層壓型光學片模塊的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種層壓型光學片模塊,該層壓型光學片模塊包括:上部光學片,其具有第一單元集光體不斷重復(fù)的第一結(jié)構(gòu)化圖案,其中上述第一單元集光體形成有越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜面;以及下部光學片,其以層壓形態(tài)配置于上述上部光學片的下部,具有第二單元集光體不斷重復(fù)的第二結(jié)構(gòu)化圖案,其中第二單元集光體形成有越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜面。其中,從上述第二單元集光體的最下部至最上部的垂直距離形成為較上述第一單元集光體的最下部至最上部的垂直距離更長,且上述第二單元集光體的傾斜面具有與上述第一單元集光體的傾斜面相比相對更大的表面積。
【專利說明】層壓型光學片模塊
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種層壓型光學片模塊(laminatedopticalsheetmodule);更具體 地說,涉及一種層壓型光學片模塊,該層壓型光學片模塊考慮到在下部光學片中與上部光 學片接合時的接合區(qū)域,而構(gòu)成為使光集光的傾斜面的大小維持在一定大小以上。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置是使用于筆記本(notebook)、個人電腦(personalcomputer)、智能 手機(smartphone)或者TV等的一種顯示裝置。隨著液晶顯示裝置的擴大需求它的特性 也在逐年改進。
[0003] 作為非發(fā)光元件的液晶顯示裝置的液晶面板,在其結(jié)構(gòu)上需要背光單元(back lightunit)。對于背光單元,其由多種光學系統(tǒng)組成。并且,背光單元為了提高輝度而使 用周期性排列的光學薄膜。
[0004] 圖1是概略地表示已開發(fā)的液晶顯示裝置構(gòu)成的附圖。
[0005] 如圖1所不,背光單兀10包括發(fā)光源1,反射板2,導(dǎo)光板3,擴散片4,第一光學片 2,第二光學片和保護片7。
[0006] 上述發(fā)光源1是一種產(chǎn)生可見光的元件,并且作為這種光源1能夠選擇性地 使用LED(LightEmittingDiode)以及冷陰極突光燈管(ColdCathodeFluorescent Lamp:CCFL)等
[0007] 從上述發(fā)光源1射出的光入射到導(dǎo)光板3,并在導(dǎo)光板3內(nèi)部引起全反射,但以小 于臨界角的入射角度入射至導(dǎo)光板3內(nèi)部的表面的光不發(fā)生全反射而是發(fā)生透射,因此分 別通過上側(cè)和下側(cè)射出去。
[0008] 此時,上述反射板2反射從下側(cè)射出的光,使其重新入射至導(dǎo)光板3而提高光效 率。
[0009] 上述擴散片4使經(jīng)過上述導(dǎo)光板3的上部表面射出的光擴散,從而使輝度均勻且 擴大視角。但經(jīng)過擴散片4的光的正面射出輝度會降低。
[0010] 上述第一光學片5由基材部5b和結(jié)構(gòu)化圖案(structurepattern) 5a所構(gòu)成,其 用于進行一次集光(S吾)并射出,以使從擴散片4入射的光發(fā)生折射后垂直入射。
[0011] 并且,上述結(jié)構(gòu)化圖案5a在基材部5b的上部面一體形成,并構(gòu)成為使經(jīng)過基材部 5b入射的光發(fā)生折射,以使其沿垂直方向射出的結(jié)構(gòu)。
[0012] 上述結(jié)構(gòu)化圖案5a通常形成為截面具有三角形的形狀,而三角形形狀的頂角通 常形成為90°左右。
[0013] 并且,上述第二光學片6具有和第一光學片5相同的形狀,并且為了提高在第一光 學片5進行一次集光的光的輝度(luminance)而進行二次集光并射出。
[0014] 其中,上述第一光學片5和上述第二光學片6為了進一步提高輝度,配置成上述第 一光學片5的結(jié)構(gòu)化圖案的延長方向和第二光學片的結(jié)構(gòu)化圖案的延長方向以直角交叉, 并粘結(jié)為一體。
[0015] 上述保護片7附著于上部表面,用于防止第二光學片6的表面損傷。
[0016]但是,當上述第一光學片5和上述第二光學片6接合時,上述結(jié)構(gòu)化圖案5a的上 側(cè)末端部接合于上述第二光學片6的下表面,引起形狀變形的同時減少截面軌跡的長度, 因此存在實際對從下部傳遞的光進行折射集光的區(qū)域縮小的問題。
[0017] 如上上述,上述結(jié)構(gòu)化圖案5a中的折射光并進行集光的區(qū)域縮小時,存在輝度降 低的問題,并由此存在背光單元的品質(zhì)降低的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0018] 本發(fā)明要解決的摶術(shù)問是頁
[0019] 本發(fā)明是為解決現(xiàn)有光學片模塊中的問題而提出的,即因為形成于下部光學片的 單元集光體(unitlightcollector)與上部光學片接合時,會由于損失的傾斜面而引起光 的集光區(qū)域的減少,因此本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于,提供一種為了降低集光區(qū)域的 減少而傾斜面積經(jīng)過調(diào)節(jié)的光學片模塊提供。
[0020] 摶術(shù)方案
[0021] 為解決上述技術(shù)問題,根據(jù)本發(fā)明的一方面,其包括:上部光學片,其具有第一單 元集光體不斷重復(fù)的第一結(jié)構(gòu)化圖案,其中上述第一單元集光體形成有越往上部橫截面積 逐漸變小的傾斜面;以及下部光學片,其以層壓形態(tài)配置于上述上部光學片的下部,具有第 二單元集光體不斷重復(fù)的第二結(jié)構(gòu)化圖案,其中第二單元集光體形成有越往上部橫截面積 逐漸變小的傾斜面。其中,從上述第二單元集光體的最下部至最上部的垂直距離形成為較 上述第一單元集光體的最下部至最上部的垂直距離更長,且上述第二單元集光體的傾斜面 具有與上述第一單元集光體的傾斜面相比相對更大的表面積。
[0022] 并且,其特征在于,上述第二單元集光體的截面軌跡的傾斜角度具有與上述第一 單元集光體相同的傾斜角度。
[0023] 并且,其特征在于,上述第二單元集光體包括:光傳遞部,其對入射的光進行集光, 并傳遞至上部;以及接合部,其連接于上述光傳遞部的上部,并接合于上述上部光學片。
[0024] 其中,其特征在于,上述第二單元集光體的上述光傳遞部的截面軌跡的長度較上 述第一單元集光體的截面軌跡的長度相同或者更長。
[0025] 并且,其特征在于,上述接合部在上述第二單元集光體和上述上部光學片的接合 過程中經(jīng)變形而形成。
[0026] 此外,其特征在于,上述光傳遞部的形狀不發(fā)生變形,能夠保持截面軌跡的長度, 并與上述上部光學片進行接合。
[0027] 并且,其特征在于,上述接合部包括:一對延長面,其從上述光傳遞部的上部向上 部方向延長而成;以及接合面,其兩側(cè)各自連接于上述一對延長面,且與上述上部光學片接 合。
[0028] 其中,其特征在于,上述接合面的截面的軌跡彎曲地形成。
[0029] 并且,其特征在于,上述接合部形成為連接上述光傳遞部的截面軌跡的上部方向 末端部的連接面的形狀。
[0030] 并且,其特征在于,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案的上部方向末端部直接接合于上述上部 光學片的下表面。
[0031] 此外,其特征在于,還包括粘附層,其形成于上述上部光學片和下部光學片之間, 并嵌入上述第二結(jié)構(gòu)化圖案的上部方向末端部。
[0032] 并且,其特征在于,上述第一單元集光體及上述第二單元集光體的截面形狀為三 角形形狀。
[0033] 此外,其特征在于,還包括反射偏光膜,其與上述下部光學片及上述上部光學片以 層壓形狀配置,并能夠根據(jù)從下部傳遞的光的偏光狀態(tài)選擇性地透射光。
[0034] 并且,其特征在于,上述反射偏光膜層壓配置于上述上部光學片和上述下部光學 片之間。
[0035] 并且,其特征在于,上述反射偏光膜層壓配置于上述上部光學片的上部。
[0036] 并且,其特征在于,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案具有相同截面的形狀,并沿著橫向延長而 成。
[0037] 此外,其特征在于,上述上部光學片及上述下部光學片能夠配置成上述第一結(jié)構(gòu) 化圖案的延長方向及上述第二結(jié)構(gòu)化圖案的延長方向相互交叉,上述第一結(jié)構(gòu)化圖案和上 述第二結(jié)構(gòu)化圖案可以垂直地交叉。
[0038] 為解決上述技術(shù)問題,根據(jù)本發(fā)明的另一方面,其包括:上部光學片,其具有第一 單元集光體不斷重復(fù)的第一結(jié)構(gòu)化圖案,其中上述第一單元集光體越往上部橫截面積逐漸 變??;以及下部光學片,其以層壓形態(tài)配置于上述上部光學片的下部,具有第二單元集光體 不斷重復(fù)的第二結(jié)構(gòu)化圖案,其中上述第二單元集光體越往上部橫截面積逐漸變小。其中, 上述第二單元集光體形成為具有與上述第一單元集光體相同的橫截面形狀,且形成較上述 第一單元集光體相對更大的橫截面積,從而使鄰接的單元集光體的距離相對較長。
[0039] 有益效果
[0040] 根據(jù)為解決上述技術(shù)問題的本發(fā)明,能夠獲得如下效果:
[0041] 對于形成有第一結(jié)構(gòu)化圖案的上部光學片和形成有第二結(jié)構(gòu)化圖案的下部光學 片以層壓形狀接合的光學片模塊,形成于下部光學片的單元集光體與上部光學片接合時, 會由于損失的傾斜面而引起光的集光區(qū)域減少,因此為了降低集光區(qū)域的減少而調(diào)節(jié)傾斜 面積,從而具有在上部光學片和下部光學片接合時,第二結(jié)構(gòu)化圖案中用于維持一定強度 的接合面積之外的剩余傾斜面可以維持一定大小以上的效果。
[0042] 第二結(jié)構(gòu)化圖案由折射從下部傳遞的光并進行集光的光傳遞部以及延長于光傳 遞部的上部而形成的接合部所構(gòu)成,即使上部光學片和下部光學片接合,也只有接合部的 形狀發(fā)生變形,因此具有防止光傳遞部的損失并通過光傳遞部的折射而增加集光的光的輝 度的效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0043] 圖1是概略地表示已開發(fā)的液晶顯示裝置構(gòu)成的附圖。
[0044] 圖2是概略地表示根據(jù)本發(fā)明實施例的光學片模塊的構(gòu)成的附圖。
[0045] 圖3是表示圖2的光學片模塊中的第一結(jié)構(gòu)化圖案及第二結(jié)構(gòu)化圖案的形狀的附 圖。
[0046] 圖4是表示在圖2的下部光學片中發(fā)生接合部的變形的狀態(tài)的附圖。
[0047] 圖5是表示根據(jù)圖2的接合部的有無,在上部光學片和下部光學片接合狀態(tài)下的 光傳遞部長度差異的附圖。
[0048]圖6是表示圖2的光學片模塊中還包括額外的粘附層的構(gòu)成的附圖。
[0049]圖7是表示圖6的粘附層中嵌入上述接合部的狀態(tài)的附圖。
[0050] 圖8是表示圖6的下部光學片中接合部的變形形狀的附圖。
[0051] 圖9是表示圖2的下部光學片中接合部以延長面的形狀形成的結(jié)構(gòu)的附圖。
[0052] 圖10是表示圖2的下部光學片中還包括反射偏光膜的狀態(tài)的分解立體圖。
[0053] 圖11是表示通過圖10的反射偏光膜,使光透射或者反射的狀態(tài)的附圖。
【具體實施方式】
[0054] 將通過所附的附圖,對這樣的根據(jù)本發(fā)明的層壓型光學片模塊的優(yōu)選實施例進行 說明。但是,其并不是用于以特定形態(tài)限定本發(fā)明,而是為了通過本實施例而有助于明確地 理解。
[0055] 并且,在本實施例的說明中,對于相同的結(jié)構(gòu)使用相同的名稱和相同的符號,因此 將省略對其的附加的說明。
[0056] 根據(jù)本發(fā)明實施例的層壓型光學片模塊能夠適用于用于改變光的路徑的多種領(lǐng) 域,但在本實施例中將以適用于液晶顯示裝置的形態(tài)作為一例進行說明。
[0057] 首先,參照圖2,觀察根據(jù)本發(fā)明實施例的液晶顯示裝置的大致的構(gòu)成。具體如下 所述。
[0058] 圖2是概略地表示根據(jù)本發(fā)明實施例的光學片模塊的構(gòu)成的分解立體圖。
[0059] 如圖所示,在液晶顯示裝置構(gòu)成中,應(yīng)必需具備給液晶面板提供光的背光單元 (BLU:BackLightUnit)。這種背光單元大體由光源100,導(dǎo)光板200,擴散片300和光學片 模塊400構(gòu)成。
[0060] 上述光源100-般由發(fā)出光的發(fā)光體構(gòu)成,在上述導(dǎo)光板200的側(cè)部發(fā)出光,并沿 上述導(dǎo)光板200方向傳遞光。
[0061] 并且,上述導(dǎo)光板200反射或散射從上述光源100中發(fā)出的光,并向上述擴散片 300方向傳遞。上述擴散片300設(shè)置于上述導(dǎo)光板200的上部,擴散從上述導(dǎo)光板200傳遞 的光,使其均勻分布并向上部傳遞。
[0062] 并且,上述光學片模塊400設(shè)置于上述擴散片300的上部,并使傳遞的光集光后, 使其向上部移動。上述光學片模塊400 -般構(gòu)成為上部光學片410和下部光學片420的一 對。
[0063] 通過形成于像這樣構(gòu)成的上述上部光學片410和下部光學片420的結(jié)構(gòu)化圖案, 光沿著對上述光學片模塊400的面正交的方向集光并折射。
[0064] 更詳細地觀察上述光學片模塊400,上述光學片模塊400是由上述上部光學片410 和上述下部光學片420構(gòu)成。
[0065] 上述上部光學片410大體由第一基膜414和第一結(jié)構(gòu)化圖案412構(gòu)成。
[0066] 作為上述第一基膜414 一般使用可以使從下部傳遞的光輕易透射的透光膜,并在 上述第一基膜414的上表面,與第一基膜414 一體化地形成有使光折射并集光的上述第一 結(jié)構(gòu)化圖案412。
[0067]上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412由多個第一單兀集光體412a構(gòu)成,該第一單兀集光體 412a的截面的軌跡以一定的角度傾斜,并且形成有在上述第一基膜414的上表面連續(xù)反復(fù) 且向上部方向突出,越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜面。
[0068] 上述第一單元集光體412a對透射上述第一基膜414的光進行折射和集光,并向上 部傳遞。
[0069] 這樣構(gòu)成的上述上部光學片410通過上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412對從下部傳遞的光 進行折射和集光,并向上部射出。一般地,上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412由多個上述第一單元集 光體412a作為三角形形狀的棱鏡,沿著一方向延長的方式形成,并由多個排列構(gòu)成。
[0070] 上述下部光學片420大體由第二基膜424和第二結(jié)構(gòu)化圖案422構(gòu)成,并配置于 上述上部光學片410的下部。在上述第二基膜424的上表面形成了第二結(jié)構(gòu)化圖案422。
[0071] 上述第二基膜424和上述第一基膜414 一樣,透射從配置于下部的上述擴散片300 傳遞的光,并向上部傳遞,且在上表面形成有上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422。
[0072] 上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422和上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412類似地,形成為越往上部橫 截面積逐漸變小,其暴露于內(nèi)部的空氣而對從上述擴散片300傳遞的光進行折射,并向上 部方向傳遞。
[0073] 上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422由多個第二單元集光體422a構(gòu)成,該第二單元集光體 422a在上述第二結(jié)構(gòu)化圖案424的上表面連續(xù)反復(fù),且形成有越往上部橫截面積逐漸變小 的傾斜面。
[0074] 但是,上述第二單元集光體422a包括:光傳遞部422b,其越往上部橫截面積逐漸 變??;以及接合部422c,其與上述光傳遞部422b連續(xù)連接而配置于上部,并接合于上述第 一基膜414的下表面。
[0075] 上述光傳遞部422b不接合于上述第一基膜414,且截面軌跡的長度不發(fā)生改變, 暴露于內(nèi)部的空氣而對從上述擴散片300傳遞的光進行折射,并向上部方向傳遞。
[0076] 上述接合部422c連接于上述光傳遞部的上部并接合于上述第一基膜414的下表 面,從而起到能夠使上述上部光學片410和上述下部光學片420接合的粘結(jié)劑的作用。其 中,上述接合部422c與上述第一基膜414接合時,形狀可能會變形,因此上述接合部422c 沿垂直方向的高度也可能會變形。
[0077] 上述接合部422c可以形成為多種形狀,在本實施例中,上述接合部422c形成為 與上述光傳遞部422b具有相同的傾斜角度,向上部傾斜地向上延長,且上側(cè)末端部能夠相 交。
[0078] 這樣的構(gòu)成的上述第二單元集光體422a和上述第一單元集光體412a具有相同的 傾斜角度,上述第二單元集光體422a的傾斜面形成為具有與上述第一單元集光體412a的 傾斜面相比更大的表面積。
[0079] 即從上述第二單元集光體422a的最下部至最上部的垂直距離形成為相比從上述 第一單元集光體412a的最下部至最上部的垂直距離更長,而上述第二單元集光體422a的 傾斜面相比上述第一單元集光體412a的傾斜面具有更大的表面積。
[0080] 此時,上述第二單元集光體422a形成為與上述第一單元集光體412a具有相同的 截面形狀的同時,相比于上述第一單元集光體412a截面積相對較大,因此鄰接的單元集光 體之間的距離形成為相對較長。
[0081] 另外,如上上述,上述第二單元集光體422a的傾斜面相比上述第一單元集光體 412a的傾斜面可以具有相對更大的表面積,但并不限于此。
[0082] 上述光傳遞部422b的截面軌跡的長度形成為相比上述第一單元集光體412a的截 面軌跡的長度相同或者更長。
[0083] 這樣的構(gòu)成的上述下部光學片420層壓于上述擴散片300和上述上部光學片410 之間,使從上述擴散片300傳遞的光通過上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422被折射以及集光,并向上 部光學片410傳遞。
[0084] 另外,上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422可以是三角形形狀,即 向上部傾斜地向上延長,且上側(cè)末端部相交而成的三角形形狀。并且,上述第一結(jié)構(gòu)化圖案 412和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的截面軌跡可以形成為直線。
[0085] 但是,圖示的上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的形狀并不限 于特定形狀,而是為了便于理解根據(jù)本發(fā)明的實施例的構(gòu)成而選擇的。
[0086] 與此同時,上述第一基膜414和上述第二基膜424可以由丙烯酸或聚氨酯等構(gòu)成, 其優(yōu)選由透光率高的材料構(gòu)成,以便使從上述擴散片300傳遞的光發(fā)生透射。
[0087] 這樣的構(gòu)成的上述上部光學片410及下部光學片420形成為各自對應(yīng)的上述第一 結(jié)構(gòu)化圖案412及上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422具有相同的截面積,并沿著橫向延長,并且粘附 為上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412的延長方向及上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的延長方向沿著橫向相 互交叉。
[0088] 此時,上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412及上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的交叉角度可以適用 多種角度,但在本實施例中以90°進行粘附。
[0089] 接下來,參照圖3,更詳細觀察上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案 422的結(jié)構(gòu),具體如下所述。
[0090] 圖3是表示圖2的光學片模塊400中的第二結(jié)構(gòu)化圖案的形狀的附圖。
[0091] 如圖所示,其為表示上述上部光學片410和上述下部光學片420接合之前的狀態(tài), 上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412具有對從下部傳遞的光進行垂直折射并集光的上述第一單元集 光體412a。
[0092] 并且,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422具有對從下部傳遞的光進行折射,并向上述上部 光學片410傳遞的上述第二單元集光體422a。其中,上述第二單元集光體422a由上述光傳 遞部422b和連接于上述光傳遞部422b的上部并接合于上述第一基膜414的下表面的上述 接合部422c構(gòu)成。
[0093] 上述接合部422c在上述第一基膜414的下表面接合時,是在未完全被硬化的固液 狀態(tài)下進行接合。因此,上述接合部422c接合于上述第一結(jié)構(gòu)化圖案414的下表面的過程 中形狀會變形,會使得與上述第一結(jié)構(gòu)化圖案414的接合面積增加。
[0094] 如上所述,隨著形成于上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的上部方向末端部的上述接合部 422c的變形,引起折射光的傾斜面的損失。
[0095] 因此,上述光傳遞部422b形成為截面軌跡的長度相比上述第一單元集光體412a 的截面軌跡的長度相同或者更長,因此構(gòu)成為即使由上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422與上述第一 基膜414接合而產(chǎn)生傾斜面的損失,也能夠具有一定長度以上的截面軌跡,從而使從下部 傳遞的光折射的光傳遞部422b的截面軌跡的長度沒有變化。
[0096] 觀察圖示的附圖,上述第一單元集光體412a的截面軌跡的長度為L1,上述光傳遞 部422b的截面軌跡長度為L2。其中,L1和L2的長度相同。
[0097] 因此,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422整個截面軌跡的長度為將上述光傳遞部422b的截 面軌跡的長度L2和上述接合部422c的截面軌跡的長度L3加起來的長度,上述第一結(jié)構(gòu)化 圖案412的截面軌跡的長度為L1。
[0098] 即由于L1和L2長度相同,在上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422中上述第二單元集光體 422a的截面軌跡的長度形成為較上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412中上述第一單元集光體412a的 截面軌跡的長度更長。
[0099] 如上所述,上述第二單元集光體422a的截面軌跡的長度形成為長于上述第一單 元集光體412a的截面軌跡的長度,因此即使由上述上部光學片410和上述下部光學片420 的接合而引起上述接合部422c損失,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422也能夠維持上述光傳遞部 422b的傾斜面,從而能夠防止集光效果的減少。
[0100] 另外,上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422以相同的材料構(gòu)成時, 上述第一單元集光體412a和上述光傳遞部422b形成相同的傾斜角度,因此在整體上上述 第二結(jié)構(gòu)化圖案422形成為節(jié)距(HI文| )大于上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412的節(jié)距。
[0101] 接下來,參照圖4,觀察由上述上部光學片410和上述下部光學片420的接合而引 起上述接合部422c的形狀變形的過程,具體如下所述。
[0102] 圖4是表示在圖2的下部光學片420中發(fā)生接合部422c的變形的狀態(tài)的附圖。
[0103] 首先,觀察圖4中的(a),其為上述上部光學片410和上述下部光學片420接合 之前的狀態(tài),表示在上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422中的上述光傳遞部422b的上部,上述接合部 422c維持未發(fā)生變形的狀態(tài)。
[0104] 其中,上述第一單元集光體412a和上述光傳遞部422b形成為截面軌跡的長度相 同。并且,由于上述第一單元集光體412a和上述光傳遞部422b的截面軌跡的長度相同,上 述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的截面軌跡的長度長于上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412的截面軌跡的長 度。
[0105] 并且,如圖4中的(b)所示,隨著上述上部光學片410和上述下部光學片420的距 離接近,形成上述接合部422c接合于上述第一基膜414的下表面的狀態(tài)。
[0106] 此時,上述接合部422c-直維持未完全硬化的固液狀態(tài)。
[0107] 如上所述,如果上述接合部422c接合于上述第一基膜414的下表面,由于上下作 用的外力,上述接合部422c的上部的形狀產(chǎn)生微細的變形,并起到使上述第一基膜414和 上述光傳遞部422b接合的粘結(jié)劑的作用。
[0108] 其中,由于是上述上部光學片410和上述下部光學片420未完全接合的狀態(tài),所以 上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的截面軌跡的長度是相比上述第一結(jié)構(gòu)化圖案412的截面軌跡的 長度較長的狀態(tài)。
[0109]接下來,觀察圖4中的(c),其為上述上部光學片410和上述下部光學片420是完 全接合的狀態(tài),所以上述接合部422c的形狀完全改變。
[0110] 由于上下作用的外力,上述上部光學片410和上述下部光學片420距離越來越接 近的同時,上述接合部422c沿著上述第一基膜414的下表面被橫向擴散,因此上述接合部 422c的截面軌跡的長度逐漸變短。
[0111] 如上所述,上述接合部422c擴散并變形,從而使得上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422和上 述第一基膜414完全接合。
[0112] 通過這樣的過程,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422接合于上述第一基膜414的下表面的 同時,上述接合部422c的傾斜面損失,但上述光傳遞部422b未發(fā)生變形,因此上述光傳遞 部422b的截面軌跡的長度不發(fā)生變化,因此能夠維持使從下部傳遞的光折射并集光的上 述光傳遞部422c的傾斜面。
[0113] 在本實施例中,以上述第一單元集光體412a和上述光傳遞部422b的截面軌跡的 長度相同的構(gòu)成進行了說明,但其并不限于特定形態(tài)。如果構(gòu)成為當上述上部光學片410 和下部光學片420接合時,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422中對光進行集光的光傳遞部422b的截 面軌跡的長度不發(fā)生變化,而僅在上述接合部422c發(fā)生變形,則可以以任何形態(tài)適用。
[0114] 如上所述,考慮到與上述第一基膜414接合時發(fā)生的傾斜面的損失,上述第二單 元集光體422a包括上述接合部422c,從而能夠?qū)⑼ㄟ^與上述第一基膜414的接合而引起的 傾斜面的損失導(dǎo)致的上述光傳遞部422b的傾斜面的損失降至最小化。
[0115] 接下來,參照圖5,在上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422中根據(jù)上述接合部422c的有無,并 在上述上部光學片410和上述下部光學片420接合的狀態(tài)下,比較說明上述光傳遞部422b 的截面軌跡的長度,具體說明如下。
[0116] 圖5是表示根據(jù)圖2的接合部422c的有無,在上部光學片410和下部光學片420 接合狀態(tài)下的光傳遞部長度差異的附圖。
[0117] 首先,如圖5中的(a)所示,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422不具備額外的上述接合部 422c,而是僅由上述光傳遞部422b構(gòu)成。
[0118] 上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422僅由具有和上述第一單元集光體412a相同的截面軌跡 的長度的上述光傳遞部422b構(gòu)成,因此當上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422和上述第一基膜414接 合時,上述光傳遞部的上部方向末端部的形狀發(fā)生變形,并發(fā)生傾斜面的損失。即上述光傳 遞部的上部方向末端部沿著上述第一基膜414的下表面擴散,且高度會發(fā)生降低。
[0119] 因此,如果上述光傳遞部422b的上部方向末端部損失,在上述上部光學片410和 上述下部光學片420接合之后上述光傳遞部422b的截面軌跡的長度L2相比上述第一單元 集光體412a的截面軌跡的長度L1變短,由此對從下部傳遞的光進行集光的傾斜面會減少。
[0120] 但是,觀察圖5中的(b),其為上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422由上述光傳遞部422b和上 述接合部422c構(gòu)成,且在進行接合之后,上述接合部422c發(fā)生變形而只剩下上述光傳遞部 422b的傾斜面的狀態(tài)的附圖。
[0121] 其中,上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422和上述第一基膜414接合時,上述接合部422c起 到粘結(jié)劑的作用而變形,但上述光傳遞部422b不發(fā)生進一步的變形。因此,上述光傳遞部 422b的截面軌跡的長度L2維持在較上述第一單元集光體412a的截面軌跡的長度L1相同 或者更大。
[0122] 如上所述,通過在上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的上部方向末端部具備上述接合部 422c,能夠防止由上述上部光學片410和下部光學片420的接合而引起的上述光傳遞部 422b的損失。
[0123] 即考慮到通過與上述第一基膜414的粘附過程而引起的損失的大小,在形成上 述第二結(jié)構(gòu)化圖案422時,在上部進一步具備上述接合部422c,以能夠維持上述光傳遞部 422b的傾斜面,從而能夠增加集光的光的輝度。
[0124] 接下來,參照圖6及圖7,對根據(jù)本發(fā)明的實施例的光學片模塊400中還具備額外 的粘附層430的構(gòu)成進行觀察,具體如圖所示。
[0125] 圖6是表示圖2的光學片模塊中還包括額外的粘附層的構(gòu)成的附圖,圖7是表示 圖6的粘附層中嵌入上述接合部的狀態(tài)的附圖。
[0126] 如圖6所不,雖然基本結(jié)構(gòu)相同,但對于上述光學片模塊400,在上述上部光學片 410和上述下部光學片420之間還具備額外的粘附層430。
[0127] 上述光學片模塊400構(gòu)成為包括上述上部光學片410,上述下部光學片420和額外 的粘附層430。
[0128] 上述粘附層430具備于上述上部光學片的下部,使得上述下部光學片和上述上部 光學片能夠進行粘附。此時,上述粘附層430優(yōu)選由透光率高的材料構(gòu)成,以便使從上述擴 散片300傳遞的光發(fā)生透射。
[0129] 如上所述,上述光學片模塊400構(gòu)成為額外包括上述粘附層430,從而在上述第二 結(jié)構(gòu)化圖案422和上述第一基膜414接合時,上述接合部422c不起粘結(jié)劑的作用,而是嵌 入于上述粘附層430的內(nèi)部。
[0130] 即上述粘附層430位于上述第一基膜414的下表面,上述接合部422c形狀在上述 第一基膜414的下表面不發(fā)生改變,而是嵌入至上述粘附層430的內(nèi)部。
[0131] 并且,通過上述接合部422c嵌入于上述粘附層430的內(nèi)部,使得接合的面積變得 更大,由此能夠提高上述上部光學片410和下部光學片420的粘附品質(zhì)。
[0132] 如上所述,上述接合部422c嵌入于上述粘附層430的內(nèi)部時,如圖7所示,上述光 傳遞部422b不嵌入于上述粘附層430的內(nèi)部,因此上述光傳遞部422b的長度L2可以維持 在較上述第一單元集光體412a的長度L1相同或者更長。
[0133] 通過這樣的構(gòu)成,上述光學片400進一步具備上述粘附層430,并使上述接合部 422c嵌入于上述粘附層430的內(nèi)部而能夠提高粘附品質(zhì)的同時,也不改變上述光傳遞部 422b的截面軌跡的長度,從而不會使通過上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422發(fā)生折射并集光的光的 輝度減少。
[0134] 接下來,參照圖8和圖9,對上述接合部422c的變形的形態(tài)進行觀察,具體如圖所 /_J、i〇
[0135] 圖8是表示圖6的下部光學片中接合部的變形形狀的附圖,圖9是表示圖2的下 部光學片中接合部以延長面的形狀形成的結(jié)構(gòu)的附圖。
[0136] 如圖所示,上述接合部422c的截面軌跡不形成為具有和上述光傳遞部422b相同 的傾斜角度,而可以形成為多種形態(tài)。
[0137] 觀察圖8中的(a),其為根據(jù)截面的軌跡的上側(cè)末端部接合于上述第一基膜414的 下表面時,在上述接合部422c中具備發(fā)生面接觸的粘附面的狀態(tài)的附圖。
[0138] 上述接合部422c連接于上述光傳遞部422b的上部,形成有沿上部方向延長的一 對延長面S1,并由連接上述延長面S1之間的接合面S2構(gòu)成。
[0139] 如上所述,上述接合部422c具備上述延長面S1和上述接合面S2,從而可以提高上 述第一基膜414和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的粘附品質(zhì)。
[0140] 此外,如圖8中的(b)所示,上述接合部422c形成為沿上部方向突出的球狀而增 加粘附面積,從而增加上述第一基膜414和上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422的粘附品質(zhì)。
[0141] 即上述接合面S2形成為截面的軌跡彎曲地形成,并向上部方向突出。
[0142] 如上所述,通過形成上述接合部422c,能夠增加上述接合部422c向上述粘附層 430內(nèi)部嵌入的粘附面積,從而能夠提高粘附品質(zhì)。不僅如此,上述光學片模塊400不含有 上述粘附層430時如圖4所示,上述接合部422c可在上述第一基膜414的下表面擴散,從 而起到粘結(jié)劑的作用。
[0143] 以上對上述接合部422c的變形的形態(tài)進行了說明,與上述粘附層430的有無無關(guān) 地,構(gòu)成為當上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422和上述第一基膜414接合時,通過上述接合部422c 使上述光傳遞部422b的截面軌跡的長度不發(fā)生變化,從而在上述第二結(jié)構(gòu)化圖案422中不 存在對從下部傳遞的光折射并集光區(qū)域的損失,因此能夠增加集光的光的輝度。
[0144] 接下來,觀察如圖9所示的上述接合部422c的變形的形態(tài),上述接合部422c形成 為連接上述光傳遞部422b的截面軌跡的上部方向末端部的連接面的形狀。其中,上述第二 單元集光體422a形成為傾斜面較上述第一單元集光體412a的傾斜面大或者相同。
[0145] 因此,以連接面形態(tài)形成的上述接合部422c在上述上部光學片410的下部相接而 接合。
[0146] 接下來,參照圖10和圖11,對根據(jù)本發(fā)明的實施例的光學片模塊中還包括額外的 反射偏光膜的構(gòu)成進行觀察,具體如圖所示。
[0147] 圖10是表示圖2的下部光學片中還包括反射偏光膜的狀態(tài)的分解立體圖,圖11 是表示通過圖10的反射偏光膜,使光透射或者反射的狀態(tài)的附圖。
[0148] 觀察圖示的附圖,其為在上述上部光學片410的上部還包括反射偏光膜500,并以 層壓形態(tài)配置的構(gòu)成,可通過上述上部光學片410和上述下部光學片420選擇性地透射集 光的光。
[0149] 上述反射偏光膜500(ReflectivePolarizer)根據(jù)光的偏光狀態(tài)而選擇性地透射 光,并且能發(fā)揮使偏光狀態(tài)不同的光返回至上述導(dǎo)光板200的作用。與此相同的裝置的一 例有雙亮度增強膜G)ualBrightnessEnhancementFilm:DBEF)。
[0150] 沒有通過DBEF而被反射的光通過BLU下段的上述導(dǎo)光板200重新反射,而重新向 上部傳遞。DBEF僅僅使其中偏光狀態(tài)適合的光通過之后,不斷重復(fù)反射剩余的光的作用。
[0151] 通過重復(fù)這樣的過程,僅向上部射出所需要的偏光狀態(tài)的光,因此能夠減少射出 的光的損失,并提_顯不t旲塊的輝度。
[0152] 更詳細地觀察,如圖11所示,上述反射偏光膜500是在上述上部光學片410的上 部層壓配置的形狀,因此通過上述下部光學片420和上述上部光學片410并集光的光才能 向上述反射偏光膜500傳遞。其中,指向上述反射偏光膜500的光是許多偏光狀態(tài)的光混 合的狀態(tài),其由具有上述反射偏光膜500能夠透射的偏光狀態(tài)的P1的光和具有上述反射偏 光膜500無法透射的偏光狀態(tài)的P2的光構(gòu)成。
[0153] 如圖所示,雖然通過上述上部光學片410及上述下部光學片420的光是P1和P2 的混合狀態(tài),但是上述反射偏光膜500只允許P1的光投射,而將P2的光重新向下部方向反 射。
[0154] 因此,P1的光向外部射出,但P2的光被反射重新回到下部,并被上述導(dǎo)光板200反 射重新傳遞到上部。通過這種過程,P2的光將改變行進方向及偏光狀態(tài),并通過反復(fù)的這 種過程,被轉(zhuǎn)換為上述反射偏光膜500適合投射的狀態(tài)。
[0155] 如上所述,由于具備上述反射偏光膜500,能夠減少光的損失的同時,能夠向上部 射出具有所需的折射角度及偏光狀態(tài)的光,從而增加顯示模塊的輝度。
[0156] 另外,上述反射偏光膜500不僅能夠?qū)訅号渲迷谏鲜錾喜抗鈱W片410的上部,還可 層壓配置在上述上部光學片410和上述下部光學片420之間。
[0157] 如上上述,對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行了觀察,但除了在先說明的實施例以外,在 不脫離本發(fā)明的主旨或范疇的條件下,可以以其它形態(tài)具體化。因此,不能將本實施例視為 以特定形態(tài)進行限定,而是應(yīng)理解成為僅用于例示。由此,本發(fā)明并不僅限于上述的說明, 而是在所附的權(quán)利要求書及其同等范圍內(nèi)可以進行多種變更。
【權(quán)利要求】
1. 一種層壓型光學片模塊,其中,該層壓型光學片模塊包括: 上部光學片,其具有第一單元集光體不斷重復(fù)的第一結(jié)構(gòu)化圖案,其中所述第一單元 集光體形成有越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜面;以及 下部光學片,其以層壓形態(tài)配置于所述上部光學片的下部,具有第二單元集光體不斷 重復(fù)的第二結(jié)構(gòu)化圖案,其中第二單元集光體形成有越往上部橫截面積逐漸變小的傾斜 面, 其中,從所述第二單元集光體的最下部至最上部的垂直距離形成為較所述第一單元集 光體的最下部至最上部的垂直距離更長,且所述第二單元集光體的傾斜面具有與所述第一 單元集光體的傾斜面相比相對更大的表面積。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述第二單元集光體的截面軌跡的傾斜角度具有與所述第一單元集光體相同的傾斜 角度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,所述第二單元集光體包括: 光傳遞部,其對入射的光進行集光,并傳遞至上部;以及 接合部,其連接于所述光傳遞部的上部,并接合于所述上部光學片。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述第二單元集光體的所述光傳遞部的截面軌跡的長度較所述第一單元集光體的截 面軌跡的長度相同或者更長。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述接合部在所述第二單元集光體和所述上部光學片的接合過程中經(jīng)變形而形成。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述光傳遞部的形狀不發(fā)生變形,能夠保持截面軌跡的長度,并與所述上部光學片進 行接合。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于,所述接合部包括: 一對延長面,其從所述光傳遞部的上部向上部方向延長而成;以及 接合面,其兩側(cè)各自連接于所述一對延長面,且與所述上部光學片接合。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述接合面的截面的軌跡彎曲地形成。
9. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述接合部形成為連接所述光傳遞部的截面軌跡的上部方向末端部的連接面的形狀。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述第二結(jié)構(gòu)化圖案的上部方向末端部直接接合于所述上部光學片的下表面。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 還包括粘附層,其形成于所述上部光學片和下部光學片之間,并嵌入所述第二結(jié)構(gòu)化 圖案的上部方向末端部。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述第一單元集光體及所述第二單元集光體的截面形狀為三角形形狀。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 還包括反射偏光膜,其與所述下部光學片及所述上部光學片以層壓形狀配置,并能夠 根據(jù)從下部傳遞的光的偏光狀態(tài)選擇性地透射光。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述反射偏光膜層壓配置于所述上部光學片和所述下部光學片之間。
15. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述反射偏光膜層壓配置于所述上部光學片的上部。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1至15中的任一項所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述第二結(jié)構(gòu)化圖案具有相同截面的形狀,并沿著橫向延長而成。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述上部光學片及所述下部光學片配置成所述第一結(jié)構(gòu)化圖案的延長方向及所述第 二結(jié)構(gòu)化圖案的延長方向相互交叉。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的層壓型光學片模塊,其特征在于, 所述第一結(jié)構(gòu)化圖案和所述第二結(jié)構(gòu)化圖案垂直地交叉。
19. 一種層壓型光學片模塊,其中,該層壓型光學片模塊包括: 上部光學片,其具有第一單元集光體不斷重復(fù)的第一結(jié)構(gòu)化圖案,其中所述第一單元 集光體越往上部橫截面積逐漸變??;以及 下部光學片,其以層壓形態(tài)配置于所述上部光學片的下部,具有第二單元集光體不斷 重復(fù)的第二結(jié)構(gòu)化圖案,其中所述第二單元集光體越往上部橫截面積逐漸變小, 其中,所述第二單元集光體形成為具有與所述第一單元集光體相同的橫截面形狀,且 形成較所述第一單元集光體相對更大的橫截面積,從而使鄰接的單元集光體的距離相對較 長。
【文檔編號】G02B5/04GK104412132SQ201380033661
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2013年6月24日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月25日
【發(fā)明者】閔池泓, 金榮一, 趙誠植, 李宇鐘, 李泰浚, 金熹貞, 黃俊皖 申請人:株式會社Lms