專(zhuān)利名稱(chēng)：彩膜基板及其制造方法、觸摸顯示裝置及其驅(qū)動(dòng)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板及其制造方法、觸摸顯示裝置及其驅(qū)動(dòng)方法。
背景技術(shù)：
觸摸顯示器發(fā)展迅速，已經(jīng)逐漸發(fā)展成為主流平板顯示器。從技術(shù)原理來(lái)區(qū)分，觸摸顯不器可分為矢量壓力傳感、電阻傳感、電容傳感、紅外線傳感和表面聲波傳感五種基本類(lèi)型，按結(jié)構(gòu)劃分已發(fā)展為外掛式(Add on mode)、內(nèi)嵌式(On cell mode)和一體式(Incell mode)三種類(lèi)型。
目前，電容傳感采用隔著絕緣層縱橫交錯(cuò)的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，當(dāng)手指(或其它物體)靠近或觸摸時(shí)，會(huì)影響在觸摸點(diǎn)附近相交叉的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線間的電容，通過(guò)檢測(cè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線間的電容變化就可以識(shí)別觸摸點(diǎn)的位置。電容傳感件(驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線)結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，為提高制作時(shí)的良品率，現(xiàn)有內(nèi)嵌式電容觸摸顯示器一般是將傳感件制作在彩膜基板的基板正面，待傳感件制作完畢后再將基板翻轉(zhuǎn)過(guò)來(lái)，在基板的背面制作黑矩陣及紅綠藍(lán)色塊，但是，翻轉(zhuǎn)工藝以及后續(xù)的流片過(guò)程也會(huì)明顯降低產(chǎn)品的良品率，并且傳感件制作在基板的背面，導(dǎo)致無(wú)法從背面對(duì)基板進(jìn)行減薄，使得產(chǎn)品厚度比較大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種彩膜基板及其制造方法、觸摸顯示裝置及其驅(qū)動(dòng)方法，能夠提高制作時(shí)的良品率，后續(xù)可采用減薄工藝，使產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案—種彩膜基板，所述彩膜基板包括基板、設(shè)置在所述基板上的傳感層和彩膜層，所述彩膜層包括黑矩陣和多個(gè)由黑矩陣分隔而成的像素色塊，所述傳感層與所述彩膜層位于所述基板的同一側(cè)；所述傳感層包括多個(gè)傳感區(qū)域，每一所述傳感區(qū)域均布設(shè)有同層并排排列的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線?？蛇x地，所述傳感層設(shè)置在所述基板上，所述彩膜層設(shè)置在所述傳感層上。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)線和所述感應(yīng)線，均設(shè)置在所述黑矩陣的遮擋位置。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線采用呈現(xiàn)回旋走線方式或者之字形走線方式，排列在所述傳感區(qū)域內(nèi)?？蛇x地，所述驅(qū)動(dòng)線和傳感線均為金屬走線或者透明導(dǎo)電走線。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線均包括金屬走線和沿所述金屬走線布設(shè)的透明電極，且所述透明電極與所述金屬走線相連接。可選地，所述透明電極覆蓋在所述金屬走線之上，或者，鋪設(shè)在所述金屬走線的下方。
優(yōu)選地，所述透明電極的邊緣呈鋸齒狀，且，所述驅(qū)動(dòng)線的透明電極的鋸齒狀邊緣和所述感應(yīng)線的透明電極的鋸齒狀邊緣相對(duì)應(yīng)，呈互補(bǔ)狀。進(jìn)一步地，還包括驅(qū)動(dòng)線引線和感應(yīng)線引線；每一所述傳感區(qū)域的所述感應(yīng)線連接至一條所述感應(yīng)線引線，位于同一行/列的所述傳感區(qū)域的所述驅(qū)動(dòng)線，連接至同一條所述驅(qū)動(dòng)線弓I線。一種觸摸顯示裝置，設(shè)置有所述的任一彩膜基板。本發(fā)明還提供一種彩膜基板的制造方法，包括在基板上分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，所述驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線的設(shè)置位置均對(duì)應(yīng)于 預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置；制作黑矩陣及像素色塊，按常規(guī)流程完成彩膜基板的制造。進(jìn)一步地，所述在基板上分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，具體包括在基板上沉積金屬層，采用構(gòu)圖工藝，在對(duì)應(yīng)于黑矩陣的遮擋位置分區(qū)域布設(shè)金屬走線，所述金屬走線包括所述驅(qū)動(dòng)線的金屬走線和所述感應(yīng)線的金屬走線；沉積透明導(dǎo)電層，采用構(gòu)圖工藝，形成沿所述金屬走線布設(shè)的透明電極。本發(fā)明還提供一種所述觸摸顯示裝置的驅(qū)動(dòng)方法，包括在屏幕刷新周期的第一時(shí)段，停止向所述驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，同時(shí)各柵線依次輸出開(kāi)啟信號(hào)，以便數(shù)據(jù)線依次向各像素加載顯示數(shù)據(jù)，所述屏幕刷新周期包括第一時(shí)段和第二時(shí)段；在屏幕刷新周期內(nèi)的第二時(shí)段，向所述驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，所述感應(yīng)線接收觸控信號(hào)，同時(shí)各柵線輸出關(guān)閉信號(hào)。本發(fā)明提供的彩膜基板及其制造方法、觸摸顯示裝置及其驅(qū)動(dòng)方法，傳感層為分區(qū)域同層布設(shè)的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，且傳感層與彩膜層位于基板(彩膜基板)的同側(cè)，因此制作時(shí)，傳感層的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線可采用一次構(gòu)圖工藝完成，制作工藝簡(jiǎn)單，因此，傳感層與彩膜層可位于基板的同一側(cè)，制作時(shí)無(wú)需翻轉(zhuǎn)，使得制作時(shí)的良品率提高，且后續(xù)可采用減薄工藝，使得產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。
圖I為本發(fā)明實(shí)施例一中觸摸顯示裝置及彩膜基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例一中傳感層的分區(qū)域布線示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例一中傳感層的之字走線示意圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例二中彩膜基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明實(shí)施例二中彩膜基板的正視結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本發(fā)明實(shí)施例二中驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線在傳感區(qū)域的布線示意圖一；圖7為本發(fā)明實(shí)施例二中驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線在傳感區(qū)域的布線示意圖二 ；圖8為本發(fā)明實(shí)施例三中彩膜基板的制造方法的流程圖；圖9為本發(fā)明實(shí)施例三中形成黑矩陣后彩膜基板的示意圖；圖10為本發(fā)明實(shí)施例三中分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線的流程圖。圖11為本發(fā)明實(shí)施例四中觸摸顯示裝置的驅(qū)動(dòng)方法示意圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明10-彩膜基板，20-陣列基板，30-液晶，11-基板，12-傳感層，13-彩膜層，120-傳感區(qū)域，121-驅(qū)動(dòng)線，122-感應(yīng)線，12b-透明電極，12a-金屬走線，131-黑矩陣，132-像素色塊。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板及其制造方法、觸摸顯示裝置及其驅(qū)動(dòng)方法，能夠提高制作時(shí)的良品率，后續(xù)可采用減薄工藝，使產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。所述顯示裝置可以為液晶面板、電子紙、OLED面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。此處所描述的具體實(shí)施方式
僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。實(shí)施例一本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板10，參照?qǐng)DI、圖2所示，該裝置包括基板11、設(shè)置在基板11上的傳感層12和彩膜層13，彩膜層13包括黑矩陣和多個(gè)由黑矩陣分隔而成的像素色塊；傳感層12與彩膜層13位于基板11的同一側(cè)；傳感層12包括多個(gè)傳感區(qū)域120，每一傳感區(qū)域120均布設(shè)有同層并排排列的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122。本實(shí)施例中的傳感層12可設(shè)置在彩膜層13的上方或者下方，但優(yōu)選地，傳感層12設(shè)置在基板11上，彩膜層13則設(shè)置在傳感層12上。本實(shí)施例所述彩膜基板，如圖2所示，整個(gè)觸摸顯示區(qū)域被劃分為多個(gè)傳感區(qū)域120，每一傳感區(qū)域120均布設(shè)有并排排列的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122，驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122位于同一層，之間存在互電容C，當(dāng)觸摸屏被觸摸時(shí)，被觸摸區(qū)域中的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122間的互電容C發(fā)生變化，引起電流或者脈沖信號(hào)發(fā)生變化，確定出觸摸點(diǎn)發(fā)生的傳感區(qū)域120，從而確定出觸摸點(diǎn)發(fā)生的橫縱坐標(biāo)，實(shí)現(xiàn)尋址。傳感區(qū)域120的面積、個(gè)數(shù)可根據(jù)實(shí)際需求而定，如可參考實(shí)際使用觸摸時(shí)產(chǎn)生的接觸面面積的大小進(jìn)行設(shè)計(jì)，本實(shí)施例對(duì)此不做限定。驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122可以是圖2所示的并排回旋走線方式，也可以是圖3所示的之字形走線方式，其具體排列方式(走線方式)有多種，本實(shí)施例對(duì)此也不做限定，但是采用回旋的走線方式能夠提升驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122之間互電容C的大小，從而提升觸摸靈敏度。本發(fā)明提供的彩膜基板，其傳感層為分區(qū)域同層布設(shè)的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，制作時(shí)傳感層可采用一次構(gòu)圖工藝完成，制作工藝簡(jiǎn)單，因此可將傳感層設(shè)置在彩膜基板的內(nèi)側(cè)，即傳感層與彩膜層位于基板的同一側(cè)，制作時(shí)無(wú)需翻轉(zhuǎn)，可提高制作時(shí)的良品率，且后續(xù)還可采用減薄工藝，將產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。進(jìn)一步地，如圖2所示，所述的彩膜基板，還包括驅(qū)動(dòng)線引線(Dl Dn)和感應(yīng)線引線(SI Sn)；同一行傳感區(qū)域120的驅(qū)動(dòng)線121連接至一條驅(qū)動(dòng)線引線(Dl Dn)，位于同一列傳感區(qū)域120的感應(yīng)線122,都連接至同一條感應(yīng)線引線(SI Sn)。本實(shí)施例中，采用上述連線方式能夠?qū)崿F(xiàn)互電容偵測(cè)。具體地，驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122接收到的觸摸信號(hào)，經(jīng)驅(qū)動(dòng)線引線(Dl Dn)和感應(yīng)線引線(SI Sn)傳遞到陣列基板，由位于陣列基板上的傳感器感應(yīng)，確定被觸摸的傳感區(qū)域120，從而實(shí)現(xiàn)尋址。本實(shí)施例還提供一種觸摸顯示裝置包括上述的彩膜基板10，還包括陣列基板20，和夾設(shè)在彩膜基板10、陣列基板20之間的液晶30。所述觸摸顯示裝置的顯示功能可以采用垂直電場(chǎng)模式，也可以采用水平電場(chǎng)模式。本發(fā)明提供觸摸顯示裝置，傳感層可采用一次構(gòu)圖工藝完成，制作工藝簡(jiǎn)單，因此可將傳感層設(shè)置在彩膜基板的內(nèi)側(cè)，制作時(shí)無(wú)需翻轉(zhuǎn)，制作時(shí)的良品率提高，且后續(xù)還可采用減薄工藝，將產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。實(shí)施例二 本實(shí)施例還提供一種彩膜基板，區(qū)別于實(shí)施例一所述，如圖4和圖5所示彩膜層13包括黑矩陣131和多個(gè)由黑矩陣131分隔而成的像素色塊132，傳感層120的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122均設(shè)置在黑矩陣131的遮擋位置。彩膜層13包括若干個(gè)紅綠藍(lán)(R/G/B)像素色塊132，每一像素色塊132的周?chē)趽跤蟹缆┕獾暮诰仃?31，傳感層12可設(shè)置在彩膜層13的下方，也可設(shè)置在彩膜層13的上方，但傳感層12上的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122均布設(shè)在黑矩陣131的遮擋位置，以提高像素的開(kāi)口率。例如圖5所示，驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122采用回旋走線方式，并排布設(shè)在相鄰黑矩陣131的對(duì)應(yīng)位置，黑矩陣131遮擋驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122，不影響像素的開(kāi)口率。其中，可選地，所述驅(qū)動(dòng)線和傳感線均為金屬走線或者透明導(dǎo)電走線。金屬線傳導(dǎo)性好，阻抗小，但一般不透光，透明導(dǎo)電材料如ITO透光但傳導(dǎo)性不好，阻抗大，因此，優(yōu)選地，如圖6所示，本實(shí)施例中所述的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122均包括金屬走線12a和沿金屬走線布設(shè)的透明電極12b，且透明電極12b與金屬走線12a相連接。為降低每條感應(yīng)線(驅(qū)動(dòng)線121或感應(yīng)線122)的阻抗，本發(fā)明采用金屬走線+透明電極的布線方法，即可降低感應(yīng)線的阻抗，增加互容，提高觸摸靈敏度，又不影響像素開(kāi)口率。其中，可選地，所述透明電極12b可覆蓋在金屬走線12a之上，或者，也可鋪設(shè)在金屬走線12a的下方。透明電極12b覆蓋在金屬走線12a之上,可對(duì)金屬走線12a起到保護(hù)作用，防止金屬走線12a在后續(xù)制造工序(如制作黑矩陣及像素色塊等)發(fā)生斷線不良；而透明電極12b鋪設(shè)在金屬走線12a的下層，制作時(shí)只需要一次構(gòu)圖工藝即可完成透明電極12b和金屬走線12a，具體實(shí)施中可根據(jù)具體情況進(jìn)行選擇。進(jìn)一步優(yōu)選地，如圖7所示，透明電極12b的邊緣呈鋸齒狀，且，驅(qū)動(dòng)線121的透明電極的鋸齒狀邊緣和感應(yīng)線122的透明電極的鋸齒狀邊緣相對(duì)應(yīng)，呈互補(bǔ)狀。透明電極12a的邊緣做成鋸齒狀，且驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122 二者透明電極的邊緣對(duì)應(yīng)互補(bǔ)，能夠增加電極板的正對(duì)面積，從而最大限度的提升驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122之間互電容C的大小,提升觸摸靈敏度。本發(fā)明還提供一種觸摸顯示裝置，設(shè)置有所述的任一彩膜基板。本發(fā)明提供觸摸顯示裝置，驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線均設(shè)置在黑矩陣的遮擋位置，像素開(kāi)口率高，而且制作工藝簡(jiǎn)單，制作時(shí)無(wú)需翻轉(zhuǎn)基板，可提高制作時(shí)的良品率，且后續(xù)還可采用減薄工藝，將產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。實(shí)施例三本發(fā)明實(shí)施里還提供一種彩膜基板的制造方法，如圖8所示，該方法包括步驟101、在基板上分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，所述驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線的設(shè)置位置均對(duì)應(yīng)于預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置；本步驟在對(duì)應(yīng)于預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置，分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線。參照?qǐng)D2所示，傳感層的整個(gè)觸摸顯示區(qū)域被劃分為多個(gè)傳感區(qū)域120，在每一傳感區(qū)域120內(nèi)，沿預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置并排布設(shè)驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122，走線方式不做限定。步驟102、制作黑矩陣及像素色塊，然后按常規(guī)流程完成彩膜基板的制造。在完成傳感層的驅(qū)動(dòng)線121和感應(yīng)線122布設(shè)后，不翻轉(zhuǎn)基板，本步驟繼續(xù)在傳感層上制作黑矩陣131，遮蓋驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線如圖9所示，然后制作除紅綠藍(lán)像素色塊132如圖5所示。然后，按常規(guī)流程完成彩膜基板的制造，如果是垂直電場(chǎng)模式，繼續(xù)制作公共電極及取向?qū)?；如果是水平電?chǎng)模式，則不需要在彩膜基板上制作公共電極，公共電極位于陣列基板。另外，需注意傳感層可設(shè)置在彩膜層(包括黑矩陣和像素色塊)的上方或下方，因此步驟101布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，及步驟102制作黑矩陣和紅綠藍(lán)像素色塊，執(zhí)行的先后順序并不影響本發(fā)明的具體實(shí)施效果，因此本實(shí)施例對(duì)此不做限定。本發(fā)明提供彩膜基板制作方法，現(xiàn)在彩膜基板的基板內(nèi)側(cè)布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，形成傳感層；然后無(wú)需翻轉(zhuǎn)基板，直接在傳感層上繼續(xù)制作黑矩陣和紅綠藍(lán)像素色塊，按常規(guī)流程完成觸摸顯示裝置的制造，制作工藝簡(jiǎn)單，像素開(kāi)口率高，制作時(shí)的良品率提高，且后續(xù)還可采用減薄工藝，將產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。具體地，步驟101具體包括步驟1011、在基板上沉積金屬層，采用構(gòu)圖工藝，對(duì)應(yīng)于預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置分區(qū)域布設(shè)金屬走線，所述金屬走線包括驅(qū)動(dòng)線的金屬走線和感應(yīng)線的金屬走線；步驟1012、沉積透明導(dǎo)電層，采用構(gòu)圖工藝，形成沿金屬走線布設(shè)的透明電極。本實(shí)施例所述的透明電極的材質(zhì)為氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化鋁鋅中的一種或多種。本實(shí)施例中，也可先執(zhí)行步驟1012，對(duì)應(yīng)于預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置分區(qū)域布設(shè)透明電極；再執(zhí)行步驟1011，形成沿所述透明電極布設(shè)的金屬走線，既金屬走線也可設(shè)置在透明電極的上方。本發(fā)明采用金屬走線+透明電極的布線方法，即可降低感應(yīng)線的阻抗，同時(shí)提升感應(yīng)靈敏性，又不影響像素的開(kāi)口率。本實(shí)施例所述彩膜基板的制作方法，制作過(guò)程無(wú)需翻轉(zhuǎn)，工藝簡(jiǎn)單，制作時(shí)的良品率提高，且后續(xù)還可采用減薄工藝，將產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。本發(fā)明實(shí)施例提供的制造方法用以制作本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板，實(shí)際上并不僅限于以上所述的方式，此處不再一一介紹。實(shí)施例四本發(fā)明實(shí)施例還提供一種所述觸摸顯示裝置的驅(qū)動(dòng)方法，如圖11所示，該方法包括·
201、在屏幕刷新周期的第一時(shí)段(顯示時(shí)段)，停止向驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，同時(shí)各柵線依次輸出開(kāi)啟信號(hào)，以便數(shù)據(jù)線依次向各像素加載顯示數(shù)據(jù)，所述屏幕刷新周期包括為第一時(shí)段和第二時(shí)段；202、在屏幕刷新周期內(nèi)的第二時(shí)段(觸摸時(shí)段)，向驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，所述感應(yīng)線接收觸控信號(hào)，同時(shí)各柵線輸出關(guān)閉信號(hào)。該方法中將一幀畫(huà)面播放的時(shí)間劃分為第一時(shí)段和第二時(shí)段，如圖11所示，一般顯示裝置的刷新頻率為60HZ，即屏幕刷新周期(播放一幀畫(huà)面所用時(shí)間)約為16. 67ms，一種可選的實(shí)施方式中，將第一時(shí)段即加載顯示時(shí)段設(shè)置為12. 67ms，第二時(shí)段即觸摸顯示時(shí)段設(shè)置為4ms。第一時(shí)段(一幀的12. 7ms時(shí)間段)，驅(qū)動(dòng)線沒(méi)有信號(hào)(處于切斷狀態(tài))，感應(yīng)線停止接收信號(hào)；同時(shí)各柵線開(kāi)始依次輸出開(kāi)啟信號(hào)，逐行打開(kāi)以加載顯示數(shù)據(jù)，把每個(gè)像素充電至所需電壓，觸摸顯示裝置顯示圖像。第二時(shí)段(一幀剩余的4ms的時(shí)間里)，驅(qū)動(dòng)線上施加有驅(qū)動(dòng)信號(hào)，這時(shí)如果觸摸，會(huì)在感應(yīng)線上產(chǎn)生電容耦合信號(hào)，經(jīng)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線輸入
CPU, CPU執(zhí)行程序輸出相應(yīng)的結(jié)果；同時(shí)第二時(shí)段內(nèi)，雖然各柵線輸出關(guān)閉信號(hào)使薄膜晶體管關(guān)閉，但因在第一時(shí)段內(nèi)已將每個(gè)像素充電至所需電壓，因此在第二時(shí)段，觸摸顯示裝置畫(huà)面仍保持在第一時(shí)段的狀態(tài)。本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸顯示裝置的驅(qū)動(dòng)方法，只在第一時(shí)段向驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，感應(yīng)線接收觸控信號(hào)，但是該時(shí)段極短，遠(yuǎn)小于人的平均反應(yīng)時(shí)間O. ls，因此不影響用戶(hù)使用，也不產(chǎn)生視覺(jué)影響。本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸顯示裝置的驅(qū)動(dòng)方法，分時(shí)段驅(qū)動(dòng)觸摸顯示裝置的顯示部分和觸摸部分，在驅(qū)動(dòng)線上加載有驅(qū)動(dòng)信號(hào)時(shí)，因每個(gè)像素已充電至所需電壓，因此此時(shí)接收觸摸信號(hào)，觸摸顯示裝置畫(huà)面仍保持在第一時(shí)段的狀態(tài)，顯示效果不受觸摸的影響。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種彩膜基板，所述彩膜基板包括基板、設(shè)置在所述基板上的傳感層和彩膜層，所述彩膜層包括黑矩陣和多個(gè)由黑矩陣分隔而成的像素色塊，其特征在于， 所述傳感層與所述彩膜層位于所述基板的同一側(cè)； 所述傳感層包括多個(gè)傳感區(qū)域，每一所述傳感區(qū)域均布設(shè)有同層并排排列的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的彩膜基板，其特征在于， 所述傳感層設(shè)置在所述基板上，所述彩膜層設(shè)置在所述傳感層上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)線和所述感應(yīng)線，均設(shè)置在所述黑矩陣的遮擋位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于， 所述驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線采用呈現(xiàn)回旋走線方式或者之字形走線方式，排列在所述傳感區(qū)域內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)線和傳感線均為金屬走線或者透明導(dǎo)電走線。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于， 所述驅(qū)動(dòng)線和傳感線均包括金屬走線和沿所述金屬走線布設(shè)且與所述金屬走線相連接的透明電極。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板，其特征在于， 所述透明電極覆蓋在所述金屬走線之上，或者， 鋪設(shè)在所述金屬走線的下方。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板，其特征在于， 所述透明電極的邊緣呈鋸齒狀，且， 所述驅(qū)動(dòng)線的透明電極的鋸齒狀邊緣和所述感應(yīng)線的透明電極的鋸齒狀邊緣相對(duì)應(yīng)，呈互補(bǔ)狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)線引線和感應(yīng)線引線； 同一行所述傳感區(qū)域的所述驅(qū)動(dòng)線均連接至同一條所述驅(qū)動(dòng)線引線，同一列所述傳感區(qū)域的所述感應(yīng)線均連接至同一條所述感應(yīng)線引線。
10.一種觸摸顯示裝置，其特征在于，設(shè)置有權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
11.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括 在基板上分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，所述驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線的設(shè)置位置均對(duì)應(yīng)于黑矩陣的遮擋位置； 制作黑矩陣及像素色塊，按常規(guī)流程完成彩膜基板的制造。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述在基板上分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，具體包括 在基板上沉積金屬層，采用構(gòu)圖工藝，在對(duì)應(yīng)于預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置分區(qū)域布設(shè)金屬走線，所述金屬走線包括所述驅(qū)動(dòng)線的金屬走線和所述感應(yīng)線的金屬走線； 沉積透明導(dǎo)電層，采用構(gòu)圖工藝，形成沿所述金屬走線布設(shè)的透明電極。
13.一種所述觸摸顯示裝置的驅(qū)動(dòng)方法，其特征在于，包括在屏幕刷新周期的第一時(shí)段，停止向所述驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，同時(shí)各柵線依次輸出 開(kāi)啟信號(hào)，以便數(shù)據(jù)線依次向各像素加載顯示數(shù)據(jù)，所述屏幕刷新周期包括第一時(shí)段和第二時(shí)段； 在屏幕刷新周期內(nèi)的第二時(shí)段，向所述驅(qū)動(dòng)線施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)，所述感應(yīng)線接收觸控信號(hào)，同時(shí)各柵線輸出關(guān)閉信號(hào)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種彩膜基板及其制造方法、觸摸顯示裝置及其驅(qū)動(dòng)方法，涉及顯示領(lǐng)域，能夠提高制作時(shí)的良品率，后續(xù)可采用減薄工藝，使產(chǎn)品厚度進(jìn)一步減薄。本發(fā)明所述觸摸顯示裝置，包括彩膜基板，所述彩膜基板包括基板、設(shè)置在所述基板上的傳感層和彩膜層，所述彩膜層包括黑矩陣和多個(gè)由黑矩陣分隔而成的像素色塊，所述傳感層與所述彩膜層位于所述基板的同一側(cè)；所述傳感層包括多個(gè)傳感區(qū)域，每一所述傳感區(qū)域均布設(shè)有同層并排排列的驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線。所述制造方法包括在基板上分區(qū)域布設(shè)驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線，驅(qū)動(dòng)線和感應(yīng)線的設(shè)置位置均對(duì)應(yīng)于預(yù)設(shè)黑矩陣的遮擋位置；制作黑矩陣及像素色塊，按常規(guī)流程完成觸摸顯示裝置的制造。
文檔編號(hào)G02F1/1362GK102929031SQ20121042947
公開(kāi)日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2012年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月31日
發(fā)明者王海生, 吳俊緯, 丁小梁, 劉英明 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司