本發(fā)明涉及一種標(biāo)靶影像對(duì)位裝置及具有該裝置的曝光機(jī)，該曝光機(jī)用于對(duì)基板進(jìn)行曝光，該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置用于在該基板進(jìn)行曝光之前，檢測(cè)基板與底片是否正確對(duì)位。

背景技術(shù)：

請(qǐng)參照?qǐng)D1及圖2，其示為現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)的示意圖，該雙面曝光機(jī)具有一標(biāo)靶影像對(duì)位裝置100、兩個(gè)曝光框單元200A,200B及一曝光裝置300，該兩個(gè)曝光框單元200A,200B交替地往返移載于一對(duì)位位置與一曝光位置，各該曝光框單元200A,200B先于該對(duì)位位置上進(jìn)行對(duì)位程序，以確保各該曝光框單元200A,200B中的底片與基板正確對(duì)準(zhǔn)后，再輸送至該曝光位置，該曝光裝置300設(shè)置于該曝光位置上方，用于對(duì)各該曝光框單元200A,200B曝光。

現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)可具有一個(gè)或多個(gè)標(biāo)靶對(duì)位裝置，該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置100設(shè)置于該雙面曝光機(jī)上并位于該對(duì)位位置的正上方，其包括一CCD攝影機(jī)110、一光源模塊120及一升降模塊130，該CCD攝影機(jī)110的鏡頭正對(duì)該對(duì)位位置以供對(duì)該對(duì)位位置上的曝光框單元200A或200B取像，該光源模塊120設(shè)置于該升降模塊130底端。

如圖1所示，當(dāng)需更換底片或取放基板時(shí)，必須將各該曝光框單元200A,200B的上框體向上掀起，此時(shí)，該升降模塊130為一收起狀態(tài)，使該光源模塊120遠(yuǎn)離該對(duì)位位置一段距離，以供各該曝光框單元200A,200B的上框體有空間能向上掀起；如圖2所示，在對(duì)位程序中，該升降模塊130通過馬達(dá)及皮帶輪驅(qū)動(dòng)而下降，使該光源模塊120接近該對(duì)位位置上的曝光框單元200A或200B，以提供該CCD攝影機(jī)110取像時(shí)需要的照明亮度。

為了使各該曝光框單元200A,200B的上框體能向上掀起的空間足夠，因 此該光源模塊120必須通過該升降模塊130驅(qū)動(dòng)足夠的升降行程，然而，該光學(xué)模塊120在升降的過程中容易產(chǎn)生晃動(dòng)及不穩(wěn)，導(dǎo)致對(duì)于精確度有不利的影響，再者，每次在對(duì)位程序中，需等待該光學(xué)模塊120下降至定點(diǎn)后，才能進(jìn)行取像，因而造成對(duì)位時(shí)間長(zhǎng)的缺點(diǎn)，更降低了生產(chǎn)效率。另一方面，該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置100設(shè)置于該對(duì)位位置的正上方，故該雙面曝光機(jī)具有不小的設(shè)備高度，占用了不少的廠房空間且不利搬運(yùn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為改善現(xiàn)有雙面曝光機(jī)所存在的光學(xué)檢測(cè)精確度不佳、對(duì)為過程時(shí)間長(zhǎng)、生產(chǎn)效率低及設(shè)備占空間等缺點(diǎn)，本發(fā)明提出了一種標(biāo)靶影像對(duì)位裝置及具有該裝置的曝光機(jī)。

為達(dá)上述目的及其他目的，本發(fā)明公開了一種標(biāo)靶影像對(duì)位裝置，應(yīng)用于曝光機(jī)以供進(jìn)行基板與底片的標(biāo)靶間的對(duì)位程序，該曝光機(jī)包含承載基板與底片的兩個(gè)曝光框單元，該兩個(gè)曝光框單元沿第一方向交替地往返移載于對(duì)位位置與曝光位置，該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置包含二維移載單元及光學(xué)檢測(cè)單元，該二維移載單元包括第一滑軌、第一滑座、第二滑軌及第二滑座，該第一滑軌用于設(shè)置于該曝光機(jī)上且位于該對(duì)位位置的鄰側(cè)，并以其滑動(dòng)方向平行于該第一方向的方式配置；該第一滑座可移動(dòng)地設(shè)置于該第一滑軌上以被驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)；該第二滑軌與該第一滑座結(jié)合并以其滑動(dòng)方向平行于第二方向且延伸至該對(duì)位位置上方的方式配置，該第二方向垂直該第一方向；該第二滑座可移動(dòng)地設(shè)置于該第二滑軌上以被驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)；該光學(xué)檢測(cè)單元設(shè)置于該第二滑座上，該光學(xué)檢測(cè)單元具有光源組及攝影機(jī)，在對(duì)位程序期間，該光學(xué)檢測(cè)單元與該第二滑座之間的相對(duì)位置為固定。

上述的標(biāo)靶影像對(duì)位裝置，其中進(jìn)一步包含頂升單元，該頂升單元用于設(shè)置于該曝光機(jī)的該對(duì)位位置的下方，以供抬升位于該對(duì)位位置的曝光框單元，而使各該曝光框單元與該光學(xué)檢測(cè)單元之間相距有默認(rèn)距離。

上述的標(biāo)靶影像對(duì)位裝置，其中進(jìn)一步包含高度微調(diào)座，該高度微調(diào)座設(shè)置于該第二滑座上并承載該攝影機(jī)，用于調(diào)整該攝影機(jī)相對(duì)于位在該對(duì)位位置上的曝光框單元的位置。

上述的標(biāo)靶影像對(duì)位裝置，其中該光學(xué)檢測(cè)單元具有雷射模塊，用于對(duì)準(zhǔn)該攝影機(jī)的視野范圍內(nèi)發(fā)射激光束。

為達(dá)上述目的及其他目的，本發(fā)明還公開了一種曝光機(jī)包含兩個(gè)曝光框單元、上述的標(biāo)靶影像對(duì)位裝置及曝光裝置，該兩個(gè)曝光框單元沿第一方向交替地往返移載于對(duì)位位置與曝光位置；該曝光裝置設(shè)置于該曝光位置上方，用于對(duì)各該曝光框單元曝光。

據(jù)此，相較于現(xiàn)有技術(shù)，上述的標(biāo)把影像對(duì)位裝置及曝光機(jī)，在結(jié)構(gòu)配置上，該光學(xué)檢測(cè)單元與位于該對(duì)位位置的曝光框單元較為靠近，因此可提高檢測(cè)的精準(zhǔn)度且可采用定倍率的鏡頭，此外，由于該光學(xué)檢測(cè)單元于對(duì)位程序中與該第二滑座相對(duì)固定，即該光學(xué)檢測(cè)單元于對(duì)位程序前、中、后的過程中均無(wú)需升降作動(dòng)，因此減少了移載過程中的晃動(dòng)而增進(jìn)了精準(zhǔn)度。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)的側(cè)面示意圖；

圖2為現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)中光源模塊下降接近對(duì)位位置的示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例的曝光機(jī)的側(cè)視示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例的標(biāo)把影像對(duì)位裝置的俯視示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例的標(biāo)把影像對(duì)位裝置的側(cè)視示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例的標(biāo)把影像對(duì)位裝置的正面示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例的曝光機(jī)中對(duì)位程序開始的狀態(tài)示意圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例的曝光機(jī)中對(duì)位程序進(jìn)行中的狀態(tài)示意圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例的曝光機(jī)中曝光框單元打開的狀態(tài)示意圖；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例的標(biāo)把影像對(duì)位裝置中光學(xué)檢測(cè)單元的示意圖。

【符號(hào)說明】

1 標(biāo)靶影像對(duì)位裝置

2 曝光框單元

3 曝光框單元

4 曝光裝置

10 二維移載單元

11 第一滑軌

12 第一滑座

13 第二滑軌

14 第二滑座

20 光學(xué)檢測(cè)單元

21 光源組

22 攝影機(jī)

23 雷射模塊

30 頂升單元

40 高度微調(diào)座

41 旋鈕

100 標(biāo)靶影像對(duì)位裝置

110 CCD攝影機(jī)

120 光源模塊

130 升降模塊

200A 曝光框單元

200B 曝光框單元

300 曝光裝置

具體實(shí)施方式

為充分了解本發(fā)明的目的、特征和功效，現(xiàn)通過下述具體的實(shí)施例，并配合附圖，對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明，說明如下：

以下揭露的實(shí)施例當(dāng)中，各組件前的冠詞“一”可為“一個(gè)以上”，而非限制各組件于實(shí)施時(shí)的數(shù)量。

參照?qǐng)D3，本發(fā)明實(shí)施例揭示包含標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1的曝光機(jī)，該曝光機(jī)包含兩個(gè)曝光框單元2,3、一標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1及一曝光裝置4。

該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1用于進(jìn)行基板與底片(圖中未示)的標(biāo)靶間的對(duì)位程序，該曝光機(jī)包含承載基板與底片的兩個(gè)曝光框單元2,3，該兩個(gè)曝光框單元2,3沿一第一方向交替地往返移載于一對(duì)位位置與一曝光位置，各該曝光框單元于該對(duì)位位置上進(jìn)行對(duì)位程序，以檢測(cè)底片與基板間是否對(duì)準(zhǔn)，其利用光學(xué)檢測(cè)單元檢測(cè)底片與基板上的標(biāo)靶影像是否相迭合，若底片與基板上的標(biāo)靶影像為相迭合，代表底片與基板為對(duì)準(zhǔn)；在確定當(dāng)前位于該對(duì)位位置上的曝光框單元中的底片與基板為對(duì)準(zhǔn)之后，該曝光框單元被輸送至該曝光位置，該曝光裝置4設(shè)置于該曝光位置上方，用于對(duì)各該曝光框單元2,3曝光。

在圖3當(dāng)中，該曝光框單元2位于該對(duì)位位置，該曝光框單元3位于該曝光位置。該曝光機(jī)上在該對(duì)位位置至該曝光位置的兩側(cè)設(shè)置輸送軌道(圖中未示)，各該曝光框單元2,3通過輸送軌道沿該第一方向交替地往返移載于該對(duì)位位置與該曝光位置。

請(qǐng)參照?qǐng)D4至圖6，該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1包含一二維移載單元10及一光學(xué)檢測(cè)單元20，該二維移載單元10包括一第一滑軌11、一第一滑座12、一第二滑軌13及一第二滑座14，該第一滑軌11用于設(shè)置于該曝光機(jī)上且位于該對(duì)位位置的鄰側(cè)，并以其滑動(dòng)方向平行于該第一方向的方式配置；該第一滑座12可移動(dòng)地設(shè)置于該第一滑軌11上以被驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)，如圖5所示；該第二滑軌13與該第一滑座12結(jié)合并以其滑動(dòng)方向平行于一第二方向且延伸至該對(duì)位位置上方的方式配置，該第二方向垂直該第一方向；該第二滑座14可移動(dòng)地設(shè)置于該第二滑軌13上以被驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)，如圖6所示；該光學(xué)檢測(cè)單元20設(shè)置于該第二滑座14上，該光學(xué)檢測(cè)單元20具有一光源組21及一攝影機(jī)22，在對(duì)位程序期間，該光學(xué)檢測(cè)單元20與該第二滑座14之間的相對(duì)位置為固定。

圖4至6中示例該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1配置有兩條第一滑軌11、四個(gè)第一滑座12、四條第二滑軌13及四個(gè)第二滑座14，兩條第一滑軌11分別配置于該對(duì)位位置的相對(duì)兩側(cè)，圖4顯示該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1的俯視示意 圖，圖5顯示該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1的側(cè)面示意圖，圖6顯示該標(biāo)靶影像對(duì)位裝置1的正面示意圖，各第一滑軌11上配置兩個(gè)第一滑座12，而每一個(gè)第一滑座12上均配置有一條第二滑軌13及一個(gè)第二滑座14，并于每一個(gè)第二滑座14上裝載有一光學(xué)檢測(cè)單元20，是故，總共為四個(gè)的光學(xué)檢測(cè)單元20對(duì)應(yīng)于默認(rèn)的基板與底片上的四個(gè)標(biāo)靶位置。然而，前述的第一滑軌11、第一滑座12、第二滑軌13、第二滑座14及光學(xué)檢測(cè)單元等組件的數(shù)量?jī)H作為示例說明，本發(fā)明的范圍并不限于本實(shí)施例與圖式，其可依實(shí)際應(yīng)用時(shí)，基板與底片上的標(biāo)靶設(shè)計(jì)、設(shè)備機(jī)臺(tái)的規(guī)格等因素進(jìn)行變化。

當(dāng)開始對(duì)位程序時(shí)，如圖7所示，各該第一滑座12被驅(qū)動(dòng)而于該第一滑軌11上沿該第一方向滑動(dòng)，各該第一滑座12上的第二滑軌13一起移動(dòng)；如圖8所示，各該第一滑座12于該第一方向上接近標(biāo)靶位置，再如圖6所示地，各該第二滑座14被驅(qū)動(dòng)沿該第二方向滑動(dòng)，以使各該光學(xué)檢測(cè)單元20與對(duì)應(yīng)的標(biāo)靶位置對(duì)位。

如圖9所示，各該曝光框單元2欲打開以供取出曝光后的基板并放入待曝光的基板、或更換底片之前，各該第一滑座12被驅(qū)動(dòng)沿該第一方向并朝向該曝光位置的方向移動(dòng)，使該第一滑座12連同該第二滑軌13、該第三滑座14與該光學(xué)檢測(cè)單元20停滯于該對(duì)位位置后側(cè)，而空出了該對(duì)位位置正上方的空間，以使該曝光框單元2的上框體可向上掀起。

據(jù)此，本實(shí)施例的標(biāo)把影像對(duì)位裝置1，在對(duì)位程序中，該光學(xué)檢測(cè)單元20通過該二維移載單元10沿該第一方向移動(dòng)并再沿該第二方向移動(dòng)，使該光學(xué)檢測(cè)單元20移動(dòng)至默認(rèn)的標(biāo)靶位置的正上方，在整個(gè)對(duì)位程序中，該光學(xué)檢測(cè)單元20與該第二滑座14之間的相對(duì)位置為固定，故可解決習(xí)知技術(shù)中因光源組件下降靠近曝光框單元過程中會(huì)晃動(dòng)，而降低對(duì)位精準(zhǔn)度的問題，且可減少對(duì)位時(shí)間，進(jìn)而提高效率及產(chǎn)能。

在本實(shí)施例中，該標(biāo)把影像對(duì)位裝置1包含一頂升單元30，該頂升單元30用于設(shè)置于該曝光機(jī)的該對(duì)位位置的下方，以供抬升位于該對(duì)位位置的曝光框單元2，而使各該曝光框單元2,3與該光學(xué)檢測(cè)單元20之間相距一默認(rèn)距離，是以，在對(duì)位程序時(shí)，該二曝光框單元2,3移動(dòng)至該對(duì)位位置后可位于相同高度的位置，即該二曝光框單元2,3二者與該光學(xué)檢測(cè)單元20 的距離為相同，因此，本實(shí)施例的光學(xué)檢測(cè)裝置20中的攝影機(jī)22可采用倍率固定的鏡頭，而無(wú)需為了因應(yīng)不同高度的曝光框單元而采用倍率可調(diào)的鏡頭，因此省去了調(diào)整倍率的時(shí)間，進(jìn)而可增進(jìn)效率。

此外，該光學(xué)檢測(cè)單元20可具有一雷射模塊23，當(dāng)一開始欲定位標(biāo)靶位置時(shí)，調(diào)整該雷射模塊23用于對(duì)準(zhǔn)該攝影機(jī)22的視野范圍內(nèi)發(fā)射激光束，以根據(jù)激光束指向位置來確認(rèn)底片上的標(biāo)靶位置，進(jìn)而輔助確立該攝影機(jī)22能清楚取得標(biāo)靶影像的位置，來作為該光學(xué)檢測(cè)模塊20的默認(rèn)定位。據(jù)此，藉由該雷射模塊23的設(shè)置，可使該光學(xué)檢測(cè)單元20的默認(rèn)定位更加易于操作。

參照?qǐng)D10，該標(biāo)把影像對(duì)位裝置1進(jìn)一步包含一高度微調(diào)座40，該高度微調(diào)座40設(shè)置于該第二滑座14上并承載該攝影機(jī)22，用于調(diào)整該攝影機(jī)22相對(duì)于位在該對(duì)位位置上的曝光框單元的距離(即高度)，以用于微調(diào)校正。該高度微調(diào)座40具有一旋鈕41，以供旋轉(zhuǎn)該旋鈕41來升降該攝影機(jī)22。

本實(shí)施例中，較佳地是，在同一批待曝光基板的制程中，該光學(xué)檢測(cè)單元20的光源組21與攝影機(jī)22相對(duì)于位在該對(duì)位位置上的曝光框單元的距離(即高度)只需一開始進(jìn)行調(diào)整或校正，在對(duì)位程序中該光學(xué)檢測(cè)單元20的光源組21與攝影機(jī)22任一者相對(duì)于位在該對(duì)位位置上的曝光框單元的距離(即高度)為固定而不會(huì)升降作動(dòng)。

據(jù)此，相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)施例的標(biāo)把影像對(duì)位裝置及曝光機(jī)，在結(jié)構(gòu)配置上，該光學(xué)檢測(cè)單元與位于該對(duì)位位置的曝光框單元較為靠近，因此可提高檢測(cè)的精準(zhǔn)度且可采用定倍率的鏡頭，此外，由于該光學(xué)檢測(cè)單元在對(duì)位程序中與該第二滑座相對(duì)固定，即該光學(xué)檢測(cè)單元于對(duì)位程序前、中、后的過程中均無(wú)需升降作動(dòng)，因此減少了移載過程中的晃動(dòng)而增進(jìn)了精準(zhǔn)度。

本發(fā)明在上文中已通過較佳實(shí)施例揭露，然而熟習(xí)本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解的是，該實(shí)施例僅用于描繪本發(fā)明，而不應(yīng)解讀為限制本發(fā)明的范圍。應(yīng)注意的是，凡是與該實(shí)施例等效的變化與置換，均應(yīng)設(shè)為涵蓋于本發(fā)明的范疇內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。