專利名稱：光拾波器裝置所搭載的透鏡的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光拾波器裝置所搭載的透鏡，涉及配備有在三個波長區(qū)域具有適當(dāng)?shù)?透射率的防反射膜的光拾波器裝置所搭載的透鏡。
背景技術(shù)：
在光拾波器用的準(zhǔn)直透鏡和物鏡等一般的透鏡中，為了提高透射率和耐光性而附 著防反射膜。在3種波長用的防反射膜等、使390 430nm的波長的光束和630 800nm 的波長的光束的反射得以防止的防反射膜中，提出有反射率極小值在上述390 430nm和 630 SOOnm附近這兩處具有極小值的防反射膜。另外近年來，也公開有在雙層構(gòu)造的防反 射膜中、在390 430nm和630 800nm這兩處能夠具有極小值的情形，雙層的這種防反射 膜具有制造上有利等優(yōu)點(diǎn)。
但是，這樣的防反射膜，各層的膜變厚。在專利文獻(xiàn)I中，在表I至表3中，介紹了 幾個在光拾波器透鏡所常用的使用了 Ta2O5和SiO2的防反射膜的例子。使用了 Ta2O5和SiO2 的防反射膜，多是從耐光性的觀點(diǎn)出發(fā)而被常用的光學(xué)材料。
若調(diào)查專利文獻(xiàn)I的防反射膜Ta2O5膜的合計(jì)的厚度，則在專利文獻(xiàn)I的實(shí)施例1中為121. 34nm，在實(shí)施例3中為149. 36nm，在實(shí)施例4中為139. 6nm，在實(shí)施例6中為 127. 36nm，在實(shí)施例7中為154. 25nm，在實(shí)施例8中為146. 56nm，在實(shí)施例14中為152. 66 和131. 13nm，為IOOnm以上。另外，因?yàn)橥哥R的面為兩面，所以若將這些防反射膜附著在兩 面，則Ta2O5膜的合計(jì)的厚度為200nm以上。
可是，根據(jù)防反射膜的材料，已知存在因材料造成的光吸收。在圖13中示出作為 實(shí)驗(yàn)條件I的防反射膜的膜厚。容易發(fā)生光吸收的高折射率材料的Ta2O5膜的膜厚，在Rl 面為 129. 68nm，在 R2 面為 157. 14nm。
圖14中示出實(shí)驗(yàn)條件I的透射率，圖15中示出實(shí)驗(yàn)條件I的Rl面?zhèn)鹊姆瓷渎剩?圖16中示出實(shí)驗(yàn)條件I的R2面?zhèn)鹊姆瓷渎?。讀取了圖14至圖16的刻度的值在圖17中示 出。根據(jù)圖17，波長405nm的防反射膜的透射率其設(shè)計(jì)值為98. 38%、其實(shí)測值為91. 92%， 波長660nm的透射率其設(shè)計(jì)值為97. 61 %、其實(shí)測值為97. 84%，波長780nm的透射率其設(shè) 計(jì)值為98. 15%、其實(shí)測值為97.90%。波長660nm和波長780nm下，透射率的設(shè)計(jì)值與實(shí) 測值的差在O. 3 %以內(nèi)，如設(shè)計(jì)這樣的透射率的值出現(xiàn)，但在波長405nm下，設(shè)計(jì)值與實(shí)測 值的差為6.46%。
在此，透射率與Rl面?zhèn)鹊姆瓷渎屎蚏2面?zhèn)鹊姆瓷渎氏嗉討?yīng)該為100%。若試著看 波長405nm下的反射率，則Rl面?zhèn)鹊姆瓷渎实膶?shí)測值為1. 96%,R2面?zhèn)鹊姆瓷渎实膶?shí)測值 為3. 46%。若將其合計(jì)則為97. 33%，有2. 67%的不清楚的量。這被認(rèn)為是由于防反射膜 材料的光吸收造成的透射率的降低。
接著，在圖18作為實(shí)驗(yàn)條件2示出反射率的膜厚。容易發(fā)生光吸收的高折射率材 料的Ta2O5膜的膜厚，在Rl面為150nm，在R2面為50nm。
圖19中示出實(shí)驗(yàn)條件2的透射率，圖20中示出實(shí)驗(yàn)條件2的Rl面?zhèn)鹊姆瓷渎剩瑘D21中示出實(shí)驗(yàn)條件2的R2面?zhèn)鹊姆瓷渎?。讀取了圖19至圖21的刻度的值在圖22中示出。 根據(jù)圖22，波長405nm下透射率其設(shè)計(jì)值為98. 92 %、其實(shí)測值為98. 26 %，波長660nm下透射率其設(shè)計(jì)值為98. 80%、其實(shí)測值為98. 09%，波長780nm下透射率其設(shè)計(jì)值為97. 44%, 其實(shí)測值為96. 43%。
在圖22中，波長405nm、波長660nm、波長780nm的波長的防反射膜材料的光吸收造成的透射率的降低量(吸收率)分別為O. 85%,O. 30%,O. 53，波長405nm、波長660nm、波長780nm的全部的波長下，透射率的設(shè)計(jì)值和實(shí)測值的差在1. O %以內(nèi)，能夠得到大致如設(shè)計(jì)那樣的透射率。
根據(jù)以上的結(jié)果，在高折射率材料的膜厚為厚的透鏡中，短波長的405nm下發(fā)生光的吸收。此外將上述實(shí)驗(yàn)條件I和實(shí)驗(yàn)條件2的結(jié)果匯總示出在圖23中。因?yàn)檎J(rèn)為吸收量與膜的厚度成比例，所以由上述實(shí)驗(yàn)I和2可知如下關(guān)系成立
吸收率(％ ) = O. 0098X高折射率材料膜厚(nm)(式I)
先行技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)I特開2005-38581號公報
在上述現(xiàn)有技術(shù)的防反射膜中，Ta2O5膜的合計(jì)的厚度在單面為IOOnm以上。另外，因?yàn)橥哥R其面有兩面，所以若將這些防反射膜附著在兩面，則Ta2O5膜的合計(jì)的厚度為 200nm以上，不能獲得3種波長下的透射率適當(dāng)?shù)墓馐安ㄆ餮b置所搭載的透鏡。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明其目的在于，提供一種光拾波器裝置所搭載的透鏡，其具備由光吸收造成的透射率的降低小至1%且波長405nm附近、波長660nm附近、波長785nm附近這三個波長的透射率在單面下滿足97%的防反射膜。
為了解決上述課題，本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，是具備在三個波長區(qū)域下使用的防反射膜的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，所述防反射膜由兩層以上的高折射率材料層和低折射率材料層的多層的膜所構(gòu)成，且所述高折射率材料層的合計(jì)膜厚為50nm以下，并且在波長410nm以下的光的吸收率為1%以下。
還有，若由高折射率材料層只有一層所構(gòu)成的防反射膜，想要得到97%以上的透射率，則高折射率材料的膜厚為IOOnm以上。
本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，是具備在波長380 410nm、波長640 670nm、波長770 SOOnm三個波長區(qū)域下使用的防反射膜的光拾波器裝置所搭載的透鏡， 其特征在于，所述防反射膜由兩層以上的高折射率材料層和低折射率材料層的多層的膜所構(gòu)成；光吸收率高的所述高折射率材料層，被所述低折射率材料層、空氣、透鏡的任意一個夾隔，且所述高折射率材料層的合計(jì)膜厚為50nm以下，所述防反射膜在波長380 410nm、 波長640 670nm、波長770 800nm各個波長區(qū)域上光吸收率為1%以下。
另外，本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，所述防反射膜由所述高折射率材料層和所述低折射率材料層的五層以上的膜所構(gòu)成。
另外，本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，所述防反射膜由低折射率材料的SiO的低折射率材料層、低折射率材料的SiO2的低折射率材料層、高折射率材料的Ta2O5的高折射率材料層這三種層所形成。
另外，本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，優(yōu)選所述防反射膜的透射率在波長 405nm、660nm、波長785nm這三個波長下，分別在兩面為97%以上。
另外，本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，優(yōu)選所述防反射膜的透射率在波長 405nm、660nm、波長785nm這三個波長下，分別在兩面為96%以上。
另外，本發(fā)明的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，是準(zhǔn)直透鏡或耦合透鏡。
在防反射膜中，一般來說，在透鏡的第一面和透鏡的第二面這兩面附著防反射膜， 在兩面的膜厚下為200nm。在這樣的防反射膜中，由材料造成的光的吸收大，在實(shí)際的透鏡 中不能獲得設(shè)計(jì)上所得到的透射率。
因此在本發(fā)明的防反射膜中，其設(shè)計(jì)方式為，使兩層以上的高折射率材料層的合 計(jì)膜厚為50nm以下。
若高折射率材料由一層構(gòu)成，膜厚為50nm以下，則不能使波長405nm附近、波長 660nm附近、波長785nm附近的三個波長的透射率為97%以上。因此，將附著在透鏡面的光 吸收高的高折射率材料層構(gòu)成為兩層膜以上，由這兩層膜的層構(gòu)成的高折射率材料層，按 照夾隔低折射率材料層的方式設(shè)定即可。
如此構(gòu)成的防反射膜，即使膜厚的合計(jì)在50nm以下時，也能夠容易地以滿足97% 的透射率的方式設(shè)計(jì)，此外由于膜厚薄至50nm以下，所以吸收造成的影響被抑制在I %以 內(nèi)，能夠確保如設(shè)計(jì)那樣的透射率。
另外，優(yōu)選本發(fā)明的防反射膜由四層以上的膜構(gòu)成。本發(fā)明的高折射率材料層為 兩層以上。而且，高折射率材料層與低折射率材料層接觸的方法更容易發(fā)揮效果，因此優(yōu)選 防反射膜的層數(shù)為四層以上。
另外，從耐光性和各個膜的密接性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選例如由SiO、SiO2、Ta2O5三種形 成。
在本發(fā)明中，其特征在于，在波長405nm、波長660nm、波長785nm下的單面的透射 率為98. 0%，雙面下的透射率為96%以上。更優(yōu)選在波長405nm、波長660nm、波長785nm 下的透射率，按單面其透射率為98. 5%以上，按兩面其透射率為97%以上。
本發(fā)明中，以準(zhǔn)直透鏡或耦合透鏡發(fā)揮效果。這些準(zhǔn)直透鏡或耦合透鏡，是使用三 個波長以上的激光器、且記述于光拾波器透鏡中的。
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種光拾波器裝置所搭載的透鏡，其具備由光吸收造成的 透射率的降低小且405nm附近、波長660nm附近、波長785nm附近的三個波長的透射率滿足 97%以上的防反射膜


圖1是本發(fā)明的實(shí)施例1至實(shí)施例3所示的防反射膜的膜構(gòu)成、膜厚、透射率的一 覽表。
圖2是比較例I至比較例6所示的防反射膜的膜構(gòu)成、膜厚、透射率的一覽表。
圖3是關(guān)于本發(fā)明的實(shí)施例1的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖4是關(guān)于本發(fā)明的實(shí)施例2的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖5是關(guān)于本發(fā)明的實(shí)施例3的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖6是表示本發(fā)明的實(shí)施例1至實(shí)施例3，和比較例I至比較例6中使用的透鏡材 料的折射率、防反射膜R材料的折射率的圖。
圖7是關(guān)于比較例I的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖8是關(guān)于比較例2的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖9是關(guān)于比較例3的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖10是關(guān)于比較例4的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖11是關(guān)于比較例5的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖12是關(guān)于比較例6的、在橫軸為波長而縱軸為反射率下的曲線圖。
圖13是表示實(shí)驗(yàn)條件I的膜厚的圖。
圖14是關(guān)于實(shí)驗(yàn)條件I的、在橫軸為波長而縱軸為透射率下的曲線圖。
圖15是關(guān)于實(shí)驗(yàn)條件I的、在橫軸為波長而縱軸為Rl面反射率下的曲線圖。虛 線為設(shè)計(jì)值，實(shí)線為實(shí)測值。
圖16是關(guān)于實(shí)驗(yàn)條件I的、在橫軸為波長而縱軸為R2面反射率下的曲線圖。虛 線為設(shè)計(jì)值，實(shí)線為實(shí)測值。
圖17是使實(shí)驗(yàn)條件I的圖14至圖16加以了數(shù)值化的表。
圖18是表示實(shí)驗(yàn)條件2的膜厚的圖。
圖19是關(guān)于實(shí)驗(yàn)條件2的、在橫軸為波長而縱軸為透射率下的曲線圖。
圖20是關(guān)于實(shí)驗(yàn)條件2的、在橫軸為波長而縱軸為Rl面反射率下的曲線圖。虛 線為設(shè)計(jì)值，實(shí)線為實(shí)測值。
圖21是關(guān)于實(shí)驗(yàn)條件2的、在橫軸為波長而縱軸為R2面反射率下的曲線圖。虛 線為設(shè)計(jì)值，實(shí)線為實(shí)測值。
圖22是使實(shí)驗(yàn)條件2的圖19至圖21加以了數(shù)值化的表。
圖23是表示總結(jié)實(shí)驗(yàn)條件I和實(shí)驗(yàn)條件2的結(jié)果的膜厚和吸收率的關(guān)系的圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明的透鏡，是使用多種單色光的多波長用的透鏡，是能夠?qū)?yīng)例如CD、DVD和 藍(lán)光光盤等各類不同的光記錄媒體的、互換性的記錄再生裝置所使用的多波長用透鏡，至 少在波長405nm附近、波長660nm附近、波長785nm附近的三個波長下使用。另外本發(fā)明還 被使用于例如準(zhǔn)直透鏡和耦合透鏡。
另外，本發(fā)明的多波長用光學(xué)系統(tǒng)、光讀頭及光盤裝置，使用這樣的多波長用透鏡。
另外本發(fā)明因?yàn)檫€被用于透鏡，所以有光入射的透鏡第一面和光出射的透鏡第二面。
這時，透鏡第一面所使用的防反射膜和透鏡第二面所使用的防反射膜，可以是相 同的構(gòu)成物，也可以是不同的構(gòu)成物。
本發(fā)明所用的防反射膜，由在光學(xué)元件上使高折射率材料層和低折射率材料層得 以層疊的構(gòu)造構(gòu)成。作為高折射率材料層的材料，優(yōu)選使用從氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化 鉭、氧化鈮、氧化銻、氧化鈰、氧化釔、氧化鉿、氧化鎂等氧化物，氮化硅、氮化鍺等的氮化物，碳化硅等的碳化物，硫化鋅等的硫化物及其混合材料中選擇的至少一種。作為高折射率材 料，如圖7所示，優(yōu)選例如1. 9 2.1的折射率的材料。
另外，作為低折射率材料層的材料,有從氧化硅和氟化鎂、氟化鋁、氟化鋇、氟化 鈣、氟化鋰、氟化鈉、氟化鍶、氟化釔、錐冰晶石、冰晶石等氟化物及其混合材料中選擇的至 少一種。另外，為了提高在高溫高濕環(huán)境下的保存特性，優(yōu)選使用氧化物、氮化物、碳化物、 氟化物。作為低折射率材料，如圖7所示，優(yōu)選例如1. 4 1. 6的折射率的材料。
本發(fā)明的防反射膜，例如由真空成膜法制作。在真空成膜法中，能夠使用真空蒸鍍 法、濺射法、化學(xué)氣相沉積法、激光燒蝕法等各種成膜法。使用真空蒸鍍法時，為了改善膜 質(zhì)，若采用使蒸氣流的一部分離子化并且在基板側(cè)外加偏壓的離子鍍法、離子團(tuán)束法、使用 其他離子槍對基板照射離子的離子輔助蒸鍍法則有效。作為濺射法，有DC反應(yīng)性濺射法、 RF濺射法、離子束濺射法等。另外，作為化學(xué)氣相法，有等離子體聚合法、光輔助氣相法、熱 分解法、有機(jī)金屬化學(xué)氣相法等。還有，各折射率膜的膜厚，通過改變膜形成時的蒸鍍時間 等，能夠成為期望的膜厚。
另外，光學(xué)元件中，除了聚烯烴系樹脂、環(huán)烯系樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹 脂等塑料以外，還有石英玻璃、硼硅酸玻璃等的光學(xué)玻璃，A1203、MgO等氧化物單晶、多晶基 板，CaF2、Mg F2、BaF2、LiF等的氟化物單晶基板、多晶基板，NaCl、KBr、KCl等氯化物、溴化物 單晶、其他結(jié)晶基板等，只要在使用波段是透明的光學(xué)材料，任意一種都能夠適用。以下，參 照附圖對于本發(fā)明的實(shí)施例和比較例進(jìn)行說明。
圖1是本發(fā)明的實(shí)施例1至實(shí)施例3所示的防反射膜的膜構(gòu)成、膜厚、透射率的一 覽表，圖2是比較例I至比較例6所示的防反射膜的膜構(gòu)成、膜厚、透射率的一覽表。在各 比較例和各實(shí)施例中，與透鏡接觸的膜記述為第一層，位于其上的膜記述為第二層，以下按 順序記述為第三層、第四層。
圖2的一覽表所不的比較例I是雙層結(jié)構(gòu)的防反射膜。第一層為低折射率材料的 SiO2，第二層為高折射率材料的Ti205。Ti2O5的膜為一層的結(jié)構(gòu)。
在比較例I中，單面透射率的設(shè)計(jì)透射率在波長405nm下為98. 66 %，在波 長660nm下為99. 69 %，在波長785nm下為97. 84 %，設(shè)計(jì)上透射率充分。但是，膜厚為 120. 9Inm時，推測吸收造成的影響為2. 37%，不能取得如設(shè)計(jì)這樣的恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 比較例2是雙層結(jié)構(gòu)的防反射膜。第一層為低折射率材料的SiO2，第二層為高折 射率材料的Ti205。Ti2O5的膜為一層的結(jié)構(gòu)。膜厚為50. OOnm,吸收造成的影響為O. 98%, 吸收造成的影響抑制在I%以內(nèi)。
但是，在比較例2中，透射率在波長405nm下為98. 72 %，在波長660nm下為 90. 00%，在波長785nm下為89. 06%，不能取得恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 比較例3是雙層結(jié)構(gòu)的防反射膜。第一層為低折射率材料的SiO2，第二層為高折 射率材料的Ti205。Ti2O5的膜為一層的結(jié)構(gòu)。膜厚為20. OOnm，吸收造成的影響為O. 39%, 吸收造成的影響抑制在I%以內(nèi)。
但是，透射率在波長405nm下為97. 41 %，在波長660nm下為97. 02 %，在波長 785nm下為95. 69%，不能取得恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 比較例4是三層結(jié)構(gòu)。第一層為低折射率材料的SiO2,第二層為高折射率材料的 Ti2O5，第三層為低折射率材料的SiO。Ti2O5的膜為一層的結(jié)構(gòu)。膜厚為50. OOnm,吸收造成的影響為O. 98%，吸收造成的影響抑制在1%以內(nèi)。但是，透射率在波長405nm下為96. 19%, 在波長660nm下為93. 65 %，在波長785nm下為99. 04 %，在波長405nm和波長660nm下不能取得恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 比較例5是三層結(jié)構(gòu)。第一層為低折射率材料的SiO2，第二層為高折射率材料的Ti2O5，第三層為低折射率材料的SiO。Ti2O5的膜為一層的結(jié)構(gòu)。膜厚為50. OOnm,吸收造成的影響為O. 98%，吸收造成的影響被抑制在1%以內(nèi)。但是，透射率在波長405nm下為95. 90%，在波長660nm下為99. 76%，在波長785nm下為91. 34%，在波長405nm和波長 785nm下不能取得恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 比較例6是五層結(jié)構(gòu)。第一層為低折射率材料的SiO2，第二層為高折射率材料的 Ti2O5,第三層為低折射率材料的SiO2，第四層為高折射率材料的Ti2O5,第五層為低折射率材料的SiO。Ti2O5的膜為雙層的結(jié)構(gòu)。
透射率在波長405nm下為98. 56 %，在波長660nm下為99. 77 %，在波長785nm下為 98.57%。設(shè)計(jì)上透射率充分。但是，膜厚為100. OOnm時，推測吸收造成的影響為1.96%， 不能取得如設(shè)計(jì)那樣的恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 實(shí)施例1
圖1的一覽表所不的本發(fā)明的實(shí)施例1,其為五層結(jié)構(gòu)。第一層為低折射率材料的 SiO2，第二層為高折射率材料的Ti2O5，第三層為低折射率材料的SiO2，第四層為高折射率材料的Ti2O5，第五層為低折射率材料的SiO。Ti2O5的膜為雙層的結(jié)構(gòu)。膜厚為47. 82nm,吸收造成的影響被抑制在幾乎沒有的程度。透射率在波長405nm 下為99. 46 %，在波長660nm下為99. 32 %，在波長785nm下為98. 64 %。透射率充分。
另外，兩面的透射率在波長405nm下也為98. 92%，在波長660nm下為98. 64%，在波長78511111下為97.30(%。透射率充分。此外，即使考慮實(shí)驗(yàn)條件2下研究的按三個波長的吸收率，在波長405nm下也為97. 99 %，在波長660nm下為98. 64 %，在波長785nm下為97.30%，能夠在三個波長下得到兩面透射率97%以上的恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 實(shí)施例2
本發(fā)明的實(shí)施例2，其為7層結(jié)構(gòu)。第一層為低折射率材料的SiO2，第二層為高折射率材料的Ti2O5，第三層為低折射率材料的SiO2，第四層為高折射率材料的Ti2O5，第五層為低折射率材料的SiO2，第六層為高折射率材料的Ti2O5，第七層為低折射率材料的SiO。 Ti2O5的膜為三層的結(jié)構(gòu)。
膜厚為45. OOnm,吸收造成的影響被抑制在幾乎沒有的程度。透射率在波長405nm 下為99. 62 %，在波長660nm下為99. 31 %，在波長785nm下為99. 02 %。透射率充分。
另外，兩面的透射率在波長405nm下也為99. 24%，在波長660nm下為98. 62%，在波長78511111下為98.05(%。透射率充分。此外，即使考慮實(shí)驗(yàn)條件2下研究的按三個波長的吸收率，在波長405nm下也為98. 36 %，在波長660nm下為98. 62 %，在波長785nm下為98.05%，能夠在三個波長下得到兩面透射率97%以上的恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 實(shí)施例3
本發(fā)明的實(shí)施例3，其為五層結(jié)構(gòu)。第一層為低折射率材料的SiO2，第二層為高折射率材料的ZrO2，第三層為低折射率材料的SiO2，第四層為高折射率材料的ZrO2，第五層為低折射率材料的SiO。ZrO2的膜為雙層的結(jié)構(gòu)。膜厚為47. 80nm，吸收造成的影響被抑制在幾乎沒有的程度。透射率在波長405nm下為98. 93%，在波長660nm下為98. 25%，在波長 785nm下為98. 04%。透射率充分。
另外，兩面的透射率在波長405nm下也為97. 87 %，在波長660nm下為96. 53 %，在 波長785nm下為96. 12%。透射率充分。此外，即使考慮實(shí)驗(yàn)條件2下研究的按三個波長 的吸收率，在波長405nm下也為96. 93 %，在波長660nm下為96. 53 %，在波長785nm下為 96. 12%，即使作為高折射率材料使用ZrO2時，也能夠在三個波長下得到兩面透射率96%以 上的恰當(dāng)?shù)耐干渎省?br> 權(quán)利要求
1.一種光拾波器裝置所搭載的透鏡，其具備在三個波長區(qū)域下使用的、且在入射面和出射面分別設(shè)置的防反射膜，其特征在于，所述防反射膜由兩層以上的高折射率材料層和低折射率材料層的多層的膜所構(gòu)成，且所述高折射率材料層的合計(jì)膜厚分別為50nm以下，并且所述防反射膜在波長410nm以下的光的吸收率為1%以下。
2.一種光拾波器裝置所搭載的透鏡，其具備在波長380 410nm、波長640 670nm、波長770 800nm這樣的三個波長區(qū)域下使用的防反射膜，其特征在于，所述防反射膜由兩層以上的高折射率材料層和低折射率材料層的多層的膜所構(gòu)成； 光吸收率高的所述高折射率材料層，被所述低折射率材料層、空氣、透鏡的任意一個夾隔， 且所述高折射率材料層的合計(jì)膜厚為50nm以下，所述防反射膜在波長380 410nm、波長 640 670nm、波長770 800nm各個波長區(qū)域上光吸收率為1%以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，所述防反射膜由所述高折射率材料層和所述低折射率材料層的五層以上的膜所構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于， 所述防反射膜由低折射率材料的SiO的低折射率材料層、低折射率材料的SiO2的低折射率材料層、高折射率材料的Ta2O5的高折射率材料層這三種層所形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，所述防反射膜的透射率在波長405nm、波長660nm、波長785nm這三個波長下，分別為 96%以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，所述防反射膜的透射率在波長405nm、波長660nm、波長785nm這三個波長下，分別為 97%以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其特征在于，具有所述防反射膜的所述透鏡，是所述光拾波器裝置所搭載的準(zhǔn)直透鏡或耦合透鏡。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光拾波器裝置所搭載的透鏡，其具備由光吸收造成的透射率的降低小且波長405nm附近、波長660nm附近、波長785nm附近這三個波長的透射率滿足97％的防反射膜。并且，具備在波長380～410nm、波長640～670nm、波長770～800nm三個波長區(qū)域下使用的防反射膜的光拾波器裝置所搭載的透鏡，其防反射膜由兩層以上的高折射率材料層和低折射率材料層的多層的膜所構(gòu)成，光吸收率高的所述高折射率材料層，被低折射率材料層、空氣、透鏡的任意一個夾隔，使所述高折射率材料層的合計(jì)膜厚為50nm以下，使波長410nm以下的光的吸收率為1％以下。
文檔編號G02B1/11GK102998722SQ20121032615
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月15日
發(fā)明者水口麻美, 清水孝行, 杉靖幸 申請人:日立麥克賽爾株式會社