測(cè)量系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種用于投射曝光設(shè)備（1）的物鏡（27），包含布置在物鏡框架（28）上的度量臺(tái)（30）。
【專利說明】測(cè)量系統(tǒng)
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]通過參考，將德國專利申請(qǐng)DE102011077223.5和US61/494，678的內(nèi)容結(jié)合于此?！炯夹g(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及一種表征投射曝光設(shè)備的至少一個(gè)部件的測(cè)量系統(tǒng)。本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種用于投射曝光設(shè)備的物鏡、一種包含該類型物鏡的投射光學(xué)單元以及一種包含該類型投射光學(xué)單元的投射曝光設(shè)備。此外，本發(fā)明涉及一種表征投射曝光設(shè)備的至少一個(gè)部件的方法、一種用于制造微結(jié)構(gòu)部件的方法以及一種根據(jù)該方法制造的部件。
【背景技術(shù)】
[0004]例如，從US2011/0013171A1可知包含測(cè)量裝置的投射曝光設(shè)備。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明基于改進(jìn)用于表征投射曝光設(shè)備的至少一個(gè)部件的測(cè)量系統(tǒng)的目的。
[0006]該目的利用權(quán)利要求1的特征來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的核心在于以可移動(dòng)的方式將定位至少一個(gè)測(cè)量裝置的定位裝置連接至投射曝光設(shè)備的物鏡。特別地，定位裝置是所謂的“度量臺(tái)”。該定位裝置尤其用于布置多個(gè)測(cè)量裝置，其包含例如用于將光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)的光電檢測(cè)器。測(cè)量裝置可包含空間解析的，尤其是二維空間解析的輻射檢測(cè)器，例如一個(gè)或多個(gè)CCD相機(jī)。測(cè)量裝置尤其可包含用于測(cè)量側(cè)向像偏移的裝置和/或用于光瞳透射測(cè)量的裝置和/或用于波前測(cè)量的裝置和/或用于光譜測(cè)量的裝置。
[0007]定位裝置在物鏡處的布置確保至少一個(gè)測(cè)量裝置相對(duì)于物鏡的特別穩(wěn)定且因此可再現(xiàn)的布置。此外，該類型布置使得至少一個(gè)測(cè)量裝置的定位，尤其是移動(dòng)能夠獨(dú)立于投射曝光設(shè)備的其他組件的位移，尤其是獨(dú)立于晶片安裝件的位移。根據(jù)本發(fā)明的布置的另一優(yōu)點(diǎn)在于定位裝置在物鏡處的布置使得能夠更好利用晶片平面中(即，投射光學(xué)單元的像平面中)可用的空間。
[0008]定位裝置具有至少一個(gè)位移自由度。特別地，定位裝置可在物鏡光軸的橫向方向上移動(dòng)。利用定位裝置，所述至少一個(gè)測(cè)量裝置尤其可在物鏡光路中的至少一個(gè)測(cè)量位置和停放位置之間移動(dòng)，其中，在該停放位置，至少一個(gè)測(cè)量裝置優(yōu)選地完全布置在物鏡光路之外。在該情況下，所述至少一個(gè)測(cè)量位置和停放位置可彼此分開多于1mm，尤其是多于Icm,尤其是多于5cm。
[0009]作為在光軸橫向方向上的可移動(dòng)性的替代或附加，所述至少一個(gè)測(cè)量位置可利用定位裝置在平行于物鏡光軸的方向上移動(dòng)。在一個(gè)特別有利的實(shí)施例中，定位裝置還可具有旋轉(zhuǎn)自由度。特別地，這使得所述至少一個(gè)測(cè)量位置能夠關(guān)于平行于物鏡光軸的軸線旋轉(zhuǎn)。
[0010]優(yōu)選地，測(cè)量系統(tǒng)包含用于產(chǎn)生測(cè)量輻射的至少一個(gè)輻射源。輻射源可為EUV輻射源。特別地，可包含用于將物場(chǎng)中的結(jié)構(gòu)成像至布置在像場(chǎng)中的晶片的同一輻射源。作為其替代，測(cè)量系統(tǒng)還可包含用于產(chǎn)生測(cè)量輻射的單獨(dú)輻射源，測(cè)量輻射的波長范圍尤其不與用于將布置在物場(chǎng)中的結(jié)構(gòu)成像在布置在像場(chǎng)中的晶片上的波長范圍重疊。特別地，由測(cè)量系統(tǒng)的輻射源產(chǎn)生的輻射的波長處于用于圖案化晶片的光敏涂層對(duì)其不敏感的波長范圍內(nèi)。這是特別有利的，因?yàn)樵谠撉闆r下的晶片曝光對(duì)測(cè)量輻射的散射不敏感。特別地，測(cè)量系統(tǒng)的輻射源可為一個(gè)或多個(gè)發(fā)光二極管(LED)。發(fā)光二極管可產(chǎn)生具有相同或不同波長的光?？衫贸上窆鈱W(xué)單元來耦合來自輻射源的輻射。在該情況下，成像光學(xué)單元可包含一個(gè)或多個(gè)光波導(dǎo)。
[0011]優(yōu)選地，所述至少一個(gè)測(cè)量裝置布置在光瞳附近或場(chǎng)附近。特別地，所述至少一個(gè)測(cè)量裝置可布置在物鏡的光瞳平面區(qū)域中或中間像平面區(qū)域中。該類型布置是有利的，這取決于提供的測(cè)量類型。在一個(gè)特別有利的實(shí)施例中，定位裝置確保測(cè)量裝置在平行于物鏡光軸方向上的位移。
[0012]測(cè)量系統(tǒng)可進(jìn)一步包含特定的測(cè)量掩模母版。特定的測(cè)量掩模母版可布置在掩模母版保持器上。該掩模母版保持器可以與提供用于安裝掩模母版的掩模母版保持器相同，掩模母版具有待成像到晶片上的結(jié)構(gòu)。作為其替代，還可提供單獨(dú)的測(cè)量掩模母版。特別地，測(cè)量掩模母版保持器和掩模母版保持器可彼此獨(dú)立地移動(dòng)。因此，測(cè)量系統(tǒng)的靈活性進(jìn)一步增加。保持器還稱為“臺(tái)”。
[0013]本發(fā)明的另一目的是改進(jìn)用于投射曝光設(shè)備的物鏡。
[0014]該目的利用權(quán)利要求2的特征來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的核心在于將度量臺(tái)安裝在物鏡的框架上。度量臺(tái)尤其直接連接至物鏡框架。度量臺(tái)具有至少一個(gè)位移自由度，用于移動(dòng)布置在度量臺(tái)上的至少一個(gè)測(cè)量裝置。位移自由度可為線性自由度和/或旋轉(zhuǎn)自由度。特別地，度量臺(tái)可在物鏡光軸的橫向方向上，尤其在垂直于物鏡光軸的方向上移動(dòng)，和/或可在平行于物鏡光軸的方向上移動(dòng)，和/或可繞平行于物鏡光軸的軸線旋轉(zhuǎn)。該優(yōu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于測(cè)量系統(tǒng)的上述優(yōu)點(diǎn)。
[0015]優(yōu)選地，多個(gè)測(cè)量裝置可布置在度量臺(tái)上。
[0016]定位裝置(尤其是度量臺(tái))和/或測(cè)量裝置可被認(rèn)為是物鏡的元件。它們還可被認(rèn)為是連接至物鏡的框架而局部位于物鏡之外的單獨(dú)元件。
[0017]定位裝置優(yōu)選構(gòu)造為使得所述至少一個(gè)測(cè)量裝置局部位于布置有物鏡的光學(xué)部件的范圍之外。測(cè)量裝置可優(yōu)選布置在物鏡光路的方向上物鏡的最后一個(gè)光學(xué)部件之后。
[0018]優(yōu)選地，所述至少一個(gè)測(cè)量裝置可在至少一個(gè)測(cè)量位置和停放位置之間移動(dòng)，在至少一個(gè)測(cè)量位置，該至少一個(gè)測(cè)量裝置布置在物鏡的光路中，在停放位置，該至少一個(gè)測(cè)量裝置完全布置在物鏡的光路之外。
[0019]優(yōu)選地，提供用于校準(zhǔn)物鏡的致動(dòng)器。致動(dòng)器可尤其以數(shù)據(jù)傳輸方式連接至布置在度量臺(tái)上的所述至少一個(gè)測(cè)量裝置。在該情況下，度量臺(tái)形成物鏡操縱器的組件，尤其用于校準(zhǔn)物鏡。換句話說，物鏡可具有布置在度量臺(tái)上的至少一個(gè)測(cè)量裝置形式的校準(zhǔn)裝置和致動(dòng)器。
[0020]優(yōu)選地，定位裝置不與磁場(chǎng)相互作用。特別地，定位裝置實(shí)施為使得其驅(qū)動(dòng)器不對(duì)外部磁場(chǎng)變化有反應(yīng)。該類型變化例如可通過晶片安裝件的驅(qū)動(dòng)器來產(chǎn)生。相反地，定位裝置，尤其是定位裝置的驅(qū)動(dòng)器實(shí)施為使得其不產(chǎn)生磁場(chǎng)，尤其不影響外部磁場(chǎng)。特別地，這可通過以下事實(shí)來實(shí)現(xiàn):定位裝置具有作為驅(qū)動(dòng)器的壓電致動(dòng)器或壓電驅(qū)動(dòng)器。利用該類型的壓電驅(qū)動(dòng)器可產(chǎn)生非常高的驅(qū)動(dòng)力。附加地，它們可被非常精確地驅(qū)動(dòng)。最后，該類型的驅(qū)動(dòng)器適用于真空。從而，包含真空兼容的驅(qū)動(dòng)器。這是特別有利的，因?yàn)楦鶕?jù)權(quán)利要求7的具有度量臺(tái)的物鏡布置在真空室中。在真空室中的該類型布置是物鏡可用于EUV投射曝光設(shè)備中的事實(shí)的前提。
[0021]優(yōu)選地,物鏡具有至少一個(gè)可移動(dòng)的平衡件(counterweight),用于補(bǔ)償作用在定位裝置和/或物鏡上的可變力。因此，平衡件還稱為補(bǔ)償配重件。平衡件使得可以至少部分地補(bǔ)償物鏡框架上的力，由于定位裝置的位移和/或測(cè)量裝置或多個(gè)測(cè)量裝置在定位裝置上的布置的變化，該物鏡框架上的力是可變的。在定位裝置具有旋轉(zhuǎn)自由度的情況下，這是特別有利的。補(bǔ)償配重件增加了度量臺(tái)的穩(wěn)定性。此外，因此可以減少，尤其是防止物鏡框架由于度量臺(tái)的位移而變形的風(fēng)險(xiǎn)以及度量臺(tái)對(duì)物鏡的光學(xué)質(zhì)量的損害。
[0022]本發(fā)明的另一目的是改進(jìn)用于將物場(chǎng)投射在像場(chǎng)中的投射光學(xué)單元和投射曝光設(shè)備。
[0023]這些目的利用權(quán)利要求9和10的特征來實(shí)現(xiàn)。其優(yōu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于關(guān)于物鏡已經(jīng)描述過的那些優(yōu)點(diǎn)。
[0024]優(yōu)選地，測(cè)量裝置關(guān)于物鏡的光路布置在物鏡的最后一個(gè)光學(xué)部件和像場(chǎng)(尤其是晶片臺(tái))之間。如果測(cè)量裝置被認(rèn)為是獨(dú)立于物鏡的部件，則測(cè)量裝置優(yōu)選地布置在物鏡和像場(chǎng)(尤其是晶片臺(tái))之間。
[0025]優(yōu)選地，投射曝光設(shè)備包含可移動(dòng)的晶片保持器，其中具有一個(gè)或多個(gè)測(cè)量裝置的度量臺(tái)可獨(dú)立于晶片保持器移動(dòng)。因此，增加了投射曝光設(shè)備的靈活性?？瑟?dú)立于晶片保持器移動(dòng)的度量臺(tái)尤其確保并行地測(cè)量投射曝光設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)以及利用投射曝光設(shè)備曝光晶片。特別地，因此增加了投射曝光設(shè)備的吞吐量。
[0026]本發(fā)明的另一目的是改進(jìn)用于表征投射曝光設(shè)備的至少一個(gè)部件的方法。
[0027]該目的利用權(quán)利要求12的特征來實(shí)現(xiàn)。其優(yōu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于上述優(yōu)點(diǎn)。
[0028]優(yōu)選地，在曝光晶片的同時(shí)測(cè)量用于表征投射曝光設(shè)備的參數(shù)。特別地，可在最大可能像場(chǎng)的邊緣區(qū)域中執(zhí)行對(duì)該參數(shù)的測(cè)量。特別地，位于用于晶片的曝光的場(chǎng)之外的區(qū)域可用于表征投射曝光設(shè)備。
[0029]本發(fā)明的其他目的在于提出一種用于制造使用投射曝光設(shè)備的部件的方法，以及一種通過該方法制造的部件。根據(jù)本發(fā)明，這些目的利用根據(jù)權(quán)利要求14的方法和根據(jù)權(quán)利要求15的部件來實(shí)現(xiàn)。
[0030]這些主題的優(yōu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于上面已經(jīng)論述的優(yōu)點(diǎn)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]參考附圖，從多個(gè)示例性實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他細(xì)節(jié)和優(yōu)點(diǎn)變得顯而易見，其中:
[0032]圖1示出穿過用于EUV投射光刻的投射曝光設(shè)備的子午截面的示意圖；
[0033]圖2示出根據(jù)圖1的投射曝光設(shè)備的一部分的示意圖，用于說明具有根據(jù)第一示例性實(shí)施例的測(cè)量裝置的物鏡的單獨(dú)細(xì)節(jié)；
[0034]圖3至圖11示出根據(jù)圖2的另外示例性實(shí)施例的示意圖；
[0035]圖12至圖13示出投射光學(xué)單元中的光路的示意圖，用于說明根據(jù)本發(fā)明的表征投射曝光設(shè)備的至少一個(gè)部件的方法；
[0036]圖14示出一曲線圖，用于以示例方式說明雜散光強(qiáng)度對(duì)散射范圍的依賴性；
[0037]圖15示出掩模母版保持器的示意圖；
[0038]圖15a、圖15b示出兩個(gè)示例性測(cè)量掩模母版的示圖；
[0039]圖16示出具有測(cè)量裝置的度量臺(tái)的示意圖；
[0040]圖16a示出測(cè)量光柵的示例性實(shí)施例的示圖；
[0041]圖16b示出測(cè)量光闌的示例性實(shí)施例的示圖；
[0042]圖17示出測(cè)量裝置的細(xì)節(jié)的示例性示圖。
【具體實(shí)施方式】
[0043]首先，參考圖1，舉例描述用于微光刻的投射曝光設(shè)備I的部件。在該情況下，圖1示出的投射曝光設(shè)備I應(yīng)被理解為完全作為示例。單獨(dú)部件，尤其是單獨(dú)部件的數(shù)量和/或布置還可與圖1示出的實(shí)施例偏離。投射曝光設(shè)備I包含具有輻射源3和照明光學(xué)單元4的照明系統(tǒng)2，用于曝光物平面6中的物場(chǎng)5。在該情況下，布置在物場(chǎng)5中的掩模母版7被曝光，所述掩模母版由掩模母版保持器8 (其僅作為部分被示出)保持。
[0044]投射曝光設(shè)備I還包含用于將物場(chǎng)5成像至像平面11中的像場(chǎng)10中的投射光學(xué)單元9。掩模母版7上的結(jié)構(gòu)被成像至晶片12的光敏層上，該晶片布置在像平面11的像場(chǎng)10區(qū)域中，所述晶片由晶片保持器13 (其僅作為部分被示出)保持。投射曝光設(shè)備I可具有一個(gè)、兩個(gè)或更多個(gè)晶片保持器13，用于晶片12在像平面11中的可移位布置。特別地，晶片保持器13可實(shí)施為所謂的雙臺(tái)。該類型的雙臺(tái)可具有兩個(gè)或更多個(gè)晶片容器，用于接收晶片12。對(duì)于該類型雙臺(tái)的細(xì)節(jié)，請(qǐng)參考例如EP1197801A1。
[0045]掩模母版保持器8還稱為掩模母版臺(tái)。晶片保持器13還稱為晶片臺(tái)。在該情況下，臺(tái)尤其指的是可移動(dòng)的裝置，用于安裝(即用于定位)諸如掩模母版7、晶片12或測(cè)量裝置16 (隨后詳細(xì)描述)的元件。
[0046]投射曝光設(shè)備1，尤其是輻射源3、照明系統(tǒng)2、投射光學(xué)單元9和晶片保持器13布置在抽空室29中。
[0047]特別地，輻射源3為發(fā)射EUV輻射14的EUV輻射源。EUV輻射源3發(fā)射的使用輻射的波長在5nm至30nm的范圍內(nèi)，尤其為13.5nm。用于光刻且用于合適光源的其他波長，例如具有小于300nm波長的DUV輻射源或具有小于200nm波長，尤其為193nm波長的V-UV輻射源也是可能的。輻射源3可為等離子體源，例如GDPP源或LPP源。基于同步加速器的輻射源也可用作輻射源3。本領(lǐng)域技術(shù)人員可在例如US6，859，515B2中發(fā)現(xiàn)關(guān)于該類型輻射源的信息。
[0048]EUV輻射14還稱為照明光或成像光。
[0049]收集器15提供用于聚集來自EUV輻射源3的EUV輻射14。
[0050]照明光學(xué)單元包含具有多個(gè)場(chǎng)分面23的場(chǎng)分面反射鏡17。場(chǎng)分面反射鏡17布置在照明光學(xué)單元4的關(guān)于物平面6光學(xué)共軛的平面中。照明光14從場(chǎng)分面反射鏡17反射至照明光學(xué)單元4的光瞳分面反射鏡18。光瞳分面反射鏡18具有多個(gè)光瞳分面24。借助于光瞳分面反射鏡18,場(chǎng)分面反射鏡17的場(chǎng)分面23成像在物場(chǎng)5上。對(duì)于場(chǎng)分面反射鏡17上的每個(gè)場(chǎng)分面23，在光瞳分面反射鏡18上存在一個(gè)相關(guān)聯(lián)的光瞳分面24。因此，光通道形成在相應(yīng)的一個(gè)場(chǎng)分面23和一個(gè)光瞳分面24之間。分面反射鏡17、18中的至少一個(gè)的分面23、24可以可切換的方式實(shí)施。分面23、24尤其可以可傾斜的方式布置在分面反射鏡17、18上。在該情況下，可以可傾斜的方式實(shí)施分面23、24的僅一部分，例如至多30%、至多50%或至多70%。還可規(guī)定以可傾斜的方式實(shí)施全部分面23、24?？汕袚Q分面23、24尤其為場(chǎng)分面23。利用場(chǎng)分面23的傾斜，可以改變場(chǎng)分面23至相應(yīng)光瞳分面24的分配以及因此光通道的形成。對(duì)于具有可傾斜的分面23、24的分面反射鏡17、18的進(jìn)一步細(xì)節(jié)，請(qǐng)參考 DE102008009600A1。
[0051]此外，照明光學(xué)單元4包含具有反射鏡20、21和22的所謂的傳輸光學(xué)單元19。傳輸光學(xué)單元19的最后一個(gè)反射鏡23為用于掠入射的反射鏡(掠入射反射鏡)。光瞳分面反射鏡18和傳輸光學(xué)單元19形成后面的光學(xué)單元，用于將照明光14傳至物場(chǎng)5中。尤其是當(dāng)光瞳分面反射鏡18布置在投射光學(xué)單兀9的入瞳中時(shí),可省略傳輸光學(xué)單兀19。
[0052]為了簡化位置關(guān)系的描述，笛卡爾xyz坐標(biāo)系示于圖中。在該情況下，z軸相應(yīng)地在投射光學(xué)單元9的光軸25的方向上延伸。為了簡明之故，未將光軸25示于每一個(gè)圖中。物平面6和像平面11均垂直于光軸25且因此平行于xy平面延伸。
[0053]掩模母版保持器8以可控方式移動(dòng)，使得在投射曝光期間，掩模母版7可在物平面6中沿平行于y方向的位移方向移動(dòng)。相應(yīng)地，晶片保持器13以可控方式移動(dòng)，使得晶片12可在像平面11中沿平行于I方向的位移方向移動(dòng)。因此，掩模母版7和晶片12可首先被掃描通過物場(chǎng)5，其次通過像場(chǎng)10。位移方向還稱為掃描方向。掩模母版7和晶片12的在掃描方向上的移動(dòng)可優(yōu)選地彼此同步進(jìn)行。
[0054]對(duì)于場(chǎng)分面反射鏡17的構(gòu)造的細(xì)節(jié)，請(qǐng)參考例如DE101007041004A1，尤其是其圖3。
[0055]投射光學(xué)單元9包含多個(gè)投射反射鏡26，其在圖1中未明確示出。投射光學(xué)單元9尤其包含至少三個(gè)，尤其是至少四個(gè)，尤其是至少5個(gè)投射反射鏡26。投射光學(xué)單元9尤其可具有至少六個(gè)、七個(gè)或八個(gè)投射反射鏡26。在圖2至5和圖8至11中舉例示出了具有四個(gè)反射鏡26i至264的投射光學(xué)單元9。在該情況下，光路中的最后一個(gè)反射鏡具有用于成像光14的通路開口。投射反射鏡26為投射曝光設(shè)備I的物鏡27的一部分。特別地，投射反射鏡26形成物鏡27的光學(xué)部件。物鏡27可具有另外的光學(xué)部件，例如圖中未示出的濾波器和/或光闌。光學(xué)部件由物鏡框架28保持。物鏡框架28通常形成用于安裝物鏡27的光學(xué)部件的物鏡安裝件。
[0056]根據(jù)本發(fā)明，用于保持測(cè)量裝置16的度量臺(tái)30 (通常稱為定位裝置)布置在物鏡框架28上。特別地，多個(gè)測(cè)量裝置16可布置在度量臺(tái)30上。度量臺(tái)30連接至物鏡框架28。度量臺(tái)30尤其直接連接至物鏡框架28。度量臺(tái)30尤其在至少三個(gè)點(diǎn)處連接至物鏡框架28。連接類型取決于用于物鏡框架28和度量臺(tái)30的材料。舉例來說，附著接合、螺紋連接、焊接、激光焊接或電子束焊接可用于將度量臺(tái)30連接至物鏡框架28。非磁性連接是優(yōu)選的。
[0057]度量臺(tái)30可相對(duì)于物鏡框架28移動(dòng)。度量臺(tái)30具有至少一個(gè)位移自由度，用于移動(dòng)測(cè)量裝置16。度量臺(tái)30尤其可在光軸25的橫向方向上,尤其是垂直于光軸的方向上移動(dòng)。因此，度量臺(tái)30可運(yùn)動(dòng)至位于物鏡27中的成像光14的光路中的測(cè)量位置。度量臺(tái)30還可運(yùn)動(dòng)到成像光14的光路之外。特別地，度量臺(tái)30可移動(dòng)至停放位置，在該停放位置中，度量臺(tái)30完全位于物鏡27中的成像光14的光路之外。度量臺(tái)30可尤其有針對(duì)性地布置在光路的特定邊緣區(qū)域中。度量臺(tái)30可尤其布置在不用于曝光晶片12的邊緣區(qū)域中。在該情況下，可以利用以下事實(shí):物鏡27具有在垂直于光軸25的方向上突出超出在像平面11的水平處待曝光的像場(chǎng)10的最大場(chǎng)尺寸。突出超出像場(chǎng)10之外的邊緣區(qū)域不用于曝光晶片12。
[0058]度量臺(tái)30在關(guān)于光軸25的橫向方向上的可移動(dòng)性尤其可為至少1mm，尤其是至少Icm,尤其是至少5cm。
[0059]度量臺(tái)30包含xy調(diào)節(jié)器34,用于在關(guān)于光軸25的橫向方向上,尤其是在垂直于光軸的方向上移動(dòng)測(cè)量裝置16。此外，度量臺(tái)30可具有z調(diào)節(jié)器31，用于在光軸25的方向上移動(dòng)測(cè)量裝置16。因此，測(cè)量裝置16利用度量臺(tái)30在投射光學(xué)單元9的光軸25的方向上是可移動(dòng)的。因此，可以將測(cè)量裝置16布置在光瞳附近，尤其是在光瞳平面的區(qū)域中，或在場(chǎng)附近，尤其是在像平面11或中間像平面的區(qū)域中。在該情況下，測(cè)量裝置16在光瞳附近的布置應(yīng)被理解為表示滿足以下條件的布置:
[0060]P (16) =D (SA) / (D (SA) +D (CR)) >0.5，尤其是 P (16) >0.7
[0061]在該情況下，D (SA)為從物場(chǎng)發(fā)出的光束在測(cè)量裝置16的位置處的子孔徑直徑，D (CR)為位于測(cè)量裝置16區(qū)域中的有效物場(chǎng)的主光線的最大距離(在光學(xué)系統(tǒng)的參考平面中測(cè)得)。參考平面可為光學(xué)系統(tǒng)的對(duì)稱平面或子午平面。參數(shù)P (16)的定義對(duì)應(yīng)于在W02009/024164A1所指定的。在場(chǎng)平面中，P (16)=0適用。在光瞳平面中，P (16)=1適用。測(cè)量裝置16在場(chǎng)附近的布置應(yīng)被理解為表示P (16)〈0.5，尤其是P (16)〈0.3的布置。
[0062]度量臺(tái)30可構(gòu)造為將測(cè)量裝置16安置在物鏡27的光路方向上，位于布置有投射反射鏡26的范圍之外。特別地，度量臺(tái)30可構(gòu)造為將測(cè)量裝置16安置在物鏡27的光路方向上，位于投射反射鏡26中的最后一個(gè)反射鏡之后，即位于最后一個(gè)投射反射鏡26和晶片臺(tái)13之間。測(cè)量裝置16因此可被認(rèn)為在光路的方向上布置在物鏡27之外。
[0063]度量臺(tái)30還可具有旋轉(zhuǎn)軸承32。借助于旋轉(zhuǎn)軸承32，測(cè)量裝置16可繞旋轉(zhuǎn)軸線33旋轉(zhuǎn)。特別地，旋轉(zhuǎn)軸線33平行于光軸25。旋轉(zhuǎn)軸承32確保測(cè)量裝置16的旋轉(zhuǎn)，還確保除了移動(dòng)校準(zhǔn)之外的旋轉(zhuǎn)校準(zhǔn)。這使得可確定澤尼克場(chǎng)偏移(Zernike field offset)。此外，因此可實(shí)現(xiàn)對(duì)校準(zhǔn)方法的更好調(diào)節(jié)，即更高的精度。
[0064]xy調(diào)節(jié)器34、z調(diào)節(jié)器31和旋轉(zhuǎn)軸承32為用于移動(dòng)度量臺(tái)30，尤其是測(cè)量裝置16的驅(qū)動(dòng)裝置35的部分。特別地，驅(qū)動(dòng)裝置35為真空兼容的驅(qū)動(dòng)器。此外，驅(qū)動(dòng)裝置35優(yōu)選不與磁場(chǎng)相互作用。因此，驅(qū)動(dòng)裝置35尤其不對(duì)外部磁場(chǎng)或其變化有反應(yīng)。相反，驅(qū)動(dòng)裝置35不產(chǎn)生磁場(chǎng)。從而，驅(qū)動(dòng)裝置35尤其不與晶片保持器13的部分，尤其是不與晶片保持器13的驅(qū)動(dòng)器相互作用。
[0065]特別地，驅(qū)動(dòng)裝置35包含壓電驅(qū)動(dòng)器58中的一個(gè)或多個(gè)。特別地，驅(qū)動(dòng)裝置35，尤其是壓電驅(qū)動(dòng)器58具有非常高的分辨率?？色@得高達(dá)30pm的分辨率。此外，利用驅(qū)動(dòng)裝置35可產(chǎn)生高達(dá)600N的保持力。驅(qū)動(dòng)裝置35原則上提供無限長度的致動(dòng)距離。
[0066]如圖17中舉例示出的，z調(diào)節(jié)器31可具有三個(gè)壓電驅(qū)動(dòng)器58。利用z調(diào)節(jié)器31的三個(gè)壓電驅(qū)動(dòng)器58，可以明確地限定布置有測(cè)量裝置16的平面。原則上，還可形成具有單個(gè)壓電驅(qū)動(dòng)器58的z調(diào)節(jié)器31。xy調(diào)節(jié)器34優(yōu)選包含兩個(gè)壓電驅(qū)動(dòng)器58。在該情況下，特別地，壓電驅(qū)動(dòng)器58中的一個(gè)可用于在X方向上調(diào)節(jié)度量臺(tái)30。特別地，另一個(gè)壓電驅(qū)動(dòng)器58用于在Y方向上調(diào)節(jié)度量臺(tái)30。
[0067]旋轉(zhuǎn)軸承32還可具有壓電驅(qū)動(dòng)器58。借助于旋轉(zhuǎn)軸承32的壓電驅(qū)動(dòng)器58，尤其是布置有測(cè)量裝置16的旋轉(zhuǎn)臺(tái)59可繞旋轉(zhuǎn)軸線33旋轉(zhuǎn)。
[0068]作為度量臺(tái)30布置在物鏡27上的結(jié)果，所述臺(tái)可被優(yōu)化用于預(yù)期用途。度量臺(tái)30從晶片保持器13的脫離使得可尤其避免在測(cè)量裝置16的位移期間的高掃描速度。此外，可實(shí)現(xiàn)用于校準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)自由度。此外，可實(shí)現(xiàn)測(cè)量裝置16的布置的非常高的硬度以及因此特別高的穩(wěn)定性。這尤其對(duì)于所謂的“視線”(LOS)測(cè)量是有利的。最后，度量臺(tái)30在物鏡27上的布置減少了在物鏡27的測(cè)量期間的錯(cuò)誤影響。
[0069]物鏡27可附加地具有用于校準(zhǔn)物鏡的致動(dòng)器36。致動(dòng)器36尤其以數(shù)據(jù)傳輸方式連接至測(cè)量裝置16中的至少一個(gè)。因此，物鏡27具有反饋。
[0070]關(guān)于測(cè)量裝置16的細(xì)節(jié)，應(yīng)參考例如US2011/0013171A1。
[0071]具有測(cè)量裝置16的度量臺(tái)30是用于表征投射曝光設(shè)備I的至少一個(gè)部件的測(cè)量系統(tǒng)37的一部分。測(cè)量系統(tǒng)37附加地包含用于產(chǎn)生測(cè)量輻射的至少一個(gè)測(cè)量輻射源38。在圖2、3、6和7所示的實(shí)施例中，測(cè)量輻射源38與投射曝光設(shè)備I的照明系統(tǒng)2的輻射源.3完全相同。在這些示例性實(shí)施例中，EUV輻射14既用于將掩模母版7投射至晶片12上，即將物場(chǎng)5投射至像場(chǎng)10中，又用作測(cè)量輻射39。因此，在這些示例性實(shí)施例中，測(cè)量輻射.39具有與照明光相同的波長。
[0072]測(cè)量系統(tǒng)37附加地包含特殊的測(cè)量掩模母版40。如圖2所示，測(cè)量掩模母版40可布置在單獨(dú)的測(cè)量掩模母版安裝件41上，測(cè)量掩模母版安裝件還稱為測(cè)量掩模母版臺(tái)。特別地，測(cè)量掩模母版40布置在物平面6中。測(cè)量掩模母版安裝件41可優(yōu)選獨(dú)立于掩模母版保持器8移動(dòng)。測(cè)量掩模母版安裝件41尤其可在關(guān)于光軸25的橫向方向上,尤其在垂直于光軸的方向上移動(dòng)。測(cè)量掩模母版安裝件41還可繞平行于光軸25的軸線旋轉(zhuǎn)。原則上，測(cè)量掩模母版安裝件41還可在光軸25的方向上移動(dòng)。
[0073]測(cè)量掩模母版40的不同實(shí)施例在圖15a和15b中以示例方式示出。特別地，測(cè)量掩模母版40可實(shí)施為鉻掩模。測(cè)量掩模母版40可具有光柵結(jié)構(gòu)60和/或環(huán)形結(jié)構(gòu)56。對(duì)于細(xì)節(jié)，應(yīng)參考例如US7333216B2。測(cè)量掩模母版40可利用測(cè)量掩模母版安裝件41來移動(dòng)。測(cè)量掩模母版40尤其可在垂直于光軸25的方向上(B卩，尤其在物平面6中)移動(dòng)。特別地，測(cè)量掩模母版40還可繞平行于光軸25的軸線旋轉(zhuǎn)。
[0074]測(cè)量掩模母版40可與掩模母版7交替地被引入投射曝光設(shè)備I的光路中。作為其替代，可用測(cè)量輻射39與掩模母版7并行地(即同時(shí))照射測(cè)量掩模母版40。
[0075]測(cè)量掩模母版40和/或度量臺(tái)30的旋轉(zhuǎn)性對(duì)用于確定波前(Z2，Z3)的畸變分量的測(cè)量技術(shù)(例如波前測(cè)量技術(shù)和/或雜散光測(cè)量技術(shù))的校準(zhǔn)是特別有利的。在該情況下，在校準(zhǔn)期間，在不同的校準(zhǔn)位置處測(cè)量測(cè)量掩模母版40。這些位置根據(jù)物平面6中的測(cè)量掩模母版40和/或像平面11中的測(cè)量裝置16的平移和/或旋轉(zhuǎn)而不同。舉例來說，測(cè)量掩模母版40的關(guān)于彼此分別旋轉(zhuǎn)90°的四個(gè)位置可用于校準(zhǔn)。特別地，可以針對(duì)校準(zhǔn)而改變測(cè)量掩模母版40關(guān)于測(cè)量裝置16的相對(duì)布置。那么，測(cè)量掩模母版40和測(cè)量裝置16尤其相對(duì)于彼此旋轉(zhuǎn)。
[0076]在根據(jù)圖3的實(shí)施例(其基本上對(duì)應(yīng)于根據(jù)圖2的實(shí)施例)中，測(cè)量掩模母版40就像掩模母版7那樣布 置在掩模母版保持器8上。 可省略單獨(dú)的測(cè)量掩模母版安裝件41。在該情況下，測(cè)量掩模母版40可與掩模母版7 —起移動(dòng)。測(cè)量掩模母版40還可尤其關(guān)于掩模母版7以固定方式布置。
[0077]在根據(jù)圖4的示例性實(shí)施例中，提供單獨(dú)的測(cè)量輻射源38，其與輻射源3不同。在該情況下，例如，發(fā)光二極管(LED)用作測(cè)量輻射源38。測(cè)量輻射源38還可具有多個(gè)LED。在該情況下，特別地，LED布置成一個(gè)或多個(gè)行和/或列中。LED都可發(fā)射具有相同波長的測(cè)量輻射39。LED還可發(fā)射具有不同波長的測(cè)量輻射39。
[0078]來自測(cè)量輻射源38的測(cè)量輻射39借助成像光學(xué)單元42被引導(dǎo)至測(cè)量掩模母版40。成像光學(xué)單元42可尤其包含擴(kuò)散裝置43，例如擴(kuò)散屏或擴(kuò)散棒。在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量輻射源38可布置在抽空室29之外。測(cè)量輻射源38可尤其經(jīng)由真空密封窗44發(fā)送輻射至抽空室29中。原則上，測(cè)量輻射源38與成像光學(xué)單元42還可布置在抽空室29中。
[0079]成像光學(xué)單元42還可具有光波導(dǎo)，尤其是纖維形式的波導(dǎo)，例如用于將測(cè)量輻射39從測(cè)量輻射源38 (尤其是LED或多個(gè)LED)傳送至測(cè)量掩模母版40的光纖。利用單獨(dú)的成像光學(xué)單元42，尤其是利用光纖單元，可以以簡單方式將具有特定的期望數(shù)值孔徑的測(cè)量輻射引導(dǎo)至測(cè)量掩模母版40上。
[0080]測(cè)量輻射39處于與照明輻射14的波長范圍不同的波長范圍中。特別地，測(cè)量輻射39的波長可處于可見范圍內(nèi)。特別地，測(cè)量輻射39處于晶片12的涂層對(duì)其不敏感的波長范圍內(nèi)。因此，可確保測(cè)量輻射39，尤其是其散射不具有對(duì)晶片12的曝光的不期望影響。
[0081]測(cè)量輻射源38還可特別有利地結(jié)合在測(cè)量掩模母版安裝件41中。對(duì)于用于產(chǎn)生測(cè)量輻射39的測(cè)量輻射源38及其布置的細(xì)節(jié)，應(yīng)參考例如DE102010038697.9。
[0082]在包含單獨(dú)的測(cè)量輻射源38的實(shí)施例中，可獨(dú)立于照明光14來中斷測(cè)量輻射39。相反地，當(dāng)然還可獨(dú)立于測(cè)量輻射39來中斷照明光14。因此，可節(jié)約地使用輻射源3。
[0083]在圖5示出的實(shí)施例(其基本上對(duì)應(yīng)于根據(jù)圖4的實(shí)施例，因此參考圖4的描述)中，測(cè)量掩模母版40布置在與掩模母版8分開的測(cè)量掩模母版安裝件41上。在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量掩模母版安裝件41布置在物鏡27上，尤其布置在物鏡框架28上，并尤其連接至物鏡框架28。與度量臺(tái)30 —致，在該情況下，測(cè)量掩模母版安裝件41還包含xy調(diào)節(jié)器45，以及有利地還包含z調(diào)節(jié)器46和/或旋轉(zhuǎn)軸承47。xy調(diào)節(jié)器45、z調(diào)節(jié)器46和旋轉(zhuǎn)軸承47也為驅(qū)動(dòng)器48的一部分。對(duì)于該方面的細(xì)節(jié)，應(yīng)參考對(duì)度量臺(tái)30的驅(qū)動(dòng)器35的描述。
[0084]在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量系統(tǒng)37包含偏轉(zhuǎn)反射鏡49。偏轉(zhuǎn)反射鏡49固定地或可調(diào)節(jié)地連接至度量臺(tái)30。偏轉(zhuǎn)反射鏡49還可直接布置在物鏡27上，尤其是在物鏡框架28上。
[0085]如圖6和7所示，在所謂的浸沒掃描儀的情況下，也可提供度量臺(tái)30在物鏡27上的布置。特別地，浸沒掃描儀包含輻射源3，其產(chǎn)生在VUV范圍內(nèi)，尤其在193nm波長的照明光14。來自其他波長范圍的照明光14同樣是可能的。浸液50布置在投射光學(xué)單元9的物鏡27和待曝光的晶片12之間。例如，水充當(dāng)浸液。
[0086]度量臺(tái)30可至少部分地布置在浸液50之外。測(cè)量裝置16包含檢測(cè)器51，其布置在浸液50中或在與浸液50的界面處。特別地，在該情況下可包含量子轉(zhuǎn)換器(quantumconverter)。[0087]這些實(shí)施例不具有抽空室29。如圖6所示，測(cè)量掩模母版40可與掩模母版7 —起布置在掩模母版保持器8上。作為其替代，如圖7所示，同樣可以利用單獨(dú)的測(cè)量掩模母版安裝件41將測(cè)量掩模母版40引入光路中。測(cè)量掩模母版安裝件41可繼而布置在物鏡27上，尤其是在物鏡框架28上。
[0088]根據(jù)圖8至11示出的實(shí)施例，定位裝置，尤其是度量臺(tái)30包含補(bǔ)償配重件52。補(bǔ)償配重件52用于補(bǔ)償作用在度量臺(tái)30和/或物鏡27 (尤其是物鏡框架28)上的可變力。作用在度量臺(tái)30上和物鏡27 (尤其是物鏡框架28)上的杠桿作用尤其取決于度量臺(tái)30的位移和測(cè)量裝置16在其上的布置。
[0089]補(bǔ)償配重件52尤其實(shí)施為相對(duì)于相應(yīng)的一個(gè)測(cè)量裝置16可移動(dòng)的平衡件。補(bǔ)償配重件52尤其用于平衡具有測(cè)量裝置16的度量臺(tái)30關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸線33的重量分布。利用補(bǔ)償配重件52，可尤其確保具有測(cè)量裝置16的度量臺(tái)30具有這樣的重心，該重心的位置被精確地調(diào)節(jié)為使得旋轉(zhuǎn)軸線33延伸通過該重心。
[0090]在圖8示出的實(shí)施例中，補(bǔ)償配重件52結(jié)合在度量臺(tái)30中。在圖9和10示出的實(shí)施例中，補(bǔ)償配重件52單獨(dú)地布置在度量臺(tái)30上。補(bǔ)償配重件52尤其可相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線33與度量臺(tái)33的位移相等地或相反地移動(dòng)。補(bǔ)償配重件52可關(guān)于測(cè)量裝置16布置在度量臺(tái)30的相對(duì)側(cè)上或在測(cè)量裝置16的同一側(cè)上鄰近度量臺(tái)30。
[0091]為了說明補(bǔ)償配重件52的可移動(dòng)性，圖9至11分別使用實(shí)線和虛線示出度量臺(tái)30的兩個(gè)不同位置和補(bǔ)償配重件52的兩個(gè)不同位置。
[0092]在圖11示出的實(shí)施例中，補(bǔ)償配重件52在光軸25的方向上布置在物鏡27的關(guān)于度量臺(tái)30相對(duì)的一側(cè)上。這對(duì)于補(bǔ)償在光軸25的橫向方向上作用在物鏡27上的力是特別有利的。
[0093]測(cè)量裝置16可均具有一個(gè)或多個(gè)光柵53和/或光闌54。光柵或多個(gè)光柵53和/或光闌或多個(gè)光闌54尤其適于測(cè)量掩模母版40的結(jié)構(gòu)。
[0094]此外，測(cè)量裝置16在各情況下均包含傳感器裝置55，尤其是用于空間解析檢測(cè)電磁福射的(XD相機(jī)。傳感器裝置55在光軸25的方向上布置在離光柵53和/或光闌54 —定距離的位置處。
[0095]優(yōu)選地，傳感器裝置55和光柵53之間的距離隨需要而變化。舉例來說，如圖12所示，光柵53和傳感器裝置55之間的大距離對(duì)于具有單個(gè)測(cè)量通道的串行測(cè)量是有利的，而如圖13舉例示出的，光柵53和傳感器裝置55之間的小距離對(duì)于具有彼此并排布置的多個(gè)測(cè)量通道的并行測(cè)量是有利的。對(duì)光柵53和傳感器裝置55之間的距離的選擇尤其取決于物鏡27的數(shù)值孔徑和/或測(cè)量掩模母版40的結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。該距離尤其在100微米至10厘米的范圍內(nèi)。在該情況下，特別地，光柵53和傳感器裝置55之間的距離選擇成使得由光柵53產(chǎn)生的衍射圖案的至少第一最大值在傳感器裝置55的區(qū)域中不重疊。特別地，在該情況下提供串行測(cè)量，用于測(cè)量像差Z5至Z81。特別地，在該情況下提供并行測(cè)量，用于測(cè)量像差Z2至Z36。
[0096]當(dāng)包含一個(gè)測(cè)量通道及光柵和相機(jī)之間大距離的實(shí)施例確保光瞳的放大成像以及因此確保準(zhǔn)確地確定更高澤尼克級(jí)(尤其是Z5至Z81)時(shí)，對(duì)并排布置的多個(gè)測(cè)量通道的并行測(cè)量(如圖13所示)使得可以測(cè)量在整個(gè)像場(chǎng)10上的波前，并因此確定畸變和像外形(image shell)。原則上，可以將在光柵和相機(jī)之間具有不同距離的測(cè)量裝置16布置在單個(gè)度量臺(tái)30上。圖12和13舉例示出的測(cè)量系統(tǒng)37可尤其利用根據(jù)本發(fā)明的度量臺(tái)30而結(jié)合在單個(gè)測(cè)量系統(tǒng)37中。
[0097]為了表征投射曝光設(shè)備1，尤其是物鏡27的至少一個(gè)部件，度量臺(tái)30移動(dòng)至測(cè)量輻射39的光路中，尤其是照明場(chǎng)中。特別地，度量臺(tái)30獨(dú)立于晶片保持器13移動(dòng)。特別地，度量臺(tái)30比晶片保持器13移動(dòng)得明顯更慢。因此可避免損壞測(cè)量裝置16。
[0098]對(duì)于光瞳透射測(cè)量,測(cè)量裝置16可利用度量臺(tái)30布置在光瞳附近。然后,光瞳可被來回移動(dòng)，即被掃描，從而利用度量臺(tái)30記錄測(cè)量數(shù)據(jù)。
[0099]對(duì)于用照明光14對(duì)晶片12的曝光，測(cè)量裝置16可側(cè)向地(B卩，關(guān)于光軸25橫向地)移動(dòng)至投射光學(xué)單元9的光路之外。作為其替代，測(cè)量裝置16可布置在曝光場(chǎng)的邊緣區(qū)域中，特別地，該曝光場(chǎng)的邊緣區(qū)域不用于將掩模母版7成像至晶片12上。在該情況下，可與晶片12的曝光并行(即同時(shí))執(zhí)行對(duì)物鏡27的表征。在該情況下，有利地，可提供用于產(chǎn)生測(cè)量輻射39的單獨(dú)的測(cè)量輻射源38，晶片12的涂層對(duì)該測(cè)量輻射的波長不敏感。對(duì)于并行地表征物鏡27和照明晶片12，借助于度量臺(tái)30，可以尤其利用以下事實(shí):物鏡27的像場(chǎng)以由構(gòu)造支配的方式稍微大于成像至晶片12上的像場(chǎng)10。在該邊緣區(qū)域中的輻射14可用于表征物鏡27，而不損壞掩模母版7至晶片12上的成像。
[0100]因?yàn)榭膳c晶片12的曝光并行地(即同時(shí))執(zhí)行對(duì)物鏡27的表征，所以對(duì)晶片12的曝光不必因表征物鏡27而被中斷。在不同的晶片12的曝光之間，還可實(shí)現(xiàn)在內(nèi)部場(chǎng)區(qū)域中，尤其在像場(chǎng)11中的測(cè)量。
[0101]作為度量臺(tái)30在物鏡27上的布置的結(jié)果，可使用在場(chǎng)邊緣的較大區(qū)域用于表征物鏡27，因?yàn)樾枰紤]的安全容差形式的調(diào)節(jié)參數(shù)較少。由于較大的可用區(qū)域，可以實(shí)行更多不同的測(cè)量技術(shù)，例如還有具有較大結(jié)構(gòu)的波前測(cè)量。
[0102]對(duì)于屬于雜散光度量的應(yīng)用，度量臺(tái)30和/或測(cè)量掩模母版40的利用測(cè)量掩模母版安裝件41的可旋轉(zhuǎn)性是特別有利的。作為測(cè)量裝置16的借助度量臺(tái)30和/或測(cè)量掩模母版40的利用測(cè)量掩模母版安裝件41的旋轉(zhuǎn)的結(jié)果，可以避免不可測(cè)量的所謂的“禁止”空間頻率。[0103]雜散光強(qiáng)度I對(duì)散射范圍Λ X的依賴性在圖14中被舉例示出。在大約10 μ m的范圍之下，利用波前測(cè)量技術(shù)測(cè)量所謂的短范圍耀斑(short-range flare)的。在大約10 μ m的范圍之上，利用用于測(cè)量雜散光強(qiáng)度的技術(shù)來測(cè)量所謂的中范圍耀斑(mid-rangeflare)。
[0104]度量臺(tái)30使得可以同時(shí)執(zhí)行在所謂的短范圍耀斑區(qū)和中范圍耀斑區(qū)中的雜散光測(cè)量。特別地，具有在雜散光范圍中無縫轉(zhuǎn)換的波前測(cè)量技術(shù)和雜散光技術(shù)是可能的。為此，用于波前以及用于雜散光測(cè)量技術(shù)的結(jié)構(gòu)設(shè)置在測(cè)量掩模母版40上，相應(yīng)結(jié)構(gòu)還設(shè)置在測(cè)量裝置16處。此外，用于此目的的測(cè)量裝置16的分辨率為待測(cè)量的雜散光范圍與測(cè)量波長的比例除以物鏡27的數(shù)值孔徑的值的至少兩倍。
[0105]作為表征投射曝光設(shè)備I的至少一個(gè)部件的示例性示例，下文給出了對(duì)借助于根據(jù)本發(fā)明的測(cè)量系統(tǒng)37的光瞳解析雜散光測(cè)量的描述。在該情況下，雜散光應(yīng)被理解為表示照明光14和/或測(cè)量輻射39的偏離理想完美物鏡27的光路的部分。在該情況下，雜散光范圍是在垂直于光軸25的方向上對(duì)該偏離的測(cè)量。
[0106]在該應(yīng)用中，測(cè)量掩模母版40具有根據(jù)圖15b的環(huán)形結(jié)構(gòu)。特別地，測(cè)量掩模母版40具有形成測(cè)量輻射39的輸出區(qū)域的多個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu)56。環(huán)形結(jié)構(gòu)56在該情況下具有不同的直徑。
[0107]為了檢測(cè)雜散光，在圖16b中舉例示出且具有一個(gè)或多個(gè)針孔57的光闌54布置在光瞳附近。光闌54的針孔57的數(shù)量優(yōu)選精確地對(duì)應(yīng)于測(cè)量掩模母版40的環(huán)形結(jié)構(gòu)56的數(shù)量。針孔57在其實(shí)施例方面，尤其在其尺寸方面適配于測(cè)量掩模母版的環(huán)形結(jié)構(gòu)56的實(shí)施例，尤其是尺寸。特別地，光闌54布置在場(chǎng)平面的區(qū)域中。測(cè)量輻射39利用CCD相機(jī)或一些其他的空間解析檢測(cè)器來檢測(cè)。在該情況下，以光瞳解析的方式良好近似地實(shí)現(xiàn)該檢測(cè)。因?yàn)楣馔械碾s散光范圍小，因此散射是良好近似的光瞳保持(pupil-maintaining)。該測(cè)量方法使得可根據(jù)光瞳平面中的位置確定雜散光，而光瞳不必在照明中對(duì)應(yīng)成形。從而，在完全充滿的光瞳的情況下，可以良好地近似測(cè)量和確定任何期望的照明設(shè)定中的雜散光。
[0108]利用根據(jù)本發(fā)明的測(cè)量系統(tǒng)27，可以檢測(cè)和認(rèn)識(shí)到，例如由投射反射鏡26的污染物和/或變形，尤其是由熱效應(yīng)導(dǎo)致的投射曝光設(shè)備I (尤其是投射光學(xué)單元9)的成像質(zhì)量的降低。
[0109]當(dāng)然，不同的示圖中示出的各實(shí)施例的細(xì)節(jié)，尤其是測(cè)量掩模母版40的布置、測(cè)量輻射源38的實(shí)施例以 及補(bǔ)償配重件52的布置可以任意期望方式彼此組合。
【權(quán)利要求】
1.一種用于表征投射曝光設(shè)備(I)的至少一個(gè)部件的測(cè)量系統(tǒng)(37)，包含: a.至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)，用于測(cè)量光學(xué)參數(shù)，以及 b.定位裝置(30)，用于定位所述至少一個(gè)測(cè)量裝置(16 )， c.其中，所述定位裝置(30)以可移動(dòng)的方式連接至所述投射曝光設(shè)備(I)的物鏡(27)。
2.一種用于投射曝光設(shè)備(I)的物鏡(27)，包含: a.至少一個(gè)光學(xué)部件(26)， b.物鏡安裝件(28)，用于安裝所述至少一個(gè)光學(xué)部件(26)，以及 c.定位裝置(30)，用于保持至少一個(gè)測(cè)量裝置(16 )， d.其中，所述定位裝置(30)連接至所述物鏡安裝件(28)，以及 e.其中，所述定位裝置(30)具有至少一個(gè)位移自由度，用于移動(dòng)所述測(cè)量裝置(16 )。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的物鏡(27)，其特征在于，所述至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)布置在所述物鏡(27)的光路方向上最后一個(gè)光學(xué)部件(26)之后。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的物鏡(27)，其特征在于，所述定位裝置(30)構(gòu)造為使得所述至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)可以在所述物鏡(27)的光路中的至少一個(gè)測(cè)量位置和停放位置之間移動(dòng)，在該停放位置中，所述定位裝置完全布置在所述物鏡(27)的光路之外。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的物鏡(27)，其特征在于用于校準(zhǔn)所述物鏡(27)的致動(dòng)器(36 )，其中，所述致動(dòng)器(36 )能夠以數(shù)據(jù)傳輸方式連接至所述至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項(xiàng)所述的物鏡(27)，其特征在于，所述定位裝置(30)不與磁場(chǎng)相互作用。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項(xiàng)所述的物鏡(27)，其特征在于真空室(29)中的布置。
8.根據(jù)權(quán)利要求2至7中任一項(xiàng)所述的物鏡(27)，其特征在于至少一個(gè)可移動(dòng)的平衡件(52 )，用于補(bǔ)償作用于所述定位裝置(30 )和/或所述物鏡(27 )的可變力。
9.一種用于將物場(chǎng)(5)投射至像場(chǎng)(10)中的投射光學(xué)單元(9)，包含: a.根據(jù)權(quán)利要求2至8中任一項(xiàng)的物鏡(27)。
10.一種投射曝光設(shè)備(I)，包含: a.照明單元(2)，以及 b.根據(jù)權(quán)利要求9的投射光學(xué)單元(9)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的投射曝光設(shè)備(1)，包含可移動(dòng)的晶片保持器(13)，其特征在于，用于定位所述至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)的所述定位裝置(30)能夠獨(dú)立于所述晶片保持器(13)移動(dòng)。
12.一種用于表征投射曝光設(shè)備(I)的至少一個(gè)部件的方法，包含以下步驟: -提供根據(jù)權(quán)利要求10或11的投射曝光設(shè)備(1)， -提供至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)，借助于所述定位裝置(30)將所述至少一個(gè)測(cè)量裝置相對(duì)于所述物鏡(27)定位， -利用所述至少一個(gè)測(cè)量裝置(16)測(cè)量用于表征所述投射曝光設(shè)備(I)的至少一個(gè)部件的至少一個(gè)參數(shù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，測(cè)量所述至少一個(gè)參數(shù)與曝光晶片(12)同時(shí)發(fā)生。
14.一種用于制造微結(jié)構(gòu)組件的方法，包含以下方法步驟: -提供根據(jù)權(quán)利要求10或11的投射曝光設(shè)備(1)， -提供掩模母版(7)， -提供晶片(12)，所述晶片具有對(duì)所述照明光(14)光敏的涂層， -借助于所述投射曝光設(shè)備(I)將所述掩模母版(7)的至少一部分投射至所述晶片(12)上， -顯影所述晶片(12)上被曝光的涂層。
15.一種根據(jù)權(quán) 利要求14所述的方法制造的微結(jié)構(gòu)組件。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103608729SQ201280028001
【公開日】2014年2月26日 申請(qǐng)日期:2012年6月6日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月8日
【發(fā)明者】M.戈珀特, H.海德納, R.弗賴曼, C.斯特雷貝爾 申請(qǐng)人:卡爾蔡司Smt有限責(zé)任公司