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光排列材料的制作方法

文檔序號:2698785閱讀:172來源:國知局
光排列材料的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明關于聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,當受與偏振活性光的偏振方向垂直的偏振光照射定向照射,用于液晶的光排列、特別用于液晶的平面定向,且其衍生自至少一個單體(I),關于其組合物以及其在用于光學及電光學裝置,例如液晶裝置(LCDs),特別用于液晶平面定向的用途。
【專利說明】光排列材料
[0001]本發(fā)明關于聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,當受與偏振活性光的偏振方向垂直的偏振光照射定向照射,用于液晶的光排列、特別用于液晶的平面定向,且其衍生自至少一個單體(1),關于其組合物以及其在用于光學及電光學裝置,例如液晶裝置(LCDs),特別用于液晶平面定向的用途。
[0002]有著開發(fā)用于光學及電光應用的新穎光排列材料不斷增長的需求。
[0003]在本發(fā)明中,發(fā)現(xiàn)新排列材料得到經(jīng)濟制造方法以及低耗能LCDs而不減損所需要技術性質(zhì)。
[0004]因此,本發(fā)明在第一方面關于聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,當受與偏振活性光的偏振方向垂直的偏振光照射定向照射,用于液晶的光排列、特別用于液晶的平面定向,且其衍生自或包括至少一個單體(1):
[0005]
【權利要求】
1.一種聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,當受與偏振光化光的偏振方向垂直的偏振光照射定向照射,用于液晶的光排列、特別用于液晶的平面定向,且其衍生自至少一個單體(1):
2.一種聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,當受與偏振光化光的偏振方向垂直的偏振光照射定向照射,用于液晶的光排列、特別用于液晶的平面定向,且其衍生自至少一個單體(I,):
3.如前述權利要求中任一項的聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,其為衍生自化合物(I)、或(I’),指的是式(Ib)化合物、較佳為式(lb’ )化合物、式(Ic)化合物、較佳為式(Ic’ )化合物、式(Id)化合物、較佳為式(Id’ )化合物,
4.如前述權利要求中任一項的聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,其中單體(1)或(I’ )為式
5.如前述權利要求1中任一項的聚合物、均-或共聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,其衍生自或包含式(VI)、(via)、(VIb)、(VIc)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)、(XI)、(XIa)以及(XIb)或(VI,)、(VII)、(VIII,)、(IX,)、(X,)、(XI,)、(XIa,)、(Xlb,)、(XIc,)的二胺、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、硅氧烷、硅烷、順丁烯二酰亞胺化合物

6.一種聚合物、均-或共聚合物或寡聚物,其包括前述權利要求中任一項所述單體(I)、較佳為二胺(I)、作為一個基本建構單元。
7.如前述權利要求中任一項的共聚合物,其包括權利要求1或項所述單體(1)、較佳為二胺(I),以及進一步的二胺(I),其中較佳為B是經(jīng)至少一個、二個、三個、四個、五個、六個或七個氟原子取代。
8.一種組合物,特別為摻合物,其包括聚合物、均-或共聚合物、或寡聚物,其包括權利要求I或2項所述至少一個第一單體(1)、較佳為二胺(I),作為基本建構單元。
9.一種定位層,其包括前述權利要求中任一項所述至少一種聚合物、均-或共聚合物或寡聚物或權利要求8的組合物。
10.一種用于制備聚合物層或寡聚物層的方法,其中一或多個前述權利要求中任一項所述聚合物、均-或共聚合物或寡聚物或權利要求8的組合物經(jīng)對準光處理。
11.一種聚合物、均-或共聚合物或寡聚物層,特別為定位層,其可得自于權利要求10的方法。
12.如權利要求11的聚合物、均-或共聚合物或寡聚物層,用于液晶的平面排列。
13.—種如權利要求10的定位層、或如權利要求12或13的聚合物、均-或共聚合物或寡聚物層在以下排列的用途: -a)液晶組合物,其包括可聚合單體、聚合物或寡聚物,其為該可聚合單體的聚合形式,或/及 -b)液晶,其被夾于一對聚合物薄膜的間,該薄膜是由bl)或/及b2)所制備:bl)至少一個在該液晶材料中的可聚合單體, b2)至少單一可聚合液晶、LCP ; 且該聚合物薄膜是形成于該聚合物、均-或共聚合物或寡聚物層之上。
14.一種制備液晶顯示器的方法,其包括施用至少一單一 LCP至如權利要求12或13所述聚合物、均-或共聚合物或寡聚物層之上,較佳如權利要求10所述定位薄膜之上,以及聚合該LCP。`
15.—種光學或電-光學未結構化或結構化組件、較佳為液晶顯不器晶胞、多層和混合層組件,其包括至少一個聚合物層、均-或共聚合物或寡聚物層、特別為如權利要求9、11或12所述定位層或如權利要求10所制造者。
【文檔編號】G02F1/1337GK103889944SQ201280048959
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2012年9月28日 優(yōu)先權日:2011年10月3日
【發(fā)明者】薩布麗娜·凱伯特, 珍妮-弗朗西斯·艾格爾特, 瑪漢姆德·伊安-愛爾哈, 法爾沙·卡奴卡登, 弗雷德里克·林克, 莎堤須·帕里卡, 唐 謙, 伊芙·溫斯卓 申請人:羅利克股份公司
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