一種高反射率的光學(xué)膜及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高反射率的光學(xué)膜及其制造方法，包括基材，在基材的至少一面上涂有至少一層含有空心粒子的涂層。本發(fā)明提供的光學(xué)膜及其制造方法，通過在至少一面設(shè)置含空心粒子的涂層來增加反射界面及折射率差異，進(jìn)而提高反射率。同時還可以提高其挺度，提高其抗折傷、刮傷的能力。此種光學(xué)膜應(yīng)用于背光源或照明領(lǐng)域，既可以提高亮度，還可以提高其挺度，進(jìn)而提高裁切良率；同時避免了現(xiàn)有技術(shù)中的弊端。
【專利說明】一種高反射率的光學(xué)膜及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及液晶顯示器及照明設(shè)備等使用的一種光學(xué)膜及其制造方法，具體涉及 一種高反射率的光學(xué)膜及其制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，手機(jī)、筆記本、電腦、電視等廣泛采用液晶顯示器作為顯示裝置。而液晶顯示 器本身不發(fā)光，需要通過背光源來提供照射光。背光源中有多種光學(xué)膜，其中一種光學(xué)膜， 應(yīng)用于背光源底部和光源側(cè)面，其作用是將光源向側(cè)面和背部射出的光反射回來而從正面 出射，從而提高顯示器的亮度。此種光學(xué)膜也可用于照明設(shè)備中，位于光源背部，可極大提 高照明亮度。
[0003] 當(dāng)前，液晶顯示器的應(yīng)用越來越廣泛，消費(fèi)者對液晶顯示的畫面質(zhì)量包括亮度及 均勻性、可視角等的要求越來越高；同時從節(jié)能環(huán)保角度，希望液晶顯示器的光的利用率不 斷提高。這就要求提高反射作用的光學(xué)膜的反射率不斷提高。
[0004] 目前，此種光學(xué)膜主要是通過添加白色無機(jī)微?；蛴袡C(jī)粒子，然后采用各種方法 使之產(chǎn)生微孔或氣泡，利用膜的基體樹脂與微孔或氣泡的界面實(shí)現(xiàn)多重反射。為提高反射 率，就需要增加致孔劑的含量或減小致孔劑粒徑來提高孔隙率。這種方法的技術(shù)難度很高 而效果終有極限，同時會極大地增加成本；而且對產(chǎn)品的性能會有不利影響，例如會造成 挺度的下降。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的就是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種高反射率的光學(xué)膜及其制 造方法。
[0006] 其技術(shù)方案是：一種高反射率的光學(xué)膜，包括基材，其特征在于：在基材的至少一 面上涂有至少一層含有空心粒子的涂層。
[0007] 所述涂層的一面為反射功能面。
[0008] 所述空心粒子為玻璃微珠，其折射率彡1.650。
[0009] 所述空心粒子平均直徑< 5 μ m，空心內(nèi)部平均直徑0· 3-2 μ m。
[0010] 所述涂層表面空心粒子的覆蓋率> 9· 7%。
[0011] 進(jìn)一步地，所述空心粒子直徑1-5 μ m，空心內(nèi)部直徑0· 3-2 μ m。
[0012] 進(jìn)一步地，所述表面空心粒子的覆蓋率9. 7%_92. 5%。
[0013] 一種高反射率的光學(xué)膜的制造方法，包括以下步驟： (1)按照如下組成配制基礎(chǔ)涂布液，然后根據(jù)配方加入玻璃微珠，攪拌均勻； 基礎(chǔ)涂布液的質(zhì)量組分如下： 丙烯酸水分散體（固含量50%) 50份 去離子水 44份 三聚氰胺 5份 聚乙二醇 0.98份 紫外吸收劑 0. 02份 (2 )將基材平鋪于涂布臺上，啟動自動涂布機(jī)，進(jìn)行涂覆； (3)將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到被本發(fā)明所述 的光學(xué)膜。
[0014] 所述基材是指承載涂層的薄膜，其制備方法如下： 將聚酯面層層原料、聚酯芯層原料在150°c左右的溫度下預(yù)結(jié)晶一干燥后，分別輸送 至面層用擠出機(jī)和芯層用擠出機(jī)。其中，面層原料為100份聚酯和4wt%Ti02 (平均粒徑 〇· 5 μ m);芯層原料為100份聚酉旨和8wt% BaS04 (平均粒徑為1. 0 μ m)、8wt%聚甲基戊烯、 lwt%聚乙二醇； 在上述擠出機(jī)中，所述原料在275°C左右的溫度下熔融擠出，并經(jīng)過濾器過濾后從多層 模頭中擠出，得到片狀熔體。將上述片狀熔體一面通過靜電吸附裝置貼附在激冷輥上冷卻 固化，得到厚片； 將該厚片經(jīng)一組表面溫度為78°C左右的輥預(yù)熱，然后在溫度為85°C左右的溫度下縱 向拉伸，拉伸倍率為3. 2,得到單軸拉伸聚酯膜片。用夾子夾持上述聚酯膜片兩邊，進(jìn)入橫 拉機(jī)內(nèi)，先在90°C左右的溫度下預(yù)熱，接著在100°C左右的溫度下橫向拉伸3. 2倍，然后經(jīng) 在220°C左右的溫度下熱定型，再在60°C左右的溫度下冷卻。之后經(jīng)牽引、切邊、收卷后得 到雙向拉伸膜片即可。
[0015] 本發(fā)明提供的光學(xué)膜及其制造方法，通過在至少一面設(shè)置含空心粒子的涂層來增 加反射界面及折射率差異，進(jìn)而提高反射率。同時還可以提高其挺度，提高其抗折傷、刮傷 的能力。此種光學(xué)膜應(yīng)用于背光源或照明領(lǐng)域，既可以提高亮度，還可以提高其挺度，進(jìn)而 提1?裁切良率；同時避免了現(xiàn)有技術(shù)中的弊端。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016] 圖1是本發(fā)明一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是本發(fā)明中空心粒子的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0017] 參照圖1 一圖2,一種高反射率的光學(xué)膜，包括基材1，其特征在于：在基材1的至 少一面上涂有至少一層含有空心粒子3的涂層2。
[0018] 所述涂層2的一面為反射功能面。
[0019] 所述空心粒子3為玻璃微珠，其折射率彡1. 650。
[0020] 所述空心粒子3平均直徑彡5 μ m，空心內(nèi)部平均直徑0. 3-2 μ m。
[0021] 所述涂層2表面空心粒子3的覆蓋率彡9. 7%。
[0022] 進(jìn)一步地，所述空心粒子3直徑1-5 μ m，空心內(nèi)部直徑0· 3-2 μ m。
[0023] 進(jìn)一步地，所述表面空心粒子3的覆蓋率9. 7%_92. 5%。
[0024] -種高反射率的光學(xué)膜的制造方法，包括以下步驟： (1)按照如下組成配制基礎(chǔ)涂布液，然后根據(jù)配方加入玻璃微珠，攪拌均勻； 基礎(chǔ)涂布液的質(zhì)量組分如下： 丙烯酸水分散體（固含量50%) 50份 去離子水 44份 三聚氰胺 5份 聚乙二醇 0.98份 紫外吸收劑 0. 02份 (2 )將基材平鋪于涂布臺上，啟動自動涂布機(jī)，進(jìn)行涂覆； (3)將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到被本發(fā)明所述 的光學(xué)膜。
[0025] 所述基材是指承載涂層的薄膜，其制備方法如下： 將聚酯面層層原料、聚酯芯層原料在150°C左右的溫度下預(yù)結(jié)晶一干燥后，分別輸送 至面層用擠出機(jī)和芯層用擠出機(jī)。其中，面層原料為1〇〇份聚酯和4wt%Ti02 (平均粒徑 〇· 5 μ m);芯層原料為100份聚酉旨和8wt% BaS04 (平均粒徑為1. 0 μ m)、8wt%聚甲基戊烯、 lwt%聚乙二醇； 在上述擠出機(jī)中，所述原料在275°C左右的溫度下熔融擠出，并經(jīng)過濾器過濾后從多層 模頭中擠出，得到片狀熔體。將上述片狀熔體一面通過靜電吸附裝置貼附在激冷輥上冷卻 固化，得到厚片； 將該厚片經(jīng)一組表面溫度為78°C左右的輥預(yù)熱，然后在溫度為85°C左右的溫度下縱 向拉伸，拉伸倍率為3. 2,得到單軸拉伸聚酯膜片。用夾子夾持上述聚酯膜片兩邊，進(jìn)入橫 拉機(jī)內(nèi)，先在90°C左右的溫度下預(yù)熱，接著在KKTC左右的溫度下橫向拉伸3. 2倍，然后經(jīng) 在220°C左右的溫度下熱定型，再在60°C左右的溫度下冷卻。之后經(jīng)牽引、切邊、收卷后得 到雙向拉伸膜片即可。
[0026] 該光學(xué)膜在至少一個面上至少有一層含有空心粒子的涂層，以上所述的空心粒子 形狀優(yōu)選球形或橢圓形?？招牧Ｗ拥钠骄?lt; 5 μ m，空心內(nèi)部平均直徑0· 3-2 μ m，空心 粒子折射率> 1.65。
[0027] 以上所述的光學(xué)膜，涂層一面為反射功能面。
[0028] 上述方案中，所述空心粒子為玻璃微珠，為二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧 化鎂、氧化鈣、氧化鋇、氧化鋯、氧化鍶、氧化硼、氧化碲中的一種或幾種的混合物制備而成， 其中優(yōu)選幾種的混合制備。
[0029] 以上方案中，涂層的主體為丙烯酸、聚氨酯、聚酯、有機(jī)硅中的一種或幾種的混合 物?？梢赃x擇溶劑型或水性的，其中從環(huán)保角度優(yōu)選水性涂布樹脂。
[0030] 以上方案中，涂層表面空心粒子的覆蓋率9. 7%_92. 5%。。
[0031] 上述方案中，所述反射功能面，即為在背光中與光源或?qū)Ч獍逅涑龅墓庵苯咏?觸并起直接反射作用的一面。該層添加有紫外線吸收劑，這樣保證了光學(xué)膜在使用過程中 不會因光照時間長而出現(xiàn)發(fā)黃。
[0032] 所述紫外線吸收劑可以是水楊酸酯類、苯酮類、苯并三唑類、取代丙烯腈類、三嗪 類與受阻胺類中的一種或幾種。優(yōu)選幾種復(fù)合的紫外線吸收劑。
[0033] 本發(fā)明提供的光學(xué)膜膜的制造方法，包括以下步驟： (1)按照如下組成配制基礎(chǔ)涂布液，然后根據(jù)配方加入玻璃微珠，攪拌均勻； 基礎(chǔ)涂布液組成如下： 丙烯酸水分散體（固含量50%) 50份 去離子水 44份 三聚氰胺 5份 聚乙二醇 0.98份 紫外吸收劑 〇. 02 (2 )將基材平鋪于涂布臺上，啟動自動涂布機(jī)，進(jìn)行涂覆； (3)將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到被本發(fā)明所述 的光學(xué)膜。
[0034] 以上所述基材制備方法如下： 將聚酯面層層原料、聚酯芯層原料在150°C左右的溫度下預(yù)結(jié)晶一干燥后，分別輸送 至面層用擠出機(jī)和芯層用擠出機(jī)。其中，面層原料為100份聚酯和4wt%Ti02 (平均粒徑 〇· 5 μ m);芯層原料為100份聚酉旨和8wt% BaS04 (平均粒徑為1. 0 μ m)、8wt%聚甲基戊烯、 lwt%聚乙二醇。
[0035] 在上述擠出機(jī)中，所述原料在275°C左右的溫度下熔融擠出，并經(jīng)過濾器過濾后從 多層模頭中擠出，得到片狀熔體。將上述片狀熔體一面通過靜電吸附裝置貼附在激冷輥上 冷卻固化，得到厚片。
[0036] 將該厚片經(jīng)一組表面溫度為78°C左右的輥預(yù)熱，然后在溫度為85°C左右的溫度 下縱向拉伸，拉伸倍率為3. 2,得到單軸拉伸聚酯膜片。用夾子夾持上述聚酯膜片兩邊，進(jìn)入 橫拉機(jī)內(nèi)，先在90°C左右的溫度下預(yù)熱，接著在100°C左右的溫度下橫向拉伸3. 2倍，然后 經(jīng)在220°C左右的溫度下熱定型，再在60°C左右的溫度下冷卻。之后經(jīng)牽引、切邊、收卷后 得到雙向拉伸膜片即可。
[0037] 實(shí)施例中所示的測定值和評價如下所述進(jìn)行。
[0038] ( 1)反射率 用帶積分球的紫外一可見光分光光度計(jì)(如Evolution UV-Vis 300)中，以基材為標(biāo)準(zhǔn) 反射板(即相對反射率為100%)，測試九個點(diǎn)在560nm波長處的相對反射率的平均值R。
[0039] (2)挺度 按照GB/T2679. 3,用挺度儀進(jìn)行測試。
[0040] (3)折射率 采用V-棱鏡測量折射率。
[0041] (4)空心粒子的平均粒徑及其空心部分平均直徑 將空心粒子粘附于導(dǎo)電膠帶上，經(jīng)離子濺射儀噴金處理后，用掃面電鏡進(jìn)行截面拍照。
[0042] 然后用掃描電鏡的專業(yè)軟件分別標(biāo)出50顆空心粒子的長邊直徑和短邊直徑，其 平均值即為單個粒子的平均粒徑，根據(jù)50顆粒子的平均粒徑統(tǒng)計(jì)計(jì)算出此批空心粒子的 平均粒徑；再用相同方法計(jì)算出此批空心粒子空心部分的平均直徑。
[0043] (5)空心粒子覆蓋率 將涂覆后的光學(xué)膜粘附于導(dǎo)電膠帶上，經(jīng)離子濺射儀噴金處理后，用掃描電鏡進(jìn)行截 面拍照。
[0044] 然后用掃描電鏡的專業(yè)軟件分別標(biāo)出照片的長和寬，計(jì)算出其面積S1;同時用掃 描電鏡的專業(yè)軟件分別標(biāo)出涂層表面的所有空心粒子的長邊直徑和短邊直徑，二者平均值 即為單個粒子的平均粒徑，根據(jù)單個粒子的平均粒徑，計(jì)算出單個粒子的截面積，進(jìn)而統(tǒng)計(jì) 計(jì)算出所有粒子的總截面積S2。
[0045] 空心粒子覆蓋率=S2/S1 X 100%。
[0046] 實(shí)施例1 將12. 5g折射率為1.650的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0047] 實(shí)施例2 將12. 5g折射率為1.743的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0048] 實(shí)施例3 將12. 5g折射率為1.862的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0049] 實(shí)施例4 將12. 5g折射率為1.891的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0050] 實(shí)施例5 將12. 5g折射率為1.933的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0051] 實(shí)施例6 將12. 5g折射率為1.951的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0052] 實(shí)施例7 將12. 5g折射率為1.987的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0053] 實(shí)施例8 將12. 5g折射率為2. 132的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0054] 實(shí)施例9 將12. 5g折射率為2. 225的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0055] 實(shí)施例10 將12. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m，空心部分平均直徑 0. 8 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0056] 實(shí)施例1 一 10的評價結(jié)果見表1。
[0057] 實(shí)施例11 將12. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1.0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0058] 實(shí)施例12 將12. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑2.5 μ m，空心部分平均直徑 1. Ιμπι)與87.5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0059] 實(shí)施例13 將12. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑2.9 μ m，空心部分平均直徑 1. 3 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0060] 實(shí)施例14 將12. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑4. 1 μ m，空心部分平均直徑 1. 5 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0061] 實(shí)施例15 將12. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑5.0 μ m，空心部分平均直徑 2. 0 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0062] 實(shí)施例11 一 15的評價結(jié)果見表2。
[0063] 實(shí)施例16 將2. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與97. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0064] 實(shí)施例17 將7. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與92. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0065] 實(shí)施例18 將18. 8g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1.0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與81. 2g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0066] 實(shí)施例19 將22g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與78g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂 在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即 可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0067] 實(shí)施例20 將22. 7g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1.0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與77. 3g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0068] 實(shí)施例21 將23. 5g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1.0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與76. 5g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī) 涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫， 即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0069] 實(shí)施例22 將24g折射率為2. 351的空心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m，空心部分平均直徑 0. 3 μ m)與76g上述基礎(chǔ)涂布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂 在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即 可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0070] 實(shí)施例16 - 22的評價結(jié)果見表3。
[0071] 比較例1 基材不進(jìn)行涂布，直接進(jìn)行評價。
[0072] 比較例2 將上述基礎(chǔ)涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188 μ m)上，將涂覆的薄膜置于120°C 下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到本發(fā)明所述的光學(xué)膜。
[0073] 比較例3 將12. 5g折射率為1. 650的實(shí)心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂 布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188μπι) 上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到本發(fā)明所述的光學(xué) 膜。
[0074] 比較例4 將12. 5g折射率為1. 933的實(shí)心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂 布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188μπι) 上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到光學(xué)膜片。
[0075] 比較例5 將12. 5g折射率為2. 351的實(shí)心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂 布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188μπι) 上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到光學(xué)膜片。
[0076] 比較例6 將12. 5g折射率為2. 351的實(shí)心粒子(粒子的平均粒徑2. 1 μ m)與87. 5g上述基礎(chǔ)涂 布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188μπι) 上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到光學(xué)膜片。
[0077] 比較例7 將12. 5g折射率為2. 351的實(shí)心粒子(粒子的平均粒徑5. 0 μ m)與76. 5g上述基礎(chǔ)涂 布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188μπι) 上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到光學(xué)膜片。
[0078] 比較例8 將23. 5g折射率為2. 351的實(shí)心粒子(粒子的平均粒徑1. 0 μ m)與76. 5g上述基礎(chǔ)涂 布液混合均勻，得到混配涂布液。然后將混配涂布液用涂布機(jī)涂在基材(平均厚度188μπι) 上，將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到光學(xué)膜片。
[0079] 比較例1-8的評價結(jié)果見表4。
[0080] 表 1

【權(quán)利要求】
1. 一種高反射率的光學(xué)膜，包括基材，其特征在于：在基材的至少一面上涂有至少一 層含有空心粒子的涂層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反射率的光學(xué)膜，其特征在于：所述涂層的一面為反 射功能面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反射率的光學(xué)膜，其特征在于：所述空心粒子為玻璃 微珠，其折射率> 1.650。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反射率的光學(xué)膜，其特征在于：所述空心粒子平均直 徑< 5 μ m，空心內(nèi)部平均直徑0· 3-2 μ m。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反射率的光學(xué)膜，其特征在于：所述涂層表面空心粒 子的覆蓋率彡9. 7%。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種高反射率的光學(xué)膜，其特征在于：所述空心粒子直 徑1-5 μ m，空心內(nèi)部直徑0· 3-2 μ m。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的一種高反射率的光學(xué)膜，其特征在于：所述表面空心粒 子的覆蓋率9. 7%-92. 5%。
8. -種高反射率的光學(xué)膜的制造方法，其特征在于：包括以下步驟： (1)按照如下組成配制基礎(chǔ)涂布液，然后根據(jù)配方加入玻璃微珠，攪拌均勻； 基礎(chǔ)涂布液的質(zhì)量組分如下： 丙烯酸水分散體（固含量50%) 50份 去離子水 44份 三聚氰胺 5份 聚乙二醇 0.98份 紫外吸收劑 0. 02份 (2 )將基材平鋪于涂布臺上，啟動自動涂布機(jī)，進(jìn)行涂覆； (3)將涂覆的薄膜置于120°C下干燥30min，并逐漸冷卻室溫，即可得到被本發(fā)明所述 的光學(xué)膜。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種高反射率的光學(xué)膜的制造方法，其特征在于：所述基材 是指承載涂層的薄膜，其制備方法如下： 將聚酯面層層原料、聚酯芯層原料在150°C左右的溫度下預(yù)結(jié)晶一干燥后，分別輸送 至面層用擠出機(jī)和芯層用擠出機(jī)；其中，面層原料為100份聚酯和4wt%Ti02 (平均粒徑 〇· 5 μ m);芯層原料為100份聚酉旨和8wt% BaS04 (平均粒徑為1. 0 μ m)、8wt%聚甲基戊烯、 lwt%聚乙二醇；在上述擠出機(jī)中，所述原料在275°C左右的溫度下熔融擠出，并經(jīng)過濾器過 濾后從多層模頭中擠出，得到片狀熔體；將上述片狀熔體一面通過靜電吸附裝置貼附在激 冷輥上冷卻固化，得到厚片；將該厚片經(jīng)一組表面溫度為78°C左右的輥預(yù)熱，然后在溫度 為85°C左右的溫度下縱向拉伸，拉伸倍率為3. 2,得到單軸拉伸聚酯膜片；用夾子夾持上述 聚酯膜片兩邊，進(jìn)入橫拉機(jī)內(nèi)，先在90°C左右的溫度下預(yù)熱，接著在100°C左右的溫度下橫 向拉伸3. 2倍，然后經(jīng)在220°C左右的溫度下熱定型，再在60°C左右的溫度下冷卻；之后經(jīng) 牽引、切邊、收卷后得到雙向拉伸膜片即可。
【文檔編號】G02B5/128GK104267453SQ201410552544
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年10月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月17日
【發(fā)明者】孫艷斌, 程凡寶, 周炳陽 申請人:山東勝通光學(xué)材料科技有限公司