專利名稱：內(nèi)嵌式觸控顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系有關(guān)于一種觸控顯示器，且特別是有關(guān)于一種內(nèi)嵌式觸控顯示器(in-cell touch panel display)。
背景技術(shù)：
隨著科技日新月異的進步，消費性電子產(chǎn)品的應(yīng)用也越來越多樣化，目前的許多電子產(chǎn)品中，除了以輕、薄、短、小為主外，許多可攜式的電子產(chǎn)品(例如個人數(shù)位助理(personal digital assistant, PDA)或行動電話)已廣泛地使用觸控式顯示器(touchpanel display)。觸控顯不器可分為外掛式(on-cell)與內(nèi)嵌式(in-cell)觸控顯不器。外掛式觸控顯示器主要將觸控面板制作好之后，再將觸控面板與顯示面板進行貼合與組裝，以于顯示面板表面形成觸控顯示器，然而，額外的觸控面板會增加整體電子裝置的厚度，并降低原先顯示器的透光率，因此，業(yè)界開發(fā)出內(nèi)嵌式觸控顯示器。內(nèi)嵌式觸控顯示器主要將觸控元件整合于顯示裝置內(nèi)，使得單一顯示器同時具有觸控與顯示的功能。圖1顯示習(xí)知內(nèi)嵌式觸控顯示器的剖面圖，內(nèi)嵌式觸控顯示器10包括第一基板12與第二基板52，其中第一基板12與第二基板52系相對設(shè)置。第二基板52之上依序包括平坦層54與電極層56。第一基板12 (例如玻璃)可區(qū)分成主動區(qū)Ia與位于主動區(qū)Ia外圍的邊框區(qū)lb。于主動區(qū)Ia中，第一基板12之上依序包括黑色矩陣14、第一平坦層(overcoat layer) 16、圖案化透明導(dǎo)電層18、絕緣層20、金屬層22、第二平坦層24、彩色濾光片26 (包括26R、26G、26B)、第三平坦層28與間隔物30，整個制造工藝需要經(jīng)過11道的圖案化制造工藝，且上述結(jié)構(gòu)需要三層平坦層與一層絕緣層，若這些層使用有機材料時，經(jīng)過高溫處理后容易產(chǎn)生熱收縮(shrink),此應(yīng)力會造成第一基板12 (例如玻璃)產(chǎn)生嚴(yán)重翅曲(bending)現(xiàn)象。此外，于邊框區(qū)Ib中，導(dǎo)電突出物(conductive protrusion) 32 (例如金球)形成于金屬層22之上,用以與第二基板52的導(dǎo)電層56電性連接,然而，當(dāng)?shù)谝换?2產(chǎn)生翅曲的現(xiàn)象時，導(dǎo)電突出物32也會有接觸不良的問題產(chǎn)生。因此,業(yè)界亟需提出一種內(nèi)嵌式觸控顯示器(in-cell touch panel),此結(jié)構(gòu)能夠解決基板翅曲的問題，且亦能提高導(dǎo)電突出物的電性接觸率(contact probability),更能有效降低觸控信號的干擾。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種內(nèi)嵌式觸控顯示器(in-cell touch panel display),包括:一第一基板，其中該第一基板包括一主動區(qū)及一邊框區(qū)，且該邊框區(qū)系設(shè)置于該主動區(qū)的外圍；一感測單元(sensor unit)形成于該第一基板的主動區(qū)上,其中該感測單元包括一第一圖案化電極層形成于該第一基板的主動區(qū)的內(nèi)側(cè)；一彩色濾光片單元，形成于該感測單元之上，其中該彩色濾光片單元包括復(fù)數(shù)個彩色濾光片與復(fù)數(shù)個黑色矩陣；一第二基板，系與該第一基板相對設(shè)置，其中該第二基板之上包括一薄膜晶體管陣列；以及一填充層，形成于該第一基板與該第二基板之間。為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征、和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉出較佳實施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下:


圖1為一剖面圖，用以說明習(xí)知的內(nèi)嵌式觸控顯示器。圖2A與圖2B分別為一俯視圖與一剖面圖，用以說明本發(fā)明第一實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器。圖3A與圖3B分別為一俯視圖與一剖面圖，用以說明本發(fā)明第三實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器。圖4A與圖4B分別為一俯視圖與一剖面圖，用以說明本發(fā)明第五實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器。圖5A-圖分別為一系列剖面圖，用以說明本發(fā)明內(nèi)嵌式觸控顯示器的邊框區(qū)的接觸單元結(jié)構(gòu)。圖6為一剖面圖，用以說明本發(fā)明第七實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器。圖7為一剖面圖，用以說明本發(fā)明第八實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器。主要元件符號說明:Ia 主動區(qū)Ib 邊框區(qū) 10 內(nèi)嵌式觸控顯示器12 第一基板14 黑色矩陣16 第一平坦層18 圖案化透明導(dǎo)電層20 絕緣層22 金屬層24 第二平坦層26 彩色濾光片28 第三平坦層30 間隔物32 導(dǎo)電突出物52 第二基板54 平坦層56 電極層200 內(nèi)嵌式觸控顯示器210 第一基板220 感測單元222 圖案化透明導(dǎo)電層
222X 第一圖案化電極層222Y 第二圖案化電極層224 絕緣層226 金屬橋接層226b 金屬橋接層230 彩色濾光片單元232 彩色濾光片234 平坦層236 黑色矩陣240 間隔物300 內(nèi)嵌式觸控顯示器310 第二基板400 內(nèi)嵌式觸控顯示器410 第三基板420 第二感測單元430 貼合膠510 標(biāo)記金屬層520 導(dǎo)電層540 開口550 導(dǎo)電突出物600 內(nèi)嵌式觸控顯示器
700 內(nèi)嵌式觸控顯示器
具體實施例方式請參見圖2A,圖2A顯示本發(fā)明第一實施例內(nèi)嵌式觸控顯示器(in-cell touchpanel display)的俯視圖，圖2B顯示圖2A沿著BB’線所繪出的剖面圖。首先，請先參見圖2B，內(nèi)嵌式觸控顯示器200包括第一基板210以及與其相對設(shè)置的第二基板310，第二基板310之上包括薄膜晶體管陣列(圖中未顯示)，以及填充層(圖中未顯示，填充層例如液晶)形成于第一基板210與第二基板310之間。須注意的是，第一基板210包括主動區(qū)與位于主動區(qū)外圍的邊框區(qū)，圖2A-圖2B僅顯示主動區(qū)的結(jié)構(gòu)。于第一基板210之上依序包括感測單元220與彩色濾光片單元230，其中感測單元220包括圖案化透明導(dǎo)電層222、絕緣層224與金屬橋接層226，其中圖案化透明導(dǎo)電層222包含第一圖案化電極層222X和第二圖案化電極層222Y，其中一個電極是驅(qū)動用的，另一個電極則是感測用的。而彩色濾光片單元230包括彩色濾光片232R，232G，232B、平坦層234與黑色矩陣236，之后于黑色矩陣236之上形成間隔物240。間隔物240用以維持第一基板210與第二基板310之間的間距(gap)。請參見圖2A，由圖中可觀察到本發(fā)明的黑色矩陣236系形成于彩色濾光片232之上。本發(fā)明第一實施例的制造工藝如下，首先提供第一基板210，之后依序經(jīng)過下述9道圖案化制造工藝:1.圖案化透明導(dǎo)電層222 ;2.絕緣層224 ;3.金屬橋接層226 ;4.彩色濾光片232R ；5.彩色濾光片232G ；6.彩色濾光片232B ；7.平坦層234 ；8.黑色矩陣236 ；9.間隔物240。上述圖案化制造工藝藉由微影制造工藝(photolithography)而達(dá)成，微影制造工藝包括光阻涂布(photoresist coating)、軟烘烤(soft baking)、光罩對準(zhǔn)(maskaligning)、曝光(exposure)、曝光后烘烤(post-exposure)、光阻顯影(developingphotoresist)與硬烘烤(hard baking),這些制造工藝為本領(lǐng)域人士所熟知,在此不再贅述。此外，于本實施例中，第一基板210系為一玻璃基板,且玻璃基板的熱膨脹系數(shù)系大于第一圖案化透明電極層222X的熱膨脹系數(shù)，且其第一基板210的厚度小于0.5mm,較佳的厚度亦可小于0.1mm。另外，未避免后續(xù)形成的膜層于薄化玻璃上時，會造成玻璃形變等問題，較佳地會使第一圖案化電極層222X的厚度小于或等于絕緣層224的厚度，且第二圖案化電極層222Y的厚度亦需小于或等于絕緣層224的厚度。另外，于制造工藝進行時，會于各膜層形成時，于薄化玻璃上施加一預(yù)應(yīng)力(pre-compression force),于后續(xù)膜層形成后,再移除施加于薄化玻璃上的預(yù)應(yīng)力。上述的圖案化透明導(dǎo)電層222的材料包括氧化銦錫(indium tin oxide, IT0)、氧化銦鋒(indium zinc oxide, IZ0)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide, CTO)、氧化招鋒(aluminum zinc oxide, AZ0)、氧化銦錫鋒(indium tin zinc oxide, ITZ0)、氧化鋒(zincoxide)、氧化鎘(cadmium oxide, CdO)、氧化給(hafnium oxide,HfO)、氧化銦嫁鋒(indiumgallium zinc oxide, InGaZnO)、氧化銦嫁鋒續(xù)(indium gallium zinc magnesium oxide,InGaZnMgO)、氧化銦嫁鎮(zhèn)(indium gallium magnesium oxide, InGaMgO)或氧化銦嫁銀(indium gallium aluminum oxide, InGaAlO)。上述的絕緣層224由無機材料所組成，例如氧化硅(SiOx)，由于無機材料受到高溫影響時，其對玻璃的應(yīng)力方向(例如壓縮力(compressive force))會與后續(xù)形成的各層(如黑色矩陣236、彩色濾光片232等)應(yīng)力方向(例如張力(tensile force))相反，因此，可互相平衡，進而解決第一基板210翹曲的問題。上述的金屬橋接層226包括鑰、銅、鎳、鋁、鉻、銀、金或上述的合金。須注意的是，習(xí)知技術(shù)先形成黑色矩陣，才形成感測單元，然而本發(fā)明先形成感測單元220，再形成彩色濾光片單元230，亦即黑色矩陣230系形成于感測單元220之上(black matrix on sensor)。由于黑色矩陣236由有機材料所組成(例如樹脂)，其經(jīng)過圖案化制造工藝時容易脆化，因此，若將黑色矩陣236形成于感測單元220之上，可減少黑色矩陣受到多道圖案化制造工藝中高溫的影響，進而可提升黑色矩陣的可靠度(reliability)。再者，相較于習(xí)知技術(shù)的11道制造工藝，本發(fā)明的9道制造工藝步驟，不但可降低整體顯示器的厚度，且可減少制造工藝步驟與時間，進而降低制造工藝成本。此外，本發(fā)明亦提供第二實施例，第二實施例與第一實施例的差別在于，于第一基板210與圖案化透明導(dǎo)電層222之間形成一標(biāo)記金屬層(圖中未顯示)，此標(biāo)記金屬層包括鑰、銅、鎳、鋁、鉻、銀、金或上述的合金，且標(biāo)記金屬層的作用在于幫助后續(xù)制造工藝對準(zhǔn)(alignment)。請參見圖3A-圖3B，其中圖3A顯示本發(fā)明第三實施例內(nèi)嵌式觸控顯示器的俯視圖，圖3B顯示圖3A沿著CC’線所繪出的剖面圖。須注意的是，第3A-3B圖僅顯示第一基板210主動區(qū)的結(jié)構(gòu)，其中圖3A-圖3B中元件符號與圖2A-圖2B相同者代表相同元件。請參見圖3A，于內(nèi)嵌式觸控顯示器300中，黑色矩陣236系形成于彩色濾光片232之上。請參見圖3B，內(nèi)嵌式觸控顯示器300包括第一基板210與第二基板310，兩基板系相對設(shè)置。于第一基板210之上依序包括感測單元220與彩色濾光片單元230，其中感測單元220包括圖案化透明導(dǎo)電層222、絕緣層224與金屬橋接層(圖中未繪出)，其中圖案化透明導(dǎo)電層222包含第一圖案化電極層222X和第二圖案化電極層222Y。而彩色濾光片單元230包括彩色濾光片232R，232G，232B、黑色矩陣236與平坦層234，之后于平坦層234之上形成間隔物240。須注意的是，于第三實施例中，黑色矩陣236系形成于相鄰的彩色濾光片232之間，亦即黑色矩陣236的線寬(line width)由相鄰的彩色濾光片232的溝槽(trench)的寬度所決定，因此，可藉由降低溝槽的寬度而得到較小的線寬。此外，黑色矩陣236的深度由溝槽的深度而決定，因此，可藉由提高黑色矩陣的深度(提高光遮蔽效果)，而得到較高的光學(xué)密度(optical density，0D)。再者，由于黑色矩陣236設(shè)置于溝槽中，因此，黑色矩陣236較不會對后續(xù)顯影制造工藝造成影響，而產(chǎn)生剝落(peeling)現(xiàn)象。于一較佳實施例中，黑色矩陣236的線寬(line width)小于約5m,且光學(xué)密度大于約5。本發(fā)明第三實施例的制造工藝如下，首先提供第一基板210，之后依序經(jīng)過下述9道圖案化制造工藝:1.圖案化透明導(dǎo)電層222 ；2.絕緣層224 ；3.金屬橋接層(圖3B中未繪出)；4.彩色濾光片232R ；5.彩色濾光片232G ；6.彩色濾光片232B ；7.黑色矩陣236 ；
8.平坦層234 ；9.間隔物240。第三實施例同樣為9道制造工藝步驟，不但可降低整體顯示器的厚度，且可減少制造工藝步驟與時間，進而降低制造工藝成本。再者，由于黑色矩陣236形成于相鄰的彩色濾光片232之間，因此，黑色矩陣236可具有較小線寬與較高光學(xué)密度。此外，本發(fā)明亦提供第四實施例，第四實施例與第三實施例的差別在于，于第一基板210與圖案化透明導(dǎo)電層222之間形成一標(biāo)記金屬層(圖中未顯示)，此標(biāo)記金屬層包括鑰、銅、鎳、鋁、鉻、銀、金或上述的合金，且標(biāo)記金屬層的作用在于幫助后續(xù)制造工藝對準(zhǔn)(alignment)。請參見圖4A-圖4B，其中圖4A顯示本發(fā)明第五實施例內(nèi)嵌式觸控顯示器400的俯視圖，圖4B顯示圖4A沿著DD’線所繪出的剖面圖。須注意的是，第4A-4B圖僅顯示第一基板210主動區(qū)的結(jié)構(gòu)，其中圖4A-圖4B中元件符號與圖2A-圖2B相同者代表相同元件。請參見圖4A，于內(nèi)嵌式觸控顯示器400中，黑色矩陣236系形成于彩色濾光片232之下。請參見圖4B，內(nèi)嵌式觸控顯示器400包括第一基板210與第二基板310，兩基板系相對設(shè)置。于第一基板210之上依序包括感測單元220與彩色濾光片單元230，其中感測單元220包括圖案化透明導(dǎo)電層222、絕緣層224與金屬橋接層226，而彩色濾光片單元230包括黑色矩陣236、彩色濾光片232R，232G，232B與平坦層234，之后于平坦層234之上形成間隔物240。本發(fā)明第五實施例的制造工藝如下，首先提供第一基板210，之后依序經(jīng)過下述9道圖案化制造工藝:1.圖案化透明導(dǎo)電層222 ;2.絕緣層224 ;3.金屬橋接層226 ;4.黑色矩陣236 ；5.彩色濾光片232R ；6.彩色濾光片232G ；7.彩色濾光片232B ；8.平坦層234 ；
9.間隔物240。須注意的是，與第一實施例(圖2A-圖2B)相比，第五實施例的黑色矩陣236系形成于彩色濾光片232之下，第五實施例同樣為9道制造工藝步驟，不但可降低整體顯示器的厚度，且可減少制造工藝步驟與時間，進而降低制造工藝成本。此外，本發(fā)明亦提供第六實施例，第六實施例與第五實施例的差別在于，于第一基板210與圖案化透明導(dǎo)電層222之間形成一標(biāo)記金屬層(圖中未顯示)，此標(biāo)記金屬層包括鑰、銅、鎳、鋁、鉻、銀、金或上述的合金，且標(biāo)記金屬層的作用在于幫助后續(xù)制造工藝對準(zhǔn)(alignment)。請參見圖5A-圖5D，該些圖示繪示本發(fā)明邊框區(qū)各種不同實施例的剖面圖。邊框區(qū)系設(shè)置于主動區(qū)的外圍，且不需要形成彩色濾光片，僅需要形成接觸單元(包括該導(dǎo)電層520、絕緣層224、金屬橋接層226b、黑色矩陣236b與導(dǎo)電突出物550)，以使感測單元220與第二基板310電性連接，其中第一圖案化電極層520是由主動區(qū)內(nèi)的圖案化導(dǎo)電層222延伸形成。首先，請參見圖5A,于第一基板210的上依序形成導(dǎo)電層520、絕緣層224、金屬橋接層226b與黑色矩陣236b。須注意的是，黑色矩陣236b具有復(fù)數(shù)個開口 540，以暴露出金屬橋接層226b,而導(dǎo)電突出物550形成于開口 540中，以使金屬橋接層226b與第二基板310電性連接。相較于習(xí)知技術(shù)，本發(fā)明的導(dǎo)電突出物550形成于黑色矩陣236b的開口540中，系因邊框區(qū)所需堆迭的膜層較少，因此其膜厚變異性降低，故可提高電性接觸穩(wěn)定性(contact stability)。上述的導(dǎo)電層520包括圖案化透明導(dǎo)電層、金屬層或上述的組合。請參見圖5B，其中黑色矩陣236b具有復(fù)數(shù)個開口 540，且開口 540延伸穿過絕緣層224，暴露導(dǎo)電層520，導(dǎo)電突出物550形成于開口 540中，以與導(dǎo)電層520電性連接。請參見圖5C，其中黑色矩陣236b具有復(fù)數(shù)個開口 540，且開口 540延伸穿過絕緣層224，暴露金屬橋接層226b，導(dǎo)電突出物550形成于開口 540中，以與金屬橋接層226b電性連接。請參見圖5D，此圖與圖5A-圖5C的差別在于，圖多形成了一層標(biāo)記金屬層510。由于標(biāo)記金屬層510與導(dǎo)電層520僅形成于部份的第一基板210之上，而厚度一致的絕緣層224形成于導(dǎo)電層520之上，因此，絕緣層224的表面會形成高度不一致的凹凸結(jié)構(gòu)(或稱為波浪結(jié)構(gòu))。之后，金屬橋接層226b形成于絕緣層224之上，因此金屬橋接層226b同樣具有凹凸結(jié)構(gòu)(或稱為波浪結(jié)構(gòu))，因此，導(dǎo)電突出物550形成于開口 540中，以與金屬橋接層226b的凹凸結(jié)構(gòu)電性連接。須注意的是，于圖中，藉由標(biāo)記金屬層510、導(dǎo)電層520的厚度差異,使得金屬橋接層226b具有凹凸結(jié)構(gòu)，此凹凸結(jié)構(gòu)可提高與導(dǎo)電突出物550之間的接觸面積，進而可提升電性接觸率(contact probability)。請參見圖6，其繪示本發(fā)明第七實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器600的剖面圖。于內(nèi)嵌式觸控顯示器600中與上述實施例的主要差異于其感測單元中圖案化電極層的配置。于本實施例中，第一圖案化電極層222X與第二圖案化電極層222Y系分別設(shè)置于第一基板210的內(nèi)外兩側(cè)，且藉由貼合膠430黏合第一基板210與第三基板410。本發(fā)明第七實施例的制造工藝如下，將第一基板210與第二基板310制造工藝完成后，再將其組立。接著，使用貼合膠430將第三基板410貼合至組立完的第一基板210上。請參見圖7，繪示本發(fā)明第八實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器700的剖面圖。本實施例與前七個實施例的最主要的差異在于感測單元的設(shè)置，目的是為了降低信號干擾，進而提高觸控靈敏性(touch sensitivity)。第八實施例的內(nèi)嵌式觸控顯示器更包括一第三基板410、第二感測單元420以及貼合膠430，其中感測單元220系設(shè)置于第一基板210的內(nèi)側(cè)，第二感測單元420則設(shè)置次第三基板410的內(nèi)側(cè)。由于感測單元220與第二感測單元系分別形成于不同基板上，因此可以大幅減化制造工藝，例如可使用較低成本的雷射蝕刻或是網(wǎng)印等方式，特別是應(yīng)用于薄化基板時，皆可有效提供制造工藝穩(wěn)定性以及良率。本發(fā)明第八實施例的制造工藝如下，將第一基板210與第二基板310制造工藝完成后，再將其組立。接著形成第二感測單元420于第三基板410之上，再藉由貼合膠430將具有第二感測單元420的第三基板410貼合至第一基板210。綜上所述，本發(fā)明所提供的內(nèi)嵌式觸控顯示器，具有下述優(yōu)點:(I)藉由改變黑色矩陣的位置，使黑色矩陣形成于感測單元之上，不但可以減少整體制造工藝的步驟與顯示器厚度，且藉由絕緣層無機材料的設(shè)置，以解決第一基板翹曲的問題。(2)黑色矩陣形成于相鄰的彩色濾光片之間，因而可縮小黑色矩陣的線寬(linewidth)與提高光學(xué)密度(optical density, 0D),且可避免黑色矩陣產(chǎn)生剝落(peeling)的問題。(3)本發(fā)明的導(dǎo)電突出物系形成于黑色矩陣的開口中，由于堆迭的膜層較少，所以膜厚變異性低，且可形成于凹凸結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電層中，因此，可提高電性接觸率。雖然本發(fā)明已以數(shù)個較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作任意的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當(dāng)以本發(fā)明權(quán)利要求范圍所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器包括: 一第一基板，其中所述的第一基板包括一主動區(qū)及一邊框區(qū)，且所述的邊框區(qū)系設(shè)置于所述的主動區(qū)的外圍； 一感測單元形成于所述的第一基板的主動區(qū)上，其中所述的感測單元包括一第一圖案化電極層形成于所述的第一基板的主動區(qū)的內(nèi)側(cè)； 一彩色濾光片單元，形成于所述的感測單元之上，其中所述的彩色濾光片單元包括復(fù)數(shù)個彩色濾光片與復(fù)數(shù)個黑色矩陣； 一第二基板，系與所述的第一基板相對設(shè)置，其中所述的第二基板之上包括一薄膜晶體管陣列；以及 一填充層，形成于所述的第 一基板與所述的第二基板之間。
2.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的黑色矩陣形成于所述的彩色濾光片之上或之下。
3.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的黑色矩陣形成于相鄰的所述的彩色濾光片之間。
4.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的感測單元更包括: 一第二圖案化電極層，形成于所述的第一基板的內(nèi)側(cè)； 一絕緣層，形成于所述的第一圖案化電極層與第二圖案化電極層之上；以及 一金屬橋接層，成于所述的絕緣層之上，其中所述的金屬橋接層與所述的第一圖案化電極層電性連接。
5.如權(quán)利要求4所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的第一基板系為一玻璃基板，且所述的玻璃基板的熱膨脹系數(shù)系大于所述的第一圖案化電極層的熱膨脹系數(shù)，其中所述的第一基板的厚度小于0.5mm。
6.如權(quán)利要求4所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的第一圖案化電極層的厚度系小于或等于所述的絕緣層的厚度，且所述的第二圖案化電極層的厚度系小于或等于所述的絕緣層的厚度。
7.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，尚包括一接觸單元形成于所述的第一基板的邊框區(qū)，其特征在于，所述的接觸單元包括:一導(dǎo)電層、所述的絕緣層、所述的金屬橋接層與所述的黑色矩陣，其中位于所述的邊框區(qū)的黑色矩陣具有復(fù)數(shù)個開口，且所述的導(dǎo)電層由所述的主動區(qū)的第一圖案化電極層延伸而形成。
8.如權(quán)利要求7所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的開口暴露所述的金屬橋接層，且復(fù)數(shù)個導(dǎo)電突出物形成于所述的開口之中與所述的金屬橋接層電性連接。
9.如權(quán)利要求7所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的開口延伸穿過所述的絕緣層，以暴露所述的導(dǎo)電層或所述的金屬橋接層，且復(fù)數(shù)個導(dǎo)電突出物形成于所述的開口之中與所述的導(dǎo)電層或所述的金屬橋接層電性連接。
10.如權(quán)利要求7所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器更包括一標(biāo)記金屬層，形成于所述的第一基板與所述的導(dǎo)電層之間，以使所述的絕緣層具有一凹凸結(jié)構(gòu)。
11.如權(quán)利要求10所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的黑色矩陣包括復(fù)數(shù)個開口，且暴露所述的絕緣層的所述的凹凸結(jié)構(gòu)，且復(fù)數(shù)個導(dǎo)電突出物形成于所述的開口之中與所述的凹凸結(jié)構(gòu)電性連接。
12.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的彩色濾光片單元之上更包括復(fù)數(shù)個間隔物，以維持所述的第一基板與所述的第二基板之間的間距。
13.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的感測單元更包括: 一第二圖案化電極層，形成于所述的第一基板的外側(cè)； 一第三基板，系對立設(shè)置于所述的第一基板上；以及 一貼合膠，形成于所述的第一基板與第三基板之間，用以黏合所述的第一基板及所述的第三基板。
14.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器，其特征在于，所述的內(nèi)嵌式觸控顯示器更包括: 一第三基板，系對立設(shè)置于所述的第一基板上； 一第二感測單元，形成于所述的第三基板的內(nèi)側(cè)；以及 一貼合膠，形成于所述的第一基板與第三基板間，用以黏合所述的第一基板及所述的第三基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種內(nèi)嵌式觸控顯示器，包括一第一基板，其中該第一基板包括一主動區(qū)及一邊框區(qū)，且該邊框區(qū)系設(shè)置于該主動區(qū)的外圍；一感測單元(sensor unit)形成于該第一基板的主動區(qū)上，其中該感測單元包括一第一圖案化電極層形成于該第一基板的主動區(qū)的內(nèi)側(cè)；一彩色濾光片單元，形成于該感測單元之上，其中該彩色濾光片單元包括復(fù)數(shù)個彩色濾光片與復(fù)數(shù)個黑色矩陣；一第二基板，系與該第一基板相對設(shè)置，其中該第二基板之上包括一薄膜晶體管陣列；以及一填充層，形成于該第一基板與該第二基板之間。
文檔編號G02F1/1362GK103217817SQ201210018909
公開日2013年7月24日 申請日期2012年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月20日
發(fā)明者梁志明, 莊國良, 陳淑蘭 申請人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司