專利名稱：鍍膜導光板的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及液晶顯示器的背光模組，尤其涉及一種背光模組的鍍膜導光板。
背景技術：
現(xiàn)有技術背光模組由光源、反射膜、導光板、擴散膜、棱鏡層及保護框等構成，其中導光板是背光模組中的關鍵組件，其作用在于引導入射光經(jīng)導光板散射及反射而轉成面光源。參閱圖1,是一種現(xiàn)有背光模組的結構不意圖。該背光模組100包括一光源101,一導光板103, —反射膜105及擴散膜107。導光板103包括一入光面109,與入光面109相鄰的出光面111，與出光面111相對的底面113。光源101臨近入光面109設置，反射膜105鄰近底面113設置，擴散膜107鄰近出光面111設置，在底面113上設置有均勻分布的多個圓形反射點115。反射點115能有效反射及擴散射至反射點115的光線，從而提高導光板103和背光模組100的光利用率與出光均勻度。但是，這樣的結構比較復雜，特別是連接在導光板103底面的反射膜105，作用是將擴散射到反射膜105的光源反射出去，反射膜105在加工過程中，與導光板103的粘接要求很高，稍不小心，就會導致反射膜報廢，導致廢品率居高不下，增加背光模組100的生產(chǎn)成本。

實用新型內容本實用新型的目的在于，克服現(xiàn)有技術的上述缺陷，提供一種結構新穎的，生產(chǎn)成本低的鍍膜導光板。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供的技術方案如下:一種鍍膜導光板，包括導光板，導光板底端連接有鍍膜層，鍍膜層的厚度為50納米至0.5毫米，鍍膜層底端連接有保護膜層。鍍膜層采用成熟的磁控濺鍍方法或其它方法。磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E (電場)XB(磁場)所指的方向漂移，簡稱EXB漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。本實用新型的有益之處是，結構新穎，創(chuàng)造性地采用先進的磁控濺鍍的方法或其它方法，給導光模組的導光板連接一層鍍膜層，替代原有的反光膜，降低原有反光膜的加工不良率，合格率大大提高，從而有效降低生產(chǎn)成本，提高工作效率，提升光的反射效率。

圖1是一種現(xiàn)有導光板的結構示意圖；圖2是本實用新型所述鍍膜導光板的導光板結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖及較佳實施例就本實用新型所述鍍膜導光板的技術方案作進一步的說明。如圖圖2所示，本實用新型所述的一種鍍膜導光板，包括導光板I，導光板I底端連接有鍍膜層2。鍍膜層2的厚度為50納米至0.5毫米。鍍膜層2底端連接有保護膜層3。以上所述的僅是本實用新型的原理和較佳實施例。應當指出，對本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還能做出若干的變型和改進，也應視為屬于本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種鍍膜導光板，包括導光板，導光板底端連接有鍍膜層，其特征在于:所述鍍膜層的厚度為50納米至0.5毫米。
專利摘要本實用新型公開了一種鍍膜導光板，包括導光板，所述導光板底端連接有鍍膜層，鍍鍍膜層的厚度為50納米至0.5毫米，鍍膜層底端連接有保護膜層。本實用新型結構新穎，創(chuàng)造性地采用先進的磁控濺鍍的方法或其它方法，給導光模組的導光板連接一層鍍膜層，替代原有的反光膜，降低原有反光膜的加工不良率，合格率大大提高，從而有效降低生產(chǎn)成本，提高工作效率，提升光的反射效率。
文檔編號G02B6/00GK202956498SQ20122043587
公開日2013年5月29日 申請日期2012年8月29日 優(yōu)先權日2012年8月29日
發(fā)明者劉平宇 申請人:東莞市四合實業(yè)投資有限公司