專利名稱：一種彩膜基板以及液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶顯示裝置制造領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板以及液晶顯示裝
置
背景技術(shù)：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜場效應(yīng)晶體管一液晶顯示裝置)的CF(Color Filter，彩色濾光片)制作工藝中，如圖I所示現(xiàn)有的CF工藝中包括基板01、黑矩陣02、彩膜樹脂03和平坦化膜04，由于彩膜樹脂03與黑矩陣02的重疊部分與不重疊部分存在段差h，會(huì)因?yàn)槟Σ?rubbing)不均勻而降低畫面的品質(zhì)，因此增加一項(xiàng)平坦化工藝使黑矩陣02和彩膜樹脂上覆蓋一層平坦化膜04來消除段差h，不僅導(dǎo)致了工序的繁多，降低了生產(chǎn)效率，而且平坦化工藝中覆蓋的平坦化膜04會(huì)降低LCD基板的透過率，導(dǎo)致對(duì)比度的減小。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種彩膜基板以及液晶顯示裝置，以解決在CF制作工藝中，因彩膜基板與黑矩陣的重疊部分與不重疊部分存在段差，而增加一步平坦化工藝造成的工序復(fù)雜和LCD基板透過率低的問題。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案提供一種彩膜基板，包括基板、形成于基板上的黑矩陣、形成在所述黑矩陣之間的彩膜樹脂，其特征在于，所述黑矩陣與所述彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于所述黑矩陣與所述彩膜樹脂不重疊部分的厚度。所述黑矩陣與所述彩膜樹脂相重疊處，黑矩陣處于彩膜樹脂之下。所述黑矩陣呈倒“T”型結(jié)構(gòu)。所述彩膜樹脂與所述黑矩陣重疊部分與所述黑矩陣的完全保留區(qū)域位于同一高度。所述黑矩陣使用透光掩膜板形成，所述透光掩膜板為半透式掩膜板或者灰色調(diào)掩膜板。所述液晶顯示裝置，包含以上任一所述的彩膜基板。本實(shí)用新型提供的一種彩膜基板以及液晶顯示裝置，黑矩陣與彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于黑矩陣與彩膜樹脂不重疊部分的厚度。使得在形成彩膜樹脂的過程中減小了彩膜樹脂和黑矩陣重疊區(qū)域的段差，較現(xiàn)有技術(shù)減少了一步平坦化工藝，從而降低了工序的復(fù)雜度，在縮短了加工時(shí)間的同時(shí)提高了生產(chǎn)效率，改善了 LCD基板的透過率，增加了對(duì)比度。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例、或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為現(xiàn)有技術(shù)提供的彩膜基板的局部示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板的局部示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板的另一局部示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板的又一局部示意圖；圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一彩膜基板的局部示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。下面以圖2、3、4對(duì)本實(shí)用新型提供的彩膜基板進(jìn)行說明，其中，圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板的局部示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板的另一局部示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板的又一局部示意圖。如圖2所示，包括基板20、黑矩陣21，其中，黑矩陣21通過透光掩膜板22經(jīng)半透式掩膜工藝制成。半透式掩膜工藝是通過在不同區(qū)域透過光的強(qiáng)度不同，而進(jìn)行選擇性曝光、顯影，相應(yīng)的掩膜板上具有透過率不同的區(qū)域。本實(shí)施例中，透光掩膜板22的透光開口邊緣的厚度小于透光掩膜板22其余部分的厚度，而透光掩膜板22的完全透光區(qū)域221、部分透光區(qū)域222和不透光區(qū)域223分別對(duì)應(yīng)黑矩陣21的區(qū)域211，區(qū)域212和區(qū)域213。進(jìn)一步地，如圖3所示，通過曝光、剝離、顯影等工藝后，形成的黑矩陣21的區(qū)域212的厚度小于黑矩陣21的區(qū)域211厚度?？蛇x地，在本實(shí)施例中，形成的黑矩陣呈倒“T”型結(jié)構(gòu)，需要說明的是，本實(shí)用新型并不局限于此，其他的結(jié)構(gòu)，在滿足所述黑矩陣與所述彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于所述黑矩陣與所述彩膜樹脂不重疊部分的厚度的結(jié)構(gòu)的情況下，也落入本實(shí)用新型保護(hù)范圍內(nèi)，例如梯形結(jié)構(gòu)等，此處不再贅述。其中黑矩陣21的區(qū)域211為完全保留區(qū)域；黑矩陣21的區(qū)域212為半保留區(qū)域；黑矩陣21的區(qū)域213為完全去除區(qū)域。最終，如圖4所示，完成彩膜樹脂23的形成工藝。由于黑矩陣21的區(qū)域212的厚度小于現(xiàn)有技術(shù)中黑矩陣相對(duì)應(yīng)部分的厚度，因此形成彩膜樹脂23后，在該黑矩陣21與該彩膜樹脂23相重疊處，黑矩陣21處于彩膜樹脂23之下，在保證彩膜樹脂23與現(xiàn)有技術(shù)中結(jié)構(gòu)厚度相同的情況下，彩膜樹脂23與黑矩陣21的區(qū)域212重疊在一起的厚度就小于現(xiàn)有技術(shù)中重疊在一起的厚度，則彩膜樹脂23與黑矩陣21區(qū)域212重疊的部分與黑矩陣21的區(qū)域211的高度差減小，這樣，不僅減小了段差，使得摩擦的特性差異減小，減少了因摩擦不均勻?qū)е碌膶?duì)比度低的問題，提高了畫面品質(zhì)，而且減少了一步平坦化的工序，提高了生產(chǎn)效率以及TFT基板的透過率。[0026]進(jìn)一步地，由于在實(shí)際工藝中，彩膜樹脂與黑矩陣重疊部分與黑矩陣完全保留區(qū)域的高度差越小越好，因此當(dāng)彩膜樹脂與黑矩陣重疊部分與黑矩陣完全保留區(qū)域位于同一高度時(shí)為最佳。本實(shí)用新型提供的一種彩膜基板，黑矩陣與彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于黑矩陣與彩膜樹脂不重疊部分的厚度。使得在形成彩膜樹脂的過程中減小了彩膜樹脂和黑矩陣重疊區(qū)域的段差，較現(xiàn)有技術(shù)減少了一步平坦化工藝，從而降低了工序的復(fù)雜度，在縮短了加工時(shí)間的同時(shí)提高了生產(chǎn)效率，改善了 LCD基板的透過率，增加了對(duì)比度。本實(shí)用新型提供的另一彩膜基板， 如圖5所示，包括基板20、黑矩陣21，彩膜樹脂23，其中，黑矩陣21通過透光掩膜板22經(jīng)灰色調(diào)掩膜工藝形成?；疑{(diào)掩膜工藝是通過光柵效應(yīng)，使膜板在不同區(qū)域透過光的強(qiáng)度不同，而進(jìn)行選擇性曝光、顯影，本實(shí)施例中，灰色調(diào)掩膜工藝在所述透光掩膜板的透光開口邊緣由光柵結(jié)構(gòu)24形成，因此透光掩膜板22的完全透光區(qū)域221、部分透光區(qū)域222和不透光區(qū)域223分別對(duì)應(yīng)黑矩陣21上形成完全保留區(qū)域211、半保留區(qū)域212和完全去除區(qū)域213。本實(shí)用新型實(shí)施例其余結(jié)構(gòu)和工藝與上述實(shí)施例完全相同，故在此就不再贅述了。本實(shí)用新型提供的一種彩膜基板，黑矩陣與彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于黑矩陣與彩膜樹脂不重疊部分的厚度。使得在形成彩膜樹脂的過程中減小了彩膜樹脂和黑矩陣重疊區(qū)域的段差，較現(xiàn)有技術(shù)減少了一步平坦化工藝，從而降低了工序的復(fù)雜度，在縮短了加工時(shí)間的同時(shí)提高了生產(chǎn)效率，改善了 LCD基板的透過率，增加了對(duì)比度。本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種液晶顯示裝置，包含以上任一實(shí)施例中所述的彩膜基板。本實(shí)用新型提供的一種液晶顯示裝置，比如液晶顯示器、液晶電視、手機(jī)等，其包含一種彩膜基板，該彩膜基板上的黑矩陣與彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于黑矩陣與彩膜樹脂不重疊部分的厚度。使得在形成彩膜樹脂的過程中減小了彩膜樹脂和黑矩陣重疊區(qū)域的段差，較現(xiàn)有技術(shù)減少了一步平坦化工藝，從而降低了工序的復(fù)雜度，在縮短了加工時(shí)間的同時(shí)提高了生產(chǎn)效率，改善了 LCD基板的透過率，增加了對(duì)比度。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種彩膜基板，包括基板、形成于基板上的黑矩陣、形成在所述黑矩陣之間的彩膜樹月旨，其特征在于，所述黑矩陣與所述彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于所述黑矩陣與所述彩膜樹脂不重疊部分的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣與所述彩膜樹脂相重疊處，黑矩陣處于彩膜樹脂之下。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣呈倒“T”型結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜樹脂與所述黑矩陣重疊部分與所述黑矩陣的完全保留區(qū)域位于同一高度。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣使用透光掩膜板形成，所述透光掩膜板為半透式掩膜板或者灰色調(diào)掩膜板。
6.一種液晶顯示裝置，其特征在于，所述液晶顯示裝置包含權(quán)利要求I至5中的任一所述的彩膜基板。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例提供的彩膜基板和液晶顯示裝置，涉及液晶顯示裝置制造領(lǐng)域，解決了在CF制作工藝中，因彩膜基板與黑矩陣的重疊部分與不重疊部分存在段差，而增加一步平坦化工藝造成的工序復(fù)雜和LCD基板透過率低的問題，該黑矩陣與彩膜樹脂相重疊的邊緣部分的厚度小于黑矩陣與彩膜樹脂不重疊部分的厚度。本實(shí)用新型用于彩膜基板的制造。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK202372730SQ201120531048
公開日2012年8月8日 申請(qǐng)日期2011年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月16日
發(fā)明者林允植, 田正牧 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司