專利名稱：一種兩張單面板同時曝光框架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及到ー種兩張單面板同時曝光框架。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有單面板曝光方式直接在曝光機(jī)的框架上貼上線路菲林，然后放置單面產(chǎn)品進(jìn)行曝光，采用這種方式一次只能曝光一次，曝光速度慢，效率低。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供ー種兩張單面板同時曝光框架，以解決現(xiàn)有技術(shù)存在曝光速度慢，效率低的問題。達(dá)到本實(shí)用新型的目的所采取的技術(shù)方案是ー種兩張單面板同時曝光框架，其 特征在于包括框架本體，框架本體成橫向“エ”字形狀。本實(shí)用新型達(dá)到的有益效果是本實(shí)用新型通過將兩張單面板背靠背裝進(jìn)框架本體內(nèi)，再在兩個待曝光的面上貼上菲林，放入曝光機(jī)上，采用雙面曝光的方式，即防止了單面操作時導(dǎo)致的產(chǎn)品皺折，也提升了曝光機(jī)50%的利用率，同時也提高了 50%的生產(chǎn)效率。

圖I :本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖更詳盡地說明本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征。參照圖1，一種兩張單面板同時曝光框架1，其特征在于包括框架本體1，框架本體I成橫向“エ”字形狀。通過將兩張單面板背靠背裝進(jìn)框架本體I內(nèi)，再在兩個待曝光的面上貼上菲林，放入曝光機(jī)上，采用雙面曝光的方式即防止了單面操作時導(dǎo)致的產(chǎn)品皺折，也提升了曝光機(jī)50%的利用率，同時也提高了 50%的生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求1.ー種兩張單面板同時曝光框架，其特征在于包括框架本體，框架本體成橫向“エ”字形狀。
專利摘要一種兩張單面板同時曝光框架，以解決現(xiàn)有技術(shù)存在曝光速度慢，效率低的問題。其特征在于包括框架本體，框架本體成橫向“工”字形狀。本實(shí)用新型通過將兩張單面板背靠背裝進(jìn)框架本體內(nèi)，再在兩個待曝光的面上貼上菲林，放入曝光機(jī)上，采用雙面曝光的方式，即防止了單面操作時導(dǎo)致的產(chǎn)品皺折，也提升了曝光機(jī)50%的利用率，同時也提高了50%的生產(chǎn)效率。
文檔編號G03F7/20GK202631949SQ20122020556
公開日2012年12月26日 申請日期2012年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月9日
發(fā)明者吳文一, 秦海, 李森林 申請人:深圳市嘉之宏電子有限公司