專利名稱：曝光設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及等離子顯示屏的制造領(lǐng)域，特別是涉及一種曝光設(shè)備。
背景技術(shù)：
等離子顯示屏(PDP)是一種平板顯示技術(shù)，它不但具有平板顯示器件所具有的輕、薄等優(yōu)點，而且還具有寬視角、不易受電磁干擾、易于實現(xiàn)大屏幕顯示等優(yōu)點。在大屏幕顯示日益受到青睞的今天，PDP成為世界上許多廠家競相研制與生產(chǎn)的焦點。在PDP的制作工藝中，位于前基板上的透明電極(ITO)、匯流電極(Bus)、位于后基板上的尋址電極(ADD)、障壁等的制作過程都用到曝光設(shè)備，該曝光設(shè)備主要是對感光性漿料進行選擇性的曝光，即留下需要的部分，除去不需要的部分，再經(jīng)過顯影等工藝形成所需要的圖形，也就是形成電極線條的過程。該曝光過程是通過母板(photo mask)來完成的， 目前傳統(tǒng)的PDP曝光設(shè)備都是采用立式的母板曝光，也就是說曝光過程中母板和印有感光性漿料的玻璃基板是豎直立起進行曝光的。即印有漿料的玻璃基板在進入曝光設(shè)備后，會先被夾子固定在曝光臺上面，然后將曝光臺立起，使玻璃基板豎直與母板平行，隨著曝光臺向母板移動，玻璃基板會慢慢靠近母板，接著進行對位和間隙的測量，最后開始曝光。如圖1所示，在圖1中示出了一種現(xiàn)有技術(shù)中的曝光設(shè)備的部分結(jié)構(gòu)示意圖，該曝光設(shè)備包括曝光臺5’和母板安裝組件，曝光臺5’與母板安裝組件之間通過夾具3’相連。 如圖2-1和圖2-2所示，圖2-1示出了一種現(xiàn)有技術(shù)中母板安裝組件的簡單示意圖；圖2-2 示出了圖2-1中母板安裝組件的側(cè)視示意圖；該母板安裝組件包括母板框架1’，母板2’以及環(huán)形襯板4’?，F(xiàn)有技術(shù)是利用夾具3’和環(huán)形襯板4’將母板2’固定在母板框架1’內(nèi)部，并通過夾具3’將母板2’、母板框架1’連接在一起，其中母板2’與母板框架1’靠近曝光臺5’ 一側(cè)的表面齊平，而夾具3’設(shè)置在母板2’與母板框架1’靠近曝光臺5’ 一側(cè)的表面上，夾具3’具有一定的高度，大約在2cm左右，即夾具會高出母板2’表面2cm左右。如圖3所示，圖3中示出了一種現(xiàn)有技術(shù)曝光臺結(jié)構(gòu)的簡單示意圖；曝光臺5’上與母板2’相對應(yīng)的部分安裝有玻璃基板6’，并且在曝光臺5’上玻璃基板6’的外周設(shè)有與夾具3’位置對應(yīng)的凹槽7’，該凹槽V的深度一般在50-1000 μ m之間，使用時母板安裝組件中夾具3’ 插入到相對應(yīng)的凹槽7’中。如圖4-1所示，圖4-1示出了現(xiàn)有技術(shù)中曝光臺與母板框架平行時的光照曝光示意圖，正如上述所介紹的這種曝光裝置，曝光進行時，紫外光線從右邊射入，母板2’和玻璃基板6’之間的距離即為間隙值，間隙值一般在50-1000 μ m之間，加上待曝光的玻璃基板6’ 的厚度，母板2’與曝光臺5’之間的距離也小于夾具3’的高度。因此，現(xiàn)有的曝光設(shè)備將母板安裝組件中夾具3’插入到相對應(yīng)的凹槽7’中以避免夾具3’和曝光臺5’表面發(fā)生碰撞，同時滿足母板2’和玻璃基板6’之間的距離要求。目前看來，這種設(shè)計存在著重大的缺陷，由于夾具3’受凹槽V的限制，因此曝光臺5’的移動幅度受到限制。如果曝光臺5’向X方向的移動超過一定數(shù)值時，曝光臺5’上的凹槽7’的邊緣就會撞到夾具3’，而設(shè)備不會出現(xiàn)報警，后果可能很嚴重。因為母板安裝
3組件中夾具3’ 一般是塑料制品，并不結(jié)實，在曝光臺5’巨大動力的沖擊下很容易損壞脫落，嚴重情況會導(dǎo)致母板2’松動甚至掉落損毀，造成重大的損失。另外，現(xiàn)有的曝光設(shè)備沒有調(diào)整母板2’與曝光臺5’之間平行的裝置，甚至連測量裝置也沒有。在曝光過程中，需要母板2’和印有漿料的玻璃基板6’之間保持平行，如果母板2’和玻璃基板6’之間產(chǎn)生了角度θ，則會導(dǎo)致玻璃基板6’上間隙分布不均勻，如圖4-2 所示，圖4-2示出了現(xiàn)有技術(shù)中曝光臺5’與母板框架1’有傾斜夾角θ時的光照曝光示意圖，根據(jù)光學原理，當母板2’和玻璃基板6’之間產(chǎn)生了角度θ時，會使線條的寬度產(chǎn)生偏差，從而影響PDP的質(zhì)量，導(dǎo)致性能的下降。由于目前的曝光設(shè)備沒有調(diào)平裝置，工作人員需要根據(jù)經(jīng)驗來完成調(diào)平工作，通常會采用在母板框架的環(huán)形襯板上墊高的方法來保持平行。但基于批量生產(chǎn)的需要，不可能經(jīng)常性的人工調(diào)整平行度，因此有必要將調(diào)平工作自動化。

實用新型內(nèi)容本實用新型目的在于提供一種能夠使得母板與曝光臺保持平行的曝光設(shè)備。為此，本實用新型提供了一種曝光設(shè)備，該設(shè)備包括相對設(shè)置的曝光臺與母板安裝組件，母板安裝組件包括母板框架，具有環(huán)形結(jié)構(gòu)；環(huán)形襯板，與母板框架連接，呈與母板框架相匹配的環(huán)形結(jié)構(gòu)；母板，設(shè)置在母板框架中，且位于環(huán)形襯板與曝光臺之間；氣浮系統(tǒng)，將母板吸附在環(huán)形襯板上。進一步地，上述氣浮系統(tǒng)包括多個氣孔，均勻地設(shè)置在環(huán)形襯板靠近母板的一側(cè)上；真空泵，與各氣孔連接以通過氣孔進行抽放氣。進一步地，上述氣浮系統(tǒng)還包括真空夾，相對母板可移動地設(shè)置在母板框架的內(nèi)側(cè)邊上，具有夾緊母板的外側(cè)邊的第一位置以及松開母板的外側(cè)邊的第二位置。進一步地，上述曝光臺與母板框架之間均勻地設(shè)置有多個支撐凸塊。進一步地，上述曝光設(shè)備還包括自動調(diào)平系統(tǒng)，自動調(diào)平系統(tǒng)包括傳感裝置，與支撐凸塊相對應(yīng)地設(shè)置在母板框架上，發(fā)出壓力信號；調(diào)整裝置，接收壓力信號，根據(jù)壓力信號調(diào)整母板安裝組件相對曝光臺的平行度。進一步地，上述各傳感裝置的表面積大于各支撐凸塊的橫截面積。進一步地，上述曝光設(shè)備還包括控制器，控制器分別與氣浮系統(tǒng)以及自動調(diào)平系統(tǒng)相連。進一步地，上述曝光臺與母板安裝組件具有方形結(jié)構(gòu)，支撐凸塊為4個，分別設(shè)置在曝光臺的四角處。進一步地，上述支撐凸塊的高度低于1000 μ m。進一步地，上述支撐凸塊由金屬材料制成。本實用新型的有益效果本實用新型所提供的曝光設(shè)備通過引入氣浮系統(tǒng)，將母板固定在母板框架中，避免了舊有固定方式所引起的不利因素，提高了設(shè)備的自動化和智能化程度，使安全系數(shù)大幅提高，延長了曝光設(shè)備的使用壽命；同時，該曝光設(shè)備還配備有自動測平和調(diào)平裝置，保證了曝光臺與母板之間平行，提高了曝光精度，使線條更加均勻。除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點之外，本實用新型還有其它的目的、特征和優(yōu)點。下面將參照圖，對本實用新型作進一步詳細的說明。
附圖構(gòu)成本說明書的一部分，用于進一步理解本實用新型，附圖示出了本實用新型的優(yōu)選實施例，并與說明書一起用來說明本實用新型的原理。圖中圖1示出了一種現(xiàn)有技術(shù)中曝光設(shè)備部分結(jié)構(gòu)的簡單示意圖；圖2-1示出了一種現(xiàn)有技術(shù)中母板安裝組件的簡單示意圖；圖2-2示出了圖2-1中母板安裝組件的側(cè)視示意圖；圖3示出了一種現(xiàn)有技術(shù)中曝光臺結(jié)構(gòu)的簡單示意圖；圖4-1示出了現(xiàn)有技術(shù)中曝光臺與母板框架平行時的光照曝光示意圖；圖4-2示出了現(xiàn)有技術(shù)中曝光臺與母板框架有傾斜夾角θ時的光照曝光示意圖；圖5示出了一種根據(jù)本實用新型實施例的曝光設(shè)備部分結(jié)構(gòu)的簡單示意圖；圖6示出了一種根據(jù)本實用新型實施例中母板安裝組件結(jié)構(gòu)示意圖；圖7示出了一種根據(jù)本實用新型實施例中母板安裝組件部分結(jié)構(gòu)簡單示意圖；圖8示出了一種根據(jù)本實用新型實施例中曝光臺結(jié)構(gòu)簡單示意圖；圖9示出了一種根據(jù)本實用新型實施例的帶有自動調(diào)平系統(tǒng)的曝光設(shè)備部分結(jié)構(gòu)的簡單示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例進行詳細說明，但如下實施例以及附圖僅是用以理解本實用新型，而不能限制本實用新型，本實用新型可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實施。圖5示出了一種根據(jù)本實用新型實施例的曝光設(shè)備部分結(jié)構(gòu)的簡單示意圖。如圖5所示，在本實用新型的一種典型的實施方式中，該曝光設(shè)備，包括相對設(shè)置的曝光臺5與母板安裝組件。其中，母板安裝組件包括母板框架1、環(huán)形襯板4、母板2以及氣浮系統(tǒng)。母板框架1具有環(huán)形結(jié)構(gòu)。環(huán)形襯板4與母板框架1連接，呈與母板框架1 相匹配的環(huán)形結(jié)構(gòu)。母板2設(shè)置在母板框架1中且位于環(huán)形襯板4與曝光臺5之間。氣浮系統(tǒng)將母板2吸附在環(huán)形襯板4上。該曝光設(shè)備通過引入氣浮系統(tǒng)，將母板2固定在母板框架1中，使得曝光臺5與母板2之間平行，避免了舊有的固定方式所引起的不利因素，提高了設(shè)備的自動化和智能化程度，使安全系數(shù)大幅提高，延長了曝光設(shè)備的使用壽命。圖6示出了一種根據(jù)本實用新型實施例中母板安裝組件結(jié)構(gòu)示意圖；圖7示出了一種根據(jù)本實用新型實施例中母板安裝組件部分結(jié)構(gòu)簡單示意圖。如圖6和圖7所示，優(yōu)選地，上述氣浮系統(tǒng)包括多個氣孔11和真空泵。多個氣孔 11均勻地設(shè)置在環(huán)形襯板4靠近母板2的一側(cè)上；真空泵與各氣孔11連接以通過氣孔11 進行抽放氣。該曝光設(shè)備應(yīng)用過程中，這些氣孔11與真空泵相連，當真空泵抽氣時，氣孔11 開始吸氣，將位于母板框架1內(nèi)部的母板2吸附在環(huán)形襯板4上，這樣就起到了固定母板2 的作用。這種母板安裝組件的結(jié)構(gòu)簡單，容易制作，同時，采用均勻排布的氣孔11同時吸附母板2，能夠保證母板2與環(huán)形襯板4的穩(wěn)定相連，進而保證母板2與曝光臺5之間保持平行，進而保證曝光質(zhì)量。[0039]對于上述氣浮系統(tǒng)而言，當真空泵驅(qū)動氣孔11吸附母板2后，為了避免母板2在母板框架1中移位，優(yōu)選地，該氣浮系統(tǒng)還包括真空夾8，該真空夾8相對母板2可移動地設(shè)置在母板框架1的內(nèi)側(cè)邊上，具有夾緊母板2的外側(cè)邊的第一位置以及松開母板2的外側(cè)邊的第二位置。具體操作時，打開真空泵將母板2吸附在環(huán)形襯板4上后，在一定壓力下， 使真空夾8移動到第一位置頂住母板2，使母板2更加牢固地固定在母板框架1中，當完成曝光任務(wù)后，將真空夾8移動到第二位置，松開母板2，然后減小氣孔11的吸附力，將母板卸下。具有這種結(jié)構(gòu)的氣浮系統(tǒng)能夠更穩(wěn)定地固定母板2，從而使母板2穩(wěn)定地固定在母板框架1中，進而保證母板2與曝光臺5之間保持平行，進而保證曝光質(zhì)量。圖8示出了一種根據(jù)本實用新型實施例中曝光臺結(jié)構(gòu)簡單示意圖；圖9示出了一種根據(jù)本實用新型實施例的帶有自動調(diào)平系統(tǒng)的曝光設(shè)備部分結(jié)構(gòu)的簡單示意圖。如圖8和9所示，在本實用新型的一種典型的實施方式中，曝光臺5與母板框架1 之間均勻地設(shè)置有多個支撐凸塊10。該支撐凸塊10位于曝光臺5與母板框架1之間，控制曝光臺5與母板框架1之間的距離。優(yōu)選地，該曝光設(shè)備，還包括自動調(diào)平系統(tǒng)90，自動調(diào)平系統(tǒng)90包括傳感裝置91 和調(diào)整裝置93。傳感裝置91設(shè)置在母板框架1上，并與曝光臺5上的支撐凸塊10相對應(yīng)， 發(fā)出壓力信號。調(diào)整裝置93接收壓力信號，根據(jù)壓力信號調(diào)整母板安裝組件相對曝光臺5 的平衡度。這種自動調(diào)平系統(tǒng)90能夠更好地保持母板安裝組件與曝光臺5之間的距離，避免產(chǎn)生角度，進而可以提高曝光精度，使線條更加均勻，以保證曝光效果。優(yōu)選地，上述自動調(diào)平系統(tǒng)中各傳感裝置91的表面積大于各支撐凸塊10的橫截面積。這種結(jié)構(gòu)可以保證支撐凸塊10與傳感裝置91的充分接觸，這種傳感裝置91可以是壓力傳感器。優(yōu)選地，上述曝光臺5與母板安裝組件具有方形結(jié)構(gòu)，該支撐凸塊10為4個，分別設(shè)置在曝光臺5的四角處，該支撐凸塊10具有相同的高度，并且可以進行微調(diào)。根據(jù)物理學彈性形變原理，壓力大小將會反映母板框架1上四個角與曝光臺5的距離，經(jīng)過分析比較， 控制裝置控制曝光臺5進行角度的調(diào)節(jié)，以達到母板2與待曝光玻璃基板6之間的平行。更為優(yōu)選地，該支撐凸塊10高度低于1000 μ m,以保證母板框架1和曝光臺5不發(fā)生碰撞，保護裝置。優(yōu)選地，該支撐凸塊10由延展性好的金屬材料制成，例如，鋁箔。在本實用新型的一種典型的實施方式中，該曝光設(shè)備還包括控制器，控制器分別與氣浮系統(tǒng)以及自動調(diào)平系統(tǒng)相連。具有這種結(jié)構(gòu)的曝光設(shè)備提高了設(shè)備的自動化和智能化程度，還可以提高曝光精度，使線條更加均勻。以上僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)， 所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種曝光設(shè)備，其特征在于，包括相對設(shè)置的曝光臺( 與母板安裝組件，所述母板安裝組件包括母板框架(1)，具有環(huán)形結(jié)構(gòu)；環(huán)形襯板G)，與所述母板框架(1)連接，呈與所述母板框架(1)相匹配的環(huán)形結(jié)構(gòu)； 母板O)，設(shè)置在所述母板框架(1)中，且位于所述環(huán)形襯板(4)與所述曝光臺(5)之間；氣浮系統(tǒng)，將所述母板(2)吸附在所述環(huán)形襯板(4)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述氣浮系統(tǒng)包括多個氣孔(11)，均勻地設(shè)置在所述環(huán)形襯板(4)靠近所述母板O)的一側(cè)上； 真空泵，與各所述氣孔(11)連接以通過所述氣孔(11)進行抽放氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述氣浮系統(tǒng)還包括真空夾(8)，相對所述母板( 可移動地設(shè)置在所述母板框架(1)的內(nèi)側(cè)邊上，具有夾緊所述母板O)的外側(cè)邊的第一位置以及松開所述母板O)的外側(cè)邊的第二位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述曝光臺( 與所述母板框架(1)之間均勻地設(shè)置有多個支撐凸塊(10)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述曝光設(shè)備，其特征在于，還包括自動調(diào)平系統(tǒng)，所述自動調(diào)平系統(tǒng)(90)包括傳感裝置(91)，與所述支撐凸塊(10)相對應(yīng)地設(shè)置在所述母板框架(1)上，發(fā)出壓力信號；調(diào)整裝置(93)，接收所述壓力信號，根據(jù)所述壓力信號調(diào)整所述母板安裝組件相對所述曝光臺(5)的平行度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述各傳感裝置(91)的表面積大于所述各支撐凸塊(10)的橫截面積。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述曝光設(shè)備，其特征在于，還包括控制器，所述控制器分別與所述氣浮系統(tǒng)以及所述自動調(diào)平系統(tǒng)相連。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述曝光臺( 與所述母板安裝組件具有方形結(jié)構(gòu)，所述支撐凸塊(10)為4個，分別設(shè)置在所述曝光臺(5)的四角處。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述支撐凸塊(10)高度低于ΙΟΟΟμπι。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述曝光設(shè)備，其特征在于，所述支撐凸塊(10)由金屬材料制成。
專利摘要本實用新型公開了一種曝光設(shè)備，該設(shè)備包括相對設(shè)置的曝光臺與母板安裝組件，母板安裝組件包括母板框架，具有環(huán)形結(jié)構(gòu)；環(huán)形襯板，與母板框架連接，呈與母板框架相匹配的環(huán)形結(jié)構(gòu)；母板，設(shè)置在母板框架中，且位于環(huán)形襯板與曝光臺之間；氣浮系統(tǒng)，將母板吸附在環(huán)形襯板上。本實用新型的有益效果本實用新型所提供的曝光設(shè)備通過引入氣浮系統(tǒng)，將母板固定在母板框架中，避免了舊有固定方式所引起的不利因素，提高了設(shè)備的自動化和智能化程度，使安全系數(shù)大幅提高，延長了曝光設(shè)備的使用壽命；同時，該曝光設(shè)備還配備有自動測平和調(diào)平裝置，保證了曝光臺與母板之間平行，提高了曝光精度，使線條更加均勻。
文檔編號G03F7/20GK202217126SQ201120314818
公開日2012年5月9日 申請日期2011年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月30日
發(fā)明者田玉民, 費悅 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司