曝光的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種曝光機，其機箱具有控制器，可動發(fā)光機臺具有發(fā)光源及移動裝置，第一感光基板升降機臺位于兩底片固定機臺之間，兩感光基板搬移機臺分別在感光基板接收機臺及第一感光基板升降機臺之間搬移感光基板，及在第一感光基板升降機臺及感光基板退出機臺之間搬移感光基板，發(fā)光源設(shè)于移動裝置并借由反射鏡反射光線至第一感光基板升降機臺上的感光基板。借此，本實用新型的曝光機可自動對感光基板的正面與反面曝光且可連續(xù)放置感光基板以進行曝光。
【專利說明】曝光機

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種曝光機，尤其涉及一種可自動對感光基板的正面與反面曝光且可連續(xù)放置感光基板以進行曝光的曝光機。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)今的印刷電路板被廣泛地應(yīng)用于電子設(shè)備或電子裝置，且為制成印刷電路板上的電路，曝光機因此被開發(fā)而加入制程的行列。然而，一般的曝光機大多僅能單次對感光基板的單面進行曝光，另外，當一感光基板在一般的曝光機內(nèi)進行曝光時，下一感光基板往往需于前一感光基板完成曝光且從一般的曝光機內(nèi)取出后，下一感光基板才可置入一般的曝光機內(nèi)進行曝光，故一般的曝光機的生產(chǎn)效率低。因此，如何研發(fā)一種曝光機，以使其可自動對感光基板的正面與反面曝光且可連續(xù)放置感光基板以進行曝光，將是本實用新型所欲積極揭露之處。
實用新型內(nèi)容
[0003]有鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)之缺憾，發(fā)明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克月艮，進而研發(fā)出一種曝光機，以期達到可自動對感光基板的正面與反面曝光且可連續(xù)放置感光基板以進行曝光的目的。
[0004]為達上述目的及其他目的，本實用新型提供一種曝光機，其包含:機箱，其具有一控制器；感光基板接收機臺，其設(shè)置于該機箱且電連接該控制器；感光基板退出機臺，其設(shè)置于該機箱且電連接該控制器；兩底片固定機臺，皆設(shè)置于該機箱內(nèi)；第一感光基板升降機臺，其設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，該第一感光基板升降機臺位于這些底片固定機臺之間；兩感光基板搬移機臺，皆設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，這些感光基板搬移機臺分別用以于該感光基板接收機臺及該第一感光基板升降機臺之間搬移一感光基板，及于該第一感光基板升降機臺及該感光基板退出機臺之間搬移一感光基板；兩反射鏡，皆設(shè)置于該機箱內(nèi)且分別位于這些底片固定機臺的兩側(cè)；以及可動發(fā)光機臺，其設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，該可動發(fā)光機臺具有至少一發(fā)光源及一移動裝置，該發(fā)光源設(shè)置于該移動裝置并用以借由該反射鏡反射光線至該第一感光基板升降機臺上的感光基板。
[0005]上述的曝光機中，還包含第二感光基板升降機臺，其設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，這些感光基板搬移機臺分別具有至少一吸盤，該第二感光基板升降機臺位于該感光基板接收機臺的下側(cè)，用以將一感光基板上推至該感光基板搬移機臺的吸盤。
[0006]上述的曝光機中，這些底片固定機臺分別具有多個感光基板位置校正器。
[0007]上述的曝光機中，該發(fā)光源具有多個發(fā)光體于同一平面。
[0008]上述的曝光機中，還包含監(jiān)視器、冷卻器、抽真空器、工作門窗或其任意組合，該監(jiān)視器設(shè)置于該機箱外且電連接該控制器，該冷卻器設(shè)置于該機箱且電連接該控制器，該抽真空器設(shè)置于該機箱且電連接該控制器，該工作門窗設(shè)置于該機箱。
[0009]借此，本實用新型的曝光機可自動對感光基板的正面與反面曝光且可連續(xù)放置感光基板以進打曝光。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型具體實施例的立體示意圖。
[0011]圖2為圖1內(nèi)部的前側(cè)示意圖。
[0012]圖3為圖1內(nèi)部的左側(cè)示意圖。
[0013]圖4為圖1內(nèi)部的右側(cè)示意圖。
[0014]圖5為圖1內(nèi)部的上側(cè)示意圖。
[0015]主要部件附圖標記:
[0016]1 機箱
[0017]11控制器
[0018]12監(jiān)視器
[0019]13冷卻器
[0020]14抽真空器
[0021]16感光基板
[0022]17工作門窗
[0023]2 感光基板接收機臺
[0024]3 感光基板退出機臺
[0025]4 底片固定機臺
[0026]41感光基板位置校正器
[0027]5 第一感光基板升降機臺
[0028]6 感光基板搬移機臺
[0029]61 吸盤
[0030]7 反射鏡
[0031]71調(diào)整裝置
[0032]8 可動發(fā)光機臺
[0033]81發(fā)光源
[0034]811發(fā)光體
[0035]82移動裝置
[0036]9 第二感光基板升降機臺
[0037]91升降裝置
[0038]92承載平板

【具體實施方式】
[0039]為充分了解本實用新型的目的、特征及技術(shù)效果，茲由下述具體實施例，并結(jié)合附圖，對本實用新型做詳細說明，說明如下:
[0040]圖1至圖5分別為本實用新型具體實施例的立體示意圖、圖1內(nèi)部的前側(cè)示意圖、左側(cè)示意圖、右側(cè)示意圖及上側(cè)示意圖，如圖所示，本實用新型提供一種曝光機，其包含機箱1、感光基板接收機臺2、感光基板退出機臺3、兩底片固定機臺4、第一感光基板升降機臺5、兩感光基板搬移機臺6、兩反射鏡7及可動發(fā)光機臺8。其中，感光基板16用于制作電路板或觸控面板，該機箱1具有控制器11，該控制器11可為計算機，以控制電子裝置；該感光基板接收機臺2設(shè)置于該機箱1且電連接該控制器11，該感光基板接收機臺2用以接收準備曝光的感光基板16，該感光基板接收機臺2可具有相互連接的承載框架(圖未示)及平移裝置(圖未示)，該承載框架用以承載該感光基板16的周緣，該平移裝置電連接該控制器11以將該承載框架伸出該機箱1外以接收該感光基板16，及將該承載框架收回該機箱1內(nèi)以準備使該感光基板16進行曝光；該感光基板退出機臺3設(shè)置于該機箱1且電連接該控制器11，該感光基板退出機臺3用以退出曝光過的感光基板16，該感光基板退出機臺3可具有相互連接的承載框架(圖未示)及平移裝置(圖未示)，該承載框架用以承載該感光基板16的周緣，該平移裝置電連接該控制器11以將該承載框架伸出該機箱1外以退出該感光基板16，及將該承載框架收回該機箱1內(nèi)以準備承載下一曝光過的感光基板16 ;這些底片固定機臺4設(shè)置于該機箱1內(nèi)，上方的底片固定機臺4可用以固定曝光該感光基板16的正面的底片，下方的底片固定機臺4可用以固定曝光該感光基板16的反面的底片；該第一感光基板升降機臺5設(shè)置于該機箱1內(nèi)且電連接該控制器11，該第一感光基板升降機臺5位于這些底片固定機臺4之間，該第一感光基板升降機臺5可具有相互連接的承載框架(圖未示)及升降裝置(圖未示)，該承載框架用以承載該感光基板16的周緣，該升降裝置電連接該控制器11以將該承載框架上升以使該感光基板16的正面貼合上方的底片并進行曝光，及將該承載框架下降以使該感光基板16的反面貼合下方的底片并進行曝光；這些感光基板搬移機臺6設(shè)置于該機箱1內(nèi)且電連接該控制器11，這些感光基板搬移機臺6分別用以將準備曝光的感光基板16由該感光基板接收機臺2搬移至該第一感光基板升降機臺5，及將曝光過的感光基板16由該第一感光基板升降機臺5搬移至該感光基板退出機臺3 ；這些反射鏡7可為平面鏡，這些反射鏡7設(shè)置于該機箱1內(nèi)且分別位于這些底片固定機臺4的兩側(cè)，該反射鏡7可設(shè)置于調(diào)整裝置71上，該調(diào)整裝置71可電連接該控制器11以使該反射鏡7可設(shè)置為適當?shù)姆瓷浣嵌?例如45度)；該可動發(fā)光機臺8設(shè)置于該機箱1內(nèi)且電連接該控制器11，該可動發(fā)光機臺8具有至少一發(fā)光源81及一移動裝置82，該發(fā)光源81可發(fā)射紫外光且設(shè)置于該移動裝置82，并用以借由該反射鏡7反射光線至該第一感光基板升降機臺5上的感光基板16，該移動裝置82可為馬達帶動的輸送帶或鏈條，請參考圖4，如圖所示，當該發(fā)光源81的數(shù)量為一時，該移動裝置82可先將該發(fā)光源81移動至上方的反射鏡7并校正位置以使該感光基板16的正面可被精確地曝光，之后該移動裝置82可再將該發(fā)光源81移動至下方的反射鏡7并校正位置以使該感光基板16的反面可被精確地曝光，當該發(fā)光源81的數(shù)量為二時，這些發(fā)光源81可分別對應(yīng)這些反射鏡7，該移動裝置82可先將上方的發(fā)光源81校正位置以使該感光基板16的正面可被精確地曝光，之后該移動裝置82可再將下方的發(fā)光源81校正位置以使該感光基板16的反面可被精確地曝光。
[0041]請再參考圖1至圖5，如圖所示，本實用新型的曝光機運作時，操作員可先將準備曝光的感光基板16置入該感光基板接收機臺2并收回至該機箱1內(nèi)，之后下方的感光基板搬移機臺6將該感光基板16由該感光基板接收機臺2搬移至該第一感光基板升降機臺5，接著該第一感光基板升降機臺5將該感光基板16上升貼合上方的底片固定機臺4所固定的底片(圖未示)，與此同時，另一準備曝光的感光基板16可再置入該感光基板接收機臺2,而前一曝光過的感光基板16則可由該感光基板退出機臺3中取出，接著上方的底片固定機臺4的感光基板位置校正器41 (例如電連接該控制器的CCD)可協(xié)助對準該底片及該感光基板16的正面的曝光位置，之后上方的發(fā)光源81便可發(fā)射紫外光并經(jīng)由該反射鏡7的反射將該紫外光投射至上方的底片及該感光基板16的正面，以使該感光基板16的正面曝光，接著該第一感光基板升降機臺5將該感光基板16下降貼合下方的底片固定機臺4所固定的底片(圖未示)，之后下方的底片固定機臺4的感光基板位置校正器41 (例如電連接該控制器的CCD)可協(xié)助對準該底片及該感光基板16的反面的曝光位置，之后下方的發(fā)光源81便可發(fā)射紫外光并經(jīng)由該反射鏡7的反射將該紫外光投射至下方的底片及該感光基板16的反面，以使該感光基板16的反面曝光，接著該第一感光基板升降機臺5將該感光基板16上升至這些底片固定機臺4之間，而上方的感光基板搬移機臺6便可將曝光過的感光基板16由該第一感光基板升降機臺5搬移至該感光基板退出機臺3，以使操作員取出曝光過的感光基板16。
[0042]如上所述，本實用新型的曝光機可自動對感光基板的正面與反面曝光且可連續(xù)放置感光基板以進行曝光；另外，本實用新型的曝光機可經(jīng)由該控制器控制所有機臺以使本實用新型的曝光機全自動化，進而可減少人員開支及提升工作效能，其有別于傳統(tǒng)的曝光機無法全自動化而降低生產(chǎn)的效能；再者，本實用新型的曝光機經(jīng)由感光基板接收機臺自動接收感光基板及經(jīng)由感光基板退出機臺自動退出感光基板，因此本實用新型的曝光機可避免該感光基板受到外界環(huán)境的污染而可提升潔凈度及曝光的合格率，其有別于傳統(tǒng)的曝光機需以人工掀開或蓋合蓋體以置入或移出感光基板，而使該感光基板容易受到外界環(huán)境的污染并降低潔凈度及曝光的合格率；再者，本實用新型的曝光機僅需上下各一張底片即可進行感光基板的正反面曝光，因此本實用新型的曝光機除可減少底片的費用，更可縮短更換底片的時間，其有別于傳統(tǒng)的曝光機需上下各兩張底片才可進行感光基板的正反面曝光，而浪費底片并增加更換底片的時間。再者，本實用新型的曝光機用于自動、半自動或R2R(Roll to Roll)的機臺時僅需修改部分機構(gòu)而不須更換整個機臺，因此本實用新型的曝光機具有機臺共用的效果。
[0043]請再參考圖2及圖3，如圖所示，上述的曝光機中，還可包含第二感光基板升降機臺9，其設(shè)置于該機箱1內(nèi)且電連接該控制器11，這些感光基板搬移機臺6分別具有至少一吸盤61及一移動裝置(圖未示)，該第二感光基板升降機臺9位于該感光基板接收機臺2的下側(cè)，以用以上推準備曝光的感光基板16至該感光基板搬移機臺6的吸盤61。該第二感光基板升降機臺9可具有相互連接的承載平板92及升降裝置91，該承載平板92用以上推該感光基板16，該升降裝置91電連接該控制器11以將該承載平板92上升，使該承載平板92上推該感光基板16至該感光基板搬移機臺6的吸盤61，之后該感光基板搬移機臺6便可借由該移動裝置將該感光基板16由該感光基板接收機臺2搬移至該第一感光基板升降機臺5。同理，該第一感光基板升降機臺5可具有相互連接的承載框架(圖未示)及升降裝置(圖未示)，該承載框架用以承載該感光基板16的周緣，該升降裝置電連接該控制器11以將該承載框架中曝光過的感光基板16上升至該感光基板搬移機臺6的吸盤61，之后該感光基板搬移機臺6便可借由該移動裝置將該感光基板16由該第一感光基板升降機臺5搬移至該感光基板退出機臺3，以使操作員可從該感光基板退出機臺3中取出曝光過的感光基板16。
[0044]請再參考圖4，如圖所示，上述的曝光機中，這些底片固定機臺4分別可具有多個感光基板位置校正器41 (例如電連接該控制器的CCD)，如上所述，借由這些感光基板位置校正器41可提升上下底片與該感光基板16的正面與反面的曝光位置的準確度。
[0045]請再參考圖4及圖5，如圖所示，上述的曝光機中，該發(fā)光源81可具有多個發(fā)光體811于同一平面，這些發(fā)光體811可為LED且可呈矩陣排列，借此，該發(fā)光源81可對該感光基板16的正面或反面進行均勻的曝光。
[0046]請再參考圖1、圖2及圖5，如圖所示，上述的曝光機中，還可包含監(jiān)視器12、冷卻器13、抽真空器14、工作門窗17或其任意組合，該監(jiān)視器12設(shè)置于該機箱I外且電連接該控制器11，該監(jiān)視器12可通過文字或圖像顯示曝光過程的信息以使操作員可隨時做應(yīng)變，該冷卻器13設(shè)置于該機箱I且電連接該控制器11，該冷卻器13可將上述電子裝置所產(chǎn)生的廢熱排出至該機箱I外或降低該機箱I內(nèi)的溫度以避免上述電子裝置故障，該抽真空器14設(shè)置于該機箱I且電連接該控制器11，該抽真空器14可將曝光區(qū)內(nèi)的氣體抽真空以使底片與該感光基板16可貼合而不會夾雜氣體，進而可提高該感光基板16曝光的合格率，該工作門窗17設(shè)置于該機箱I且可電連接該控制器11，操作員可透過該工作門窗17觀察該感光基板16的曝光情況，若該感光基板16或機臺發(fā)生問題，操作員亦可電動打開或手動打開該工作門窗17以排除問題，另外，操作員亦可經(jīng)由該工作門窗17對曝光機進行維修及保養(yǎng)。
[0047]本實用新型在上文中已以較佳實施例揭露，然而本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解的是，該實施例僅用于描繪本實用新型，而不應(yīng)解讀為限制本實用新型的范圍。應(yīng)注意的是，凡是與該實施例等效的變化與置換，均應(yīng)視為涵蓋于本實用新型的范疇內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍當以權(quán)利要求書所限定的內(nèi)容為準。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光機，其特征在于，包含: 機箱，其具有一控制器； 感光基板接收機臺，其設(shè)置于該機箱且電連接該控制器； 感光基板退出機臺，其設(shè)置于該機箱且電連接該控制器； 兩底片固定機臺，皆設(shè)置于該機箱內(nèi)； 第一感光基板升降機臺，其設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，該第一感光基板升降機臺位于這些底片固定機臺之間； 兩感光基板搬移機臺，皆設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，這些感光基板搬移機臺分別用以于該感光基板接收機臺及該第一感光基板升降機臺之間搬移一感光基板，及于該第一感光基板升降機臺及該感光基板退出機臺之間搬移一感光基板； 兩反射鏡，皆設(shè)置于該機箱內(nèi)且分別位于這些底片固定機臺的兩側(cè)；以及 可動發(fā)光機臺，其設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，該可動發(fā)光機臺具有至少一發(fā)光源及一移動裝置，該發(fā)光源設(shè)置于該移動裝置并用以借由反射鏡反射光線至該第一感光基板升降機臺上的感光基板。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，還包含第二感光基板升降機臺，其設(shè)置于該機箱內(nèi)且電連接該控制器，這些感光基板搬移機臺分別具有至少一吸盤，該第二感光基板升降機臺位于該感光基板接收機臺的下側(cè)，用以將一感光基板上推至該感光基板搬移機臺的吸盤。
3.如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，這些底片固定機臺分別具有多個感光基板位置校正器。
4.如權(quán)利要求2所述的曝光機，其特征在于，這些底片固定機臺分別具有多個感光基板位置校正器。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的曝光機,其特征在于,該發(fā)光源具有多個發(fā)光體于同一平面。
6.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的曝光機，其特征在于，還包含監(jiān)視器、冷卻器、抽真空器、工作門窗或其任意組合，該監(jiān)視器設(shè)置于該機箱外且電連接該控制器，該冷卻器設(shè)置于該機箱且電連接該控制器，該抽真空器設(shè)置于該機箱且電連接該控制器，該工作門窗設(shè)置于該機箱。
7.如權(quán)利要求5所述的曝光機，其特征在于，還包含監(jiān)視器、冷卻器、抽真空器、工作門窗或其任意組合，該監(jiān)視器設(shè)置于該機箱外且電連接該控制器，該冷卻器設(shè)置于該機箱且電連接該控制器，該抽真空器設(shè)置于該機箱且電連接該控制器，該工作門窗設(shè)置于該機箱。
【文檔編號】G03F7/20GK204086810SQ201420439518
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年8月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月6日
【發(fā)明者】周坤麟, 何立克 申請人:敘豐企業(yè)股份有限公司