的描述的一致性，第一公共電壓線116和第一公共電壓線擴展部分116E將在下文中被共同稱為第一公共電壓線116。也就是，在以下的描述中，注意到，第一公共電壓線116的與第二公共電壓線184接觸的部分可以用第一公共電壓線擴展部分116E替換。

第一公共電壓線116可以通過多個孔116a接觸第二公共電壓線184。例如，參考圖5和6，孔116a可以設置在光阻擋圖案192的開口部分(192a)的一側以及在開口部分(192a)的另一側(與以上的所述一側相反的側)。 公共電壓可以通過多個孔116a比通過單一孔更有效地施加到第二公共電壓線184。在圖5中示出的孔116a的結構僅是一示例，而不限于該示例。

在圖6中，導電球CB設置在通過光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)暴露的第二公共電壓線184上。然而，本公開不限于此，導電球CB可以分布在密封構件250內的不同位置上。此外，公共電壓可以通過除導電球CB以外的方式(means)被施加到公共電極212。

光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)，也就是，短路點結構，在后面被詳細描述。

包括具有正介電各向異性或負介電各向異性的液晶分子的液晶層300可以插置在第一顯示基板100和第二顯示基板200之間。

根據當前實施方式的顯示裝置10的第一顯示基板100和第二顯示基板200的結構現在被詳細描述。

第一顯示基板100使用第一基板102作為基底基板。第一基板102可以包含絕緣材料，諸如透明玻璃、石英、陶瓷、硅或透明塑料，或由本領域的普通技術人員選擇的適當材料。在一些實施方式中，第一基板102可具有柔性。也就是，第一基板102可以是能夠被卷繞、折疊、彎曲等的可變形的基板。

多條柵布線(112,114)和多條數據布線(142、144、146)可以設置在第一基板102上。

柵布線(112,114)可以包括多條柵線112和多個柵電極114。數據布線(142、144和146)可以包括多條數據線142、多個源電極144和多個漏電極146。

柵布線(112,114)和數據布線(142,144,146)可以由鋁(Al)基金屬諸如鋁和鋁合金、銀(Ag)基金屬諸如銀和銀合金、銅(Cu)基金屬諸如銅和銅合金、鉬(Mo)基金屬諸如鉬和鉬合金、鉻(Cr)、鈦(Ti)或鉭(Ta)制成。此外，柵布線(112,114)和數據布線(142,144,146)可具有由具有不同物理特性的兩個導電層(未示出)組成的多層結構。例如，所述兩個導電層中的其中之一可以由鋁基金屬、銀基金屬或銅基金屬制成。導電層中的另一個可以由鉬基金屬、鉻、鈦或鉭制成。多層結構的示例包括鉻下層和鋁上層以及鋁下層和鉬上層。然而，本公開不限于此。柵布線(112,114)和數據布線(142,144,146)可以由各種金屬和導體制成。

柵線112可以沿像素的水平邊界在第一方向上(例如，在水平方向上)延伸。數據線142可以沿像素的豎直邊界在第二方向上(例如，在豎直方向上)延伸。柵線112和數據線142可以彼此垂直交叉以限定多個像素區(qū)域。也就是，像素區(qū)域可以被限定在由柵線112和數據線112圍繞的區(qū)域中。

每個像素中的至少一個柵電極114連接到每條柵線112。柵電極114可以從柵線112朝向半導體層132分支，或可以通過延伸柵線112形成。然而，本公開不限于此，柵電極114也可以被限定在柵線112的交疊半導體層132的區(qū)域中。

每個像素中的至少一個源電極144連接到每條數據線142。源電極144可以從數據線142朝向半導體層132分支，或可以通過延伸數據線142形成。然而，本公開不限于此，源電極144也可以被限定在數據線142的交疊半導體層132的區(qū)域中。例如，源電極144可以不從數據線142突出而是可以位于與數據線142基本上相同的線上。漏電極146可以相對于半導體層132而與源電極144分離，并且可以經由穿透鈍化層152和有機層172的接觸孔146a而電連接到像素電極182，這在后面描述。

柵絕緣層122設置在柵布線(112,114)和數據布線(142,144,146)之間。在實施方式中，柵絕緣層122可以設置在柵布線(112,114)上，數據布線(142,144,146)可以設置在柵絕緣層122上。柵絕緣層122可以由例如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiO₂)、硅氮氧化物(SiON)或其疊層制成。柵絕緣層122可以使柵布線(112,114)與位于柵布線(112,114)上的導電薄層(諸如數據線142)絕緣。

半導體層132設置在柵絕緣層122上并且可以由氫化非晶硅、多晶硅或氧化物半導體制成。至少部分的半導體層132交疊柵電極114。半導體層132與柵電極114、源電極144和漏電極146一起形成TFT。

半導體層132可具有各種形狀，諸如島和線。在圖4的實施方式中，半導體層132是島形狀。然而，半導體層132的形狀不限于島形狀。半導體層132也可以像線一樣地成形。在該情形下，半導體層132可以交疊數據布線(142、144、146)，雖然在圖中未示出。

由用n型雜質重摻雜的n+氫化非晶硅形成的歐姆接觸層134可以設置在半導體層132上。歐姆接觸層134可以位于在其下的半導體層132與在其上的源電極144和漏電極146之間以降低在它們之間的接觸電阻。像半導體 層132一樣，歐姆接觸層134可具有各種形狀，諸如島和線。當半導體層132是島形狀時，歐姆接觸層134也可以是島形狀。當半導體層132線性地形成時，歐姆接觸層134也可以線性地形成。與半導體層132不同，歐姆接觸層134的與源電極144和漏電極146通過其分離從而彼此面對的空間對應的區(qū)域可以被去除。結果，歐姆接觸層134可以暴露設置在其下的半導體層132。溝道可以形成在半導體層132的與源電極144和漏電極146通過其分離從而彼此面對的空間對應的區(qū)域中。

當溝道響應于被傳送到柵電極114的柵導通信號而形成在半導體層132中時，TFT導通。然后，漏電極146從源電極144接收數據信號并且發(fā)送所接收的數據信號到像素電極182。

鈍化層152設置在數據布線(142,144,146)以及半導體層132的暴露部分上。接觸孔146a可以形成在鈍化層152和有機層172中，這在后面描述，以暴露漏電極146的至少一部分。漏電極146的通過接觸孔146a暴露的所述至少一部分可以接觸像素電極182。因此，漏電極146和像素電極182可以彼此電連接/接觸。

鈍化層152可以由無機材料諸如硅氮化物或硅氧化物制成，或者可以由通過等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)形成的材料諸如Si:C:O或Si:O:F制成。

有機層172可以設置在鈍化層152上。有機層172可以包含具有優(yōu)良的平坦化性能和光敏性的材料。有機層172包括暴露漏電極146的至少一部分的接觸孔146a。

濾色器162可以設置在有機層172和鈍化層152之間。濾色器162可以包括紅色濾色器、綠色濾色器和藍色濾色器。紅色、綠色和藍色濾色器形成在像素中以分別形成紅色、綠色和藍色像素。濾色器162可以交疊像素電極182。濾色器162可以包含含有顏料的光敏有機材料。有機層172可以設置在濾色器162上以平坦化紅色、綠色和藍色濾色器之間的臺階。濾色器162可以被有機層172覆蓋。也就是，濾色器162可以被有機層完全覆蓋。然而，這僅是一示例，本公開不限于該結構。

像素電極182可以在每個單元像素中設置在有機層172上。像素電極182的一部分設置在接觸孔146a中。像素電極182的設置在接觸孔146a中的部分可以接觸漏電極146并因此電連接到漏電極146。

當數據電壓通過接觸孔146a被施加到像素電極182時，像素電極182可以與公共電極212一起產生電場，由此使液晶層300中包括的液晶分子旋轉。像素電極182可以由透明導電材料諸如銦錫氧化物(ITO)或銦鋅氧化物(IZO)制成，但是不限于此。

光阻擋圖案192可以設置在有機層172和像素電極182上。光阻擋圖案192防止漏光。光阻擋圖案192可以設置在TFT區(qū)域和非像素區(qū)域(在像素、柵線區(qū)域和數據線區(qū)域之間)中。

光阻擋圖案192可以由包含黑色染料或顏料的黑色有機聚合物材料或者金屬(金屬氧化物)諸如鉻或氧化鉻制成。

柱間隔物194被設計為保持第一基板102和第二基板202之間的間隔。在一些實施方式中，柱間隔物194的端部可以接觸第二顯示基板200，如圖3所示。然而，這僅是一示例，柱間隔物194的端部也可以與第二顯示基板200分離預定距離。

雖然在圖中未示出，但是柱間隔物194可以包括具有不同臺階高度的多個柱間隔物。例如，柱間隔物194可以包括具有較高臺階高度的主柱間隔物和具有較低臺階高度的輔助柱間隔物。在該情形下，第一顯示基板100和第二顯示基板200之間的間隔可以主要地通過主柱間隔物而克服外部壓力被保持。在施加較大壓力時，第一顯示基板100和第二顯示基板200之間的間隔可以輔助地通過輔助柱間隔物被保持。

柱間隔物194可以形成在與TFT對應的區(qū)域中。至少部分的柱間隔物194可以交疊柵布線(112,114)。然而，這僅是一示例，柱間隔物194的位置不限于以上示例。

在一些實施方式中，柱間隔物194可以由與光阻擋圖案192相同的材料制成。柱間隔物194和光阻擋圖案192可以通過利用半色調掩?；颡M縫掩模的曝光而在一個圖案化工藝中同時形成。也就是，柱間隔物194和光阻擋圖案192可以利用相同的材料同時形成。

第二顯示基板200使用第二基板202作為基底基板。第二基板202可以是絕緣基板。具體地，像第一基板102一樣，第二基板202可以包含絕緣材料，諸如透明玻璃、石英、陶瓷、硅或透明塑料，或由本領域的普通技術人員選擇的適當材料。在一些實施方式中，第二基板202可具有柔性。也就是，第二基板202可以是能夠被卷繞、折疊、彎曲等的可變形基板。第二基板202 可以被放置為面對第一基板102。

公共電極212可以設置在第二基板202上。在接收公共電壓時，公共電極212可以與像素電極182一起產生電場，由此控制液晶層300中包括的液晶分子的排列方向。施加到公共電壓線(116,184)的公共電壓可以經由導電球CB被提供到公共電極212。

公共電極212可以在由柵線112和數據線142圍繞的整個像素區(qū)域上形成為單件。公共電極212可以由透明導電材料諸如ITO或IZO制成，但是不限于此。

雖然在圖中未示出，配向層可以設置在第一基板102的面對液晶層300的表面和第二基板202的面對液晶層300的表面的每個上。用于使液晶層300取向的配向層可以設置在像素電極182、公共電極212、光阻擋圖案192和柱間隔物194上。配向層可以包含樹脂聚合物，諸如聚酰亞胺、聚酰胺酸、聚酰胺、聚酰胺-酰亞胺、聚酯、聚乙烯、聚氨酯或聚苯乙烯、或其混合物。此外，配向層可以包含以上樹脂聚合物的單體。

在一些實施方式中，雖然在圖中未示出，但是用于防止配向層的流動的屏障(dam)可以設置在第一基板102的面對液晶層300的表面以及第二基板202的面對液晶層300的表面上。屏障可以比短路點進一步向第一基板102和第二基板202內，公共電壓在該短路點被施加到公共電極212。

現在詳細描述光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)的結構，也就是，短路點的結構。

根據當前實施方式的顯示裝置10可以通過密封構件250中包括的導電球CB施加公共電壓到設置在第二基板202上的公共電極212。因此，點，即公共電壓在該處被施加到公共電極212的短路點，可以形成在密封構件250內部。短路點可以由于如下所述的結構而基本上形成在光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)中。

具體地，參考圖4，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)、虛設顏色層(164a,164b)以及第二公共電壓線184可以設置在被密封構件250內部的區(qū)域交疊的區(qū)域中。換言之，至少部分的密封構件250可以完全交疊光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)、虛設顏色層(164a,164b)和第二公共電壓線184。此外，開口部分(192a,192b)可以完全交疊虛設顏色層(164a,164b)和第二公共電壓線184。

參考圖6，第二公共電壓線184可以設置在虛設顏色層(164a,164b)上，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以形成在第二公共電壓線184上。然而，這僅是一示例，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)、虛設顏色層(164a,164b)和第二公共電壓線184的位置不限于以上示例。

光阻擋圖案192包括用于施加公共電壓到設置在第二基板202上的公共電極212的開口部分(192a,192b)。開口部分(192a,192b)可以在一方向上(例如，在水平方向上)延伸，如圖4所示。第二公共電壓線184的至少一部分可以通過開口部分(192a,192b)暴露，第二公共電壓線184的暴露部分的至少部分可以接觸導電球CB。因此，短路點可以基本上形成在光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)內。

光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以形成在非顯示區(qū)域NDA中。開口部分(192a,192b)可以形成在光阻擋圖案192內部。更具體而言，開口部分(192a,192b)可以形成在設置于非顯示區(qū)域NDA中的光阻擋圖案192的內部。當從上看時，開口部分(192a,192b)可以是矩形的，但是不限于此。

在一些實施方式中，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以包括第一開口192a和第二開口192b。參考圖1和4，第一開口192a可以形成在顯示基板的在其上設置數據驅動器400的側部上(在圖的上側)，第二開口192b可以形成在與數據驅動器400相反的側部上(在圖的下側)。這里，顯示區(qū)域DA可以插置在第一開口192a和第二開口192b之間。

第一開口192a可以實現為橫越扇出部分FO的線的形狀。換言之，第一開口192a可以在第一方向(例如在圖4中的水平方向)上延伸。也就是，至少部分的第一開口192a可以交疊扇出部分FO。

第二開口192b可以以與第一開口192a基本上相同的形狀實現在與數據驅動器400相反的側部上。也就是，第二開口192b可以在第一方向(例如在圖4中的水平方向)上延伸。

在一些實施方式中，如從圖4明顯的，由于后面描述的制造方法的特性，第一開口192a和第二開口192b的每個的長度可以大于顯示區(qū)域DA的寬度(在圖中的水平寬度)。

在一些實施方式中，當顯示區(qū)域DA是矩形或大致矩形時，第一開口192a和第二開口192b可以分別設置在顯示區(qū)域DA的長側上。因此，公共電壓 可以被均勻地施加到整個公共電極212。

虛設顏色層(164a,164b)可以設置在與光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)相應的位置處。虛設顏色層(164a,164b)可以設置在開口部分(192a,192b)下面。虛設顏色層(164a,164b)可以至少部分地被開口部分(192a,192b)交疊。虛設顏色層(164a,164b)可以在一方向上(例如，在水平方向上)延伸，如圖4所示。當從上看時，虛設顏色層(164a,164b)可以是矩形，但是不限于此。

在一些實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)可以包括第一虛設顏色層164a和第二虛設顏色層164b。參考圖1至4，第一虛設顏色層164a可以形成在顯示基板的在其上設置數據驅動器400的側部上(在圖的上側)，第二虛設顏色層164b可以形成在與數據驅動器400相反的側部上(在圖的下側)。這里，顯示區(qū)域DA可以插置在第一虛設顏色層164a和第二虛設顏色層164b之間。

第一虛設顏色層164a可以實現為橫越扇出部分FO的線的形狀。換言之，第一虛設顏色層164a可以在第一方向(例如在圖4中的水平方向)上延伸。也就是，至少部分的第一虛設顏色層164a可以交疊扇出部分FO。

第二虛設顏色層164b可以以與第一虛設顏色層164a基本上相同的形狀實現在與數據驅動器400相反的側部上。也就是，第二虛設顏色層164b可以在第一方向(例如，圖4中的水平方向)上延伸。

在一些實施方式中，如從圖4明顯的，由于后面描述的制造方法的特性，第一虛設顏色層164a和第二虛設顏色層164b的每個的長度可以大于顯示區(qū)域DA的寬度(在圖中的水平寬度)。

在一些實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)的寬度可以大于開口部分(192a,192b)的寬度，如在圖4和5中示出的。然而，本公開不限于該結構，虛設顏色層(164a,164b)的寬度也可以與開口部分(192a,192b)的寬度相等。這里，寬度指的是圖5中的豎直長度。

虛設顏色層(164a,164b)可以設置在光阻擋圖案192下面以確保提供導電球CB和公共電極212之間的接觸的臺階并防止光通過開口部分(192a,192b)泄漏。

在一些實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)可以設置在與濾色器162相同的水平處。也就是，虛設顏色層(164a,164b)可以設置在鈍化層152 上。虛設顏色層(164a,164b)可以包含含有顏料的光敏有機材料。例如，虛設顏色層(164a,164b)可以包含與藍色濾色器相同的材料。也就是，虛設顏色層(164a,164b)可以是藍色的。然而，這僅是一示例，虛設顏色層(164a,164b)的設置和材料不限于以上示例。

至少部分的第二公共電壓線184可以通過光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)暴露。第二公共電壓線184可以設置在與開口部分(192a,192b)相應的位置處。第二公共電壓線184可以設置在顯示基板的在其上設置數據驅動器400的側部上(在圖的上側)以及與數據驅動器400相反的側部上(在圖的下側)，顯示區(qū)域DA插置在其間。

第二公共電壓線184可以實現為橫越扇出部分FO的線的形狀。換言之，第二公共電壓線184可以在第一方向(例如，圖4中的水平方向)上延伸。也就是，至少部分的第二公共電壓線184可以交疊扇出部分FO。

在一些實施方式中，如從圖4明顯的，由于后面描述的制造方法的特性，第二公共電壓線184的長度可以大于顯示區(qū)域DA的寬度(在圖中的水平寬度)。

在一些實施方式中，第二公共電壓線184的寬度可以大于開口部分(192a,192b)和虛設顏色層(164a,164b)的寬度，如在圖4和5中示出的。開口部分(192a,192b)可以完全交疊第二公共電壓線184。然而，這僅是一示例，本公開不限于該結構。虛設顏色層(164a,164b)的寬度可以等于開口部分(192a,192b)的寬度。這里，寬度指的是圖5中的豎直長度。

在大型面板的情形下，光阻擋圖案192和虛設顏色層(164a,164b)可以通常利用縫針式照射方法制造。在利用該方法制造時，光阻擋圖案192和虛設顏色層(164a,164b)可具有不同的縫針式照射構造，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以(具體地，在圖的水平或豎直方向)與虛設顏色層(164a和164b)未對準。因此，被在其下的暴露金屬例如第一公共電壓線116反射的光可以被看到。

在這方面，在根據當前實施方式的顯示裝置10中，開口部分(192a,192b)和虛設顏色層(164a,164b)可以實現為線的形狀，如圖4所示，使得光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)與虛設顏色層(164a,164b)沒有未對準。也就是，每個開口部分(192a,192b)和虛設顏色層(164a,164b)可以不是實現為斷續(xù)的虛線，而是被實現為一條實線。因此，即使光阻擋圖案192和 虛設顏色層(164a,164b)利用縫針式照射方法制造，也可以防止由于光阻擋圖案192與虛設顏色層(164a,164b)的未對準而產生被在其下的金屬反射的光。

另一方面，光阻擋圖案192的線形的第一開口192a可以交疊在其中數據傳輸線142a從數據驅動器400延伸的扇出部分FO。這里，第一公共電壓線116可以設置在每個扇出部分FO周圍的第一開口192a下面，如圖6所示，由此防止漏光。然而，每個扇出部分FO可以包括為了電壓降的均勻性而實現為曲折形狀的數據傳輸線142a，如圖7所示。在該情形下，光可能在每個數據傳輸線142a的部分之間漏出。

在這方面，根據當前實施方式的顯示裝置10可以在每個扇出部分FO中包括光阻擋金屬層148以防止漏光。

在一些實施方式中，光阻擋金屬層148可以選擇性地設置在每個扇出部分FO中，如圖1所示。至少部分的光阻擋金屬層148可以交疊每個第一公共電壓線116，如圖1所示。至少部分的光阻擋金屬層148可以交疊數據傳輸線142a和虛設顏色層(164a,164b)，如圖7和8所示。也就是，第一公共電壓線116和光阻擋金屬層148中的至少一個可以設置在光阻擋圖案192的第一開口192a下面。因此，光通過光阻擋圖案192的第一開口192a的泄漏通過第一公共電壓線116和光阻擋金屬層148中的至少一個被防止。

在一些實施方式中，光阻擋金屬層148的寬度可以大于光阻擋圖案192的第一開口192a的寬度和虛設顏色層(164a,164b)的寬度，如圖7所示。然而，這僅是一示例，光阻擋金屬層148的寬度可以小于或等于虛設顏色層(164a,164b)的寬度并且大于第一開口192a的寬度。此外，光阻擋金屬層148的寬度可以小于密封構件250的寬度，如圖8所示。然而，這僅是一示例，光阻擋金屬層148的寬度可以大于或等于密封構件250的寬度并且大于第一開口192a的寬度。這里，寬度指的是圖7中的豎直長度或圖8中的水平長度。

在圖6的實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)被實現為單層。然而，本公開不限于此，虛設顏色層(164a,164b)可以包括多層。

圖9是沿與圖5的線VI-VI'相應的線被截取的根據本公開另一實施方式的顯示裝置10-1的截面圖。

參考圖9，根據當前實施方式的顯示裝置10-1與以上參考圖1至8描述 的顯示裝置10相同或類似，除了虛設顏色層(164a-1、164a-2)之外。為簡單起見，根據當前實施方式的顯示裝置10-1在下文中以主要集中于與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10的差異的程度被描述。

在當前實施方式中，虛設顏色層(164a-1、164a-2)包括順序地層疊的第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2。第二虛設顏色層164a-2可以設置在第一虛設顏色層164a-1上。第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2可以彼此交疊。第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2可以包括在其間的接觸面。然而，本公開不限于此，另一層可以插置在第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2之間。

虛設顏色層(164a-1、164a-2)可以包含含有顏料的光敏有機材料。例如，第一和第二虛設顏色層164a-1和164a-2可以包含與紅色濾色器、綠色濾色器和藍色濾色器中的任一個相同的材料。第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2也可以包含含有不同顏色顏料的光敏有機材料。例如，第一虛設顏色層164a-1可以包含與紅色濾色器相同的材料，第二虛設顏色層164a-2可以包含與藍色濾色器相同的材料。也就是，第一虛設顏色層164a-1可以是藍色的，第二虛設顏色層164a-2可以是紅色的。然而，這僅是一示例，第一和第二虛設顏色層164a-1和164a-2的顏色不限于以上示例。

第一和第二虛設顏色層164a-1和164a-2可以設置在光阻擋圖案192下面以防止光通過開口部分(192a)泄漏。通過第一虛設顏色層164a-1防止漏光被第二虛設顏色層164a-2增強。

在圖6的實施方式中，提供了有機層172。然而，本公開不限于此，有機層172可以被省略。

圖10和11是沿與圖5的線VI-VI'相應的線截取的根據本公開的其它實施方式的顯示裝置10-2和10-3的截面圖。

首先，參考圖10，根據當前實施方式的顯示裝置10-2與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10相同或類似，除了其不包括有機層之外。為簡單起見，根據當前實施方式的顯示裝置10-2以主要集中于與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10的差異的程度在下文中被描述。

與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10不同，根據當前實施方式的顯示裝置10-2不包括有機層。因此，第二公共電壓線184可以直接設置在鈍化層152上。此外，第二公共電壓線184可以直接設置在虛設顏色層164a 上。

接著，參考圖11，根據當前實施方式的顯示裝置10-3與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10相同或類似，除了虛設顏色層(164a-1、164a-2)之外。為簡單起見，根據當前實施方式的顯示裝置10-3以主要集中于與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10的差異的程度在下文中被描述。

在當前實施方式中，虛設顏色層(164a-1、164a-2)包括順序地層疊的第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2。第二虛設顏色層164a-2可以設置在第一虛設顏色層164a-1上。第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2可以彼此交疊。第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2可以包括在其間的接觸面。然而，本公開不限于此，另一層可以插置在第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2之間。

虛設顏色層(164a-1、164a-2)可以包含含有顏料的光敏有機材料。例如，第一和第二虛設顏色層164a-1和164a-2可以包含與紅色濾色器、綠色濾色器和藍色濾色器中的任一個相同的材料。第一虛設顏色層164a-1和第二虛設顏色層164a-2也可以包含含有不同顏色顏料的光敏有機材料。例如，第一虛設顏色層164a-1可以包含與紅色濾色器相同的材料，第二虛設顏色層164a-2可以包含與藍色濾色器相同的材料。也就是，第一虛設顏色層164a-1可以是藍色的，第二虛設顏色層164a-2可以是紅色的。然而，這僅是一示例，第一和第二虛設顏色層164a-1和164a-2的顏色不限于以上示例。

虛設顏色層(164a-1、164a-2)可以設置在光阻擋圖案192下面以防止光通過開口部分(192a)泄漏。通過第一虛設顏色層164a-1防止漏光被第二虛設顏色層164a-2增強。

在一些實施方式中，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以實現為閉合形狀，如圖4所示。然而，這僅是一示例，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)也可以實現為敞開形式。

圖12示出根據本公開另一實施方式的顯示裝置10-4的短路點。

參考圖12，根據當前實施方式的顯示裝置10-4與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10相同或類似，除了開口部分(192c，192d)和虛設顏色層(164c，164d)之外。為簡單起見，根據當前實施方式的顯示裝置10-4以主要集中于與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10的差異的程度在下文中被描述。

在當前實施方式中，光阻擋圖案192的開口部分(192c，192d)包括第一開口192c和第二開口192d，第一開口192c形成在顯示基板的在其上設置數據驅動器400的側部上(在圖的上側)，第二開口192d形成在與數據驅動器400相反的側部上(在圖的下側)。這里，顯示區(qū)域DA可以插置在第一開口192c和第二開口192d之間。如圖12所示，第一開口192c和第二開口192d的每個的兩端可以敞開。因此，光阻擋圖案192可以通過第一開口192c和第二開口192d的每個分離。

在當前實施方式中，虛設顏色層(164c，164d)包括第一虛設顏色層164c和第二虛設顏色層164d，第一虛設顏色層164c形成在顯示基板的在其上設置數據驅動器400的側部上(在圖的上側)，第二虛設顏色層164d形成在與數據驅動器400相反的側部上(在圖的下側)。這里，顯示區(qū)域DA可以插置在第一虛設顏色層164c和第二虛設顏色層164d之間。如圖12所示，第一虛設顏色層164c和第二虛設顏色層164d的每個的兩端可以延伸直到第一基板102的左邊界和右邊界。

在一些實施方式中，光阻擋圖案192的開口部分(192a和192b)可以分離，如圖4所示。然而，這僅是一示例，光阻擋圖案192的開口部分(192c和192d)也可以形成為單件。

圖13示出根據本公開另一實施方式的顯示裝置10-5的短路點。

參考圖13，根據當前實施方式的顯示裝置10-5與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10相同或類似，除了光阻擋圖案192的開口部分192e、虛設顏色層164e和第二公共電壓線184e之外。為簡單起見，根據當前實施方式的顯示裝置10-5以主要集中于與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10的差異的程度在下文中被描述。

在當前實施方式中，光阻擋圖案192的開口部分192e可以形成為沿顯示區(qū)域DA的外圓周的單件。當從上方看時，開口部分192e可以像四邊形帶一樣地成形，如圖13所示。然而，這僅是一示例，開口部分192e的形狀不限于四邊形帶。

在當前實施方式中，虛設顏色層164e可以形成為沿顯示區(qū)域DA的外圓周的單件。當從上方看時，虛設顏色層164e可以像四邊形帶一樣地成形，如圖13所示。虛設顏色層164e可以比開口部分192e寬。開口部分192e可以設置在虛設顏色層164e內部。至少部分的虛設顏色層164e可以交疊開口 部分192e。然而，這僅是一示例，虛設顏色層164e的形狀不限于該示例。

在當前實施方式中，第二公共電壓線184e可以形成為沿顯示區(qū)域DA的外圓周的單件。當從上方看時，第二公共電壓線184e可以像四邊形帶一樣地成形，如圖13所示。第二公共電壓線184e可以比虛設顏色層164e和開口部分192e寬。虛設顏色層164e和開口部分192e可以設置在第二公共電壓線184e內部。至少部分的第二公共電壓線184e可以交疊虛設顏色層164e和開口192e。然而，這僅是一示例，第二公共電壓線184e的形狀不限于該示例。

在一些實施方式中，光阻擋金屬層148可以選擇性地設置在每個扇出部分FO中，如圖1所示。然而，這僅是一示例，光阻擋金屬層148也可以形成為跨扇出部分FO延伸的單件。

圖14是根據本公開另一實施方式的顯示裝置10-6的示意性平面圖。

參考圖14，根據當前實施方式的顯示裝置10-6與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10相同或類似，除了光阻擋金屬層148a之外。為簡單起見，根據當前實施方式的顯示裝置10-6以主要集中于與以上參考圖1至8描述的顯示裝置10的差異的程度在下文中被描述。

在當前實施方式中，光阻擋金屬層148a可以形成為跨扇出部分FO延伸的單件。至少部分的光阻擋金屬層148a可以交疊第一公共電壓線116，如圖14所示。雖然在圖中未示出，但是至少部分的光阻擋金屬層148a可以交疊數據傳輸線142a和虛設顏色層164。光阻擋金屬層148a可以設置在光阻擋圖案192的第一開口192a下面。換言之，至少部分的光阻擋金屬層148a可以被光阻擋圖案192的第一開口192a交疊。因此，經由光阻擋圖案192的第一開口192a的漏光可以被光阻擋金屬層148a防止。

在一些實施方式中，光阻擋金屬層148a的寬度可以大于光阻擋圖案192的第一開口192a的寬度和虛設顏色層164的寬度。然而，這僅是一示例，光阻擋金屬層148a的寬度可以小于或等于虛設顏色層164的寬度并且大于第一開口192a的寬度。此外，光阻擋金屬層148a的寬度可以小于密封構件250的寬度。然而，這僅是一示例，光阻擋金屬層148a的寬度可以大于或等于密封構件250的寬度并且大于第一開口192a的寬度。

在下文中，描述了制造根據圖1至8的實施方式的顯示裝置10的方法。

圖15至26是示出根據本公開的實施方式的制造顯示裝置的方法的步驟 的截面圖。

參考圖2、3、6、8和15，柵布線(112,114)形成在第一基板102上。

第一金屬層(未示出)形成在包含透明材料諸如玻璃或石英的第一基板102上。第一金屬層(未示出)可以由鋁、銅、銀、鉬、鉻、鈦、鉭或其合金制成。此外，柵布線(112,114)可以包括具有不同物理特性的兩個或更多層。第一金屬層(未示出)通過例如濺射工藝沉積。然后，第一金屬層(未示出)通過利用曝光掩模的光刻工藝被圖案化，由此形成包括柵線112和柵電極114的柵布線(112,114)。柵電極114可以像從柵線112分支的突起一樣地成形。

在一些實施方式中，第一公共電壓線116可以在與柵布線(112,114)相同的工藝中形成。在該情形下，第一公共電壓線116可以利用相同的材料形成在與柵布線(112,114)相同的水平處。然而，這僅是一示例，第一公共電壓線116可以在與形成柵布線(112,114)不同的時間形成。此外，第一公共電壓線116可以形成在與柵布線(112,114)的水平不同的水平處。

在一些實施方式中，數據傳輸線142a可以在與柵布線(112,114)相同的工藝中形成。在該情形下，數據傳輸線142a可以利用相同的材料形成在與柵布線(112,114)相同的水平處。然而，這僅是一示例，數據傳輸線142a可以在與形成柵布線(112,114)不同的時間形成。此外，數據傳輸線142a可以形成在與柵布線(112,114)的水平不同的水平處。

參考圖16，柵絕緣層122-1形成在柵布線(112,114)上。柵絕緣層122-1可以通過PECVD形成并且包含硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiO₂)。

參考圖17，半導體層132和歐姆接觸層134形成在柵絕緣層122-1上。半導體層132可以利用氫化非晶硅或多晶硅形成。半導體層132和歐姆接觸層134可以通過光刻工藝形成。

參考圖18，包括交叉柵線112以限定單元像素的數據線142以及源電極144和漏電極146的數據布線(142、144、146)形成在柵絕緣層122-1、半導體層132和歐姆接觸層134上。像柵布線(112,114)一樣，數據布線(142、144、146)可以由鋁、銅、銀、鉬、鉻、鈦、鉭或其合金制成。此外，數據布線(142、144、146)可以包括具有不同物理特性的兩個或更多層。

參考圖8，在一些實施方式中，光阻擋金屬層148可以在與數據布線(142、144、146)相同的工藝中形成。在該情形下，光阻擋金屬層148可 以利用相同的材料形成在與數據布線(142、144、146)相同的水平處。然而，這僅是一示例，光阻擋金屬層148可以在與形成數據布線(142、144、146)不同的時間形成。此外，光阻擋金屬層148可以形成在與數據布線(142、144、146)的水平不同的水平處。

參考圖19，鈍化層152-1形成在具有TFT的第一基板102上。鈍化層152-1可以由無機材料諸如硅氮化物或硅氧化物制成，或者可以由通過PECVD形成的材料諸如Si:C:O或Si:O:F制成。

參考圖20，濾色器162形成在鈍化層152-1上。濾色器162可以設置在像素區(qū)域中并且包括紅色濾色器、綠色濾色器和藍色濾色器。濾色器162可以由含有顏料的光敏有機材料制成。濾色器162可以通過光刻工藝或噴墨打印方法形成。濾色器162也可以利用各種其它方法形成。

在一些實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)可以在與濾色器162相同的工藝中形成。在該情形下，虛設顏色層(164a,164b)可以形成在與濾色器162相同的水平處。虛設顏色層(164a,164b)可以包含含有顏料的光敏有機材料。例如，虛設顏色層(164a,164b)可以包含與藍色濾色器相同的材料。更具體而言，根據當前實施方式的制造顯示裝置的方法可以包括形成紅色濾色器層和藍色濾色器層，藍色濾色器層和虛設顏色層(164a,164b)可以利用相同的材料在相同的工藝中形成。然而，這僅是一示例，虛設顏色層(164a,164b)的材料不限于以上示例。

在一些實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)可以包括多層。例如，參考圖9，虛設顏色層(164a,164b)可以包括第一虛設顏色層和第二虛設顏色層。第一虛設顏色層和第二虛設顏色層可以由包含不同顏色的顏料的光敏有機材料制成。第一虛設顏色層可以由與紅色濾色器相同的材料制成，第二虛設顏色層可以由與藍色濾色器相同的材料制成。然而，這僅是一示例，第一虛設顏色層和第二虛設顏色層的顏色不限于以上示例。

在一些實施方式中，虛設顏色層(164a,164b)和濾色器162可以利用縫針式照射方法制造。在該情形下，形成設置在顯示面板的左端和右端的虛設顏色層(164a,164b)和濾色器162的縫針式照射(stitch shot)可以不同于形成設置在顯示面板的除了其左端和右端之外的中心部分中的虛設顏色層(164a,164b)和濾色器162的縫針式照射。形成設置在顯示面板的中心部分中的虛設顏色層(164a,164b)和濾色器162的縫針式照射可以被依次和重復 地使用。然而，這僅是一示例，制造虛設顏色層(164a,164b)和濾色器162的方法不限于該示例。

參考圖21，有機層172-1形成在鈍化層152-1和濾色器162上。有機層172-1可以包含具有優(yōu)良平坦化性能和光敏性的材料。有機層172-1可以通過旋涂或狹縫涂覆形成或通過旋涂和狹縫涂覆二者形成。

參考圖22，暴露至少部分的漏電極146的接觸孔146a形成在鈍化層152-1和有機層172-1中。具體地，有機層172通過在有機層172-1中形成接觸孔146a而形成，然后鈍化層152通過在鈍化層152-1中形成接觸孔146a而形成。

在一些實施方式中，暴露至少部分的第一公共電壓線116的孔116a形成在鈍化層152-1、有機層172-1和柵絕緣層122-1中。具體地，有機層172通過在有機層172-1中形成孔116a而形成，鈍化層152通過在鈍化層152-1中形成孔116a而形成，然后柵絕緣層122通過在柵絕緣層122-1中形成孔116a而形成。

參考圖23，像素電極182形成在有機層172上。具體地，像素電極182可以形成為接觸漏電極146的經由形成在有機層172和鈍化層152中的接觸孔146a暴露的至少部分。通過該接觸，像素電極182可以電連接到漏電極146或者接觸漏電極146。

在一些實施方式中，第二公共電壓線184可以在與像素電極182相同的工藝中形成。在該情形下，第二公共電壓線184可以利用相同的材料形成在與像素電極182相同的水平處。然而，這僅是一示例，第二公共電壓線184可以在與用于形成像素電極182不同的工藝中形成。

參考圖24，光阻擋圖案192形成在像素電極182和有機層172上。光阻擋圖案192可以形成在其中液晶層300中包括的液晶分子是非活性的諸如TFT區(qū)域和非像素區(qū)域NDA(在像素之間，柵線區(qū)域和數據線區(qū)域)的區(qū)域中。光阻擋圖案192可以由包含黑色染料或顏料的黑色有機聚合物材料或者金屬(金屬氧化物)諸如鉻或氧化鉻制成。

接著，柱間隔物194形成在光阻擋圖案192上。柱間隔物194可以與光阻擋圖案192一體形成，如圖24所示。例如，柱間隔物194可以利用相同的材料并且在通過利用半色調掩模或狹縫掩模曝光的相同圖案化工藝中與光阻擋圖案192同時形成。然而，這僅是一示例，本公開不限于該示例。

柱間隔物194可以形成在與TFT對應的區(qū)域中，如圖24所示。然而，這僅是一示例，柱間隔物194的位置不限于該示例。

光阻擋圖案192包括開口部分(192a,192b)以施加公共電壓到設置在第二基板202上的公共電極212。光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以形成在非顯示區(qū)域NDA中。開口部分(192a,192b)可以形成在光阻擋圖案192內部。更具體而言，開口部分(192a,192b)可以形成在設置于非顯示區(qū)域NDA中的光阻擋圖案192的內部。

在一些實施方式中，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以包括第一開口192a和第二開口192b。參考圖1，第一開口192a可以形成在顯示基板的在其上形成數據驅動器400的側部上(在圖的上側)，第二開口192b可以形成在與數據驅動器400相反的側部上(在圖的下側)。這里，顯示區(qū)域DA可以插置在第一開口192a和第二開口192b之間。然而，這僅是一示例，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)的形狀不限于該示例。

在一些實施方式中，光阻擋圖案192可以利用縫針式照射方法制造。在該情形下，形成設置在顯示面板的左端和右端的光阻擋圖案192的縫針式照射(stitch shot)可以不同于形成設置在顯示面板的除了其左端和右端之外的中心部分中的光阻擋圖案192的縫針式照射。形成設置在顯示面板的中心部分中的光阻擋圖案192的縫針式照射可以被依次和重復地使用。然而，這僅是一示例，制造本公開的光阻擋圖案192的方法不限于該示例。

在大尺寸面板的情形下，光阻擋圖案192和虛設顏色層(164a,164b)可以通常利用縫針式照射方法制造。在利用該方法制造時，光阻擋圖案192和虛設顏色層(164a,164b)可具有不同的縫針式照射構造。因此，光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)可以與虛設顏色層(164a,164b)未對準(具體地，在圖的水平方向上)。因此，被在其下的暴露金屬例如第一公共電壓線116反射的光可以被看到。

在這方面，在根據當前實施方式的制造顯示裝置的方法中，開口部分(192a,192b)和虛設顏色層(164a,164b)可以實現為線的形狀，使得光阻擋圖案192的開口部分(192a,192b)與虛設顏色層(164a,164b)沒有未對準。也就是，開口部分(192a,192b)和虛設顏色層(164a,164b)的每個可以不被實現為斷續(xù)地虛線，而是被實現為一條實線。因此，即使光阻擋圖案192和虛設顏色層(164a,164b)利用縫針式照射方法制造，也可以防止由于 光阻擋圖案192與虛設顏色層(164a,164b)的未對準而產生被在其下的金屬反射的光。

參考圖25，公共電極212形成在第二基板202上。公共電極212可以在由柵線112和數據線142圍繞的整個像素區(qū)域上形成為單件。公共電極212可以由透明導電材料諸如ITO或IZO制成，但是不限于此。

接著，用于防止配向層流動的屏障可以設置在第一基板102和第二基板202上。該屏障可以比短路點進一步向第一基板102和第二基板202內設置。屏障可以由具有光敏性的材料制成，但是不限于此。

接著，配向層形成在第一基板102的表面和第二基板202的表面的每個上。配向層可以包含樹脂聚合物，諸如聚酰亞胺、聚酰胺酸、聚酰胺、聚酰胺-酰亞胺、聚酯、聚乙烯、聚氨酯或聚苯乙烯、或其混合物。此外，配向層可以包含以上樹脂聚合物的單體。

參考圖26，液晶層300通過在第一基板102上涂覆具有正介電各向異性或負介電各向異性的液晶分子而形成。然后，具有液晶層300的第一顯示基板100聯(lián)接到第二顯示基板200。

根據本公開的實施方式的顯示裝置防止由設置在短路點下面的金屬層引起的反射。

此外，根據實施方式的制造顯示裝置的方法可以被采用以制造包括利用縫針式照射方法形成的結構的顯示裝置從而防止由設置在短路點下面的金屬層引起的反射。

然而，本公開的效果不限于此處闡述的那些。對于本公開所屬領域中的普通技術人員而言，通過參考權利要求，本公開的以上和其它效果將變得更加明顯。

雖然為了示意性目的，已經公開了本公開的示例性實施方式，但是該實施方式僅是示例，而不限制本公開。本領域的技術人員將理解，各種變形和應用是可能的，而不脫離權利要求的范圍和精神。例如，在本公開的實施方式中說明的每個元件可以被不同地改變和實現。此外，與這樣的變形和應用相關的差異應該被解釋為包括于權利要求的范圍內。

本申請要求享有2015年8月21日在韓國知識產權局提交的韓國專利申請No.10-2015-0118153的優(yōu)先權，其公開通過全文引用合并于此。