一種摩擦設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種摩擦設(shè)備，所述摩擦設(shè)備包括基臺(tái)、清潔裝置、摩擦輥和驅(qū)動(dòng)件，所述基臺(tái)用于承載至少一個(gè)被摩擦件；所述清潔裝置與所述基臺(tái)相對(duì)設(shè)置，用于清潔所述被摩擦件；所述摩擦輥位于所述基臺(tái)和所述清潔裝置之間，用于摩擦所述被摩擦件；所述驅(qū)動(dòng)件用于驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥相對(duì)于所述基臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)，以摩擦所述被摩擦件。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種摩擦設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電子工藝【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種摩擦設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)前，隨著信息化建設(shè)在蓬勃發(fā)展，作為信息發(fā)布的終端顯示設(shè)備，已經(jīng)廣泛應(yīng)用于工作和生活的各個(gè)方面。在液晶顯示設(shè)備的生產(chǎn)工藝中，需要液晶面板的液晶分子進(jìn)行取向。
[0003]現(xiàn)有的摩擦取向方式具體為:首先將所述液晶面板放置在清潔區(qū)域進(jìn)行區(qū)域，然后傳送到摩擦裝置進(jìn)行摩擦，待摩擦完成后，再傳送到清潔區(qū)域進(jìn)行清潔。
[0004]但是上述現(xiàn)有技術(shù)存在如下技術(shù)問(wèn)題:
[0005]由于在摩擦的過(guò)程中，極易產(chǎn)生絨毛、塵埃，且在高強(qiáng)度摩擦下還會(huì)產(chǎn)生有機(jī)物碎屑，部分塵?；蛩樾嫉葧?huì)附著在摩擦布的表面，從而導(dǎo)致所述線(xiàn)狀顯示不良，同時(shí)還會(huì)縮短摩擦布的使用壽命。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N摩擦設(shè)備，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在摩擦的過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑附著在摩擦布的表面，導(dǎo)致線(xiàn)狀顯示不良，縮短摩擦布的使用壽命的技術(shù)問(wèn)題。
[0007]本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N摩擦設(shè)備，所述摩擦設(shè)備包括基臺(tái)、清潔裝置、摩擦輥和驅(qū)動(dòng)件，所述基臺(tái)用于承載至少一個(gè)被摩擦件；所述清潔裝置與所述基臺(tái)相對(duì)設(shè)置，用于清潔所述被摩擦件；所述摩擦輥位于所述基臺(tái)和所述清潔裝置之間，用于摩擦所述被摩擦件；所述驅(qū)動(dòng)件用于驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥相對(duì)于所述基臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)，以摩擦所述被摩擦件。
[0008]優(yōu)選地，所述清潔裝置包括腔體、高壓氣體入口和真空吸附口，所述高壓氣體入口和所述真空吸附口均與所述腔體連通。
[0009]優(yōu)選地，所述高壓氣體入口的數(shù)目至少為兩個(gè)，分別開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置的相對(duì)兩側(cè)面上，所述真空吸附口開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置上與所述被摩擦件相背的表面的中部。
[0010]優(yōu)選地，所述至少兩個(gè)高壓氣體入口開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置上與所述摩擦輥的軸向兩端相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)側(cè)面上。
[0011]優(yōu)選地，所述清潔裝置在所述摩擦輥上平行于所述基臺(tái)的徑向方向上兩側(cè)邊緣的厚度大于中間部分的厚度。
[0012]優(yōu)選地，所述清潔裝置包括第一清潔部、第二清潔部和連接所述第一清潔部和所述第二清潔部的連接部，所述第一清潔部上開(kāi)設(shè)有第一腔體和至少一與所述第一腔體連通的第一高壓氣體入口，所述第二清潔部上開(kāi)設(shè)有第二腔體和至少一與所述第二腔體連通的第二高壓氣體入口，所述連接部上開(kāi)設(shè)有第三腔體和至少一與所述第三腔體連通的真空吸附口，所述第一腔體和第二腔體與所述第三腔體連通。
[0013]優(yōu)選地，所述第一清潔部和所述第二清潔部在所述基臺(tái)上的投影位于所述摩擦輥在所述基臺(tái)上的投影的相對(duì)兩側(cè)。[0014]優(yōu)選地，所述第一清潔部和所述第二清潔部中每個(gè)清潔部在所述摩擦輥上平行于所述基臺(tái)的徑向方向上兩側(cè)邊緣的厚度大于中間部分的厚度。
[0015]優(yōu)選地，所述摩擦設(shè)備還包括對(duì)位汽缸，所述對(duì)位汽缸用于調(diào)整所述摩擦輥的位置。
[0016]優(yōu)選地，所述摩擦設(shè)備還包括檢測(cè)裝置和控制器，所述檢測(cè)裝置用于檢測(cè)所述摩擦輥的位置信息，并將所述位置信息發(fā)送給所述控制器，所述控制器根據(jù)所述位置信息控制所述對(duì)位汽缸調(diào)整所述摩擦輥的位置。
[0017]本申請(qǐng)有益效果如下:
[0018]在需要對(duì)所述被摩擦件進(jìn)行摩擦?xí)r，將所述被摩擦件放置于所述基臺(tái)上并位于所述被摩擦位置時(shí)，啟動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)件，以驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥轉(zhuǎn)動(dòng)，從而摩擦所述被摩擦件，同時(shí)，在啟動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)件時(shí)，啟動(dòng)所述清潔裝置，使得所述清潔裝置對(duì)所述被摩擦件和所述摩擦輥進(jìn)行清潔，從而在所述摩擦輥摩擦所述被摩擦件的過(guò)程中，所述清潔裝置能夠?qū)δΣ吝^(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等進(jìn)行清潔，以減少附著在所述摩擦輥表面的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑，降低產(chǎn)品的不良率，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在摩擦的過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑附著在摩擦布的表面，導(dǎo)致線(xiàn)狀顯示不良，縮短摩擦布的使用壽命的技術(shù)問(wèn)題。
[0019]在需要對(duì)所述被摩擦件清潔時(shí)，從所述高壓氣體入口向所述腔體內(nèi)通入高壓氣體，并在所述真空吸附口進(jìn)行真空吸附，通過(guò)所述高壓氣體入口處和所述真空吸附口處的氣壓差，使得所述清潔裝置產(chǎn)生震動(dòng)，從而使得所述被摩擦件和所述摩擦輥周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)，從而對(duì)所述被摩擦件的表面進(jìn)行氣流沖擊，從而避免摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等停留在被摩擦件的表面，或者摩擦輥的表面。
[0020]通過(guò)將所述高壓氣體入口設(shè)置在所述清潔裝置的相對(duì)兩側(cè)面上，和將所述真空吸附口開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置上與所述被摩擦件相背的表面的中部，從而減小所述高壓氣體入口和所述真空吸附口之間的距離，從而增大所述被摩擦件和所述摩擦輥周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)量，增大對(duì)所述被摩擦件的表面進(jìn)行氣流沖擊力。
[0021]通過(guò)將所述清潔裝置在所述基臺(tái)上的投影在垂直于所述摩擦輥的軸向方向上的尺寸大于所述摩擦輥的徑向尺寸，從而增大所述清潔裝置與所述被摩擦件之間的相對(duì)面積，增大所述被摩擦件和所述摩擦輥周?chē)目諝庹駝?dòng)范圍，增大在所述摩擦件上的氣流沖擊表面。
[0022]通過(guò)設(shè)置用于檢測(cè)所述摩擦輥的位置信息的檢測(cè)裝置，和用于接收所述檢測(cè)裝置發(fā)送的所述位置信息，并根據(jù)所述位置信息控制所述對(duì)位汽缸調(diào)整所述摩擦輥的位置的控制裝置，從而實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)整所述摩擦輥的位置，避免因所述摩擦輥的位置發(fā)生偏移而造成被摩擦件摩擦不良。
[0023]通過(guò)從所述第一高壓氣體入口向所述第一腔體內(nèi)通入高壓氣體，從所述第二高壓氣體入口向所述第二腔體內(nèi)通入高壓氣體，并在所述真空吸附口進(jìn)行真空吸附，使得所述第一清潔部和所述第二清潔部發(fā)生振動(dòng)，從而使得所述被摩擦件周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)，從而對(duì)所述被摩擦件的表面進(jìn)行氣流沖擊，從而避免摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等停留在被摩擦件的表面，或者摩擦輥的表面。
[0024]通過(guò)將所述第一清潔部和所述第二清潔部設(shè)置在所述基臺(tái)上的投影位于所述摩擦輥在所述基臺(tái)上的投影的相對(duì)兩側(cè)，從而減小因所述第一清潔部和所述第二清潔部振動(dòng)而使空氣振動(dòng)對(duì)所述摩擦輥所產(chǎn)生的影響。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0025]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例。
[0026]圖1為本申請(qǐng)第一較佳實(shí)施方式摩擦設(shè)備的主視圖；
[0027]圖2為圖1中摩擦設(shè)備的側(cè)視圖；
[0028]圖3為圖1中摩擦設(shè)備的俯視圖；
[0029]圖4為本申請(qǐng)另一較佳實(shí)施方式摩擦設(shè)備的主視圖；
[0030]圖5為圖4中摩擦設(shè)備的側(cè)視圖；
[0031]圖6為圖4中摩擦設(shè)備的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0032]本申請(qǐng)實(shí)施例通過(guò)提供一種摩擦設(shè)備，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在摩擦的過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑附著在摩擦布的表面，導(dǎo)致線(xiàn)狀顯示不良，縮短摩擦布的使用壽命的技術(shù)問(wèn)題。
[0033]本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問(wèn)題，總體思路如下:
[0034]一種摩擦設(shè)備，所述摩擦設(shè)備包括基臺(tái)、清潔裝置、摩擦輥和驅(qū)動(dòng)件，所述基臺(tái)用于承載至少一個(gè)被摩擦件；所述清潔裝置與所述基臺(tái)相對(duì)設(shè)置，用于清潔所述被摩擦件；所述摩擦輥位于所述基臺(tái)和所述清潔裝置之間，用于摩擦所述被摩擦件；所述驅(qū)動(dòng)件用于驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥相對(duì)于所述基臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)，以摩擦所述被摩擦件。
[0035]為了更好的理解上述技術(shù)方案，下面將結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖以及具體的實(shí)施方式對(duì)上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。
[0036]如圖1所示，為本申請(qǐng)第一較佳實(shí)施方式摩擦設(shè)備100的主視圖。所述摩擦設(shè)備100應(yīng)用于摩擦工藝中，如用于對(duì)被摩擦件160進(jìn)行摩擦，所述被摩擦件160可以為需要被摩擦的任何元件，如液晶面板等。在所述被摩擦件160為液晶面板時(shí)，所述摩擦設(shè)備對(duì)所述液晶面板進(jìn)行摩擦，以為液晶面板的液晶分子進(jìn)行摩擦取向。
[0037]同時(shí)參閱圖2和圖3，所述摩擦設(shè)備100包括基臺(tái)120、清潔裝置130、摩擦輥140和驅(qū)動(dòng)件150。
[0038]所述基臺(tái)120用于承載至少一個(gè)被摩擦件160。所述基臺(tái)120可以固定設(shè)置，也可以可移動(dòng)地設(shè)置于一支架上。在所述基臺(tái)固定時(shí)，所述被摩擦件160可以通過(guò)其他輔助設(shè)備如機(jī)械手等放置于所述基臺(tái)120上，或者從所述基臺(tái)120上移開(kāi)。在所述基臺(tái)可以移動(dòng)地設(shè)置于所述支架上時(shí)，所述被摩擦件160可以通過(guò)所述基臺(tái)120的移動(dòng)而帶動(dòng)所述被摩擦件160位于被摩擦位置或者離開(kāi)所述被摩擦位置。
[0039]所述清潔裝置130與所述基臺(tái)120相對(duì)設(shè)置，用于清潔承載于所述基臺(tái)120上的所述被摩擦件160。
[0040]所述摩擦輥140位于所述基臺(tái)120和所述清潔裝置130之間，用于摩擦所述被摩擦件160。[0041]所述驅(qū)動(dòng)件150用于驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥140相對(duì)于所述基臺(tái)120轉(zhuǎn)動(dòng)，以摩擦所述被摩擦件160。所述驅(qū)動(dòng)件150可以為驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，通過(guò)減速機(jī)構(gòu)連接所述摩擦輥140，或者直接連接所述摩擦輥140，以驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥140相對(duì)于所述基臺(tái)120轉(zhuǎn)動(dòng)。所述驅(qū)動(dòng)件150還可以為AC發(fā)動(dòng)機(jī)，所述AC發(fā)動(dòng)機(jī)可以通過(guò)皮帶與所述摩擦輥140連接，以驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥140相對(duì)于所述基臺(tái)120轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0042]在需要對(duì)所述被摩擦件160進(jìn)行摩擦?xí)r，將所述被摩擦件160放置于所述基臺(tái)120上并位于所述被摩擦位置時(shí)，啟動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)件150,以驅(qū)動(dòng)所述摩擦棍140轉(zhuǎn)動(dòng),從而摩擦所述被摩擦件160，同時(shí)，在啟動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)件150時(shí)，啟動(dòng)所述清潔裝置130，使得所述清潔裝置130對(duì)所述被摩擦件160和所述摩擦輥140進(jìn)行清潔，從而在所述摩擦輥140摩擦所述被摩擦件160的過(guò)程中，所述清潔裝置130能夠?qū)δΣ吝^(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等進(jìn)行清潔，以減少附著在所述摩擦輥140表面的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑，降低產(chǎn)品的不良率，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在摩擦的過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑附著在摩擦布的表面，導(dǎo)致線(xiàn)狀顯示不良，縮短摩擦布的使用壽命的技術(shù)問(wèn)題。
[0043]具體地，所述清潔裝置130包括腔體131、高壓氣體入口 132和真空吸附口 133，所述高壓氣體入口 132和所述真空吸附口 133均與所述腔體131連通。在需要對(duì)所述被摩擦件160清潔時(shí)，從所述高壓氣體入口 132向所述腔體131內(nèi)通入高壓氣體，并在所述真空吸附口 133進(jìn)行真空吸附，通過(guò)所述高壓氣體入口 132處和所述真空吸附口 133處的氣壓差，使得所述清潔裝置130產(chǎn)生震動(dòng)，從而使得所述被摩擦件160和所述摩擦輥140周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)，從而對(duì)所述被摩擦件160的表面進(jìn)行氣流沖擊，從而避免摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦輥140的表面。
[0044]具體地，所述高壓氣體入口 132的數(shù)目至少為兩個(gè)，分別開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置130的相對(duì)兩側(cè)面上，所述真空吸附口 133開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置130上與所述被摩擦件160相背的表面的中部。通過(guò)將所述高壓氣體入口 132設(shè)置在所述清潔裝置130的相對(duì)兩側(cè)面上，和將所述真空吸附口 133開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置130上與所述被摩擦件160相背的表面的中部，從而減小所述高壓氣體入口 132和所述真空吸附口 133之間的距離，從而增大所述被摩擦件160和所述摩擦輥140周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)量，增大對(duì)所述被摩擦件160的表面進(jìn)行氣流沖擊力。
[0045]在本實(shí)施方式中，所述至少兩個(gè)高壓氣體入口 132開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置130上與所述摩擦輥140的軸向兩端相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)側(cè)面上，在其它實(shí)施方式中，所述至少兩個(gè)高壓氣體入口 132也可以開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置130上與所述摩擦輥140的軸向方向垂直的兩個(gè)側(cè)面上。另外，所述清潔裝置130在所述基臺(tái)120上的投影在垂直于所述摩擦輥140的軸向方向上的尺寸大于所述摩擦輥140的徑向尺寸，所述摩擦輥140設(shè)置于所述清潔裝置130的中部。通過(guò)將所述清潔裝置130在所述基臺(tái)120上的投影在垂直于所述摩擦輥140的軸向方向上的尺寸大于所述摩擦輥140的徑向尺寸，從而增大所述清潔裝置130與所述被摩擦件160之間的相對(duì)面積，增大所述被摩擦件160和所述摩擦輥140周?chē)目諝庹駝?dòng)范圍，增大在所述摩擦件160上的氣流沖擊表面。
[0046]在【具體實(shí)施方式】中，所述清潔裝置130在所述摩擦輥140上平行于所述基臺(tái)120的徑向方向上兩側(cè)邊緣的厚度大于中間部分的厚度。
[0047]另外，所述摩擦設(shè)備100還包括對(duì)位汽缸170，所述對(duì)位汽缸170用于調(diào)整所述摩擦輥140的位置。在需要更換摩擦輥140時(shí)，所述對(duì)位汽缸170用于把所述摩擦輥140推向另一個(gè)汽缸。
[0048]具體地，所述摩擦設(shè)備100還包括檢測(cè)裝置180和控制器190，所述檢測(cè)裝置180用于檢測(cè)所述摩擦輥140的位置信息，并將所述位置信息發(fā)送給所述控制器190，所述控制器190根據(jù)所述位置信息控制所述對(duì)位汽缸170調(diào)整所述摩擦輥140的位置。具體地，所述檢測(cè)裝置180可以為分別設(shè)置于所述摩擦輥140相對(duì)兩側(cè)的兩個(gè)傳感器。通過(guò)設(shè)置用于檢測(cè)所述摩擦輥140的位置信息的檢測(cè)裝置180，和用于接收所述檢測(cè)裝置發(fā)送的所述位置信息，并根據(jù)所述位置信息控制所述對(duì)位汽缸170調(diào)整所述摩擦輥140的位置的控制裝置，從而實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)整所述摩擦輥140的位置，避免因所述摩擦輥140的位置發(fā)生偏移而造成被摩擦件160摩擦不良。
[0049]在需要對(duì)所述被摩擦件160進(jìn)行摩擦?xí)r，將所述被摩擦件160放置于所述基臺(tái)120上并位于所述被摩擦位置時(shí)，啟動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)件150,以驅(qū)動(dòng)所述摩擦棍140轉(zhuǎn)動(dòng),從而摩擦所述被摩擦件160，同時(shí)，在啟動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)件150時(shí)，啟動(dòng)所述清潔裝置130，使得所述清潔裝置130對(duì)所述被摩擦件160和所述摩擦輥140進(jìn)行清潔，從而在所述摩擦輥140摩擦所述被摩擦件160的過(guò)程中，所述清潔裝置130能夠?qū)δΣ吝^(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等進(jìn)行清潔，以減少附著在所述摩擦輥140表面的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑，降低產(chǎn)品的不良率，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在摩擦的過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑附著在摩擦布的表面，導(dǎo)致線(xiàn)狀顯示不良，縮短摩擦布的使用壽命的技術(shù)問(wèn)題。
[0050]在需要對(duì)所述被摩擦件160清潔時(shí)，從所述高壓氣體入口 132向所述腔體131內(nèi)通入高壓氣體，并在所述真空吸附口 133進(jìn)行真空吸附，通過(guò)所述高壓氣體入口 132處和所述真空吸附口 133處的氣壓差，使得所述清潔裝置130產(chǎn)生震動(dòng)，從而使得所述被摩擦件160和所述摩擦輥140周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)，從而對(duì)所述被摩擦件160的表面進(jìn)行氣流沖擊，從而避免摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦輥140的表面。
[0051]通過(guò)將所述高壓氣體入口 132設(shè)置在所述清潔裝置130的相對(duì)兩側(cè)面上，和將所述真空吸附口 133開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置130上與所述被摩擦件160相背的表面的中部，從而減小所述高壓氣體入口 132和所述真空吸附口 133之間的距離，從而增大所述被摩擦件160和所述摩擦輥140周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)量，增大對(duì)所述被摩擦件160的表面進(jìn)行氣流沖擊力。
[0052]通過(guò)將所述清潔裝置130在所述基臺(tái)120上的投影在垂直于所述摩擦輥140的軸向方向上的尺寸大于所述摩擦輥140的徑向尺寸，從而增大所述清潔裝置130與所述被摩擦件160之間的相對(duì)面積，增大所述被摩擦件160和所述摩擦輥140周?chē)目諝庹駝?dòng)范圍，增大在所述摩擦件160上的氣流沖擊表面。
[0053]通過(guò)設(shè)置用于檢測(cè)所述摩擦輥140的位置信息的檢測(cè)裝置180，和用于接收所述檢測(cè)裝置發(fā)送的所述位置信息，并根據(jù)所述位置信息控制所述對(duì)位汽缸170調(diào)整所述摩擦輥140的位置的控制裝置，從而實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)整所述摩擦輥140的位置，避免因所述摩擦輥140的位置發(fā)生偏移而造成被摩擦件160摩擦不良。
[0054]實(shí)施例二
[0055]基于同樣的發(fā)明構(gòu)思，本申請(qǐng)還提供另一種摩擦設(shè)備，如圖4所示，為本申請(qǐng)另一較佳實(shí)施方式摩擦設(shè)備200的主視圖。所述摩擦設(shè)備200的結(jié)構(gòu)中，除所述清潔裝置230的結(jié)構(gòu)與實(shí)施例一中摩擦設(shè)備200的結(jié)構(gòu)不同外，其他結(jié)構(gòu)均與所述摩擦設(shè)備100相同，因此，對(duì)于相同部分，在此不再贅述。
[0056]如圖5和圖6所示，具體地，所述清潔裝置230包括第一清潔部231、第二清潔部232和連接所述第一清潔部231和所述第二清潔部232的連接部233.所述第一清潔部231上開(kāi)設(shè)有第一腔體2311和至少一與所述第一腔體2311連通的第一高壓氣體入口 2312。所述第二清潔部232上開(kāi)設(shè)有第二腔體2321和至少一與所述第二腔體2321連通的第二高壓氣體入口 2322。所述連接部233上開(kāi)設(shè)有第三腔體2331和至少一與所述第三腔體2331連通的真空吸附口 2332，所述第一腔體2311和第二腔體2321與所述第三腔體2331連通。
[0057]在需要對(duì)所述被摩擦件160進(jìn)行清潔時(shí)，從所述第一高壓氣體入口 2312向所述第一腔體2311內(nèi)通入高壓氣體，從所述第二高壓氣體入口 2322向所述第二腔體2321內(nèi)通入高壓氣體，并在所述真空吸附口 2332進(jìn)行真空吸附，使得所述第一清潔部231和所述第二清潔部232發(fā)生振動(dòng)，從而使得所述被摩擦件160周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)，從而對(duì)所述被摩擦件160的表面進(jìn)行氣流沖擊，從而避免摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦輥140的表面。
[0058]進(jìn)一步地，所述第一清潔部231和所述第二清潔部232在所述基臺(tái)120上的投影位于所述摩擦輥140在所述基臺(tái)120上的投影的相對(duì)兩側(cè)。通過(guò)將所述所述第一清潔部231和所述第二清潔部232在所述基臺(tái)120上的投影位于所述摩擦輥140在所述基臺(tái)120上的投影的相對(duì)兩側(cè)，從而減小因所述第一清潔部231和所述第二清潔部232振動(dòng)而使空氣振動(dòng)對(duì)所述摩擦輥140所產(chǎn)生的影響。
[0059]在【具體實(shí)施方式】中，所述第一清潔部231和所述第二清潔部232中每個(gè)清潔部在所述摩擦輥140上平行于所述基臺(tái)120的徑向方向上兩側(cè)邊緣的厚度大于中間部分的厚度。另外，所述真空吸附口 2332開(kāi)設(shè)于所述連接部233上位于在所述摩擦輥140上平行于所述基臺(tái)120的徑向方向上的一側(cè)面上。
[0060]在需要對(duì)所述被摩擦件160進(jìn)行清潔時(shí)，從所述第一高壓氣體入口 2312向所述第一腔體2311內(nèi)通入高壓氣體，從所述第二高壓氣體入口 2322向所述第二腔體2321內(nèi)通入高壓氣體，并在所述真空吸附口 2332進(jìn)行真空吸附，使得所述第一清潔部231和所述第二清潔部232發(fā)生振動(dòng)，從而使得所述被摩擦件160周?chē)目諝猱a(chǎn)生震動(dòng)，從而對(duì)所述被摩擦件160的表面進(jìn)行氣流沖擊，從而避免摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的絨毛、塵、有機(jī)物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦輥140的表面。
[0061]通過(guò)將所述所述第一清潔部231和所述第二清潔部232在所述基臺(tái)120上的投影位于所述摩擦輥140在所述基臺(tái)120上的投影的相對(duì)兩側(cè)，從而減小因所述第一清潔部231和所述第二清潔部232振動(dòng)而使空氣振動(dòng)對(duì)所述摩擦輥140所產(chǎn)生的影響。
[0062]盡管已描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對(duì)這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本實(shí)用新型范圍的所有變更和修改。
[0063]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦設(shè)備包括: 基臺(tái)，用于承載至少一個(gè)被摩擦件； 清潔裝置，與所述基臺(tái)相對(duì)設(shè)置，用于清潔所述被摩擦件； 摩擦輥，位于所述基臺(tái)和所述清潔裝置之間，用于摩擦所述被摩擦件； 驅(qū)動(dòng)件，用于驅(qū)動(dòng)所述摩擦輥相對(duì)于所述基臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)，以摩擦所述被摩擦件。
2.如權(quán)利要求1所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述清潔裝置包括腔體、高壓氣體入口和真空吸附口，所述高壓氣體入口和所述真空吸附口均與所述腔體連通。
3.如權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述高壓氣體入口的數(shù)目至少為兩個(gè)，分別開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置的相對(duì)兩側(cè)面上，所述真空吸附口開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置上與所述被摩擦件相背的表面的中部。
4.如權(quán)利要求3所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述至少兩個(gè)高壓氣體入口開(kāi)設(shè)于所述清潔裝置上與所述摩擦輥的軸向兩端相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)側(cè)面上。
5.如權(quán)利要求1-4中任一權(quán)要求所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述清潔裝置在所述摩擦輥上平行于所述基臺(tái)的徑向方向上兩側(cè)邊緣的厚度大于中間部分的厚度。
6.如權(quán)利要求1所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述清潔裝置包括第一清潔部、第二清潔部和連接所述第一清潔部和所述第二清潔部的連接部，所述第一清潔部上開(kāi)設(shè)有第一腔體和至少一與所述第一腔體連通的第一高壓氣體入口，所述第二清潔部上開(kāi)設(shè)有第二腔體和至少一與所述第二腔體連通的第二高壓氣體入口，所述連接部上開(kāi)設(shè)有第三腔體和至少一與所述第三腔體連通的真空吸附口，所述第一腔體和第二腔體與所述第三腔體連通。
7.如權(quán)利要求6所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述第一清潔部和所述第二清潔部在所述基臺(tái)上的投影位于所述摩擦輥在所述基臺(tái)上的投影的相對(duì)兩側(cè)。
8.如權(quán)利要求6或7所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述第一清潔部和所述第二清潔部中每個(gè)清潔部在所述摩擦輥上平行于所述基臺(tái)的徑向方向上兩側(cè)邊緣的厚度大于中間部分的厚度。
9.如權(quán)利要求1所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦設(shè)備還包括對(duì)位汽缸，所述對(duì)位汽缸用于調(diào)整所述摩擦輥的位置。
10.如權(quán)利要求9所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦設(shè)備還包括檢測(cè)裝置和控制器，所述檢測(cè)裝置用于檢測(cè)所述摩擦輥的位置信息，并將所述位置信息發(fā)送給所述控制器，所述控制器根據(jù)所述位置信息控制所述對(duì)位汽缸調(diào)整所述摩擦輥的位置。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK203799157SQ201420204354
【公開(kāi)日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2014年4月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月24日
【發(fā)明者】劉曉那, 宋勇志 申請(qǐng)人:北京京東方顯示技術(shù)有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司