抗蝕劑剝離液的再生方法以及再生裝置制造方法
【專利摘要】涉及抗蝕劑剝離液的再生方法以及再生裝置?？刮g劑成分是常溫下為固體的有機(jī)物，存在殘?jiān)鼭饪s器的出入口附近溫度下降時(shí)固體化而附著。再生使用完畢的抗蝕劑剝離液的再生方法具有：低沸點(diǎn)分離工序，分離水等低沸點(diǎn)物質(zhì)；高沸點(diǎn)分離工序，將含抗蝕劑的殘留液和溶劑等作為分離物取出；殘?jiān)鼭饪s工序，將前述含抗蝕劑的殘留液在殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)進(jìn)一步濃縮，分離前述溶劑等并返回至前述高沸點(diǎn)分離工序；精制工序，從前述高沸點(diǎn)分離工序的分離物氣化分離前述水的剩余部分作為廢液B，將分離殘留液作為剝離再生液取出；洗滌工序，使低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液在前述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)流下。
【專利說(shuō)明】抗蝕劑剝離液的再生方法以及再生裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種從使用完畢的抗蝕劑剝離液分離溶劑成分、并再生使用的抗蝕劑剝離液的再生方法，特別是涉及一種用于濃縮來(lái)自高沸點(diǎn)分離器的含抗蝕劑的殘留液的殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)以及配管不易產(chǎn)生附著物的抗蝕劑剝離液的再生方法以及裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體、液晶顯示器、有機(jī)及無(wú)機(jī)的EL顯示器的制造中，大多使用光刻的技術(shù)。在此，在基板上形成材料薄膜，在其上用抗蝕劑形成圖案。接下來(lái)沿著該抗蝕圖案進(jìn)行蝕刻處理，將材料薄膜形成為期望的圖案。接下來(lái)，將最后剩余的抗蝕劑剝離。
[0003]抗蝕劑為具有感光性的樹(shù)脂材料，可適宜地利用例如酚醛清漆樹(shù)脂等。因此，為了將抗蝕劑剝離，使用溶劑作為基體的剝離劑。例如，可使用單乙醇胺、二甲亞砜的混合物，丙二醇單甲基醚乙酸酯與丙二醇單甲基醚的混合物的所謂稀釋劑(thinner)等，以及由多種溶劑成分和水分形成的水系剝離液。
[0004]這些溶劑被大量使用，絕不便宜。另外，從再資源化的觀點(diǎn)出發(fā)，對(duì)于各溶劑成分而言分離并再資源化為最有效的方法，但從成本方面考慮，將單獨(dú)的溶劑成分離、精制至能夠再利用化沒(méi)有達(dá)到實(shí)用的方法。通常，將使用完畢的抗蝕劑剝離液用作助燃劑的情況較多，但存在還具有水分的情況，因此為了大量使用而通過(guò)燃燒使其分解時(shí)耗費(fèi)成本。
[0005]因此，將使用完畢的抗蝕劑剝離液進(jìn)行回收并氣化分離、再使用。在專利文獻(xiàn)I中，公開(kāi)了這樣的溶劑的再生方法。在專利文獻(xiàn)I的再生方法中，首先從使用完畢的抗蝕劑剝離液去除樹(shù)脂成分，接著蒸發(fā)去除低沸點(diǎn)雜質(zhì)。接下來(lái)，將該殘留液蒸餾，使溶劑成分蒸發(fā)并作為冷凝液回收。
[0006]另外，在專利文獻(xiàn)I中，在這樣的將使用完畢的抗蝕劑剝離液再生的方法中，公開(kāi)了樹(shù)脂去除裝置的利用方法，所述樹(shù)脂去除裝置將作為氣化分離水、溶劑后的最終殘?jiān)目刮g劑及其他成分凝聚。其記載了下述內(nèi)容:該樹(shù)脂去除裝置具備:具有內(nèi)壁面作為可加熱的蒸發(fā)面的密閉狀的筒主體、和配置在筒主體內(nèi)的在外周面具有放射狀的刷子的旋轉(zhuǎn)體，在筒主體的蒸發(fā)面與刷子之間供給使用完畢的溶劑，使低沸點(diǎn)物質(zhì)和溶劑蒸發(fā)，僅使樹(shù)脂成分流下。
[0007]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)
[0009]專利文獻(xiàn)1:日本特許第3409028號(hào)公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0011]在將高沸點(diǎn)分離工序的分離殘?jiān)镞M(jìn)一步濃縮的殘?jiān)鼭饪s工序中，使用后的抗蝕劑成分(以后簡(jiǎn)稱為“抗蝕劑成分”)、金屬系布線材料(例如鋁)這樣的無(wú)機(jī)固形物等作為殘?jiān)锏玫?，溶劑和水作為氣化分離物取出。然而，該抗蝕劑成分為有機(jī)物，一般來(lái)說(shuō)這些抗蝕劑成分在常溫下為固體，在溶劑中溶解。然而，如果殘?jiān)鼭饪s器的出口附近溫度下降，則有可能固體化而附著。
[0012]如果一旦附著了，則即使設(shè)為沸點(diǎn)以上的溫度也不易剝離。如果殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)產(chǎn)生附著物、該附著物生長(zhǎng)，則殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)的熱導(dǎo)率降低并且有效容積減少，變得無(wú)法確保規(guī)定的處理速率，進(jìn)一步，如果抗蝕劑成分附著導(dǎo)致附著物增加，則存在堵塞配管這樣的問(wèn)題。
[0013]用于解決問(wèn)題的方案
[0014]本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而想到的，通過(guò)在規(guī)定時(shí)間段(殘?jiān)鼭饪s器的運(yùn)轉(zhuǎn)開(kāi)始時(shí)以及停止時(shí))向殘?jiān)鼭饪s器供給含有抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液、溶劑和含水的低沸點(diǎn)成分，洗滌在殘?jiān)鼭饪s器的出口附近剛開(kāi)始固體化、附著的抗蝕劑成分，使得不會(huì)發(fā)生下述情況:殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)處于高溫的抗蝕劑成分沿殘?jiān)鼭饪s器的內(nèi)壁流下、在殘?jiān)鼭饪s器的出口附近溫度下降而固體化從而附著，由此防止抗蝕劑成分附著于殘?jiān)鼭饪s器。
[0015]更具體而言，本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生方法的特征在于，其具有下述工序:
[0016]低沸點(diǎn)分離工序，從抗蝕劑的剝離中使用的至少含有溶劑、含水的低沸點(diǎn)成分和抗蝕劑成分的使用完畢的抗蝕劑剝離液分離前述含水的低沸點(diǎn)成分的一部分并作為廢液A氣化分離并取出；
[0017]高沸點(diǎn)分離工序，將前述低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液氣化分離，將前述含水的低沸點(diǎn)成分的剩余部分和前述溶劑作為分離液取出，將含前述抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液作為分離殘留液；
[0018]殘?jiān)鼭饪s工序，將前述含抗蝕劑的殘留液在殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)進(jìn)一步濃縮，分離前述溶劑和前述含水的低沸點(diǎn)成分并返回至前述高沸點(diǎn)分離工序；
[0019]精制工序，從前述高沸點(diǎn)分離工序的分離液氣化分離前述水的剩余部分作為廢液B，將分離殘留液作為抗蝕劑剝離再生液取出；和
[0020]洗滌工序，使前述低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液在前述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)均勻地流下。
[0021]另外，本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生裝置的特征在于，其具有:
[0022]低沸點(diǎn)分離器，從抗蝕劑的剝離中使用的至少含有溶劑、含水的低沸點(diǎn)成分和抗蝕劑成分的使用完畢的抗蝕劑剝離液分離前述含水的低沸點(diǎn)成分的一部分作為廢液A氣化分離并取出；
[0023]高沸點(diǎn)分離器，將前述低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液氣化分離，將前述含水的低沸點(diǎn)成分的剩余部分和前述溶劑作為分離液取出，將含前述抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液作為分離殘留液；
[0024]殘?jiān)鼭饪s器，將前述含抗蝕劑的殘留液進(jìn)一步濃縮，分離前述溶劑和前述含水的低沸點(diǎn)成分并返回至前述高沸點(diǎn)分離器；
[0025]精制器，由前述高沸點(diǎn)分離器的分離液氣化分離前述含水的低沸點(diǎn)成分的剩余部分作為廢液B，將分離殘留液作為抗蝕劑剝離再生液取出；和
[0026]洗滌單元，使前述低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液在前述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)均勻地流下。
[0027]發(fā)明的效果
[0028]在本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生裝置中，具有使低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液在殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)均勻地流下的洗滌單元。由于低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液對(duì)于抗蝕劑成分而言可作為溶劑，因此即使在殘?jiān)鼭饪s器的內(nèi)壁抗蝕劑成分開(kāi)始附著，只要在完全附著前就能夠沖洗掉。因此，在殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)附著物不易生長(zhǎng)，能夠防止在停止時(shí)溫度降低之際的附著，能夠起到即使停止裝置也不需要特別的洗滌、清掃這樣的效果。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0029]圖1為示出本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生裝置的構(gòu)成的圖。
[0030]圖2為示出分離裝置的詳細(xì)的構(gòu)成的圖。
[0031]圖3為示出殘?jiān)鼭饪s器的詳細(xì)的構(gòu)成的圖。示出抗蝕劑成分附著的狀態(tài)。
[0032]圖4為示出在殘?jiān)鼭饪s器中洗滌單元?jiǎng)幼鞯臓顟B(tài)的圖。
[0033]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0034]I 再生裝置
[0035]10 分離裝置
[0036]IOi 入口
[0037]12 低沸點(diǎn)分離器
[0038]14 高沸點(diǎn)分離器
[0039]15 殘?jiān)鼭饪s器
[0040]16 精制器
[0041]17 回流罐
[0042]30 電動(dòng)機(jī)
[0043]32 液體導(dǎo)入口
[0044]34 加熱單元
[0045]35 內(nèi)壁面
[0046]36 刷子
[0047]37 受部底部
[0048]38 附著物
[0049]50 回收槽
[0050]52 泵
[0051]HL1、HL5、HL7配管保溫單元
[0052]LX、L0、L1、L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9 配管
[0053]L10、L11、L22 配管
[0054]V20、V21、V22 流路變更單元
[0055]VP 真空泵
【具體實(shí)施方式】
[0056]以下使用【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生方法及裝置。此外，下述的說(shuō)明只是對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明，并非限定于下述的說(shuō)明，在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)可進(jìn)行變更。
[0057]首先，圖1中示出了本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生裝置I的概要。本發(fā)明的再生裝置I包括:配管LX，從貯存有使用完畢的抗蝕劑剝離液的回收槽50移送使用完畢的抗蝕劑剝離液；分離裝置10，從使用完畢的抗蝕劑剝離液排出抗蝕劑濃縮液、抗蝕劑剝離再生液、主要為水的廢液A、以及廢液B。另外，在分離裝置10內(nèi)，具備分離廢液A (水分)的低沸點(diǎn)分離器12和生成抗蝕劑濃縮液的殘?jiān)鼭饪s器15。此外，分離裝置10的詳細(xì)情況參照?qǐng)D2后述。
[0058]在半導(dǎo)體等的制造所使用的光刻中，通過(guò)蝕刻形成電路、絕緣圖案。此時(shí)在未被蝕刻而留下的部分形成抗蝕圖案。接下來(lái)，在蝕刻結(jié)束后，去除該抗蝕劑。在該抗蝕劑去除工序中使用的是抗蝕劑剝離液?？刮g劑自身為感光性樹(shù)脂，用于去除抗蝕劑的基本上為有機(jī)溶劑。在此，以溶劑和水的混合液作為抗蝕劑剝離液繼續(xù)進(jìn)行說(shuō)明。另外，為了提高金屬布線的防腐蝕效果還可以使用添加劑。另外，在抗蝕劑剝離液中，根據(jù)構(gòu)成剝離液組合物的堿性的溶劑的濃度、PH以及利用光刻形成的金屬布線的材料，還可以在純水中適當(dāng)?shù)匚⒘刻砑犹砑觿?br> [0059]作為溶劑，可以含有多種溶劑。作為可適宜地利用的溶劑，有胺化合物以及二醇醚的混合物。另外，更具體而言，胺化合物有單乙醇胺(MEA)，二醇醚可適宜地使用二乙二醇單丁基醚(BDG)。
[0060]抗蝕劑剝離液在未圖示的抗蝕劑剝離工序中使用，與剝離的抗蝕劑一起作為使用完畢的抗蝕劑剝離液貯存于回收槽50。圖1從該回收槽50開(kāi)始記載。貯存于回收槽50的使用完畢的抗蝕劑剝離液通過(guò)泵52介由配管LX送往分離裝置10。
[0061]由分離裝置10分離排出下述物質(zhì):抗蝕劑、金屬布線的圖案中使用的鋁、SiO2這樣的物質(zhì)被濃縮而得到的抗蝕劑濃縮液；作為主溶劑成分的混合液的抗蝕劑剝離再生液；作為廢液A的以水分為主體的低沸點(diǎn)成分；以及作為廢液B的沸點(diǎn)比主溶劑成分低的改性了的溶劑以及水分。
[0062]此外，貫穿本說(shuō)明書(shū)，“改性了的溶劑”是指沸點(diǎn)位于比主溶劑成分低的一側(cè)的溶齊U，可以包括主溶劑成分的一部分。在氣化分離中，沸點(diǎn)為分離溫度左右的物質(zhì)也多少會(huì)含于分離側(cè)、殘?jiān)鼈?cè)。因此，如果想要提高主溶劑的回收率，則在主溶劑側(cè)混入水分，如果想要提高回收的主溶劑的純度，則水側(cè)混入溶劑成分。即，“改性了的溶劑”含有多少主溶劑根據(jù)裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)條件來(lái)確定。
[0063]<分離裝置的說(shuō)明>
[0064]在此，參照?qǐng)D2，對(duì)分離裝置10的詳細(xì)情況進(jìn)行說(shuō)明。分離裝置10由低沸點(diǎn)分離器12、高沸點(diǎn)分離器14、殘?jiān)鼭饪s器15和精制器16構(gòu)成。另外，分離裝置10的入口 IOi與低沸點(diǎn)分離器12之間通過(guò)配管LO連通。低沸點(diǎn)分離器12與高沸點(diǎn)分離器14通過(guò)配管LI連通。低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液通過(guò)配管LI移送至高沸點(diǎn)分離器14。另外來(lái)自低沸點(diǎn)分離器12的蒸汽狀分離液通過(guò)配管L2取出。該蒸汽狀分離液為廢液A。廢液A為抗蝕劑剝離液中的水的大部分。
[0065]高沸點(diǎn)分離器14通過(guò)配管L3和配管L4與殘?jiān)鼭饪s器15連通。作為高沸點(diǎn)分離器14的分離殘留液的含抗蝕劑的殘留液通過(guò)配管L3移送至殘?jiān)鼭饪s器15。另外來(lái)自殘?jiān)鼭饪s器15的蒸汽狀分離液通過(guò)配管L4再度送至高沸點(diǎn)分離器14。來(lái)自高沸點(diǎn)分離器14的蒸汽狀分離液通過(guò)配管L5移送至精制器16。
[0066]在移送低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液的配管LI的中途，配設(shè)有流路變更單元V20。流路變更單元V20為三通閥、自動(dòng)閥的組合等，構(gòu)成沒(méi)有特別限定。該流路變更單元V20的分支側(cè)與用于向殘?jiān)鼭饪s器15移送高沸點(diǎn)分離器14的分離殘留液(含抗蝕劑的殘留液)的配管L3連通。
[0067]因此，通過(guò)使流路變更單元V20與分支側(cè)連通，流路變更單元V21的分支側(cè)為開(kāi)狀態(tài)，能夠向殘?jiān)鼭饪s器15直接移送低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液。該流路變更單元V20通過(guò)未圖示的控制裝置控制開(kāi)閉。
[0068]另外，在作為殘?jiān)鼭饪s器15的排出配管的配管L8設(shè)置有流路變更單元V22。能夠從流路變更單元V22介由配管L22將排出液返送至回收槽50。
[0069]通過(guò)配管L6從精制器16取出分離殘留液。此時(shí)的分離殘留液為抗蝕劑剝離液中的多種主溶劑的混合液，其為抗蝕劑剝離再生液。另外，精制器16的蒸汽狀分離液通過(guò)配管L7移送至回流罐17。通過(guò)配管Lll從回流罐17取出廢液B。該廢液B為作為沸點(diǎn)比剝離液的主溶劑成分低的改性了的溶劑以及水分?；亓鞴?7中的剩余部分介由配管LlO再次回流至精制器16的頂部附近。另外配管L7配置有真空泵VP。
[0070]對(duì)于如上所述地構(gòu)成的分離裝置10，說(shuō)明其操作。向分離裝置10導(dǎo)入使用完畢的抗蝕劑剝離液。使用完畢的抗蝕劑剝離液中的抗蝕劑剝離液、剝離了的抗蝕劑成分、以及如鋁、SiO2這樣的形成圖案的膜構(gòu)成物質(zhì)(無(wú)機(jī)固形物)呈混合狀態(tài)。S卩，通過(guò)配管LX向分離裝置10導(dǎo)入水、溶劑、抗蝕劑成分和無(wú)機(jī)固形物的混合液。
[0071]在分離裝置10的初段設(shè)置有低沸點(diǎn)分離器12。低沸點(diǎn)分離器12設(shè)為不銹鋼制的筒狀形狀，周圍被玻璃棉等絕熱材料覆蓋。另外，來(lái)自附屬有未圖示的加熱器(再沸騰器)并預(yù)先用熱交換器加熱至40?60°C的回收槽50的使用完畢的剝離液通過(guò)前述加熱器加熱，導(dǎo)入至低沸點(diǎn)分離器12。低沸點(diǎn)分離器12的內(nèi)部適宜的是為常壓且塔底加熱至115?140°C、塔頂加熱至85?115°C，更優(yōu)選為塔底加熱至120?135°C、塔頂加熱至90?110°C。
[0072]在此主要將使用完畢的抗蝕劑剝離液中的水分氣化并粗分離。這是因?yàn)?，在下一段的高沸點(diǎn)分離器14內(nèi)，由于減壓使得構(gòu)成液成分的蒸氣壓會(huì)下降，因此沸點(diǎn)低的大量的水分會(huì)完全氣化，占據(jù)高沸點(diǎn)分離器14的大部分的容積，沸點(diǎn)更高的材料的分離效率降低。因此，作為來(lái)自低沸點(diǎn)分離器12的蒸汽狀分離液的廢液A基本為水分。被氣化分離的水分通過(guò)配管L2作為廢液A取出。
[0073]低沸點(diǎn)分離器12的底部的分離殘留液通過(guò)未圖示的加熱器(再沸騰器)加熱至約120°C至150°C，介由配管LI移送至高沸點(diǎn)分離器14。配管LI的周圍被玻璃棉等絕熱材料覆蓋。并且，配管LI中的分離殘留液保溫于大致115°C至140°C。將對(duì)配管LI進(jìn)行保溫的絕熱材料稱為配管保溫單元HLl。分離殘留液作為使用完畢的抗蝕劑剝離液時(shí)存在吸收空氣中的二氧化碳?xì)怏w的情況。如果該二氧化碳?xì)怏w與溶劑(例如單乙醇胺等)反應(yīng)，則會(huì)生成碳酸鹽。
[0074]該碳酸鹽在規(guī)定溫度以下時(shí)易于吸收二氧化碳、難以分離，因此在以后的高沸點(diǎn)分離工序中與溶劑一起分離。如果將混入了該碳酸鹽的溶劑作為抗蝕劑剝離液再次利用，則會(huì)有損剝離性的功能，產(chǎn)生剝離不良，成為殘?jiān)鼩埩舻然宀涣嫉脑?。在低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液的移送時(shí)將配管LI保溫于120°C至150°C，是為了防止溶劑與二氧化碳?xì)怏w的反應(yīng)，防止使用完畢的抗蝕劑剝離液中的抗蝕劑成分的析出。
[0075]高沸點(diǎn)分離器14與低沸點(diǎn)分離器12同樣，設(shè)為不銹鋼制的筒狀，并且為具有加熱器(再沸騰器)的方式。周圍通過(guò)電熱器、來(lái)自鍋爐的蒸氣或者被加熱的油等加熱，并被玻璃棉等絕熱材料覆蓋。高沸點(diǎn)分離器14中，減壓至1.9?2.1kPa (14?16Torr)左右，進(jìn)行溫度調(diào)整使得塔頂為90?110°C、塔底為95?110°C。在該環(huán)境下使溶劑氣化分離。毋庸置疑，殘留的水以及二氧化碳?xì)怏w也同時(shí)氣化分離。
[0076]這些蒸汽狀分離液通過(guò)配管L5移送至精制器16。配管L5與配管LI同樣，周圍被絕熱材料覆蓋，保溫于約90°C至110°C。對(duì)配管L5進(jìn)行保溫的是配管保溫單元HL5。配管保溫單元HL5的配設(shè)是為了防止溶劑與二氧化碳?xì)怏w反應(yīng)。另外，配管L5內(nèi)還通過(guò)真空泵VP進(jìn)行減壓，所述真空泵VP是配設(shè)于精制器16與回流罐17之間的配管L7上的體系內(nèi)的減壓?jiǎn)卧?。另外，基于真空泵VP的減壓影響至高沸點(diǎn)分離器14內(nèi)，內(nèi)部的蒸汽狀分離液被移送至精制器16。
[0077]在高沸點(diǎn)分離器14內(nèi)殘留的分離殘留液為高沸點(diǎn)溶劑成分、抗蝕劑成分以及無(wú)機(jī)固形物。該分離殘留液為含抗蝕劑的殘留液。含抗蝕劑的殘留液介由配管L3被移送至殘?jiān)鼭饪s器15。殘?jiān)鼭饪s器15將從配管L3送來(lái)的含抗蝕劑的殘留液中沸點(diǎn)在減壓下為125°C以下的物質(zhì)再次氣化分離，氣化分離的物質(zhì)通過(guò)配管L4移送至高沸點(diǎn)分離器14。此夕卜，在此被移送至高沸點(diǎn)分離器14的是水和溶劑。另外，殘?jiān)鼭饪s器15的蒸汽狀分離液為抗蝕劑濃縮液。
[0078]因此，從殘?jiān)鼭饪s器15介由配管L8而得到的抗蝕劑濃縮液大部分為抗蝕劑成分和無(wú)機(jī)固形物。另外，殘?jiān)鼭饪s器15上還配設(shè)有能夠從配管LI直接導(dǎo)入低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液的配管L9。來(lái)自配管L9的分離殘留液如后述那樣在洗滌殘?jiān)鼭饪s器15時(shí)使用。
[0079]來(lái)自高沸點(diǎn)分離器14的蒸汽狀分離液被移送至精制器16。精制器16也設(shè)為不銹鋼制的筒狀形狀，與低沸點(diǎn)分離器12以及高沸點(diǎn)分離器14同樣地采用具有加熱器(再沸騰器)的方式。周圍被玻璃棉等絕熱材料覆蓋。來(lái)自高沸點(diǎn)分離器14的蒸汽狀分離液被放出到精制器16的中部附近。精制器16內(nèi)被溫度調(diào)節(jié)之再沸騰器部為80?90°C、中段為65?90°C、塔頂為25?32°C。
[0080]進(jìn)一步通過(guò)真空泵VP減壓至約1.9?2.1kPa (14?16Torr)左右。在此,溶劑液化并作為殘留液介由配管L6回收。此外，雖未圖示，但配管L6與配管LX進(jìn)行熱交換，在更穩(wěn)定的溫度下回收分離殘留液。該分離殘留液為抗蝕劑剝離再生液。即，抗蝕劑剝離再生液是指多種溶劑的混合物。
[0081]另一方面，水分和二氧化碳?xì)怏w作為蒸汽狀分離液通過(guò)配管L7被移送至回流罐17。該配管L7也與配管L5、配管LI同樣，周圍被絕熱材料覆蓋，保溫于約20?25°C。配設(shè)于配管L7的配管保溫單元被稱為配管保溫單元HL7。通過(guò)配管Lll從回流罐17取出水和碳酸鹽作為廢液B，一部分再次返回至精制器16。
[0082]圖3中示出了將圖2的殘?jiān)鼭饪s器15周邊放大了的圖。殘?jiān)鼭饪s器15為薄膜流下式濃縮罐，在筒狀的主體的外側(cè)設(shè)置有用于加熱內(nèi)壁面35的加熱單元34。在主體的中心配置有用于支撐刷子36的軸心。軸心在主體上部與電動(dòng)機(jī)30的驅(qū)動(dòng)軸連結(jié)。刷子36的前端與主體內(nèi)部的內(nèi)壁面35接觸。即，刷子36—邊在主體內(nèi)部的內(nèi)壁面35的表面滑動(dòng)一邊旋轉(zhuǎn)。
[0083]在刷子36的上方且液體導(dǎo)入口 32的正下方設(shè)置有與刷子36同步旋轉(zhuǎn)的圓形板。用于使從液體導(dǎo)入口 32導(dǎo)入的液體在內(nèi)壁面35均勻地流下。在加熱了的內(nèi)壁面35流下的液體通過(guò)受部底部37收液,與作為排出管的配管L8連通。
[0084]來(lái)自高沸點(diǎn)分離器14的分離殘留液(含抗蝕劑的殘留液)通過(guò)配管L3被移送至殘?jiān)鼭饪s器15的液體導(dǎo)入口 32。此外，在圖3中，流路變更單元V20、V21、V22中，止水閥用黑三角表示。該分離殘留液大部分為抗蝕劑成分和無(wú)機(jī)固形物，但水分、溶劑這樣的應(yīng)通過(guò)高沸點(diǎn)分離器14氣化分離的物質(zhì)也還殘留了些許量。
[0085]從液體導(dǎo)入口 32導(dǎo)入的來(lái)自高沸點(diǎn)分離器14的分離殘留液(含抗蝕劑的殘留液)在上部的旋轉(zhuǎn)的圓形板上流下，在與殘?jiān)鼭饪s器15的加熱單元34密接的內(nèi)壁面35薄而均勻地流下。流下的分離殘留液(含抗蝕劑的殘留液)在被加熱的同時(shí)被刷子36均勻地薄膜化，氣化的物質(zhì)(水分、溶劑)大部分被氣化分離。氣化分離的分離物通過(guò)配管L4返回至高沸點(diǎn)分離器14。未氣化而剩余的分離殘留液作為抗蝕劑濃縮液向配管L8排出。
[0086]殘?jiān)鼭饪s器15的加熱單元34為用于加熱金屬制的內(nèi)面的夾套結(jié)構(gòu)。向夾套部導(dǎo)入蒸氣來(lái)加熱前述金屬制的內(nèi)面，按照能夠管理成氣化蒸汽溫度為95?125°C、更優(yōu)選為100?120°C的方式加熱。然而，在殘?jiān)鼭饪s器15的內(nèi)部還存在局部溫度下降的部分。例如，加熱單元34的上端、下端，尤其排出的配管L8的口附近的受部底部37。在這樣的地方，有抗蝕劑成分作為附著物38附著的情況。抗蝕劑成分為有機(jī)物且常溫下為固體，在溶劑中會(huì)溶解。然而，具有高沸點(diǎn)物質(zhì)的情況較多，在抗蝕劑剝離液的組成中最難氣化。
[0087]如果在殘?jiān)鼭饪s器15內(nèi)生成附著物38，則還存在殘?jiān)鼭饪s器15內(nèi)的有效面積減少，或者妨礙刷子36的旋轉(zhuǎn)的可能。
[0088]因此，在本發(fā)明的再生裝置I的分離裝置10中，設(shè)置有用于將低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液作為洗滌液直接導(dǎo)入至殘?jiān)鼭饪s器15內(nèi)的流路變更單元V20、V21以及配管L9。即，流路變更單元V20和V21及配管L9構(gòu)成洗滌單元。分離裝置10能夠介由配設(shè)于配管LI的中途的流路變更單元V20、與流路變更單元V20連通的配管L9、以及設(shè)置于配管L3的流路變更單元V21供給低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液。該低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液為從使用完畢的抗蝕劑剝離液分離一部分水后得到的物質(zhì)，為富含溶劑的溶液。
[0089]作為該洗滌液的富含溶劑的溶液的供給主要在停止分離裝置10自身時(shí)，更具體而言在停止殘?jiān)鼭饪s器15運(yùn)轉(zhuǎn)前進(jìn)行。這是由于，如果不在殘?jiān)鼭饪s器15的溫度降低前進(jìn)行洗滌，則會(huì)產(chǎn)生附著物38。參照?qǐng)D4，使洗滌單元?jiǎng)幼鲿r(shí)，流路變更單元V20和V21設(shè)置于分支側(cè)，將來(lái)自低沸點(diǎn)分離器12的富含溶劑的溶液從配管L9介由配管L3向液體導(dǎo)入口 32送液。
[0090]需要說(shuō)明的是，在圖4中，與圖3同樣在流路變更單元V20、V21、V22中，止水方向用黑三角表示。一邊使刷子36旋轉(zhuǎn)，一邊將洗滌液在殘?jiān)鼭饪s器15的內(nèi)壁面35流下，由此防止添加物等的附著化，將附著物38沖洗掉(圖3參照)。受部底部37的抗蝕劑成分也在低溫附著前被富含溶劑的溶液沖洗掉。
[0091]此時(shí)，加熱單元34的溫度至少降至洗滌液(富含溶劑的溶液的溶劑成分)中沸點(diǎn)最高的成分的溫度以下。溫度降低通過(guò)調(diào)整加熱單元34進(jìn)行。例如在加熱單元34通過(guò)蒸氣、加熱油這樣的加熱介質(zhì)的供給進(jìn)行的情況下，停止它們的流入。這是為了使洗滌液(富含溶劑的溶液中的溶劑成分)不會(huì)蒸發(fā)。
[0092]另外，作為殘?jiān)鼭饪s器15的排出管的配管L8上配設(shè)有流路變更單元V22。而且，在殘?jiān)鼭饪s器15的運(yùn)轉(zhuǎn)開(kāi)始時(shí)和運(yùn)轉(zhuǎn)停止時(shí)從液體導(dǎo)入口 32供給富含溶劑的溶液(洗滌液)之際，按與回收槽50連通的配管L22與殘?jiān)鼭饪s器15連通的方式選擇流路。因此，沖洗掉的附著物38介由配管L22回流至回收槽50。這是由于洗滌所使用的富含溶劑的溶液中含有大量能夠再生使用的溶劑成分。這樣地向殘?jiān)鼭饪s器15內(nèi)供給富含溶劑的溶液的工序也可以被稱為所謂殘?jiān)鼭饪s器15的洗滌工序。
[0093]高沸點(diǎn)分離器14僅持續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)規(guī)定時(shí)間，將分離殘留液(含抗蝕劑的殘留液)向殘?jiān)鼭饪s器15排出。一旦停止高沸點(diǎn)分離器14的運(yùn)轉(zhuǎn)、停止來(lái)自配管L3的分離殘留液(含抗蝕劑的殘留液)的排出，則使洗滌單元?jiǎng)幼鳎贿厡⑾礈煲?富含溶劑的溶液)供給至殘?jiān)鼭饪s器15，一邊進(jìn)一步持續(xù)規(guī)定時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)進(jìn)行洗滌工序。即洗滌工序至少在殘?jiān)鼭饪s器15的運(yùn)轉(zhuǎn)結(jié)束之前進(jìn)行。此外，這些規(guī)定時(shí)間的持續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)也可以為通過(guò)計(jì)時(shí)器進(jìn)行切換的方式的構(gòu)成。
[0094]另外，該洗滌工序也可以在殘?jiān)鼭饪s器15的運(yùn)轉(zhuǎn)開(kāi)始前進(jìn)行。這是由于，即使在運(yùn)轉(zhuǎn)結(jié)束前進(jìn)行洗滌工序，也存在有些許的附著物殘留、驅(qū)動(dòng)部分附著的情況。這是因?yàn)?，在這樣的情況下，如果快速啟動(dòng)殘?jiān)鼭饪s器15，則會(huì)有驅(qū)動(dòng)部分產(chǎn)生損傷的情況。洗滌工序中，由于為來(lái)自低沸點(diǎn)分離器12的大致120°C至150°C的分離殘留液，因此通過(guò)一邊使該分離殘留液在內(nèi)壁面35流下一邊進(jìn)行啟動(dòng)步驟，殘?jiān)鼭饪s器15能夠順利地啟動(dòng)。
[0095]由于如上所述本發(fā)明的再生裝置I通過(guò)低沸點(diǎn)分離器12的分離殘留液(富含溶劑的溶液)洗滌殘?jiān)鼭饪s器15的內(nèi)部，因此殘?jiān)鼭饪s器15內(nèi)不會(huì)產(chǎn)生附著物。因此，在停止后的再啟動(dòng)時(shí)，即使不進(jìn)行用于防止由附著物導(dǎo)致的運(yùn)轉(zhuǎn)不良的特別的洗滌、清掃也可以順利啟動(dòng)。
[0096]產(chǎn)業(yè)h的可利用件
[0097]本發(fā)明的抗蝕劑剝離液的再生裝置以及再生方法能夠在具有利用光刻形成布線圖案等工序的電子設(shè)備等的制造工廠中的、抗蝕劑剝離液的再生利用中適宜地利用。
【權(quán)利要求】
1.一種抗蝕劑剝離液的再生方法，其特征在于，其具有下述工序: 低沸點(diǎn)分離工序，從抗蝕劑的剝離中使用的至少含有溶劑、含水的低沸點(diǎn)成分和抗蝕劑成分的使用完畢的抗蝕劑剝離液分離所述含水的低沸點(diǎn)成分的一部分并作為廢液A氣化分離并取出； 高沸點(diǎn)分離工序，將所述低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液氣化分離，將所述含水的低沸點(diǎn)成分的剩余部分和所述溶劑作為分離液取出，將含所述抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液作為分離殘留液； 殘?jiān)鼭饪s工序，將所述含抗蝕劑的殘留液在殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)進(jìn)一步濃縮，分離所述溶劑和所述含水的低沸點(diǎn)成分并返回至所述高沸點(diǎn)分離工序； 精制工序，從所述高沸點(diǎn)分離工序的分離液氣化分離所述水的剩余部分作為廢液B，將分離殘留液作為抗蝕劑剝離再生液取出；和 洗滌工序，使所述低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液在所述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)均勻地流下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法，其特征在于，在所述洗滌工序中，將所述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)的溫度設(shè)為所述低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液的至少溶劑的沸點(diǎn)以下的溫度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法，其特征在于，所述低沸點(diǎn)分離工序的分離殘留液在從所述低沸點(diǎn)分離工序移送至所述高沸點(diǎn)分離工序時(shí)，在保溫狀態(tài)下被移送。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法，其特征在于，所述高沸點(diǎn)分離工序的分離液在從所述高沸點(diǎn)分`離工序移送至所述精制工序時(shí)，在減壓并且保溫狀態(tài)下被移送。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法，其特征在于，所述洗滌工序在所述殘?jiān)鼭饪s工序停止前進(jìn)行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的抗蝕劑剝離液的再生方法，其特征在于，所述洗滌工序在所述殘?jiān)鼭饪s工序啟動(dòng)前進(jìn)行。
7.一種抗蝕劑剝離液的再生裝置，其特征在于，其具有: 低沸點(diǎn)分離器，從抗蝕劑的剝離中使用的至少含有溶劑、含水的低沸點(diǎn)成分和抗蝕劑成分的使用完畢的抗蝕劑剝離液分離所述含水的低沸點(diǎn)成分的一部分并作為廢液A氣化分離并取出； 高沸點(diǎn)分離器，將所述低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液氣化分離，將所述含水的低沸點(diǎn)成分的剩余部分和所述溶劑作為分離液取出，將含所述抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液作為分離殘留液； 殘?jiān)鼭饪s器，將所述含抗蝕劑的殘留液進(jìn)一步濃縮，分離所述溶劑和所述含水的低沸點(diǎn)成分并返回至所述高沸點(diǎn)分離器；和 精制器，從所述高沸點(diǎn)分離器的分離液氣化分離所述含水的低沸點(diǎn)成分的剩余部分作為廢液B，將分離殘留液作為抗蝕劑剝離再生液取出； 洗滌單元，使所述低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液在所述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)均勻地流下。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置，其特征在于，其具有加熱單元，所述加熱單元使得所述洗滌單元?jiǎng)幼鲿r(shí)所述殘?jiān)鼭饪s器內(nèi)的溫度為所述低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液的至少溶劑的沸點(diǎn)以下的溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置，其特征在于，在將所述低沸點(diǎn)分離器的分離殘留液從所述低沸點(diǎn)分離器移送至所述高沸點(diǎn)分離器的配管上配設(shè)有對(duì)所述配管進(jìn)行保溫的配管保溫單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置，其特征在于，在將所述高沸點(diǎn)分離器的分離液從所述高沸點(diǎn)分離器移送至所述精制器的配管上配設(shè)有對(duì)所述配管內(nèi)進(jìn)行減壓的減壓?jiǎn)卧?、和?duì)所述配管進(jìn)行保溫的配管保溫單元。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置，其特征在于，所述洗滌單元在所述殘?jiān)鼭饪s器停止前動(dòng)作。
12.根據(jù)權(quán)利要求7~11中的任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置，其特征在于，所述洗滌 單元在所述殘?jiān)鼭饪s器啟動(dòng)前動(dòng)作。
【文檔編號(hào)】G03F7/42GK103721427SQ201310473524
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年10月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月11日
【發(fā)明者】大野順也, 川瀬龍洋, 井上恭, 井城大世, 小林繁, 増?zhí)锪x登 申請(qǐng)人:日本瑞環(huán)化工有限公司, 松下環(huán)境工程株式會(huì)社