一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，用不同顏色的光阻劑，結(jié)合傳統(tǒng)的光刻法在基板上制作好具有濾光功能的濾光層，然后直接在該濾光層處以熱熔法制作凸型微透鏡陣列，使得該凸型微透鏡集成濾光功能，而不需要另外的濾光片結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了緊湊型多通道濾光微透鏡的研制。本發(fā)明具有多個(gè)光通道，每個(gè)通道能獨(dú)立獲取對(duì)應(yīng)波段的圖像信息。由于采用光刻技術(shù)，配合第一掩膜板，也避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題。在基板上各凸型微透鏡之間增加了一層光阻擋層，可以減少入射雜散光和透鏡之間的影響。本凸型微透鏡陣列可以應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中，實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)；同時(shí)本凸型微透鏡陣列結(jié)構(gòu)緊湊，也有利于多譜成像系統(tǒng)的小型化。
【專利說(shuō)明】一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明用于光學(xué)器件領(lǐng)域，特別是涉及一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]在一些實(shí)際應(yīng)用中，有時(shí)人們只關(guān)心某一單色光的成像。例如，人體血管成像中需要關(guān)心的是藍(lán)色光線所成的像，這就需要用到多譜成像系統(tǒng)。多譜成像系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)準(zhǔn)確的譜分離并獲得多個(gè)單一波段的圖像信息，結(jié)合數(shù)字圖像處理技術(shù)，使之能夠觀察到普通相機(jī)觀察不到的隱藏信息，這種優(yōu)勢(shì)使得其在高精度色彩重構(gòu)，遙感測(cè)量，生物醫(yī)學(xué)成像等諸多領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用?，F(xiàn)有的多譜成像系統(tǒng)通常將一個(gè)濾光片轉(zhuǎn)輪或者液晶可諧調(diào)濾波器置于普通相機(jī)前來(lái)實(shí)現(xiàn)光譜的分離。然而，這樣做不可避免的增加了系統(tǒng)的復(fù)雜性和設(shè)備的體積。而且這種多譜成像系統(tǒng)，每次只能獲得一個(gè)波段的圖像信息，操作繁瑣。
[0003]微透鏡列陣是由通光孔徑及浮雕深度為微米級(jí)的透鏡組成的列陣，它不僅具有傳統(tǒng)透鏡的聚焦、成像等基本功能，而且具有單元尺寸小、集成度高、多通道等特點(diǎn)，它每個(gè)光通道可以同時(shí)獨(dú)立成像，因此非常適合用于多譜成像。傳統(tǒng)基于微透鏡陣列的多譜成像系統(tǒng)是通過(guò)多通道彩色濾光片與微透鏡陣列通過(guò)組合的方式，將不同顏色的濾光片分別與之對(duì)應(yīng)的微透鏡相對(duì)應(yīng)，構(gòu)成多個(gè)光通道，來(lái)實(shí)現(xiàn)不同波段光線的獲取。
[0004]目前，雖然已經(jīng)有很多方法加工出微透鏡陣，例如光刻膠熱熔法、注塑成型法等等。但是現(xiàn)有的方法制作的微透鏡陣列都達(dá)不到對(duì)某一單色光單獨(dú)聚光、成像的功能。如果想實(shí)現(xiàn)想對(duì)某一單色光聚光，就需要通過(guò)機(jī)械裝置將多通道濾光片和微透鏡陣列片分別固定，并調(diào)節(jié)濾光片與微透鏡陣列之間的位置來(lái)實(shí)現(xiàn)二者對(duì)準(zhǔn)。這樣就從結(jié)構(gòu)上增加了系統(tǒng)的復(fù)雜度，在某些應(yīng)用中會(huì)受到限制。這樣就不可避免的增加了一個(gè)濾光片結(jié)構(gòu)，并且存在濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題，從而增加了系統(tǒng)的復(fù)雜度，也提高了設(shè)備的成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種大大降低系統(tǒng)復(fù)雜度和成本，不需要另外的濾光片結(jié)構(gòu)，避免濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)問(wèn)題的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法。
[0006]本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，包括以下步驟:
A.取表面平整、透光率高的玻璃片作為基板，清洗烘干后，在基板表面設(shè)置不透光的光阻擋層，光阻擋層上設(shè)置多個(gè)圓形的透光孔，基板對(duì)應(yīng)各透光孔形成多個(gè)透光通道；
B.分別在基板表面的各透光孔內(nèi)涂覆不同顏色的光阻劑，光阻劑固化后在各透光通道的表面形成濾光層；
C.基板上在濾光層的外側(cè)涂覆正性光刻膠，烘干后置于第一掩膜板下方進(jìn)行紫外曝光，第一掩膜板包括對(duì)應(yīng)各透光通道的不透光區(qū)域和對(duì)應(yīng)光阻擋層的透光區(qū)域；
D.將曝光后的基板放入顯影液中顯影，曝光過(guò)的正性光刻膠會(huì)在顯影液下溶解去除，而沒(méi)有曝光的正性光刻膠會(huì)保留下來(lái)并在基板表面形成多個(gè)圓柱形凸臺(tái)； E.清洗烘干后將基板置于烘臺(tái)上進(jìn)行熱熔，圓柱形凸臺(tái)會(huì)在表面張力的作用下形成凸型微透鏡。
[0007]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟A中在基板表面設(shè)置不透光的光阻擋層包括以下步驟:在基板表面涂覆正性光刻膠，烘干后置于第一掩膜板下方進(jìn)行紫外曝光；曝光好之后置于顯影液中顯影，正對(duì)第一掩膜板透光區(qū)域的正性光刻膠被曝光并在顯影液下溶解去除，正對(duì)第一掩膜板不透光區(qū)域的正性光刻膠未被曝光而保留下來(lái)；在顯影后的基板上整體鍍一層不透光的鉻膜作為光阻擋層；然后將鍍有鉻膜的基板置于丙酮中，基板上未被曝光的正性光刻膠會(huì)溶解在丙酮中，鍍?cè)谄渖系你t膜也同時(shí)被剝離去除，此時(shí)鉻膜上便顯露出多個(gè)透光的透光孔。
[0008]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟A中正性光刻膠通過(guò)旋涂工藝涂覆于基板上，正性光刻膠的涂覆厚度為10微米。
[0009]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟B中濾光層的制作包括以下步驟:將一種顏色的光阻劑涂覆于設(shè)有多個(gè)透光孔的基板上，烘干后置于第二掩膜板下方進(jìn)行紫外曝光，第二掩膜板包括一塊不透光板，不透光板上設(shè)有一可與任一透光孔對(duì)應(yīng)的通孔；曝光好之后置于顯影液中顯影，去除未曝光的光阻劑，光阻劑烘烤固化后在在一個(gè)透光孔處制得某種顏色的濾光層；重復(fù)上述操作在其他各透光孔處制作其他顏色的濾光層。
[0010]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟B中光阻劑通過(guò)旋涂工藝涂覆于基板上，光阻劑的涂覆厚度為I微米。
[0011]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，透光孔共設(shè)置9個(gè)并形成陣列，濾光層包括分別位于所述9個(gè)透光孔處的紅濾光層、橙濾光層、黃濾光層、綠濾光層、青濾光層、藍(lán)濾光層、紫濾光層、近紅外濾光層和可見(jiàn)光濾光層。
[0012]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，紅濾光層、綠濾光層、藍(lán)濾光層和黃濾光層分別由對(duì)應(yīng)顏色的光阻劑光刻形成；橙濾光層由紅色的光阻劑與藍(lán)色的光阻劑按體積比1:1混合后光刻形成；青濾光層由藍(lán)色的光阻劑與綠色的光阻劑按體積比1:1混合后光刻形成；紫濾光層由紅色、藍(lán)色和綠色的光阻劑按體積比1:1: 0.2混合后光刻形成；近紅外濾光層是依次將紅色、綠色和藍(lán)色的光阻劑經(jīng)過(guò)三次光刻制作在同一區(qū)域而成；可見(jiàn)光濾光層不需要光阻劑。
[0013]進(jìn)一步作為本發(fā)明技術(shù)方案的改進(jìn)，步驟C中正性光刻膠通過(guò)兩次旋涂工藝涂覆于基板上，第一次旋涂完成后進(jìn)行烘烤，然后再繼續(xù)第二次旋涂，兩次旋涂后，正性光刻膠的涂覆厚度為20?23微米。
[0014]本發(fā)明的有益效果:本多通道濾光微透鏡陣列的制作方法中，用不同顏色的光阻齊U，結(jié)合傳統(tǒng)的光刻法在基板上制作好具有濾光功能的濾光層，然后直接在該濾光層處以熱熔法制作凸型微透鏡陣列，使得該凸型微透鏡集成濾光功能，而不需要另外的濾光片結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了緊湊型多通道濾光微透鏡的研制。本發(fā)明具有多個(gè)光通道，每個(gè)通道能獨(dú)立獲取對(duì)應(yīng)波段的圖像信息。由于采用光刻技術(shù)，配合第一掩膜板，也避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題。另外，在基板上各凸型微透鏡之間增加了一層光阻擋層，可以減少入射雜散光和透鏡之間的影響。本凸型微透鏡陣列可以應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中，實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)；同時(shí)本凸型微透鏡陣列結(jié)構(gòu)緊湊，也有利于多譜成像系統(tǒng)的小型化?！緦＠綀D】

【附圖說(shuō)明】
[0015]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明:
圖1是本發(fā)明實(shí)施例的工藝流程示意圖；
圖2是本發(fā)明實(shí)施例凸型微透鏡陣列結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]參照?qǐng)D1、圖2，本發(fā)明提供了一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，與傳統(tǒng)的微透鏡陣列相比，它可以同時(shí)對(duì)幾種不同光譜的光線進(jìn)行濾光、聚光。把該集微透鏡應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中來(lái)實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)。這樣可以比傳統(tǒng)多譜成像系統(tǒng)減少一個(gè)濾光片結(jié)構(gòu)，避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)問(wèn)題。本方法主要包括以下步驟:
1.取表面平整、透光率高的玻璃片作為基板1，將基板用清水和丙酮清洗后，置于烘箱中，在130°C下烘烤10分鐘除去水汽和殘余丙酮。自然冷卻后，將AZ4620正性光刻膠2旋涂于基板I上，旋涂參數(shù)為500轉(zhuǎn)/分鐘10秒、2500轉(zhuǎn)/分鐘30秒，此時(shí)AZ4620正性光刻膠2的厚度在10微米左右。
[0017]2.將旋涂好AZ4620正性光刻膠2的基板I至于90°C烘臺(tái)上烘烤I分鐘，用于去除光AZ4620正性光刻膠2內(nèi)的溶劑。烘烤完后，在事先制作好的第一掩膜板3下紫外曝光，曝光時(shí)間為25秒，曝光強(qiáng)度為20mW/cm2。該第一掩膜板3包括透光區(qū)域31和位于透光區(qū)域中間部分的9個(gè)不透光區(qū)域32 (圓形)。
[0018]3.曝光好之后將基板I置于顯影液中顯影。正對(duì)第一掩膜板3透光區(qū)域31的AZ4620正性光刻膠2被曝光并在顯影液下溶解去除，正對(duì)第一掩膜板3不透光區(qū)域32的AZ4620正性光刻膠2未被曝光而保留下來(lái)；其中顯影液型號(hào)為AZ400，顯影過(guò)后，會(huì)顯露出9個(gè)圓柱形的圖案4，周圍的AZ4620正性光刻膠2由于被曝光，顯影時(shí)被去除。
[0019]4.將顯影后的基板I至于濺射離子鍍膜機(jī)內(nèi)鍍膜，在基板I上整體鍍上一層不透光的鉻(Cr)膜5作為光阻擋層，由于之前制作的AZ4620正性光刻膠2的保護(hù)，鉻膜5只鍍?cè)诹嗽?個(gè)圓柱形的圖案4處。
[0020]5.然后將鍍有鉻膜5的基板I置于丙酮中，基板I上未被曝光的AZ4620正性光刻膠2會(huì)溶解在丙酮中，鍍?cè)谄渖系你t膜5也同時(shí)被剝離去除，此時(shí)鉻膜5上便顯露出9個(gè)透光的透光孔51，該9個(gè)透光的透光孔51將用于后續(xù)制作9個(gè)不同濾光層8，透光孔51周圍是一層不透光的鉻膜5，可以起到阻擋雜散光入射的目的。
[0021]6.將一種顏色(如紅色)的光阻劑6旋涂于設(shè)有9個(gè)透光孔51的基板上1，旋涂參數(shù)550轉(zhuǎn)/分鐘30秒，光阻劑6厚度為I微米左右，旋涂后，將基板I置于烘箱中，在88°C下烘烤4分鐘，以除去光阻劑6中的溶劑。
[0022]7.烘干后置于第二掩膜板7下方進(jìn)行紫外曝光，曝光劑量時(shí)間為12秒，曝光強(qiáng)度為20mW/cm2，光阻劑6為負(fù)性光刻膠，曝光過(guò)的光阻劑6性質(zhì)會(huì)發(fā)生改變，不能溶解在的顯影液中，其中，第二掩膜板7包括一塊不透光板，不透光板上設(shè)有一可與任一透光孔51對(duì)應(yīng)的通孔71。
[0023]8.曝光好之后將基板I置于顯影液中顯影，去除未曝光的光阻劑6，然后在烘箱內(nèi)烘烤進(jìn)一步固化光阻劑6，提高光阻劑6的穩(wěn)定性，烘烤溫度是230攝氏度，時(shí)間為I小時(shí)，光阻劑6烘烤固化后在在一個(gè)透光孔51處制得某種顏色(如紅色)的濾光層8。[0024]9.重復(fù)步驟6-8，在其他各透光孔51處制作其他顏色的濾光層8，濾光層8包括分別位于9個(gè)透光孔處的紅濾光層、橙濾光層、黃濾光層、綠濾光層、青濾光層、藍(lán)濾光層、紫濾光層、近紅外濾光層和可見(jiàn)光濾光層。其中，紅色、綠色、藍(lán)色、黃色光阻劑可以從商家處購(gòu)買到，紅濾光層、綠濾光層、藍(lán)濾光層和黃濾光層分別由對(duì)應(yīng)顏色的光阻劑直接光刻形成；橙濾光層由紅色的光阻劑與藍(lán)色的光阻劑按體積比1:1混合后光刻形成；青濾光層由藍(lán)色的光阻劑與綠色的光阻劑按體積比1:1混合后光刻形成；紫濾光層由紅色、藍(lán)色和綠色的光阻劑按體積比1:1: 0.2混合后光刻形成；近紅外濾光層是依次將紅色、綠色和藍(lán)色的光阻劑經(jīng)過(guò)三次光刻制作在同一區(qū)域而成；可見(jiàn)光濾光層不需要光阻劑。
[0025]10.基板I上在濾光層8的外側(cè)旋涂AZ4620正性光刻膠2，AZ4620正性光刻膠2需要一定的厚度，這里采用兩次甩膠工藝來(lái)實(shí)現(xiàn)。每次甩膠都以1200轉(zhuǎn)/分鐘的轉(zhuǎn)速旋涂45秒，緊接著以2000轉(zhuǎn)/分鐘的轉(zhuǎn)速甩膠30秒；第一次甩膠完成后，需在烘臺(tái)上以85 0C烘烤2分鐘，然后再繼續(xù)甩第二層膠。兩次甩膠后，AZ4620正性光刻膠2的涂覆厚度約為20?23微米。
[0026]11.將旋涂AZ4620正性光刻膠2后的基板I置于烘箱內(nèi)，在85 °C下烘烤8分鐘，以完全除去AZ4620正性光刻膠2內(nèi)溶劑。
[0027]12.烘干后將基板I置于第一掩膜板3下方進(jìn)行紫外曝光,第一掩膜板3上的9個(gè)不透光區(qū)域32正好與9個(gè)濾光層8相對(duì)應(yīng)，曝光時(shí)間為12-14秒，曝光強(qiáng)度約為20mW/cm2。
[0028]13.將曝光后的基板I放入AZ400型顯影液中顯影，曝光過(guò)的AZ4620正性光刻膠2會(huì)在顯影液下溶解去除，而沒(méi)有曝光的AZ4620正性光刻膠2會(huì)保留下來(lái)并在基板I表面形成多個(gè)AZ4620圓柱形凸臺(tái)9。顯影時(shí)不能完全顯影到底，應(yīng)該預(yù)留2-3微米的AZ4620正性光刻膠2，這樣有利于后續(xù)熱熔過(guò)程中AZ4620正性光刻膠2在表面張力作用下形成透鏡球面。顯影程度可以通過(guò)多次顯影，并用臺(tái)階儀測(cè)量圓柱高度的方式來(lái)控制，保證最后得到的圓柱形凸臺(tái)9高度在20微米左右。顯影完成后用去離子水清洗基板上存留的顯影液后，用氮?dú)獯蹈伞?br> [0029]14.將基板I置于128 ° C烘臺(tái)上，熱熔115秒，AZ4620圓柱形凸臺(tái)9會(huì)在表面張力的作用下形成凸型微透鏡10。
[0030]本多通道濾光微透鏡陣列的制作方法中，用不同顏色的光阻劑6，結(jié)合傳統(tǒng)的光刻法在基板I上制作好具有濾光功能的濾光層8，然后直接在該濾光層8處以熱熔法制作凸型微透鏡10陣列，使得該凸型微透鏡集成濾光功能，而不需要另外的濾光片結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了緊湊型多通道濾光微透鏡的研制。本發(fā)明具有多個(gè)光通道，每個(gè)通道能獨(dú)立獲取對(duì)應(yīng)波段的圖像信息。由于采用光刻技術(shù)，配合第一掩膜板3，也避免了濾光片與微透鏡陣列對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題。另外，在基板I上各凸型微透鏡之間增加了一層光阻擋層，可以減少入射雜散光和透鏡之間的影響。本凸型微透鏡陣列可以應(yīng)用于多譜成像系統(tǒng)中，實(shí)現(xiàn)單色成像和彩色重構(gòu)；同時(shí)本凸型微透鏡陣列結(jié)構(gòu)緊湊，也有利于多譜成像系統(tǒng)的小型化。
[0031]當(dāng)然，本發(fā)明創(chuàng)造并不局限于上述實(shí)施方式，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不違背本發(fā)明精神的前提下還可作出等同變形或替換，這些等同的變型或替換均包含在本申請(qǐng)權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于，包括以下步驟: A.取表面平整、透光率高的玻璃片作為基板，清洗烘干后，在基板表面設(shè)置不透光的光阻擋層，光阻擋層上設(shè)置多個(gè)圓形的透光孔，所述基板對(duì)應(yīng)各透光孔形成多個(gè)透光通道； B.分別在基板表面的各透光孔內(nèi)涂覆不同顏色的光阻劑，光阻劑固化后在各透光通道的表面形成濾光層； C.所述基板上在濾光層的外側(cè)涂覆正性光刻膠，烘干后置于第一掩膜板下方進(jìn)行紫外曝光，所述第一掩膜板包括對(duì)應(yīng)各透光通道的不透光區(qū)域和對(duì)應(yīng)光阻擋層的透光區(qū)域； D.將曝光后的基板放入顯影液中顯影，曝光過(guò)的正性光刻膠會(huì)在顯影液下溶解去除，而沒(méi)有曝光的正性光刻膠會(huì)保留下來(lái)并在基板表面形成多個(gè)圓柱形凸臺(tái)； E.清洗烘干后將基板置于烘臺(tái)上進(jìn)行熱熔，所述圓柱形凸臺(tái)會(huì)在表面張力的作用下形成凸型微透鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述步驟A中在基板表面設(shè)置不透光 的光阻擋層包括以下步驟:在基板表面涂覆正性光刻膠，烘干后置于第一掩膜板下方進(jìn)行紫外曝光；曝光好之后置于顯影液中顯影，正對(duì)第一掩膜板透光區(qū)域的正性光刻膠被曝光并在顯影液下溶解去除，正對(duì)第一掩膜板不透光區(qū)域的正性光刻膠未被曝光而保留下來(lái)；在顯影后的基板上整體鍍一層不透光的鉻膜作為光阻擋層；然后將鍍有鉻膜的基板置于丙酮中，基板上未被曝光的正性光刻膠會(huì)溶解在丙酮中，鍍?cè)谄渖系你t膜也同時(shí)被剝離去除，此時(shí)鉻膜上便顯露出多個(gè)透光的透光孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述步驟A中正性光刻膠通過(guò)旋涂工藝涂覆于基板上，正性光刻膠的涂覆厚度為10微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述步驟B中濾光層的制作包括以下步驟:將一種顏色的光阻劑涂覆于設(shè)有多個(gè)透光孔的基板上，烘干后置于第二掩膜板下方進(jìn)行紫外曝光，所述第二掩膜板包括一塊不透光板，所述不透光板上設(shè)有一可與任一透光孔對(duì)應(yīng)的通孔；曝光好之后置于顯影液中顯影，去除未曝光的光阻劑，光阻劑烘烤固化后在在一個(gè)透光孔處制得某種顏色的濾光層；重復(fù)上述操作在其他各透光孔處制作其他顏色的濾光層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述步驟B中光阻劑通過(guò)旋涂工藝涂覆于基板上，光阻劑的涂覆厚度為I微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述透光孔共設(shè)置9個(gè)并形成陣列，所述濾光層包括分別位于所述9個(gè)透光孔處的紅濾光層、橙濾光層、黃濾光層、綠濾光層、青濾光層、藍(lán)濾光層、紫濾光層、近紅外濾光層和可見(jiàn)光濾光層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述紅濾光層、綠濾光層、藍(lán)濾光層和黃濾光層分別由對(duì)應(yīng)顏色的光阻劑光刻形成；所述橙濾光層由紅色的光阻劑與藍(lán)色的光阻劑按體積比1:1混合后光刻形成；所述青濾光層由藍(lán)色的光阻劑與綠色的光阻劑按體積比1:1混合后光刻形成；所述紫濾光層由紅色、藍(lán)色和綠色的光阻劑按體積比1:1: 0.2混合后光刻形成；近紅外濾光層是依次將紅色、綠色和藍(lán)色的光阻劑經(jīng)過(guò)三次光刻制作在同一區(qū)域而成；可見(jiàn)光濾光層不需要光阻劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的多通道濾光微透鏡陣列的制作方法，其特征在于:所述步驟C中正性光刻膠通過(guò)兩次旋涂工藝涂覆于基板上，第一次旋涂完成后進(jìn)行烘烤，然后再繼續(xù)第二 次旋涂，兩次旋涂后，正性光刻膠的涂覆厚度為20~23微米。
【文檔編號(hào)】G02B3/00GK103760627SQ201410022493
【公開(kāi)日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2014年1月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月17日
【發(fā)明者】邸思, 金建, 劉鵬, 陳賢帥, 杜如虛 申請(qǐng)人:廣州中國(guó)科學(xué)院先進(jìn)技術(shù)研究所