專利名稱：曝光機(jī)掩膜版安裝裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光機(jī)結(jié)構(gòu)，特別是涉及一種安全性高可防止設(shè)備中掩膜架脫落的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置。
背景技術(shù)：
掩膜版(Mask)是曝光系統(tǒng)中重要部件，掩膜版在使用時需要通過一定的裝置夾持和支撐，如圖1所示，掩膜版9安裝在曝光設(shè)備的掩膜架8上，掩膜架8為一個方形框架結(jié)構(gòu)，掩膜版9位于掩膜架8的中心位置，掩膜版9邊緣區(qū)域的上部和下部通過吸附或支撐結(jié)構(gòu)來保證掩膜版9的穩(wěn)定。具體地，在掩膜架8上設(shè)置有負(fù)壓單元，吸附掩膜版9的邊緣區(qū)域上部；在掩膜版9的邊緣區(qū)域下部設(shè)置有支撐部支撐掩膜版9，在負(fù)壓單元中斷時，通過支撐部來支撐掩膜版9，以確保掩膜版9的可靠固定，支撐部與氣缸活塞連接，由氣缸活塞伸縮帶動支撐部活動。進(jìn)一步地，掩膜架8由多個氣囊支撐，如圖1中標(biāo)注的第一氣囊6和第二氣囊7，掩膜版9處于正常狀態(tài)時,通過與氣囊連通的壓縮干燥空氣(Compressed DryAir, CDA)供給單元向氣囊提供氣體，氣囊支撐在掩膜架8下方，維持掩膜版9的安全狀態(tài)。氣囊分為四組，分別設(shè)置在掩膜架8的四條邊框結(jié)構(gòu)的下方，CDA供給單元與每組氣囊之間的支供氣管路上分別設(shè)置有減壓閥和壓力表，如圖1中所示的第一支減壓閥4和第一支壓力表5，在靠近CDA供給單元供氣一端的主供氣管路上設(shè)置有通氣閥1、總減壓閥2和總壓力表3，通過減壓閥和壓力表來保證供氣的安全性，以及確保所提供的壓縮氣體壓力能夠滿足需求。CDA供給單元除了為氣囊提供氣體外，還為上述的氣缸提供動力源。但是，上述結(jié)構(gòu)存在以下缺陷:一旦CDA供給單元或負(fù)壓單元供給異常，就會出現(xiàn)氣囊泄氣、氣缸活塞回縮、或負(fù)壓單元吸附力消失，致使掩膜架下降、掩膜版掉落、損壞，損失十分嚴(yán)重。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是如何避免掩膜版安裝裝置中因CDA供給單元和負(fù)壓單元供給異常所帶來的掩膜版損壞問題。(二)技術(shù)方案為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，包括:用于固定掩膜版的掩膜架；設(shè)置在所述掩膜架下方的氣囊，所述氣囊用于支撐掩膜架；所述氣囊通過供氣管路連通氣體供給單元；所述供氣管路上設(shè)置有氣動開關(guān)閥，當(dāng)氣體供給單元供給中斷時，氣動開關(guān)閥控制供氣管路關(guān)閉，防止氣囊泄氣。其中，所述氣囊為多個且間隔設(shè)置于所述掩膜架下方。其中，所述供氣管路包括控制管路和多個支供氣管路，所述支供氣管路連通所述氣囊，所述控制管路連通所述氣體供給單元和支供氣管路；所述氣動開關(guān)閥設(shè)置在所述控制管路上，或者所述支供氣管路上，或者同時設(shè)置在所述控制管路和支供氣管路上。其中，所述控制管路上還設(shè)置有通氣閥、總減壓閥和總壓力表。其中，所述通氣閥、總減壓閥和總壓力表設(shè)置在控制管路上靠近所述氣體供給單元的一端；所述總氣動開關(guān)閥設(shè)置在控制管路上靠近氣囊的一端。其中，所述支供氣管路上還設(shè)置有減壓閥和壓力表。其中，所述減壓閥和壓力表設(shè)置在支供氣管路上靠近所述氣體供給單元的一端；所述支氣動開關(guān)閥設(shè)置在支供氣管路上靠近氣囊的一端。其中，所述曝光機(jī)掩膜版安裝裝置還包括支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述掩膜版下部邊緣，用于支撐掩膜版；所述支撐部通過連桿與氣缸的氣缸活塞相連，所述氣缸為自鎖氣缸，所述氣缸活塞的伸縮牽引所述支撐部靠近或遠(yuǎn)離所述掩膜版。其中，所述氣缸由所述氣體供給單元提供壓縮氣體。其中，所述掩膜架內(nèi)設(shè)置有真空吸盤，所述真空吸盤用于固定掩膜版。(三)有益效果上述技術(shù)方案所提供的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，通過在氣囊供氣管路上設(shè)置氣動開關(guān)閥，能夠在氣體供給單元供給中斷后，氣動開關(guān)閥自動切換到不通狀態(tài)，將氣囊中的氣體封堵，避免氣囊泄氣而造成掩膜架掉落，在氣體供給單元正常供給后，氣動開關(guān)閥控制供氣管路繼續(xù)給氣囊供應(yīng)氣體，避免了氣體供給單元中斷所帶來的掩膜架掉落危險，防止了掩膜版的損壞。進(jìn)一步地，在掩膜版下部邊緣設(shè)置由自鎖氣缸控制的支撐部，在負(fù)壓供給中斷時，自鎖氣缸會將氣缸活塞抱死，支撐部不會離開掩膜版，阻止掩膜版下落，自鎖氣缸由氣體供給單元驅(qū)動，沒有氣體的供應(yīng)，鎖定不會解除，在負(fù)壓和氣體供應(yīng)正常后，鎖定會自動解除。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)中曝光機(jī)掩膜版安裝裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明實施例曝光機(jī)掩膜版安裝裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖2中局部結(jié)構(gòu)的放大圖；圖4是本發(fā)明另一種實施例曝光機(jī)掩膜版安裝裝置中與圖3相對應(yīng)的放大圖；圖5是本發(fā)明又一種實施例曝光機(jī)掩膜版安裝裝置中與圖3相對應(yīng)的放大圖；圖6是本發(fā)明再一種實施例曝光機(jī)掩膜版安裝裝置中與圖3相對應(yīng)的放大圖；圖7是本發(fā)明實施例曝光機(jī)掩膜版安裝裝置中防掩膜版掉落結(jié)構(gòu)的示意圖。其中，1:通氣閥；2:總減壓閥；3:總壓力表；4:第一支減壓閥；5:第一支壓力表；6:第一氣囊；7:第二氣囊；8:掩膜架；9:掩膜版；10:總氣動開關(guān)閥；11:第一支氣動開關(guān)閥；12:支撐部；13:氣缸活塞；14:自鎖汽缸；15:連桿。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明的具體實施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。圖2示出了本實施例曝光機(jī)掩膜版安裝裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖3是圖2中的局部結(jié)構(gòu)放大圖，圖4是防掩膜版掉落結(jié)構(gòu)的示意圖。參照圖2和圖3，該曝光機(jī)掩膜版安裝裝置包括:固定掩膜版9的掩膜架8，設(shè)置在所述掩膜架8下方用于支撐掩膜架8的多個氣囊，與所述氣囊連通的氣體供給單元(圖中未示出)，該氣體供給單元可以是CDA供給單元；連通所述氣體供給單元與氣囊之間的供氣管路上設(shè)置有氣動開關(guān)閥，當(dāng)氣體供給單元供給中斷時，氣動開關(guān)閥控制供氣管路關(guān)閉，防止氣囊泄氣，以避免掩膜架8的掉落。通常情況下，所述氣囊具有多個，間隔布置在所述掩膜架8下方，如圖中標(biāo)示的第一氣囊6和第二氣囊7。連通氣囊與氣體供給單元的所述供氣管路包括控制管路和多個支供氣管路，所述支供氣管路連通所述氣囊，所述控制管路連通所述氣體供給單元和支供氣管路，由氣體供給單元提供的氣體先經(jīng)由控制管路，然后再經(jīng)由各支供氣管路供應(yīng)給每個氣囊。為了避免氣體供給單元供應(yīng)中斷時氣囊泄氣產(chǎn)生氣體回流，所述氣動開關(guān)閥可以單獨設(shè)置在所述控制管路上，或者單獨設(shè)置所述支供氣管路上，或者同時設(shè)置在所述控制管路和支供氣管路上。下面以氣動開關(guān)閥同時設(shè)置在所述控制管路和支供氣管路上為例，進(jìn)行其整體結(jié)構(gòu)性和原理性描述。此時，供氣管路上的氣動開關(guān)閥包括如圖中標(biāo)注的第一支氣動開關(guān)閥11和總氣動開關(guān)閥10，在所述氣體供給單元供應(yīng)正常的情況下，高壓的壓縮氣體能夠?qū)⒖倸鈩娱_關(guān)閥10打通，使得總氣動開關(guān)閥10處于“開”的狀態(tài)，高壓的壓縮空氣進(jìn)一步通向各支氣動開關(guān)閥，將各支氣動開關(guān)閥打通，使得各支氣動開關(guān)閥處于“開”的狀態(tài)，在此狀態(tài)下，由所述氣體供給單元通向各個氣囊的供氣管路上的開關(guān)閥都打開，供氣順暢。所述氣體供給單元供應(yīng)中斷的情況下，總氣動開關(guān)閥10和各支氣動開關(guān)閥均沒有高壓壓縮空氣來打通，處于關(guān)閉的狀態(tài)，氣囊內(nèi)的氣體也被各支氣動開關(guān)閥封止，不會出現(xiàn)泄氣的情況，能夠保證氣囊正常支撐在掩膜架8下方，掩膜架8不會出現(xiàn)掉落的現(xiàn)象。所述控制管路上，靠近所述氣體供給單元的一端設(shè)置有通氣閥1、總減壓閥2和總壓力表3，通氣閥I位于總減壓閥2與所述氣體供給單元之間，總氣動開關(guān)閥10設(shè)置在控制管路上靠近氣囊的一端，通過通氣閥1、總減壓閥2和總壓力表3，實現(xiàn)對所述氣體供給單元的開關(guān)控制和壓力實時監(jiān)控，保證通向總氣動開關(guān)閥10和各個氣囊的壓縮氣體能夠滿足所需要的壓力指標(biāo)。每個支供氣管路上還設(shè)置有減壓閥和壓力表，如圖中所示的第一支減壓閥4和第一支壓力表5，所述減壓閥和壓力表設(shè)置在支供氣管路上靠近所述氣體供給單元的一端；所述支氣動開關(guān)閥設(shè)置在支供氣管路上靠近氣囊的一端，減壓閥和壓力表實時監(jiān)測由所述氣體供給單元供給氣囊的氣體的壓力指數(shù)。上述總氣動開關(guān)閥10和各支氣動開關(guān)閥的設(shè)置，能夠避免氣體供給單元供給中斷的情況下致使掩膜架8掉落的危險，并且雙重氣動開關(guān)閥的設(shè)置能夠更有效地保證氣囊內(nèi)的氣體不會泄氣回流，適用于重力較大的掩膜架結(jié)構(gòu)，效果更顯著。同時，也可以根據(jù)實際情況，在掩膜架結(jié)構(gòu)重力不是很大的情況下，采用上述的將氣動開關(guān)閥單獨設(shè)置在所述控制管路上，或者單獨設(shè)置所述支供氣管路上，也能夠保證氣體供給單元供應(yīng)中斷時，氣動開關(guān)閥將供氣管路關(guān)閉，放置氣囊泄氣。氣動開關(guān)閥單獨設(shè)置在所述控制管路上的結(jié)構(gòu)示意圖如圖4所示，其設(shè)置位置與上述總氣動開關(guān)閥10的設(shè)置位置相同，此時每個支供氣管路上僅設(shè)置減壓閥和壓力表即可；氣動開關(guān)閥單獨設(shè)置在所述支供氣管路上的結(jié)構(gòu)示意圖如圖5或圖6所示，其設(shè)置位置與上述支氣動開關(guān)閥的設(shè)置位置相同，此時控制管路上僅設(shè)置通氣閥1、總減壓閥2和總壓力表3即可。進(jìn)一步地，如圖7所示，本實施例的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置還包括設(shè)置在所述掩膜版9下部邊緣、用于支撐所述掩膜版9的支撐部12，所述支撐部12通過連桿15與氣缸的氣缸活塞13相連，所述氣缸為自鎖氣缸14，其由所述氣體供給單元提供壓縮氣體，如圖中B和C所示，所述氣缸活塞13的伸縮牽引所述支撐部12靠近或遠(yuǎn)離所述掩膜版9。掩膜版9在通常情況下通過上部負(fù)壓單元的真空吸盤的吸附進(jìn)行固定，負(fù)壓單元通過圖6中所示的A處進(jìn)行真空吸附，實現(xiàn)對掩膜版9的吸附作用；在負(fù)壓單元中斷的情況下，掩膜版9在其下部支撐部12的支撐作用下進(jìn)行固定，下部支撐部12在自鎖氣缸14的氣缸活塞13作用下，實現(xiàn)對掩膜版9的支撐，自鎖汽缸14由所述氣體供給單元提供壓縮氣體，一旦所述氣體供給單元供給中斷，能夠通過自鎖汽缸14的自鎖作用，防止氣缸活塞13回縮，繼續(xù)保持支撐部12支撐在掩膜版9下部，以避免負(fù)壓單元中斷和氣體供給單元同時中斷所引起的掩膜版9掉落。為了實現(xiàn)氣體供給單元中斷之后能夠再繼續(xù)進(jìn)行氣體供給，在保證上述氣動開關(guān)閥具有很好的氣密性的同時，還要能夠?qū)崿F(xiàn)氣體供給繼續(xù)時能夠?qū)鈩娱_關(guān)閥打開；在保證自鎖氣缸具有足夠鎖緊力的同時，還要能夠?qū)崿F(xiàn)氣體供給繼續(xù)時氣缸自鎖解除。由以上實施例可以看出，本發(fā)明通過在氣囊供氣管路上設(shè)置氣動開關(guān)閥，能夠在氣體供給單元供給中斷后，氣動開關(guān)閥自動切換到不通狀態(tài)，將氣囊中的氣體封堵，避免氣囊泄氣而造成掩膜架掉落，在氣體供給單元正常供給后，氣動開關(guān)閥控制供氣管路繼續(xù)給氣囊供應(yīng)氣體，避免了氣體供給單元中斷所帶來的掩膜架掉落危險，防止了掩膜版的損壞。進(jìn)一步地，在掩膜版下部邊緣設(shè)置由自鎖氣缸控制的支撐部，在負(fù)壓供給中斷時，自鎖氣缸會將氣缸活塞抱死，支撐部不會離開掩膜版，阻止掩膜版下落，自鎖氣缸由氣體供給單元驅(qū)動，沒有氣體的供應(yīng)，鎖定不會解除，在負(fù)壓和氣體供應(yīng)正常后，鎖定會自動解除。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，包括: 用于固定掩膜版的掩膜架； 設(shè)置在所述掩膜架下方的氣囊，所述氣囊用于支撐掩膜架； 所述氣囊通過供氣管路連通氣體供給單元； 其特征在于， 所述供氣管路上設(shè)置有氣動開關(guān)閥，當(dāng)氣體供給單元供給中斷時，氣動開關(guān)閥控制供氣管路關(guān)閉，防止氣囊泄氣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述氣囊為多個且間隔設(shè)置于所述掩膜架下方。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述供氣管路包括控制管路和多個支供氣管路，所述支供氣管路連通所述氣囊，所述控制管路連通所述氣體供給單元和支供氣管路； 所述氣動開關(guān)閥設(shè)置在所述控制管路上，或者所述支供氣管路上，或者同時設(shè)置在所述控制管路和支供氣管路上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述控制管路上還設(shè)置有通氣閥、總減壓閥和總壓力表。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述通氣閥、總減壓閥和總壓力表設(shè)置在控制管路上靠近所述氣體供給單元的一端；所述總氣動開關(guān)閥設(shè)置在控制管路上靠近氣囊的一端。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述支供氣管路上還設(shè)置有減壓閥和壓力表。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述減壓閥和壓力表設(shè)置在支供氣管路上靠近所述氣體供給單元的一端；所述支氣動開關(guān)閥設(shè)置在支供氣管路上靠近氣囊的一端。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述曝光機(jī)掩膜版安裝裝置還包括支撐部， 所述支撐部設(shè)置在所述掩膜版下部邊緣，用于支撐掩膜版； 所述支撐部通過連桿與氣缸的氣缸活塞相連，所述氣缸為自鎖氣缸，所述氣缸活塞的伸縮牽引所述支撐部靠近或遠(yuǎn)離所述掩膜版。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述氣缸由所述氣體供給單元提供壓縮氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項所述的曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，其特征在于， 所述掩膜架內(nèi)設(shè)置有真空吸盤，所述真空吸盤用于固定掩膜版。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種曝光機(jī)掩膜版安裝裝置，包括用于固定掩膜版的掩膜架；設(shè)置在所述掩膜架下方的氣囊，所述氣囊用于支撐掩膜架；所述氣囊通過供氣管路連通氣體供給單元；所述供氣管路上設(shè)置有氣動開關(guān)閥，當(dāng)氣體供給單元供給中斷時，氣動開關(guān)閥控制供氣管路關(guān)閉，防止氣囊泄氣。本發(fā)明通過在氣囊供氣管路上設(shè)置氣動開關(guān)閥，能夠在氣體供給單元供給中斷后，氣動開關(guān)閥自動切換到不通狀態(tài)，將氣囊中的氣體封堵，避免氣囊泄氣而造成掩膜架掉落，在氣體供給單元正常供給后，氣動開關(guān)閥控制供氣管路繼續(xù)給氣囊供應(yīng)氣體，避免了氣體供給單元中斷所帶來的掩膜架掉落危險。
文檔編號G03F7/20GK103092007SQ20131004801
公開日2013年5月8日 申請日期2013年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月6日
發(fā)明者陳潤, 肖金濤, 周振遠(yuǎn) 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司