專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)體、墻壁構(gòu)件、建筑配件以及遮陽(yáng)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)體、墻壁構(gòu)件、建筑配件以及遮陽(yáng)設(shè)備。更具體地，本發(fā)明涉及用于漫反射入射光的光學(xué)體。
背景技術(shù)：
考慮到降低空調(diào)負(fù)荷，在市場(chǎng)上存在一種用于遮陽(yáng)的窗膜。用于反射陽(yáng)光的薄膜也作為遮陽(yáng)技術(shù)的一個(gè)實(shí)例在市場(chǎng)上銷(xiāo)售。為了制造該薄膜，已經(jīng)披露了各種方法，它們采用光學(xué)多層膜、含金屬膜、透明導(dǎo)電膜用作反射層(參見(jiàn)，例如，國(guó)際公布第05/087680號(hào))。然而，這種類(lèi)型的反射層形成在平窗玻璃上，并且入射陽(yáng)光僅被鏡面(規(guī)則)反射。因此，來(lái)自天空和被平窗玻璃鏡面反射的光到達(dá)室外附近的其他建筑和地面，在該處光被吸收并轉(zhuǎn)化成熱，從而使周?chē)h(huán)境的溫度升高。因此，在所有的窗戶(hù)涂有上述類(lèi)型的反射層的建筑的周?chē)h(huán)境中出現(xiàn)了局部溫度升高。在城區(qū)中，這引起了熱島現(xiàn)象加劇且在被該反射光照射的區(qū)域中的草不能生長(zhǎng)的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
期望提供可以抑制熱島現(xiàn)象加劇的光學(xué)體，光學(xué)體制造方法，窗構(gòu)件，建筑配件以及遮陽(yáng)設(shè)備。為了解決相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的上述問(wèn)題，發(fā)明人已經(jīng)深入地研究了能夠在不同于入射光被鏡面反射的方向的方向上定向反射太陽(yáng)光的光學(xué)體。結(jié)果，發(fā)明人成功地提供了一種光學(xué)體，該光學(xué)體包括具有其中結(jié)構(gòu)以規(guī)則間距排列的凹凸表面的第一光學(xué)層、形成在凹凸表面上的反射層以及形成在反射層上嵌入凹凸表面的第二光學(xué)層。然而，當(dāng)在夜晚通過(guò)上述光學(xué)體觀(guān)察在遠(yuǎn)處的電燈時(shí)，出現(xiàn)衍射圖案。結(jié)果，為了抑制這種衍射圖案的出現(xiàn)，發(fā)明人進(jìn)行了深入的研究發(fā)現(xiàn)，通過(guò)以隨機(jī)形狀形成第一光學(xué)層的凹凸表面可抑制衍射圖案的出現(xiàn)?；谏鲜霭l(fā)現(xiàn)，完成了本發(fā)明的實(shí)施方式。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式，提供了一種光學(xué)體，該光學(xué)體包括具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層，形成在凹凸表面上的反射層以及形成在反射層上以嵌入凹凸表面的第二光學(xué)層，其中，所述反射層是用于漫反射入射光的特定波長(zhǎng)帶中的光而透過(guò)特定波長(zhǎng)帶之外的光的波長(zhǎng)選擇性反射層。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式，提供了一種光學(xué)體，該光學(xué)體包括具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層，形成在凹凸表面上的反射層以及形成在反射層上以嵌入凹凸表面的第二光學(xué)層，其中，反射層是用于漫反射部分入射光而使剩余的光透過(guò)的半透射性層。根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施方式，提供了一種光學(xué)體制造方法，該光學(xué)體制造方法包括以下步驟形成具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層，在凹凸表面上形成反射層以及在反射層上形成第二光學(xué)層以嵌入凹凸表面，其中，反射層是用于漫反射特定波長(zhǎng)帶中的光而透過(guò)特定波長(zhǎng)帶之外的光的波長(zhǎng)選擇性反射層。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式，提供了一種光學(xué)體制造方法，該光學(xué)體制造方法包括以下步驟形成具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層，在凹凸表面上形成反射層以及在反射層上形成第二光學(xué)層以嵌入凹凸表面，其中，反射層是用于漫反射部分入射光而使剩余的光透過(guò)的半透射性層。對(duì)于本發(fā)明的實(shí)施方式，如上面所述，由于在第一光學(xué)層的隨機(jī)凹凸表面上形成波長(zhǎng)選擇性反射層或半透射性層，所以可以漫反射特定波長(zhǎng)帶中的光或部分入射光。此外， 由于在第一光學(xué)層中形成隨機(jī)凹凸表面并且在隨機(jī)凹凸表面上形成反射層，所以可抑制衍射圖案的出現(xiàn)。此外，由于第二光學(xué)層形成在反射層上以嵌入第一光學(xué)層的隨機(jī)凹凸表面， 所以可以清晰的觀(guān)察到通過(guò)光學(xué)體的透射圖像。因此，通過(guò)本發(fā)明的實(shí)施方式，可以抑制熱島現(xiàn)象的加劇。此外，可抑制衍射圖案的出現(xiàn)。


圖IA是示出了根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖，圖IB是示出了其中將根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜粘貼至粘附體(即，光學(xué)膜被粘貼至其上的目標(biāo))的實(shí)例的截面圖；圖2是根據(jù)第一實(shí)施方式的用來(lái)說(shuō)明光學(xué)膜功能的放大截面圖；圖3是示出了根據(jù)第一實(shí)施方式的用來(lái)制造光學(xué)膜的設(shè)備的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的示意圖；圖4A 圖4C示出了根據(jù)第一實(shí)施方式的用來(lái)說(shuō)明制造光學(xué)膜的方法的一個(gè)實(shí)例的連續(xù)步驟；圖5A和5B是用來(lái)說(shuō)明通過(guò)噴砂處理來(lái)處理母版表面的方法的一個(gè)實(shí)例的示圖；圖6A 圖6E示出了用來(lái)說(shuō)明通過(guò)光刻法和蝕刻來(lái)處理母版表面的方法的一個(gè)實(shí)例的連續(xù)步驟；圖7A 圖7C示出了根據(jù)第一實(shí)施方式的用來(lái)說(shuō)明制造光學(xué)膜的方法的一個(gè)實(shí)例的連續(xù)步驟；圖8A 圖8C示出了根據(jù)第一實(shí)施方式的用來(lái)說(shuō)明制造光學(xué)膜的方法的一個(gè)實(shí)例的連續(xù)步驟；圖9A是示出了根據(jù)第二實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖，圖9B是根據(jù)第二實(shí)施方式的用來(lái)說(shuō)明光學(xué)膜的功能的放大截面圖；圖IOA 圖IOC均為根據(jù)第三實(shí)施方式的示出了光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖；圖11是示出了根據(jù)第四實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖；圖12是示出了根據(jù)第五實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖；圖13是示出了根據(jù)第六實(shí)施方式的百葉窗(遮光簾)的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的透視圖；圖14A是示出了板條的結(jié)構(gòu)的第一實(shí)例的截面圖，圖14B是示出了板條的結(jié)構(gòu)的第二實(shí)例的截面圖；圖15A是示出根據(jù)第七實(shí)施方式的卷簾裝置(rolling screen device)的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的透視圖，圖15B是示出沿圖15A中的線(xiàn)XVB-XVB的簾布結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖；圖16A是示出了根據(jù)第八實(shí)施方式的建筑配件的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的透視圖，圖 16B是示出了光學(xué)體的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖；圖17A和17B均為示出了復(fù)制母版的測(cè)量表面粗糙度的結(jié)果的截面輪廓圖；圖18A是示出了實(shí)例1、3和4的光學(xué)膜的光譜透射波形的曲線(xiàn)圖，和圖18B是示出了實(shí)例1、3、和4的光學(xué)膜的光譜反射波形的曲線(xiàn)圖；圖19A是示出了實(shí)例8和9的光學(xué)膜的光譜透射波形的曲線(xiàn)圖，圖19B是示出了實(shí)例8和9的光學(xué)膜的光譜反射波形的曲線(xiàn)圖；圖20A是示出比較實(shí)例1和2的光學(xué)膜的光譜透射波形的曲線(xiàn)圖，圖20B是示出比較實(shí)例1和2的光學(xué)膜的光譜反射波形的曲線(xiàn)圖；圖21是說(shuō)明用于測(cè)量實(shí)例1 9和對(duì)比實(shí)例1 3中的每個(gè)光學(xué)膜的反射角度的分布的設(shè)備的示圖；圖22是說(shuō)明極坐標(biāo)繪圖的示圖；圖23示出了實(shí)例1中的光學(xué)膜的極坐標(biāo)繪圖；圖M示出了實(shí)例2中的光學(xué)膜的極坐標(biāo)繪圖；圖25示出了實(shí)例3中的光學(xué)膜的極坐標(biāo)繪圖；圖26A是示出了在包括實(shí)例1中的光學(xué)膜中的入射光的軸線(xiàn)和鏡面反射光的軸線(xiàn)的方位角中的反射強(qiáng)度的繪制結(jié)果的曲線(xiàn)圖，圖26B是示出了在包括實(shí)例2中的光學(xué)膜中的入射光的軸線(xiàn)和鏡面反射光的軸線(xiàn)的方位角中的反射強(qiáng)度的繪制結(jié)果的曲線(xiàn)圖；以及圖27是示出了在包括實(shí)例3中的光學(xué)膜中的入射光的軸線(xiàn)和鏡面反射光的軸線(xiàn)的方位角中的反射強(qiáng)度的繪制結(jié)果的曲線(xiàn)圖。
具體實(shí)施例方式下面將參照附圖按照下面的順序描述本發(fā)明的實(shí)施方式1.第一實(shí)施方式(其中光學(xué)膜是具有漫反射能力的波長(zhǎng)選擇膜)2.第二實(shí)施方式(其中光學(xué)膜是具有漫反射能力的半透射膜)3.第三實(shí)施方式(其中光學(xué)膜包括光散射體)4.第四實(shí)施方式(其中光學(xué)膜包括自潔有效層)5.第五實(shí)施方式(其中通過(guò)使用珠子形成漫反射表面)6.第六實(shí)施方式(其中光學(xué)膜被應(yīng)用至百葉窗)7.第七實(shí)施方式(其中光學(xué)膜被應(yīng)用至卷簾裝置)8.第八實(shí)施方式(其中光學(xué)膜被應(yīng)用至建筑配件)<1.第一實(shí)施方式>[光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)]圖IA是示出根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖，圖IB是示出其中將根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜粘貼至粘附體的實(shí)例的截面圖。用作光學(xué)體的光學(xué)膜 1是具有漫反射能力的波長(zhǎng)選擇光學(xué)膜。該具有漫反射能力的波長(zhǎng)選擇光學(xué)膜漫反射入射光的特定波長(zhǎng)帶中的光，同時(shí)透射所述特定波長(zhǎng)帶之外的光。光學(xué)膜1優(yōu)選地具有帶狀形狀。具有帶狀形狀的光學(xué)膜1可通過(guò)卷輥對(duì)卷輥處理(roll-to-roll process)來(lái)方便地制造。此外，帶狀光學(xué)膜1可以通過(guò)將其纏繞成卷而方便地進(jìn)行處理。如圖IA所示，光學(xué)膜1包括具有在其中以隨機(jī)凹凸形狀形成的界面的光學(xué)層2以及形成在光學(xué)層2中的界面處的波長(zhǎng)選擇性反射層3。光學(xué)層2包括具有隨機(jī)凹凸形狀的第一表面的第一光學(xué)層4以及具有隨機(jī)凹凸形狀的第二表面的第二光學(xué)層5。光學(xué)層2中的界面由彼此面對(duì)設(shè)置的均具有隨機(jī)凹凸形狀的第一和第二表面形成。換句話(huà)說(shuō)，光學(xué)膜 1包括具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層4，形成在所述第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面上的波長(zhǎng)選擇性反射層3以及形成在所述波長(zhǎng)選擇性反射層3上以嵌入到其上形成有波長(zhǎng)選擇層 3的隨機(jī)凹凸表面中的第二光學(xué)層5。所述光學(xué)膜1具有光(諸如太陽(yáng)光)入射到其上的入射表面Sl以及入射在入射表面Sl上的部分光從其出射的出射面S2，該部分光已經(jīng)穿過(guò)光學(xué)膜1。光學(xué)膜1適合應(yīng)用于內(nèi)壁構(gòu)件、外壁構(gòu)件、窗構(gòu)件、墻壁材料等。此外，光學(xué)膜1 適合應(yīng)用于百葉窗(遮光簾)的板條(遮陽(yáng)構(gòu)件的一個(gè)實(shí)例)和卷簾裝置的簾布(遮陽(yáng)構(gòu)件的另一個(gè)實(shí)例)。此外，適合采用光學(xué)膜1作為設(shè)置在建筑配件(即，內(nèi)部構(gòu)件或外部構(gòu)件)(例如，障子(即，紙糊和/或安裝玻璃的滑動(dòng)門(mén)))的采光部分中的光學(xué)體。如果需要，光學(xué)膜1還可以包括在設(shè)置光學(xué)層2的出射表面S2的側(cè)面上的第一基板如。如果需要，光學(xué)膜1還可以包括在設(shè)置光學(xué)層2的入射表面Sl的側(cè)面上的第二基板 fe。當(dāng)光學(xué)膜1包括第一基板如和/或第二基板如時(shí)，則在光學(xué)膜1包括第一基板如和 /或第二基板fe的狀態(tài)下，后述的光學(xué)特性(例如透明度和透射光的顏色)是令人極其滿(mǎn)意的。如果需要，光學(xué)膜1還可以包括粘貼層6。粘貼層6形成在光學(xué)膜1的入射表面 Sl和出射表面S2中的一個(gè)上，將被粘貼至窗構(gòu)件10。因此，通過(guò)介于光學(xué)膜1和窗構(gòu)件10 之間的粘貼層6，將光學(xué)膜1粘貼至窗構(gòu)件10(即，粘附體)的室內(nèi)或室外側(cè)。粘貼層6可被形成為例如包括粘結(jié)劑(例如，UV固化樹(shù)脂或雙液混合樹(shù)脂)作為主要成分的粘結(jié)層， 或被形成為包含粘合劑(例如，PSA(壓敏粘合劑))作為主要成分的粘合層。當(dāng)粘貼層6 為粘合層時(shí)，優(yōu)選地，進(jìn)一步在粘貼層6上形成剝離層7。這能夠使得僅通過(guò)將剝離層7撕下、以粘貼層6介于光學(xué)膜1和粘附體之間的方式容易地將光學(xué)膜1粘貼到粘附體(例如， 窗構(gòu)件10)?？紤]到增加第二基板fe與粘貼層6和第二光學(xué)層5中的一個(gè)或兩個(gè)之間的粘性， 光學(xué)膜1還可以包括在第二基板fe與粘貼層6和第二光學(xué)層5中的一個(gè)或兩個(gè)之間的底層(primer layer)(未示出)。此外，考慮到增加相同位置的粘性，優(yōu)選地，進(jìn)行普通的物理預(yù)處理代替形成底層，或除形成底層外還進(jìn)行普通的物理預(yù)處理。普通的物理預(yù)處理包括， 例如，等離子處理或電暈處理。光學(xué)膜1還可以包括在入射表面Sl和出射表面S2中粘貼至粘附體(例如，窗構(gòu)件10)的一個(gè)上或在該表面與波長(zhǎng)選擇性反射層3之間的阻擋層(未示出)。由于阻擋層的存在，能夠減少濕氣從入射表面Sl或出射表面S2向波長(zhǎng)選擇性反射層3的擴(kuò)散并抑制包含在波長(zhǎng)選擇性反射層3中的金屬的劣化等。從而，可提高光學(xué)膜1的耐用性?？紤]到使得光學(xué)膜1的表面抗脫落、抗刮傷等，光學(xué)膜1還可以包括硬涂層8。硬涂層8優(yōu)選地形成在入射表面Sl和出射表面S2中位于與粘貼至粘附體(例如，窗構(gòu)件10) 的表面相對(duì)的一側(cè)上的一個(gè)表面上?？紤]到提供防污性能等，還可以在光學(xué)膜1的入射表面Sl或出射表面S2上形成防水或親水層。具有該功能的層例如可以直接形成在光學(xué)層2 上或各種功能層之一(例如硬涂層8)上?？紤]到能夠?qū)⒐鈱W(xué)膜1容易地粘貼至粘附體(例如，窗構(gòu)件10)，光學(xué)膜1優(yōu)選地具有柔韌性。本文中，術(shù)語(yǔ)“薄膜”被構(gòu)造為包括薄片。也就是說(shuō)，光學(xué)膜1也包括光學(xué)薄片。光學(xué)膜1優(yōu)選地具有透明度。該透明度優(yōu)選地落在后述的透射圖像清晰度的范圍內(nèi)。第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5之間的折射率差優(yōu)選地小于或等于0. 010，更優(yōu)選地小于或等于0. 008，并進(jìn)一步優(yōu)選地小于或等于0. 005。如果折射率差超過(guò)0. 010，透射圖像看起來(lái)模糊。當(dāng)折射率差大于0. 008而不大于0. 010時(shí)，盡管依賴(lài)于室外的光亮度，但在日常生活中沒(méi)有任何問(wèn)題。當(dāng)折射率的差大于0. 005而不大于0. 008時(shí)，可以清晰地觀(guān)察室外的景物，盡管令人不滿(mǎn)意的是，當(dāng)仔細(xì)觀(guān)看明亮物體的邊緣時(shí)該明亮物體的圖像稍有些模糊。 當(dāng)折射率的差小于或等于0. 005時(shí)，不論透射圖像的亮度如何都可觀(guān)察到清晰的圖像。第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5中位于粘貼至例如窗構(gòu)件10的一側(cè)上的一個(gè)可以包含粘合劑作為主要成分。由于該特征，可以通過(guò)直接粘附包含粘合劑作為主要成分的第一光學(xué)層4 或第二光學(xué)層5來(lái)將光學(xué)膜1粘貼至，例如，窗構(gòu)件10。在這種情況下，相對(duì)于粘合劑的折射率差優(yōu)選地在上述范圍內(nèi)。第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5優(yōu)選地具有相同的光學(xué)特性，例如折射率。更具體地，第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5優(yōu)選地由具有在可見(jiàn)光范圍內(nèi)的透明度的相同的材料 (例如相同的樹(shù)脂材料)制成。通過(guò)使用相同的材料形成第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5，兩個(gè)光學(xué)層的折射率彼此相等，因此可以提高對(duì)可見(jiàn)光的透明度。然而，對(duì)于這一點(diǎn)應(yīng)該注意的是，即使原材料是相同的，但最終形成的層的折射率可以因(例如)成膜處理中的固化條件(curing condition)差異而彼此不同。另一方面，當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)層4和第二光學(xué)層5由不同的材料制成時(shí)，透射圖像趨于模糊，這是因?yàn)楣鈱W(xué)層4和5之間的折射率的差異而導(dǎo)致了光在波長(zhǎng)選擇性反射層3 (其提供了邊界)處被折射。特別地，存在這樣的趨勢(shì)，即，當(dāng)仔細(xì)觀(guān)看明亮物體的透射圖像時(shí)，明顯觀(guān)察到透射圖像的模糊。注意，為了調(diào)節(jié)折射率的值，可以在第一光學(xué)層4和/或第二光學(xué)層5中混合添加劑。第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5優(yōu)選地具有可見(jiàn)光范圍內(nèi)的透明度。本文中，術(shù)語(yǔ) “透明度”被定義為具有兩層含義，即，不吸收光和不散射光。當(dāng)在一般情況下使用術(shù)語(yǔ)“透明度”時(shí)，通常表示前者含義。然而，根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜1優(yōu)選地具有這兩層含義的透明度。目前采用的回射器(retroreflector)意在視覺(jué)確定從路標(biāo)、夜晚工作人員的衣服等反射的光以提供明顯的指示。因此，即使所述回射器具有散射特性，如果回射器與下層反射器緊密接觸，仍可視覺(jué)觀(guān)察到從下層反射器反射的光。該現(xiàn)象基于與如下原理同樣的原理，即，即使將提供散射特性的防眩處理應(yīng)用到圖像顯示器的正面以使其具有防眩特性， 仍可以視覺(jué)確認(rèn)圖像。相反，根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜1優(yōu)選地不散射光，原因如下，光學(xué)膜1的特征在于透射不是特定波長(zhǎng)的漫反射光的光，并且光學(xué)膜1被粘貼至主要透射透射波長(zhǎng)的光的透射構(gòu)件，因此允許觀(guān)察到透射光。然而，根據(jù)用途，可有意地使第二光學(xué)層 5具有散射特性。優(yōu)選地，以如下方式使用光學(xué)膜1，例如，用(例如)介于光學(xué)膜和剛性構(gòu)件之間的粘合劑將光學(xué)膜粘貼至剛性構(gòu)件(例如，窗構(gòu)件10)，該剛性構(gòu)件具有主要對(duì)穿過(guò)光學(xué)膜并落在不是特定波長(zhǎng)的帶中的光的透射性。窗構(gòu)件10的實(shí)例包括用于高層建筑、房屋等的建筑窗構(gòu)件以及用于交通工具的窗構(gòu)件。當(dāng)將光學(xué)膜1應(yīng)用至建筑窗構(gòu)件時(shí)，優(yōu)選將其應(yīng)用至面向一定方向，具體地，在從東至南進(jìn)一步至西的范圍內(nèi)(例如，在從東南至西南的范圍內(nèi))的一定方向的窗構(gòu)件10。這是因?yàn)?，通過(guò)將光學(xué)膜1應(yīng)用至如上述定向的窗構(gòu)件10， 可以更有效地反射熱射線(xiàn)。光學(xué)膜1不僅可應(yīng)用至單層窗玻璃，還可用于特定的玻璃，例如多層玻璃。此外，窗構(gòu)件10并不限于玻璃制成的構(gòu)件，它可以是由具有透明性的高聚材料制成的構(gòu)件。光學(xué)層2優(yōu)選地具有可見(jiàn)光范圍內(nèi)的透明度。原因在于，通過(guò)具有可見(jiàn)光范圍內(nèi)的透明度的光學(xué)層2，當(dāng)將光學(xué)膜1粘貼至窗構(gòu)件10 (例如，窗玻璃)時(shí)，允許可見(jiàn)光穿過(guò)光學(xué)膜1并且可保證太陽(yáng)光的照明。光學(xué)膜1不僅可以粘貼至玻璃窗的內(nèi)表面，還可以粘貼至其外表面。此外，光學(xué)膜1可與附加的熱射線(xiàn)阻擋薄膜結(jié)合使用。例如，可以在空氣和光學(xué)膜 1之間的界面(即，在光學(xué)膜1的最外表面上)處設(shè)置光吸收涂層。更進(jìn)一步地，光學(xué)膜1 可以與硬涂層、紫外線(xiàn)阻擋層、表面抗反射層等結(jié)合使用。當(dāng)以結(jié)合的方式使用這些功能層中的一個(gè)或多個(gè)時(shí)，優(yōu)選地將功能層設(shè)置在光學(xué)膜1和空氣之間的界面處。然而，將紫外線(xiàn)阻擋層設(shè)置在比光學(xué)膜1更靠近太陽(yáng)的一側(cè)上。因此，特別地，當(dāng)光學(xué)膜1被粘貼在面向室內(nèi)的側(cè)面的窗玻璃的內(nèi)表面上時(shí)，期望將紫外線(xiàn)阻擋層設(shè)置在窗玻璃的內(nèi)表面和光學(xué)膜1 之間。在這種情況下，可以將紫外線(xiàn)吸收劑混合在設(shè)置在窗玻璃的內(nèi)表面和光學(xué)膜1之間的粘貼層中。根據(jù)光學(xué)膜1的用途，可以將光學(xué)膜1染色以具有引人注目的設(shè)計(jì)。當(dāng)對(duì)光學(xué)膜1 作出引人注目的設(shè)計(jì)時(shí)，優(yōu)選地形成第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5中的至少一個(gè)從而以不降低透明度的程度在可見(jiàn)光范圍內(nèi)主要吸收特定波長(zhǎng)帶中的光。圖2是根據(jù)第一實(shí)施方式的用來(lái)說(shuō)明光學(xué)膜的功能的放大截面圖。光學(xué)膜1具有光L入射在其上的入射表面Si。光學(xué)膜1漫反射特定波長(zhǎng)帶中的光L1 (其為進(jìn)入入射表面 Sl的光L的一部分)，同時(shí)透射不是特定波長(zhǎng)帶中的光L2。此外，光學(xué)膜1對(duì)光L2而不是特定波長(zhǎng)帶具有透明度。該透明度優(yōu)選地在后述的透射圖像清晰度的范圍內(nèi)。此外，可以使漫反射特性具有各向異性。例如，當(dāng)光學(xué)膜1具有帶狀形狀時(shí)，漫反射特性可以在縱向(長(zhǎng)度方向)方向和橫向(寬度方向)方向之間具有各向異性。根據(jù)光學(xué)膜1的用途，不同地設(shè)定在特定波長(zhǎng)帶內(nèi)的漫反射光和特定波長(zhǎng)帶外的透射光。例如，當(dāng)將光學(xué)膜1應(yīng)用至窗構(gòu)件10時(shí)，優(yōu)選的是，在特定波長(zhǎng)帶內(nèi)的漫反射光為近紅外光，而特定波長(zhǎng)帶外的透射光為可見(jiàn)光。更具體地，在特定波長(zhǎng)帶內(nèi)的漫反射光優(yōu)選為主要落在780nm 2100nm的波長(zhǎng)帶內(nèi)的近紅外光。通過(guò)反射近紅外光，當(dāng)將光學(xué)膜 1粘貼至窗構(gòu)件10 (例如窗玻璃)時(shí)，可抑制建筑內(nèi)溫度的升高。同時(shí)，可降低冷氣負(fù)載并可實(shí)現(xiàn)能量的節(jié)約。這里，表述“反射”表示特定波長(zhǎng)帶內(nèi)(例如，在近紅外線(xiàn)范圍內(nèi))的反射率優(yōu)選地為大于等于30 %，更優(yōu)選地為大于等于50 %，并更進(jìn)一步優(yōu)選地為大于等于 80%。表述“透射”表示在特定波長(zhǎng)帶內(nèi)(例如，在可見(jiàn)光范圍內(nèi))的透射率優(yōu)選地為大于等于30%，更優(yōu)選地為大于等于50%，并更進(jìn)一步優(yōu)選地為大于等于70%。當(dāng)使用梳寬為0. 5mm的光梳時(shí)，在光學(xué)膜1具有透射性的波長(zhǎng)帶中的透射圖像清晰度的值優(yōu)選地為大于等于50，更優(yōu)選地為大于等于60，并進(jìn)一步更優(yōu)選地為大于等于 75。如果透射圖像清晰度的值小于50，透射圖像看起來(lái)趨于模糊。當(dāng)透射圖像清晰度的值不小于50并小于60時(shí)，盡管依賴(lài)于室外的光亮度，但在日常生活中沒(méi)有任何問(wèn)題。當(dāng)透射圖像清晰度的值不小于60并小于75時(shí)，可以清晰地觀(guān)察室外的景物，盡管令人不滿(mǎn)意的是，當(dāng)仔細(xì)觀(guān)看明亮物體的邊緣時(shí)該明亮物體的圖像稍有些模糊。當(dāng)透射圖像清晰度的值不小于75時(shí)，幾乎沒(méi)有令人不滿(mǎn)意的衍射圖案。此外，使用梳寬為0. 125mm、0. 5mm、1.0mm和 2. Omm的光梳測(cè)量的透射圖像清晰度的總值優(yōu)選地為大于等于230，更優(yōu)選地為大于等于 270，并進(jìn)一步更優(yōu)選地為大于等于350。如果透射圖像清晰度的總值小于230，透射圖像看起來(lái)趨于模糊。當(dāng)透射圖像清晰度的總值不小于230并小于270時(shí)，盡管依賴(lài)于室外的光亮度，但在日常生活中沒(méi)有任何問(wèn)題。當(dāng)透射圖像清晰度的總值不小于270并小于350時(shí)， 可以清晰的觀(guān)察室外的景物，盡管只有非常明亮的物體(例如，光源)產(chǎn)生令人不滿(mǎn)意的衍射圖案。當(dāng)透射圖像清晰度的總值不小于350時(shí)，幾乎沒(méi)有令人不滿(mǎn)意的衍射圖案。這里， 通過(guò)使用由Suga Test Instruments Co.，Ltd制造的ICM-IT根據(jù)JIS K7105測(cè)量透射圖像清晰度的值。當(dāng)要透射的波長(zhǎng)與D65光源不同時(shí)，優(yōu)選地，在利用具有要透射的波長(zhǎng)的濾波器校準(zhǔn)之后進(jìn)行測(cè)量。在光學(xué)膜1具有透射性的波長(zhǎng)帶中出現(xiàn)的混濁度優(yōu)選地為小于等于6%，更優(yōu)選地為小于等于4%，更進(jìn)一步優(yōu)選地為小于等于2%。如果混濁度超過(guò)6%，透射光被散射并且視線(xiàn)模糊。這里，通過(guò)使用由Murakami Color Research Laboratory Co.，Ltd制造的 HM-150根據(jù)JIS K7136規(guī)定的測(cè)量方法測(cè)量混濁度。當(dāng)要透射的波長(zhǎng)與D65光源不同時(shí)， 優(yōu)選地，在利用具有要透射的波長(zhǎng)的濾波器校準(zhǔn)之后進(jìn)行測(cè)量。光學(xué)膜1的入射表面Si， 優(yōu)選地，光學(xué)膜1的入射表面Sl和出射表面S2，具有不降低透射圖像清晰度的這樣程度的平滑度。更具體地，入射表面Sl和出射表面S2的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選地為小于等于 0. 08 μ m,更優(yōu)選地為小于等于0. 06 μ m,更進(jìn)一步優(yōu)選地為小于等于0. 04 μ m。需要注意的是，通過(guò)測(cè)量入射(出射)表面的表面粗糙度并從二維輪廓曲線(xiàn)推導(dǎo)出粗糙度曲線(xiàn)來(lái)得到算術(shù)平均粗糙度Ra作為粗糙度參數(shù)。根據(jù)JIS B0601:2001設(shè)置測(cè)量條件。測(cè)量設(shè)備和測(cè)量條件的詳細(xì)內(nèi)容如下測(cè)量設(shè)備全自動(dòng)細(xì)微形狀測(cè)量機(jī)SURFC0DER ET4000A(由Kosaka Laboratory Ltd.生產(chǎn))，λο = 0.8mm，評(píng)估長(zhǎng)度4mm，截止(cut off) X 5，以及數(shù)據(jù)采樣間隔0. 5 μ m.下面將詳細(xì)描述構(gòu)成光學(xué)膜1的第一光學(xué)層4、第二光學(xué)層5以及波長(zhǎng)選擇性反射層3。(第一光學(xué)層和第二光學(xué)層)第一光學(xué)層4例如用于支撐和保護(hù)波長(zhǎng)選擇性反射層3?？紤]到使光學(xué)膜1具有柔韌性，第一光學(xué)層4優(yōu)選地由包含例如樹(shù)脂作為主要成分的層制成。例如，第一光學(xué)層4 的兩個(gè)主表面中的一個(gè)是平滑表面而另一個(gè)是隨機(jī)凹凸表面(第一表面)。波長(zhǎng)選擇性反射層3形成在第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面上。第二光學(xué)層5通過(guò)嵌入在其上形成有波長(zhǎng)選擇性反射層3的第一光學(xué)層4的第一表面(隨機(jī)凹凸表面)來(lái)保護(hù)波長(zhǎng)選擇性反射層3。考慮到使光學(xué)膜1具有柔韌性，第二光學(xué)層5優(yōu)選地由包含例如樹(shù)脂作為主要成分的層制成。例如，第二光學(xué)層5的兩個(gè)主表面中的一個(gè)是平滑表面而另一個(gè)是隨機(jī)凹凸表面(第二表面)。第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面和第二光學(xué)層5的隨機(jī)凹凸表面以隨機(jī)凹凸的關(guān)系彼此反轉(zhuǎn)。由于第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面和第二光學(xué)層5的隨機(jī)凹凸表面彼此間的不同僅在于它們以隨機(jī)凹凸的關(guān)系彼此反轉(zhuǎn)，所以下面將對(duì)第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面進(jìn)行描述。第一光學(xué)層4優(yōu)選地包含樹(shù)脂作為主要成分，該樹(shù)脂為其儲(chǔ)能(彈性)模量在 100°c表現(xiàn)出很少的減小并且在25°C和100°C之間儲(chǔ)能模量沒(méi)有顯著的差異的這樣類(lèi)型的樹(shù)脂。更具體地，第一光學(xué)層4優(yōu)選地包含儲(chǔ)能模量在25°C時(shí)小于等于3 X IO9Pa且在100°C 時(shí)儲(chǔ)能模量大于等于3X IO7Pa的樹(shù)脂。第一光學(xué)層4優(yōu)選地由一種樹(shù)脂制成，但可包含兩種或更多種的樹(shù)脂。此外，如果需要，第一光學(xué)層4可混入添加劑。當(dāng)如所述，當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)層4包含儲(chǔ)能模量在100°C表現(xiàn)出很少的減小且在25°C和 100°C之間的儲(chǔ)能模量沒(méi)有顯著差異的這樣類(lèi)型的樹(shù)脂作為主要成分時(shí)，第一光學(xué)層4甚至在形成第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面(第一表面)之后進(jìn)行施加熱或者熱和壓力的處理時(shí)仍能夠基本上保持所設(shè)計(jì)的界面形狀。另一方面，如果第一光學(xué)層4包含儲(chǔ)能模量在 100°C表現(xiàn)出很大的減小且在25°C和100°C之間的儲(chǔ)能模量差異顯著的這樣類(lèi)型的樹(shù)脂作為主要成分，界面形狀從設(shè)計(jì)的形狀變形為光學(xué)膜1可能發(fā)生卷曲的較大程度。施加熱的情況下的處理不僅包括直接向光學(xué)膜1或其部件施加熱(例如，退火的處理)，還包括局部升高形成的薄膜的表面的溫度并且將熱間接施加至薄膜表面(例如，在薄膜的形成過(guò)程中以及樹(shù)脂成分的固化過(guò)程中)的處理，以及通過(guò)能量射線(xiàn)的照射升高母版的溫度并將熱間接施加至光學(xué)膜的處理。此外，通過(guò)如上所述限制儲(chǔ)能模量的數(shù)值范圍而得到的效果并不限于使用特定類(lèi)型的樹(shù)脂的情況，在使用熱塑性樹(shù)脂、熱固化型樹(shù)脂以及能量射線(xiàn)照射型樹(shù)脂時(shí)也可以得到類(lèi)似的效果。例如，第一光學(xué)層4的儲(chǔ)能模量可確定如下。當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)層4的表面暴露時(shí)，第一光學(xué)層4的儲(chǔ)能模量可通過(guò)使用微型硬度計(jì)測(cè)量暴露表面的儲(chǔ)能模量來(lái)確定。當(dāng)在第一光學(xué)層4的表面上形成第一基板如等時(shí)，可通過(guò)撕下第一基板如等使第一光學(xué)層4的表面露出，然后通過(guò)使用微型硬度計(jì)測(cè)量暴露表面的儲(chǔ)能模量來(lái)確定第一光學(xué)層4的儲(chǔ)能模量。例如，當(dāng)使用熱塑性樹(shù)脂時(shí)可以通過(guò)調(diào)節(jié)(例如)側(cè)鏈的長(zhǎng)度和類(lèi)型的方法來(lái)抑制高溫時(shí)儲(chǔ)能模量的減少，以及當(dāng)使用熱固化型樹(shù)脂或能量射線(xiàn)照射型樹(shù)脂時(shí)可以通過(guò)調(diào)節(jié)(例如)交聯(lián)點(diǎn)(cross-linking point)的數(shù)量和交聯(lián)劑的分子結(jié)構(gòu)的方法來(lái)抑制高溫時(shí)儲(chǔ)能模量的減少。然而，樹(shù)脂材料本身所需要的特性?xún)?yōu)選地不隨這樣的結(jié)構(gòu)的改變而劣化。根據(jù)交聯(lián)劑的類(lèi)型，例如，室溫左右的儲(chǔ)能模量可能增加至樹(shù)脂薄膜變得易碎的程度， 或由于大的收縮樹(shù)脂膜被彎曲或卷曲的程度。因此，優(yōu)選地根據(jù)需要的特性適當(dāng)?shù)剡x擇交聯(lián)劑的類(lèi)型。當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)層4包含結(jié)晶高聚材料作為主要成分時(shí)，其優(yōu)選地包含玻璃轉(zhuǎn)化點(diǎn)高于制造處理過(guò)程中最高的溫度并在制造處理過(guò)程中最高溫度處表現(xiàn)出儲(chǔ)能模量的減小很少的樹(shù)脂作為主要成分。如果使用玻璃轉(zhuǎn)化點(diǎn)在室溫25°C到制造處理過(guò)程中最高的溫度的范圍內(nèi)并在制造處理過(guò)程中最高溫度處表現(xiàn)出儲(chǔ)能模量的減小很多的樹(shù)脂，則在制造處理過(guò)程中難于保持所設(shè)計(jì)的理想界面。當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)層4包含非結(jié)晶(非晶態(tài))高聚材料作為主要成分時(shí)，其優(yōu)選地包含熔點(diǎn)高于制造處理過(guò)程中最高的溫度并在制造處理過(guò)程中最高溫度處表現(xiàn)出儲(chǔ)能模量的減小很少的樹(shù)脂作為主要成分。如果使用熔點(diǎn)在室溫25°C到制造處理過(guò)程中最高的溫度的范圍內(nèi)并在制造處理過(guò)程中最高的溫度處表現(xiàn)出儲(chǔ)能模量的減小很多的樹(shù)脂，則在制造處理過(guò)程中難于保持所設(shè)計(jì)的理想界面。這里，表述“制造處理過(guò)程中最高的溫度”表示在制造處理過(guò)程中第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸表面(第一表面)處的最高的溫度。優(yōu)選地，第二光學(xué)層5也滿(mǎn)足儲(chǔ)能模量的上述數(shù)值范圍和玻璃轉(zhuǎn)化點(diǎn)的上述溫度范圍。因此，第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5中的至少一個(gè)優(yōu)選地包含儲(chǔ)能模量在25°C時(shí)小于等于3X IO9Pa的樹(shù)脂。在這樣的條件下，光學(xué)膜1在室溫25°C可以具有柔韌性并且可以通過(guò)卷輥對(duì)卷輥制造。在實(shí)例性情況下，第一基板如和第二基板fe具有透明度。考慮到使光學(xué)膜1具有柔韌性，每個(gè)基板優(yōu)選地為薄膜形式，但基板的形式并不限于薄膜。例如，可以通過(guò)使用普通高聚材料來(lái)形成第一基板如和第二基板如。普通高聚材料的實(shí)例包括三乙酰纖維素 (TAC)，聚酯纖維(TPEE)，聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚酰亞胺(PI)，聚酰胺(PA)，芳綸 (aramid)，聚乙烯(PE)，聚丙烯酸脂，聚醚砜，聚砜，聚丙烯(PP)，雙乙酰纖維素(diacetyl cellulose)，聚氯乙烯，丙烯酸樹(shù)脂(PMMA)，聚碳酸酯(PC)，環(huán)氧樹(shù)脂，脲醛樹(shù)脂，聚氨酯樹(shù)脂以及三聚氰胺樹(shù)脂。然而，第一基板如和第二基板如的材料不限于上述的具體實(shí)例。考慮到生產(chǎn)率，第一基板如和第二基板fe的厚度優(yōu)選地為38 μ m 100 μ m,但并不限于該具體的范圍。第一基板如和第二基板fe優(yōu)選地對(duì)能量射線(xiàn)是可透射的。原因在于，當(dāng)?shù)谝换迦绾偷诙錰e對(duì)能量射線(xiàn)是可透射的時(shí)，如后所述，通過(guò)從包括第一基板如或第二基板fe的一側(cè)使用能量射線(xiàn)照射能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂能夠固化介于第一基板如或第二基板fe和波長(zhǎng)選擇性反射層3之間的能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂。在實(shí)例性情況下，第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5具有透明度。例如，通過(guò)固化樹(shù)脂組分來(lái)獲得第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5。作為樹(shù)脂組分，考慮到制造的方便，優(yōu)選地使用能夠通過(guò)使用光或電子束照射固化的能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂，或能夠通過(guò)施加熱來(lái)固化的熱固化型樹(shù)脂。作為能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂，能夠通過(guò)光照射而固化的光敏樹(shù)脂組分是優(yōu)選的， 并且能夠通過(guò)紫外線(xiàn)照射而固化的紫外線(xiàn)固化型樹(shù)脂是最優(yōu)選的?？紤]到增加第一光學(xué)層 4或第二光學(xué)層5和波長(zhǎng)選擇性反射層3之間的粘合性，樹(shù)脂組分進(jìn)一步優(yōu)選地包括包含磷酸的化合物，包含琥珀酸的化合物以及包含丁內(nèi)酯的化合物。包含磷酸的化合物可以是，例如，包含磷酸的(甲基)丙烯酸酯，優(yōu)選地是具有磷酸官能團(tuán)的(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。包含琥珀酸的化合物可以是，例如，包含琥珀酸的(甲基)丙烯酸酯，優(yōu)選地是具有琥珀酸官能團(tuán)的(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。包含丁內(nèi)酯的化合物可以是，例如，包含丁內(nèi)酯的(甲基)丙烯酸酯，優(yōu)選地是具有丁內(nèi)酯官能團(tuán)的(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。紫外線(xiàn)固化型樹(shù)脂組分包含，例如，(甲基)丙烯酸酯和光聚作用引發(fā)劑。如果需要，紫外線(xiàn)可固化樹(shù)脂組分可以進(jìn)一步包含光穩(wěn)劑(photo-stabilizer)、阻燃劑、流平劑 (leveling agent)禾口 / 或抗氧化齊[J。作為丙烯酸酯，優(yōu)選地使用具有兩個(gè)或多于兩個(gè)的(甲基)丙烯?；鶊F(tuán)的單體或低聚物。這樣的單體和/或低聚物的實(shí)例包括聚氨(甲基)丙烯酸酯(urethaneOiieth) acrylate)，環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯，聚酯(甲基)丙烯酸酯，聚醇(甲基)丙烯酸酯(polyol (mettOacrylate)，聚醚(甲基)丙烯酸酯，和三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯 (melamine(meth)acrylate)0這里，術(shù)語(yǔ)“(甲基)丙烯?；鶊F(tuán)”表示丙烯?；鶊F(tuán)或甲基丙烯酰基團(tuán)。這里使用的“低聚物”表示是具有大于等于500至小于等于60000的分子量的分子。這里使用的光聚作用引發(fā)劑可以從普通材料中適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行選擇。作為普通材料的實(shí)例，苯甲酮衍生物，苯乙酮衍生物，蒽醌衍生物等可單獨(dú)使用或組合使用。混合的光聚作用引發(fā)劑的量?jī)?yōu)選為固體含量的大于等于0.1% (質(zhì)量百分比)而小于等于10% (質(zhì)量百分比)。從實(shí)用角度考慮，如果混合的光聚作用引發(fā)劑的量小于0.1% (質(zhì)量百分比)，光固化能力降低到不適于工業(yè)生產(chǎn)的程度。另一方面，如果混合的光聚作用引發(fā)劑的量超過(guò) 10% (質(zhì)量百分比)，則當(dāng)發(fā)出的用于照射的光的量不充足時(shí)，氣味趨于殘留在形成的涂層中。這里，術(shù)語(yǔ)“固體含量”表示在被固化后構(gòu)成第一光學(xué)層4或第二光學(xué)層5的所有成分。 固體含量包括，例如，丙烯酸酯、光聚作用引發(fā)劑等。優(yōu)選地，樹(shù)脂具有這樣的特性，S卩，例如，當(dāng)使用能量射線(xiàn)照射或施加熱時(shí)結(jié)構(gòu)可轉(zhuǎn)印至樹(shù)脂?？梢允褂冒ㄒ蚁┗鶚?shù)脂(vinyl-based resin)，環(huán)氧基樹(shù)脂，熱塑性樹(shù)脂等的任何類(lèi)型的樹(shù)脂，只要該樹(shù)脂滿(mǎn)足上述折射率的要求?？蓪?shù)脂與低聚物混合以減少固化收縮。樹(shù)脂可以進(jìn)一步包含，例如，作為固化劑的聚亞安酯?？紤]到第一光學(xué)層4或第二光學(xué)層5與相鄰層之間的粘合性，樹(shù)脂可以進(jìn)一步與具有羥基、羧基和磷酸基(phosphoric group)的單體，多羥基化合物，諸如羧酸、硅烷、 鋁和鈦的耦合劑以及各種螯合劑中的一種或多種混合。樹(shù)脂組分優(yōu)選地進(jìn)一步包含交聯(lián)劑。具體地，優(yōu)選地將環(huán)狀交聯(lián)劑用作交聯(lián)劑。通過(guò)使用交聯(lián)劑，可以將樹(shù)脂制造成具有耐熱性而不會(huì)大幅地改變室溫下的儲(chǔ)能模量。如果室溫下的儲(chǔ)能模量被大幅改變，光學(xué)膜1會(huì)變得易碎，從而難于通過(guò)卷輥對(duì)卷輥處理來(lái)制造光學(xué)膜1。環(huán)狀交聯(lián)劑的實(shí)例包括二氧雜環(huán)乙烷乙二醇二丙烯酸酯 (dioxaneglycol diacrylate)，三環(huán)癸烷二甲醇二丙烯酸酯，三環(huán)癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(tricyclodecanedimethanol diacrylate)，環(huán)氧乙烷改性丙烯酸異氰脲酸酯 (ethylene oxide-modified isocyanurate diacrylate),環(huán)氧乙燒改性異氰脲酸三丙烯酸酉旨(ethylene oxide-modified isocyanurate triacrylate)禾口己內(nèi)酉旨改性三(丙;I；希酉先氧乙基)異氰服酸酉旨(caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate)。優(yōu)選地，第一基板如或第二基板fe具有分別低于第一光學(xué)層4或第二光學(xué)層5 的水蒸氣滲透率。例如，當(dāng)通過(guò)使用能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂(例如聚氨酯丙烯酸酯)形成第一光學(xué)層4時(shí)，優(yōu)選地通過(guò)使用水蒸氣滲透率低于第一光學(xué)層4并且對(duì)能量射線(xiàn)是可透射的樹(shù)脂(例如，聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET))形成第一基板如。結(jié)果，可減少?gòu)娜肷浔砻?Sl或出射表面S2向波長(zhǎng)選擇性反射層3的濕氣擴(kuò)散并抑制包含在波長(zhǎng)選擇性反射層3中的金屬等的劣化。因此，可提高光學(xué)膜1的耐用性。應(yīng)該注意的是，厚度為75μπι的PET的水蒸氣滲透率是約10g/m2/天(40°C，90% RH)。優(yōu)選地，第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5中的至少一個(gè)包含高極性的官能團(tuán)，并且該官能團(tuán)的含量在第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5之間不同。更優(yōu)選地，第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5都包含含磷化合物(例如，磷酸酯(phosphoric ester))，并且含磷化合物的含量在第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5之間不同。在第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層5之間的含磷化合物的含量差異優(yōu)選地為大于等于2倍，更優(yōu)選地為大于等于5倍，并進(jìn)一步更優(yōu)選地大于等于10倍。
當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)層4和第二光學(xué)層5中的至少一個(gè)包含含磷化合物時(shí)，波長(zhǎng)選擇性反射層3在其與包含含磷化合物的第一光學(xué)層4或第二光學(xué)層5接觸的表面中優(yōu)選地包含氧化物、氮化物或氧氮化物。特別優(yōu)選的是波長(zhǎng)選擇性反射層3在其與包含含磷化合物的第一光學(xué)層4或第二光學(xué)層5接觸的表面中包括包含氧化鋅(SiO)或氧化鈮的層。這樣的特征對(duì)于增加第一光學(xué)層4或第二光學(xué)層5和波長(zhǎng)選擇性反射層3之間的粘合性是有效的。 另一個(gè)原因在于，當(dāng)波長(zhǎng)選擇性反射層3包含金屬(例如，Ag)時(shí)，抗蝕作用增強(qiáng)。此外，波長(zhǎng)選擇性反射層3可以包含摻雜劑，諸如Al或(ia。原因在于，當(dāng)例如通過(guò)濺射法形成金屬氧化層時(shí)，摻雜劑提高了薄膜質(zhì)量和平滑度。考慮到對(duì)光學(xué)膜1、窗構(gòu)件10等作出引人注目的設(shè)計(jì)，第一光學(xué)層4和第二光學(xué)層 5中的至少一個(gè)優(yōu)選地具有吸收可見(jiàn)光范圍內(nèi)特定波長(zhǎng)帶中的光的特性。分散在樹(shù)脂中的顏料可以是有機(jī)顏料或無(wú)機(jī)顏料。特別地，自身具有高耐候性(weatherbility)的無(wú)機(jī)顏料是優(yōu)選的。無(wú)機(jī)顏料的實(shí)用實(shí)例包括氧化鋯灰(zircone gray) (Co, Ni-摻雜&Si04)， 鐠黃(praseodymium yellow) (Pr-慘雜 ZrSi04)，絡(luò)鐵黃(chrome-titania yellow) (Cr, Sb-摻雜 Τ 02 或 Cr，W-摻雜 Τ 02)，鉻綠(chrome green)(諸如 Cr2O3)，孔雀藍(lán)((CoZn) O(AlCr)2O3),維多利亞綠(Victoria green) ((Al，Cr)203)，深藍(lán)(CoO ·Al2O3 · SiO2)，鋯釩藍(lán) (V-摻雜 ZrSiO4)，鉻錫紅(chrome-tin pink) (Cr-摻雜 CaO 'SnO2 'SiO2)，錳紅(manganese pink) (Mn-摻雜Al2O3)以及橙紅(salmon pink) (Fe-摻雜&Si04)。有機(jī)顏料的實(shí)例包括偶氮基顏料和酞菁顏料。(反射層)用作部分反射層的波長(zhǎng)選擇性反射層3漫反射進(jìn)入入射表面的入射光中的在特定波長(zhǎng)帶中的光，但它使特定波長(zhǎng)帶外的光透射。波長(zhǎng)選擇性反射層3為，例如，多層(層疊)膜、透明導(dǎo)電層或功能層?？蛇x地，波長(zhǎng)選擇性反射層3可通過(guò)以組合的方式使用多層膜、透明導(dǎo)電層和功能層中的兩種或多于兩種形成。波長(zhǎng)選擇性反射層3的平均膜厚優(yōu)選地為小于等于20 μ m，更優(yōu)選地為小于等于5 μ m，并更進(jìn)一步優(yōu)選地為小于等于1 μ m。如果波長(zhǎng)選擇性反射層3的平均膜厚超過(guò)20 μ m，在其中透射光被折射的光程長(zhǎng)度增加，透射圖像看起來(lái)趨于變形。例如，可以通過(guò)濺射法、氣相沉積法、浸涂法(dip coating)或模涂法 (die coating)形成波長(zhǎng)選擇性反射層3。下面將對(duì)多層膜、透明導(dǎo)電層和功能層逐一進(jìn)行描述。(多層膜)例如，多層膜是通過(guò)交替層疊彼此間折射率不同的低折射率層和高折射率層而形成的薄膜。作為另一個(gè)實(shí)例，多層膜是通過(guò)交替層疊在紅外線(xiàn)范圍內(nèi)具有高反射率的金屬層和在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有高折射率并用作抗反射層的高折射率層而形成的薄膜。光學(xué)透明層或透明導(dǎo)電層可以用作高折射率層。例如，在紅外線(xiàn)范圍內(nèi)具有高反射率的金屬層包含單獨(dú)的Au、Ag、Cu、Al、Ni、Cr、 Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo或Ge，或含有從這些元素中選擇的兩種以上元素的合金作為主要成分。在這些實(shí)例中，考慮到實(shí)用性，Ag-、Cu-、Al-、Si-或Ge基材料是優(yōu)選的。當(dāng)將合金用作金屬層的材料時(shí)，例如，金屬層優(yōu)選地包含AlCu、Alti, AlCr, AlCo, AlNdCu, AlMgSi, AgPdCuagPdTi、AgCuTi、AgPdCa,AgPdMg,AgPdFe,Ag 或 SiB 作為主要成分。為了延緩金屬層的腐蝕，優(yōu)選地將諸如Ti或Nd的附加材料混合到金屬層中。特別地，當(dāng)將Ag用作金屬層的材料時(shí)，優(yōu)選地混合附加材料。光學(xué)透明層是在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有高折射率并用作抗反射層的層。光學(xué)透明層包含高介電材料(例如，氧化鈮、氧化鉭和氧化鈦)作為主要成分。透明導(dǎo)電層包含ZnO基氧化物或銦摻雜氧化錫作為主要成分。ZnO基氧化物例如可以是從包括氧化鋅(SiO)、鎵(Ga) 和鋁(Al)摻雜氧化鋅(GAZO)、鋁(Al)摻雜氧化鋅(AZO)以及鎵(Ga)摻雜氧化鋅(GZO)的組中選擇的至少一種。包括在多層膜中的高折射率層的折射率優(yōu)選地在大于等于1. 7并小于等于2. 6的范圍內(nèi)，更優(yōu)選地在大于等于1. 8并小于等于2. 6的范圍內(nèi)，更進(jìn)一步優(yōu)選地在大于等于 1. 9并小于等于2. 6的范圍內(nèi)。通過(guò)如上面所述設(shè)置折射率，可以以薄膜薄到不會(huì)引起破裂的程度來(lái)在可見(jiàn)光范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)抗反射。應(yīng)該注意的是，在^Onm的波長(zhǎng)處測(cè)量折射率。高折射率層是包含(例如)金屬氧化物作為主要成分的層。在一些情況下，考慮到緩解層中的應(yīng)力并抑制破裂的發(fā)生，這里使用的金屬氧化物優(yōu)選的是除氧化鋅之外的金屬氧化物。具體地，優(yōu)選使用從包括氧化鈮(例如，五氧化鈮)、氧化鉭(例如，五氧化二鉭)和氧化鈦的組中選擇的至少一種。高折射率層的平均膜厚優(yōu)選地為大于等于IOnm并小于等于120nm， 更優(yōu)選地為大于等于IOnm并小于等于lOOnm，更進(jìn)一步優(yōu)選地為大于等于IOnm并小于等于80nm。如果平均膜厚小于lOnm，高折射率層更傾向于反射可見(jiàn)光。另一方面，如果平均膜厚超過(guò)120nm，高折射率層更傾向于降低透射率并引起破裂。多層膜并不限于無(wú)機(jī)材料制成的薄膜，它可通過(guò)層疊由高聚材料制成的薄膜或包含分散在高聚材料中的微小顆粒等的層形成。此外，當(dāng)形成光學(xué)透明層時(shí)，為了防止下層中的金屬的氧化劣化，可在形成的光學(xué)透明層和相鄰層之間的界面處形成由(例如)Ti制成的厚度為幾納米的薄緩沖層。本文中，術(shù)語(yǔ)“緩沖層”表示當(dāng)上層形成時(shí)自我氧化以抑制作為下層的例如金屬層的氧化的層。(透明導(dǎo)電層)透明導(dǎo)電層是包含具有在可見(jiàn)光范圍內(nèi)的透明性的導(dǎo)電材料作為主要成分的層。 更具體地，透明導(dǎo)電層包含透明導(dǎo)電材料作為主要成分，例如，氧化錫、氧化鋅、包含碳納米管的材料、銦摻雜氧化錫、銦摻雜氧化鋅和銻摻雜氧化錫?？蛇x地，可在此使用的層可包含以高濃度分散在樹(shù)脂中的上述材料的納米顆粒，或?qū)щ姴牧?例如，金屬)的納米顆粒、納米棒或納米線(xiàn)。(功能層)功能層包含含鉻材料(例如，其反射特性根據(jù)外部刺激的施加而可逆地改變)作為主要成分。術(shù)語(yǔ)“含鉻材料”表示根據(jù)外部的刺激(例如，熱、光或侵入分子)的施加而可逆地改變其結(jié)構(gòu)的材料?？稍诖耸褂玫暮t材料的實(shí)例包括光致變色材料(photochromic material)、熱至文變色材料(thermochromic material)、氣至文變色材料(gaschromic material)禾口電至文變色材料(electrochromic material)。光致變色材料是通過(guò)光的作用可逆地改變其結(jié)構(gòu)的材料。光致變色材料可根據(jù)光的照射(例如，紫外線(xiàn))可逆地改變各種物理特性，例如，反射率和顏色。例如，摻雜有Cr、 Fe或Ni的過(guò)渡金屬氧化物，例如，TiO2, WO3> MoO3和Nb2O5可用作光致變色材料。此外，通過(guò)層疊光致變色材料的層和折射率與前面的層不同的層可以提高波長(zhǎng)選擇性。熱致變色材料是通過(guò)熱的作用可逆地改變其結(jié)構(gòu)的材料。熱致變色材料可根據(jù)熱的施加，可逆地改變各種物理特性，例如，反射率和顏色。例如，可以將用作熱致變色材料。為了控制轉(zhuǎn)變溫度和轉(zhuǎn)變曲線(xiàn)，也可添加其他的元素，例如，W、Mo和F。此外，可以通過(guò)在抗反射層(均包含高折射率材料(例如，TiO2或ΙΤ0)作為主要成分)之間夾入包含熱致變色材料(例如，VO2)作為主要成分的薄膜來(lái)形成多層結(jié)構(gòu)。可以將諸如膽甾液晶(cholesteric liquid crystal)光子晶體用作熱致變色材料。膽留液晶根據(jù)層間距離可以選擇性地反射特定波長(zhǎng)的光，而層間距離根據(jù)溫度是可變的。因此，膽留液晶的物理特性(例如，反射率和顏色)可根據(jù)熱可逆地改變。就此而言， 通過(guò)使用幾種具有不同層間距離的膽甾液晶可以加寬反射帶。電致變色材料是通過(guò)電的作用可逆地改變各種物理特性(諸如，反射率和顏色) 的材料。電致變色材料可以被設(shè)置成，例如，根據(jù)電壓的施加可逆地改變其結(jié)構(gòu)的材料。更具體地，可將通過(guò)摻雜或不摻雜質(zhì)子來(lái)改變其反射特性的反射光控制材料用作電致變色材料。術(shù)語(yǔ)“反射光控制材料”表示能夠根據(jù)外部刺激的施加選擇性地將其光學(xué)特性控制成透明狀態(tài)、鏡面狀態(tài)(mirror state)和在其兩者之間的中間狀態(tài)中的期望的一個(gè)的材料。 可以在此處使用的反射光控制材料的實(shí)例包括含有鎂鎳合金材料或鎂鈦合金材料作為主要成分的合金材料、WO3以及具有選擇反射能力的針狀晶體被封裝在微囊體中的材料。實(shí)際上，例如，功能層可以通過(guò)在第二光學(xué)層5上順序?qū)盈B上述合金層、包含例如 Pd的催化劑層、由例如Al形成的薄緩沖層、由例如Ta2O5形成的電解質(zhì)層、由例如包含質(zhì)子的WO3形成的離子存儲(chǔ)層以及透明導(dǎo)電層來(lái)構(gòu)成?？蛇x地，例如，功能層可以通過(guò)在第二光學(xué)層5上順序?qū)盈B透明導(dǎo)電層、電解質(zhì)層、由例如WO3制成的電致變色層和透明導(dǎo)電層來(lái)構(gòu)成。在這樣的多層結(jié)構(gòu)中，當(dāng)在透明導(dǎo)電層和相對(duì)的電極之間施加電壓時(shí)，包含在電解質(zhì)層中的質(zhì)子被摻雜進(jìn)合金層或從合金層去摻雜。結(jié)果，改變了合金層的透射率。此外，為了提高波長(zhǎng)選擇性，電致變色材料優(yōu)選地層疊有高折射率材料，諸如T^2或ιτο。作為另一種可用的多層結(jié)構(gòu)，可以在第二光學(xué)層5上層疊透明導(dǎo)電層、包含分散在其中的微囊體的光學(xué)透明層和透明電極。在該結(jié)構(gòu)中，當(dāng)在兩個(gè)透明電極之間施加電壓時(shí)，可得到其中包在微囊體膜中的針狀晶體被一致地定向的透射狀態(tài)，而當(dāng)消除電壓時(shí)，可得到其中針狀晶體隨機(jī)定向的波長(zhǎng)選擇反射狀態(tài)。[用于制造光學(xué)膜的設(shè)備]圖3是示出了根據(jù)第一實(shí)施方式的用于制造光學(xué)膜的設(shè)備的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的示意圖。如圖3所示，制造設(shè)備包括層壓輥41和42、導(dǎo)輥43、涂覆裝置45和照射裝置46。層壓輥41和42被設(shè)置成能夠?qū)⒄迟N反射層的光學(xué)層9和第二基板fe夾在其之間。粘貼反射層的光學(xué)層9是通過(guò)在第一光學(xué)層4的一個(gè)主表面上形成波長(zhǎng)選擇性反射層 3而得到的層。粘貼反射層的光學(xué)層9可以進(jìn)一步包括第一基板4a，該第一基板如設(shè)置在第一光學(xué)層4的與在其上形成波長(zhǎng)選擇性反射層3的一個(gè)主表面相對(duì)的一側(cè)上的第一光學(xué)層4的另一個(gè)主表面上。在示出的實(shí)例中，波長(zhǎng)選擇性反射層3形成在第一光學(xué)層4的一個(gè)主表面上，而第一基板如設(shè)置在第一光學(xué)層4的另一個(gè)主表面上。導(dǎo)輥43設(shè)置在制造設(shè)備內(nèi)的輸送路徑中以能夠輸送具有帶狀形狀的光學(xué)膜1。層壓輥41和42和導(dǎo)輥43的材料不限制于具體的一種。根據(jù)所需要的輥的特性，可適當(dāng)?shù)剡x擇使用諸如不銹鋼的金屬、橡膠、硅樹(shù)脂等。涂覆裝置45可被設(shè)置成包括涂覆單元(例如涂覆器)的裝置。作為涂覆器，考慮到要涂覆的樹(shù)脂成分的物理特性等，適當(dāng)?shù)剡x擇使用包括凹印板涂覆器、拉絲錠和模具的普通的涂覆器。照射裝置46是用于通過(guò)電離射線(xiàn)(例如電子射線(xiàn)、紫外線(xiàn)、可見(jiàn)光線(xiàn)或伽馬射線(xiàn))照射樹(shù)脂成分的裝置。在示出的實(shí)例中，將發(fā)出紫外線(xiàn)的UV燈用作照射裝置46。[制造母版的方法]例如，可通過(guò)使用下面的方法(1) (9)中的一個(gè)制造具有隨機(jī)微小凹凸形狀的母版21。通過(guò)使用下面的方法(1) (9)獲得各種具有不同隨機(jī)微小凹凸形狀的母版21。(1)毛刻坯面的方法這是一種通過(guò)借助于拋光粉或噴砂處理或通過(guò)蝕刻來(lái)毛刻坯體(其用來(lái)制造母版并由例如玻璃、金屬、陶瓷或塑料制成)的光滑表面的方法?？梢愿鶕?jù)拋光粉的尺寸、噴砂處理的撞擊和力度和/或坯體的旋轉(zhuǎn)次數(shù)來(lái)控制坯面上形成的凹坑和凸起的間距。還可以使用蝕刻來(lái)控制坯面的粗糙度和平滑度。此外，在使用拋光粉的情況下，可以通過(guò)考慮拋光粉擺動(dòng)的軌跡來(lái)控制凹凸形狀，而在使用噴砂處理或蝕刻的情況下，可以通過(guò)考慮沙子或蝕刻劑噴向坯面的角度來(lái)控制凹凸形狀。噴砂處理使得光學(xué)膜1被制造為具有在平面中彼此垂直的兩個(gè)方向上的不同的散射角或者具有在平面中彼此垂直的兩個(gè)方向上散射特性上的各向異性。例如，可以將在日本未審專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2005-250459號(hào)中披露的方法用作通過(guò)噴砂處理制造光學(xué)膜1的方法。(2)雕刻坯面的方法這是一種通過(guò)使用例如尖頭針(例如，金剛石針)雕刻坯體(其用來(lái)制造母版)表面上的蠟的方法。此外，例如，可以通過(guò)氣相沉積法將金屬沉積在母版坯體的雕刻表面上， 從而加固坯面。(3)從氣態(tài)或液態(tài)將微小固體聚集至坯面上的方法S卩，例如，一種在坯體(其用于制造母版)表面上氣相沉積微小固體的方法。可以通過(guò)執(zhí)行氣相沉積而同時(shí)選擇使得顆粒增大的條件(諸如，將坯體的溫度設(shè)置為較低的水平)來(lái)在母版坯體的表面上形成微小的凹坑和凸起。相似地，通過(guò)設(shè)置電鍍的條件以減少經(jīng)常添加至電鍍液中的穩(wěn)定劑和其他的添加劑的量，可以在母版坯體的表面上形成微小固體?？蛇x地，通過(guò)將固溶體或分散溶液以非常微小的薄霧噴向母版坯體的表面或通過(guò)將母版坯體引導(dǎo)穿過(guò)非常微小的薄霧從而使得薄霧粘附至母版坯體的表面，隨后蒸發(fā)溶劑或分散介質(zhì)來(lái)在母版坯體的表面上聚集微小固體。(4)在坯面上設(shè)置和固定微小顆粒的方法微小顆粒例如為粉末、珠子、沙粒、微晶體或微生物(例如真菌、病毒和浮游生物)。通過(guò)將微小顆粒與高聚物粘合劑一起涂覆，可以將微小顆粒涂覆在用于制造母版的坯體的表面上。此外，表面凹坑和凸起的間距、高度等可通過(guò)改變例如微小顆粒的尺寸、微小顆粒與粘合劑的比例和/或涂覆的微小顆粒的量的多種方式來(lái)調(diào)節(jié)。此外，當(dāng)使用微生物時(shí)，微小的凹坑和凸起由在微生物繁殖時(shí)產(chǎn)生的菌落來(lái)形成，例如，具有各種形狀的菌落根據(jù)菌類(lèi)的類(lèi)型而形成。(5)利用涂覆層中產(chǎn)生的網(wǎng)狀組織(褶皺)這是一種通過(guò)在母版坯體的表面上涂覆涂料(例如，通過(guò)將高聚合涂覆材料溶解在有機(jī)溶劑中形成該涂料)，然后控制干燥條件將其保持在一個(gè)特定條件的同時(shí)去除溶劑的步驟來(lái)得到坯體(其用來(lái)制造母版)表面上的網(wǎng)狀組織(即，微小的凹坑和凸起)的方法。作為另一個(gè)實(shí)例，可以通過(guò)使涂覆的薄膜在加熱的條件下膨脹或在合適的可控條件下吸潮來(lái)形成網(wǎng)狀組織。作為又一個(gè)實(shí)例，微小的凹坑和凸起可以被設(shè)置作為通過(guò)使用在各層中表現(xiàn)出不同的化學(xué)反應(yīng)機(jī)理的材料并控制各層的膨脹和收縮系數(shù)而在多層膜中產(chǎn)生的網(wǎng)狀組織。(6)利用各種現(xiàn)有材料的方法這是一種利用紙、皮、布、陶瓷、玻璃格、木板、巖石表面和生物體的方法，該生物體不僅包括昆蟲(chóng)，還包括魚(yú)、貝等及它們的外皮，鱗片，外部骨骼和殼體。(7)曝光和顯影光敏聚合物的方法這是一種利用在用于制造母版的坯體的表面上涂覆光敏聚合物并通過(guò)將涂覆的光敏聚合物曝光和顯影為不均勻的圖案而制備的表面的方法?？梢酝ㄟ^(guò)利用用在印刷中的點(diǎn)圖案或由相干光的干涉而產(chǎn)生的斑點(diǎn)(先問(wèn)中稱(chēng)作“激光干涉法”)來(lái)將光敏聚合物在不均勻的圖案中曝光。例如，在日本專(zhuān)利第4460163號(hào)中披露的方法可用作激光干涉方法。(8)利用光刻和蝕刻的方法這是一種通過(guò)光刻和蝕刻在用于制造母版的坯體的表面上形成隨機(jī)凹凸形狀的方法。(9)前述方法的組合這是一種形成或選擇具有已經(jīng)通過(guò)任何上面所述的方法(1) (8)形成的不規(guī)則微小凹凸形狀的表面，然后再次在相關(guān)表面上執(zhí)行任何上述方法(1) (8)的方法。[制造光學(xué)膜的方法]下面將參照附圖4A 8C描述根據(jù)第一實(shí)施方式的制造光學(xué)膜的方法的一個(gè)實(shí)例。應(yīng)該注意的是，考慮到生產(chǎn)率，除了制造母版的步驟之外，優(yōu)選地以卷輥對(duì)卷輥的方式執(zhí)行下述的制造處理的部分或全部。(制造母版的步驟)第一，如圖4A所示，制造具有隨機(jī)微小凹凸形狀的母版21。母版21可以為，例如， 平板、圓柱或圓筒的形式。可以通過(guò)利用任何前面所述的方法(1) (9)或這些方法中的兩個(gè)或兩個(gè)以上的組合在母版表面上形成微小凹凸形狀。在這些方法中，優(yōu)選地使用噴砂處理方法、激光干涉法或利用光刻和蝕刻的方法?？梢砸越M合的方式使用這些方法中的兩種或兩種以上。下面將作為優(yōu)選實(shí)例描述噴砂處理方法和利用光刻和蝕刻的方法。(噴砂處理方法)圖5A和5B是說(shuō)明通過(guò)噴砂處理來(lái)處理母版表面的方法的一個(gè)實(shí)例的示圖。在噴砂處理中，通過(guò)從噴砂設(shè)備(未示出)的噴槍61噴射研磨劑62使得研磨劑 62被噴射以撞擊母版坯體21a的表面來(lái)在母版坯體21a的表面上形成凹坑和凸起。噴砂設(shè)備是用于使用加壓氣體(例如，空氣或氮?dú)?將研磨劑62從噴槍61噴出并將研磨劑62噴射向作為工件的母版坯體21a，從而處理母版坯體21a的表面的設(shè)備。在所示實(shí)例中，在下面所述的預(yù)定條件下進(jìn)行噴砂處理，同時(shí)旋轉(zhuǎn)母版坯體21a。研磨劑62優(yōu)選地為由例如樹(shù)脂、玻璃、金屬或陶瓷等制成并具有球形或具有角 (例如，多角形)的形狀的顆粒。具體地，具有角的顆粒是優(yōu)選的。顆粒的實(shí)例包括玻璃珠，氧化鋯顆粒，鋼格(steel grid)，鋁顆粒以及硅顆粒。研磨劑62的平均尺寸優(yōu)選地為1 μ m 1000 μ m,更優(yōu)選地為5 μ m 600 μ m，更進(jìn)一步優(yōu)選地為5 μ m 50 μ m。此外，一粒研磨劑62的重量?jī)?yōu)選地為0. 002mg 8mg。母版坯體21a由適于進(jìn)行噴砂處理的材料制成。所述材料優(yōu)選地為樹(shù)脂或金屬， 例如鋁、銅或鋼。具體地，鋁是優(yōu)選的。將母版坯體21a的尺寸設(shè)置成其寬度適用于光學(xué)膜 1(具有例如，帶狀形狀)的寬度。如5A所示，優(yōu)選地將研磨劑62的噴射條件設(shè)置為使得研磨劑62噴向母版坯體 21a的主表面的角度(傾斜角)在所有點(diǎn)都小于90°。更具體地，母版坯體21a的主軸與噴槍61之間形成的角度θ優(yōu)選地為0 60°，更優(yōu)選地為0 20°，并且更進(jìn)一步優(yōu)選地為0 10°。在所示出的實(shí)例中，通過(guò)以10°的角度θ噴射研磨劑62，在研磨劑62的噴射方向和垂直于噴射方向的方向之間可以形成不同的凹槽間距。此外，可以將噴射方向上的表面粗糙的輪廓形成為關(guān)于光漫射板的主軸(即，主表面的法線(xiàn))不對(duì)稱(chēng)。撞擊母版坯體21a的研磨劑62切割或使母版坯體21a的表面變形的同時(shí)損失其能量，然后以一定的角度向母版坯體21a的上方散射。通過(guò)設(shè)置上述噴射條件，由于研磨劑 62以特定的角度撞擊母版坯體21a，所以坯體的表面通過(guò)在橫向(X軸方向)和縱向(Y軸方向)之間不同方向上的研磨劑62的撞擊而變形。在圖5A和5B中所示的條件下，例如， 變形的形狀(凹槽)X軸方向上的尺寸比Y軸方向上的尺寸長(zhǎng)。換句話(huà)說(shuō)，X軸方向上的表面粗糙具有比Y軸方向上更大的間距?？梢酝ㄟ^(guò)母版坯體21a、研磨劑62和噴砂處理?xiàng)l件 (例如，噴射研磨劑62的條件)的各種參數(shù)來(lái)調(diào)節(jié)表面粗糙的間距和其他的參數(shù)。例如，當(dāng)使用具有更大尺寸的研磨劑時(shí)，表面粗糙的間距在X軸方向和Y軸方向上均增大。此外，當(dāng)使用具有更大密度的研磨劑時(shí)，可實(shí)現(xiàn)具有更深形狀的凹槽?？梢愿鶕?jù)槍61中的壓縮空氣的壓力(其決定了研磨劑62被噴射時(shí)研磨劑62的能量)，噴槍61的角度，噴槍61和母版坯體21a之間的距離，研磨劑62的形狀、密度和硬度，母版坯體21a的材料質(zhì)量等來(lái)控制在研磨劑62的噴射方向上的噴砂處理之后的母版坯體21a的形狀?？梢愿鶕?jù)研磨劑62的形狀和硬度來(lái)控制在垂直于研磨劑62的噴射方向的方向上噴砂處理之后的母版坯體21a的形狀。此外，由于研磨劑62使母版坯體21a變形而同時(shí)損失能量時(shí)所沿著的軌跡和由排斥力的作用研磨劑62從母版坯體21a被散射時(shí)所沿著的軌跡不是對(duì)稱(chēng)的，所以母版坯體21a可以被噴砂處理成具有關(guān)于母版坯體21a的主軸是非對(duì)稱(chēng)的形狀。通過(guò)采用在上述噴射條件下制成的母版，光學(xué)膜1可以被制造成在縱向和橫向之間具有不同的漫射角，或者在其縱向和橫向之間在散射特性上各向異性。在如圖5A和5B 中所示的研磨劑62的噴射條件下，例如，被母版坯體21a反射或穿過(guò)母版坯體21a的光的漫射角在X-方向上較窄而在Y-方向上較寬，并且漫射特性中的亮度峰值移向X-方向上的 Xl側(cè)。換句話(huà)說(shuō)，除了被母版坯體21a反射或穿過(guò)母版坯體21a的光的漫射角在X-方向上較窄而在Y-方向上較寬外，當(dāng)測(cè)量已經(jīng)被發(fā)射而以0°入射角進(jìn)入漫射表面之后由漫射表面漫射的光的角度依賴(lài)性時(shí)，最大亮度的軸相對(duì)于光漫射板的主表面的法線(xiàn)方向向Xl 側(cè)傾斜，并且亮度分布關(guān)于最大亮度的軸是非對(duì)稱(chēng)的。此外，隨著將噴槍61設(shè)置為相對(duì)于母版坯體21a位于更水平的姿勢(shì)，S卩，隨著將角度θ設(shè)置為更小的值，可以增大隨后所述的光漫射板的漫射角度的縱橫比，并提供所獲得的更好效果的散射特性的各向異性。研磨劑62以噴槍61的中心軸和母版坯體21a之間的角度θ從噴槍61噴出，并具有關(guān)于所述中心軸的角寬α。換句話(huà)說(shuō)，研磨劑62在β 1 β 2的角度范圍內(nèi)進(jìn)入并撞擊母版坯體21a。角寬α通常約為10°。當(dāng)對(duì)面積較小的母版坯體21a進(jìn)行噴砂處理時(shí)，將角寬α設(shè)置成較小的值，或?qū)姌?1和母版坯體21a之間的距離設(shè)置成較小的值。當(dāng)對(duì)面積較大的母版坯體21a進(jìn)行噴砂處理時(shí)，在持續(xù)進(jìn)行噴砂處理的同時(shí)平穩(wěn)地移動(dòng)噴槍61或母版坯體21a。在所示的實(shí)例中，當(dāng)持續(xù)地將研磨劑62從噴槍61噴出時(shí)，噴槍61在母版坯體21a 上方掃描使得對(duì)整個(gè)母版坯體21a的主表面進(jìn)行噴砂處理。(通過(guò)光刻和蝕刻處理母版表面的方法)圖6A 圖6E示出了用來(lái)說(shuō)明通過(guò)光刻和蝕刻來(lái)處理母版主表面的方法的一個(gè)實(shí)例的連續(xù)步驟。(抗蝕層形成步驟)首先，在母版坯體21a(即，加工件)的表面上形成抗蝕層71 (參見(jiàn)圖6A)。母版坯體21a(S卩，加工件)可以是，例如，板、薄片、薄膜、塊、圓筒狀、圓柱狀或圓環(huán)狀的形式。抗蝕層71例如可由無(wú)機(jī)抗蝕劑或有機(jī)抗蝕劑制成。當(dāng)母版坯體21a為圓筒體或圓柱體的形式時(shí)，抗蝕層71優(yōu)選地形成在圓筒體或圓柱體的外圓周表面上。(曝光步驟)接著，使用光Ll (例如，激光束)照射抗蝕層71以隨機(jī)地在抗蝕層71中形成曝光部分71a(參見(jiàn)圖6B)?？刮g層71中形成的曝光部分71a例如可以具有圓形或基本上為圓形的形狀。(顯影步驟)接著，將包括形成在其中的曝光部分71a的抗蝕層71顯影。結(jié)果，在抗蝕層71中形成對(duì)應(yīng)于曝光部分71a的開(kāi)口 71b(參見(jiàn)圖6C)。開(kāi)口 71b優(yōu)選地具有半徑不同的圓形形狀。盡管圖6C示出了其中通過(guò)將正型抗蝕劑用作抗蝕層71來(lái)在曝光部分71a中形成開(kāi)口 71b的實(shí)例，但此時(shí)使用的抗蝕劑并不限于正型。換句話(huà)說(shuō)，可以通過(guò)使用負(fù)型抗蝕劑作為抗蝕層71而留下曝光部分。(蝕刻步驟)接著，通過(guò)使用包括形成在其中的曝光部分71a的抗蝕層71作為掩膜來(lái)蝕刻母版坯體21a的表面。結(jié)果，在母版坯體21a的表面中形成具有不同深度和/或不同半徑的凹坑72(參見(jiàn)圖6D)。每個(gè)凹坑72優(yōu)選地具有部分球形。術(shù)語(yǔ)“部分球形”表示通過(guò)切下球形或基本球形的部分而得到的形狀。例如，可以通過(guò)干法蝕刻或濕法蝕刻來(lái)進(jìn)行蝕刻。從設(shè)備的簡(jiǎn)易性考慮，濕法蝕刻是更優(yōu)選的。此外，例如，可以通過(guò)各向同性蝕刻或各向異性蝕刻來(lái)進(jìn)行蝕刻。根據(jù)期望的隨機(jī)凹凸形狀，適當(dāng)?shù)貎?yōu)選選擇各向同性蝕刻或各向異性蝕刻。(抗蝕層剝落步驟)接著，如果需要，例如，通過(guò)灰化處理將形成在母版坯體21a的表面上的抗蝕層71 剝落。
(電鍍步驟)接下來(lái)，如果需要，使母版21的凹凸表面經(jīng)受電鍍以形成電鍍層，例如鎳鍍層。通過(guò)上述步驟得到了具有隨機(jī)凹凸形狀的母版21。(轉(zhuǎn)印步驟)接著，如圖4B和6E所示，例如，通過(guò)熱加壓法或轉(zhuǎn)印方法將母版21的隨機(jī)凹凸形狀轉(zhuǎn)印至薄膜形式的樹(shù)脂材料。例如，可以通過(guò)將能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂倒入模具中并使用能量射線(xiàn)照射樹(shù)脂而將其固化的處理，或向可固化樹(shù)脂施加熱或壓力的處理，或在施加熱的同時(shí)從貯料輥提供樹(shù)脂薄膜并將模具的形狀轉(zhuǎn)印至樹(shù)脂薄膜(稱(chēng)為層壓轉(zhuǎn)印方法)的處理來(lái)實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)印方法。結(jié)果，如圖4C中所示，形成了在其一個(gè)主表面上具有隨機(jī)凹凸形狀的第一光學(xué)層4。此外，如圖4C所示，第一光學(xué)層4可以形成在第一基板如上。例如，可以通過(guò)從貯料輥提供薄膜形式的第一基板如，在第一基板如上涂覆能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂，將樹(shù)脂按壓在模具上以將模具的形狀轉(zhuǎn)印至樹(shù)脂，以及使用能量射線(xiàn)照射樹(shù)脂而將其固化的處理來(lái)實(shí)現(xiàn)這種情況。優(yōu)選地，樹(shù)脂進(jìn)一步包含交聯(lián)劑。原因在于，交聯(lián)使得樹(shù)脂具有耐熱性而不會(huì)很大程度地改變室溫下的儲(chǔ)能模量。(膜形成步驟)接下來(lái)，如圖7A所示，在第一光學(xué)層4的一個(gè)主表面上形成波長(zhǎng)選擇性反射層3。 例如，可以通過(guò)濺射、蒸發(fā)、CVD(化學(xué)氣相沉積)、浸漬涂覆、脫模涂覆(die coating)、濕法涂覆和噴涂來(lái)形成波長(zhǎng)選擇性反射層3。接著，如圖7B所示，如果需要，使波長(zhǎng)選擇性反射層3經(jīng)受如31所表示的退火。退火的溫度例如在100°C以上且250°C以下的范圍內(nèi)。(嵌入步驟)接著，如圖7C所示，在波長(zhǎng)選擇性反射層3上涂覆非固化狀態(tài)的樹(shù)脂22。樹(shù)脂22 例如可以是能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂或熱固化型樹(shù)脂。此處可使用的能量射線(xiàn)固化型樹(shù)脂優(yōu)選的是紫外線(xiàn)固化型樹(shù)脂。接下來(lái)，如圖8A所示，通過(guò)在樹(shù)脂22上放置第二基板fe形成疊層。接下來(lái)，如圖8B所示，在對(duì)疊層施加由33表示的壓力的同時(shí)例如通過(guò)施加由32表示的能量射線(xiàn)或熱來(lái)固化樹(shù)脂22。此處可使用的能量射線(xiàn)的實(shí)例包括電子射線(xiàn)、紅外線(xiàn)、可見(jiàn)光線(xiàn)和伽馬射線(xiàn)。從生產(chǎn)設(shè)備的角度考慮，紫外線(xiàn)是更優(yōu)選的。優(yōu)選地，考慮到樹(shù)脂的固化特性、樹(shù)脂和第二基板fe的黃化的抑制等，適當(dāng)?shù)剡x擇綜合照射量。施加至疊層的壓力優(yōu)選地在大于等于0. OlMPa且小于等于IMPa的范圍內(nèi)。如果施加的壓力小于0. OlMPa，在薄膜的傳送中可能出現(xiàn)問(wèn)題。另一方面，如果施加的壓力超過(guò)IMPa，則需要使用金屬卷輥?zhàn)鳛閵A軋輥，并且施加的壓力更易于波動(dòng)。通過(guò)上述步驟，如圖8C所示，第二光學(xué)層5形成在波長(zhǎng)選擇性反射層3上，從而得到光學(xué)膜1。下面將詳細(xì)描述利用圖3中所示的制造設(shè)備形成光學(xué)膜1的方法。首先，將第二基板如從基板供應(yīng)輥(未示出)拉出，并將拉出的第二基板fe引導(dǎo)通過(guò)涂覆裝置45下方。 接著，通過(guò)涂覆裝置45將電離射線(xiàn)固化型樹(shù)脂44涂覆在正通過(guò)涂覆裝置45下方的第二基板fe上。接著，將涂覆有電離射線(xiàn)固化型樹(shù)脂44的第二基板fe傳送至層壓輥41和42。 另一方面，將粘貼有反射層的光學(xué)層9從光學(xué)層供應(yīng)輥(未示出)拉出并傳送至層壓輥41 和42。接下來(lái)，以這種方式傳送的第二基板fe和粘貼有反射層的光學(xué)層9被夾在層壓輥41和42之間，不允許氣泡進(jìn)入第二基板如和粘貼反射層的光學(xué)層9之間，從而粘貼有反射層的光學(xué)層9被層壓在第二基板fe上。接著，包括層壓的粘貼有反射層的光學(xué)層9的第二基板如被沿著層壓輥41的外圓周表面?zhèn)魉屯瑫r(shí)照射裝置46用電離射線(xiàn)從包括第二基板 5a的一側(cè)照射電離射線(xiàn)固化型樹(shù)脂44，從而固化電離射線(xiàn)固化型樹(shù)脂44。結(jié)果，第二基板 5a和粘貼有反射層的光學(xué)層9通過(guò)介于其之間的電離射線(xiàn)固化型樹(shù)脂44彼此粘合，從而制成了具有長(zhǎng)尺寸的目標(biāo)光學(xué)膜1。接著，通過(guò)卷輥(未示出)將制成的帶形光學(xué)膜1卷起。 最終，得到帶形光學(xué)膜1的卷繞形式的儲(chǔ)存卷。假設(shè)在上述形成第二光學(xué)層5的過(guò)程中處理溫度為t°C，固化狀態(tài)的第一光學(xué)層 4在(t-20)°C優(yōu)選地具有大于等于3 X IO7Pa的儲(chǔ)能模量。這里，處理溫度t例如為層壓輥 41的加熱溫度。例如，以第一光學(xué)層形成在第一基板如上的狀態(tài)來(lái)傳送第一光學(xué)層4，并且以第一基板如介于第一光學(xué)層4和層壓輥41之間的方式來(lái)傳送第一光學(xué)層4。因此，從經(jīng)驗(yàn)上可以確定的是，第一光學(xué)層4的實(shí)際溫度約為(t-20)°C。因此，在(t-20)°C，通過(guò)將第一光學(xué)層4的儲(chǔ)能模量設(shè)置成大于等于3X IO7Pa,可防止光學(xué)層內(nèi)部界面的隨機(jī)凹凸形狀由于施加熱或施加熱和壓力而導(dǎo)致變形。此外，第一光學(xué)層4在25°C優(yōu)選地具有小于等于3 X 109 的儲(chǔ)能模量。由于這樣的特性，可以使光學(xué)膜1在室溫時(shí)具有柔韌性。因此，例如，可以使用卷輥對(duì)卷輥制造工藝來(lái)制造光學(xué)膜1?？紤]用作光學(xué)層或基板的樹(shù)脂的耐熱性，處理溫度t優(yōu)選為200°C以下。然而，當(dāng)使用具有更高耐熱性的樹(shù)脂時(shí)，可以將處理溫度t設(shè)置為200°C以上。根據(jù)第一實(shí)施方式，由于光學(xué)膜包括具有隨機(jī)凹凸形狀的漫反射表面，所以可以抑制衍射圖案的產(chǎn)生。此外，由于例如通過(guò)噴砂處理方法、激光相干方法或利用光刻和蝕刻的方法來(lái)制造具有隨機(jī)凹凸表面的母版21，所以大大縮短了制造母版所需的天數(shù)。相反，例如，當(dāng)為了控制被光學(xué)膜反射的光的方向而根據(jù)設(shè)計(jì)以規(guī)則的凹凸形狀制造寬度為大于等于lOOGm、直徑大于等于20cm的輥形母版時(shí)，需要花費(fèi)大量的時(shí)間和財(cái)力。另一個(gè)問(wèn)題在于，如果在加工的過(guò)程中出現(xiàn)事故(例如地震)，則母版變得不可用。此外，根據(jù)第一實(shí)施方式，由于作為部分反射層的波長(zhǎng)選擇性反射層3形成在轉(zhuǎn)印有母版的隨機(jī)凹凸形狀的漫反射表面上，所以，可以將部分太陽(yáng)光向上反射至天空。此外，由于第一光學(xué)層4嵌入有折射率與第一光學(xué)層4的折射率基本相同的第二光學(xué)層5并且第二光學(xué)層5具有平滑的表面，所以仍能夠清晰地觀(guān)察到透射圖像。<2.第二實(shí)施方式〉圖9A是示出根據(jù)第二實(shí)施方式的光學(xué)膜1的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖。在第二實(shí)施方式中，與第一實(shí)施方式中的那些相同或?qū)?yīng)的部件由相同的符號(hào)的表示，并且省略了那些部件的描述。根據(jù)第二實(shí)施方式的光學(xué)膜1與根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜的不同之處在于前者是具有漫反射能力的半透射光學(xué)膜并且它包括作為部分反射層的半透射性層 52。具有漫反射能力的半透射光學(xué)膜漫反射部分入射光，但使入射光的剩余部分透射通過(guò)。圖9B是說(shuō)明根據(jù)第二實(shí)施方式的光學(xué)膜的功能的放大截面圖。光學(xué)膜1具有光 L在其上入射的入射表面Si。光學(xué)膜1漫反射作為進(jìn)入入射表面Sl的光L的一部分的光 La,同時(shí)使剩余的光Lb透射通過(guò)。漫反射的光優(yōu)選地是主要在大于等于400nm并小于等于 2IOOnm的波長(zhǎng)帶內(nèi)的光。
用作部分反射層的半透射性層52例如為不僅阻斷紅外光而且同時(shí)阻斷可見(jiàn)光的半透射反射層。因此，半透射反射層例如具有在可見(jiàn)光范圍和近紅外范圍內(nèi)的半透射性。半透射反射層可以是，例如，薄金屬層或包含半導(dǎo)體材料的金屬氮化物層?？紤]到提高抗反射特性、色調(diào)調(diào)節(jié)、化學(xué)潤(rùn)濕、對(duì)抗環(huán)境惡化的可靠性等，優(yōu)選地以層疊有例如氧化物層、氮化物層或氧氮化物層的多層結(jié)構(gòu)來(lái)形成半透射反射層。在可見(jiàn)光范圍和紅外范圍內(nèi)具有高反射率的金屬層例如可以由包含Au、Ag、°C U、 Al、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo或Ge中的單獨(dú)一種或含有從這些元素中選擇的兩種以上的合金作為主要成分的材料制成。在這些實(shí)例中，考慮到實(shí)用性，Ag-、Cu-、Al-、Si-或 Ge-基材料是優(yōu)選的。為了延緩金屬層的腐蝕，優(yōu)選將諸如Ti或Nd的附加材料混入到金屬層中。金屬氮化物層可由例如TiN、CrN或WN制成。半透射性層52的平均膜厚例如可以設(shè)置為在大于等于2nm至小于等于40nm的范圍內(nèi)。然而，半透射性層52的平均膜厚并不限于該范圍，只要半透射性層52在可見(jiàn)光范圍和近紅外范圍內(nèi)具有半透射性。這里，術(shù)語(yǔ)“半透射性”表示在大于等于500nm并小于等于 IOOOnm的波長(zhǎng)的透射率優(yōu)選地為大于等于5%并小于等于70%，更優(yōu)選地為大于等于10% 并小于等于60%，更進(jìn)一步優(yōu)選地為大于等于15%并小于等于55%。術(shù)語(yǔ)“半透射性層” 表示在大于等于500nm并小于等于IOOOnm的波長(zhǎng)的透射率優(yōu)選地為大于等于5%并小于等于70%，更優(yōu)選地為大于等于10%并小于等于60%，更進(jìn)一步優(yōu)選地為大于等于15%并小于等于55%。<3.第三實(shí)施方式〉在第三實(shí)施方式中，與第一實(shí)施方式中的那些相同或?qū)?yīng)的部件由相同的符號(hào)的表示，并且省略了那些部件的描述。根據(jù)第三實(shí)施方式的光學(xué)膜1與根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)膜的不同之處在于，前者漫反射特定波長(zhǎng)帶中的光，但散射特定波長(zhǎng)帶外的光。根據(jù)第三實(shí)施方式的光學(xué)膜1包括用于散射入射光的光散射體。例如，將光散射體設(shè)置在光學(xué)層 2的表面上、光學(xué)層2內(nèi)以及在波長(zhǎng)選擇性反射層3和光學(xué)層2之間的位置中的至少一個(gè)中。優(yōu)選地，將光散射體設(shè)置在波長(zhǎng)選擇性反射層3和第一光學(xué)層4之間，第一光學(xué)層4內(nèi)以及在第一光學(xué)層4的表面上的位置中的至少一個(gè)中。當(dāng)將光學(xué)膜1粘貼至諸如窗構(gòu)件的支撐物，它可被粘貼至支撐物的內(nèi)側(cè)或外側(cè)。當(dāng)將光學(xué)膜1粘貼至外側(cè)時(shí)，用于散射特定波長(zhǎng)帶外的光的光散射體優(yōu)選地僅設(shè)置在波長(zhǎng)選擇性反射層3和支撐物(例如，窗構(gòu)件)之間。原因在于，如果光散射體存在于波長(zhǎng)選擇性反射層3和入射表面之間，就喪失了漫反射特性。此外，當(dāng)將光學(xué)膜1粘貼至內(nèi)側(cè)時(shí)，優(yōu)選將光散射體設(shè)置在與光學(xué)膜1的粘貼表面相對(duì)的一側(cè)上的出射表面和波長(zhǎng)選擇性反射層3之間。圖IOA是示出根據(jù)第三實(shí)施方式的光學(xué)膜1的結(jié)構(gòu)的第一實(shí)例的截面圖。如圖 IOA中所示，第一光學(xué)層4包括樹(shù)脂和微小顆粒11。微小顆粒11具有與作為第一光學(xué)層4 的主要構(gòu)成材料的樹(shù)脂不同的折射率。例如，可以將有機(jī)微小顆粒和無(wú)機(jī)微小顆粒中的至少一種用作微小顆粒11。微小顆粒11可以是中空的微小顆粒。微小顆粒11的實(shí)例包括由例如硅石或氧化鋁制成的無(wú)機(jī)微小顆粒和例如由苯乙烯、丙烯或前面兩種的共聚物制成的有機(jī)微小顆粒。在這些實(shí)例中，硅石微小粒子是最優(yōu)選的。圖IOB是示出根據(jù)第三實(shí)施方式的光學(xué)膜1的結(jié)構(gòu)的第二實(shí)例的截面圖。如圖 IOB所示，光學(xué)膜1還包括在第一光學(xué)層4的表面上的光漫射層12。光漫射層12例如包括樹(shù)脂和微小顆粒。微小顆?？梢杂膳c上述第一實(shí)例中使用的相同的材料制成。圖IOC是示出根據(jù)第三實(shí)施方式的光學(xué)膜1的結(jié)構(gòu)的第三實(shí)例的截面圖。如圖IOC 中所示，光學(xué)膜1還包括在波長(zhǎng)選擇性反射層3和第一光學(xué)層4之間的光漫射層12。光漫射層12例如包括樹(shù)脂和微小顆粒。微小顆?？梢杂膳c上述第一實(shí)例中使用的相同的材料制成。根據(jù)第三實(shí)施方式，能夠漫反射特定波長(zhǎng)帶中的光(例如，紅外線(xiàn))，并散射特定波長(zhǎng)帶外的光(例如，可見(jiàn)光)。因此，通過(guò)使光學(xué)膜1變朦朧(clouded)而使光學(xué)膜1具有引人注目的設(shè)計(jì)。<4.第四實(shí)施方式〉圖11是示出根據(jù)第四實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖。在第四實(shí)施方式中，與第一實(shí)施方式中的那些相同或?qū)?yīng)的部件由相同的符號(hào)的標(biāo)識(shí)，并且省略了那些部件的描述。第四實(shí)施方式與第一實(shí)施方式的不同之處在于，前者還包括自身產(chǎn)生清潔效果的自潔效果層(self-cleaning effect layer) 51，該自潔效果層51在與光學(xué)膜1 的入射表面Sl和出射表面S2中的粘貼至粘附體的一個(gè)相對(duì)的側(cè)面上的光學(xué)膜1的暴露面上。所述自潔效果層51例如包括光催化劑。例如，可以將TiO2用作光催化劑。如上所述，光學(xué)膜1的特征在于使部分入射光透過(guò)。當(dāng)光學(xué)膜1用在室外或臟的房間中時(shí)，例如，光由于粘附在光學(xué)膜1的表面上的污垢或灰塵而被散射，從而喪失了透射性和反射性。因此，光學(xué)膜1的表面優(yōu)選地在在任何時(shí)候都是光學(xué)透明的。換句話(huà)說(shuō)，優(yōu)選地，光學(xué)膜1的表面具有優(yōu)良的防水或親水特性并且它可以自動(dòng)產(chǎn)生自身清潔效果。根據(jù)第四實(shí)施方式，由于光學(xué)膜1包括自潔效果層51，可使入射表面具有防水或親水特性等。因此，能夠抑制污垢和灰塵粘附至入射表面從而抑制漫反射特性的劣化。<5.第五實(shí)施方式>圖12是示出根據(jù)第五實(shí)施方式的光學(xué)膜的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖。在第五實(shí)施方式中，與第一實(shí)施方式中的那些相同或?qū)?yīng)的部件由相同的符號(hào)表示，第四實(shí)施方式與第一實(shí)施方式的不同之處在于，如圖12中所示，通過(guò)使用珠子53形成第一光學(xué)層4的隨機(jī)凹凸形狀。將很多珠子53埋在第二光學(xué)層5的一個(gè)主表面中使得珠子部分地從所述一個(gè)主表面突出。此外，焦點(diǎn)層M、波長(zhǎng)選擇性反射層3和第一光學(xué)層4順序地堆疊在掩埋有珠子53的第二光學(xué)層5的一個(gè)主表面上。珠子53例如具有球形形狀。珠子53優(yōu)選地具有透明性。珠子53由無(wú)機(jī)材料(例如，玻璃)或有機(jī)材料(例如，高聚樹(shù)脂)作為主要成分而制成。優(yōu)選地，珠子53以不同的量從第二光學(xué)層5突出，和/或珠子53具有不同的尺寸。 結(jié)果，第一光學(xué)層4上的波長(zhǎng)選擇性反射層3的形狀可以隨機(jī)地變化。<6.第六實(shí)施方式〉盡管通過(guò)實(shí)例的方式，結(jié)合將本發(fā)明的實(shí)施方式應(yīng)用至窗構(gòu)件的情況描述了第一實(shí)施方式，但本發(fā)明的實(shí)施方式不限于上述應(yīng)用并還可以被應(yīng)用至除窗構(gòu)件外的各種內(nèi)部和外部構(gòu)件等。換句話(huà)說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的光學(xué)膜不僅能夠應(yīng)用于固定安裝的內(nèi)部和外部構(gòu)件(例如，墻壁和天花板)，還可以應(yīng)用至能夠根據(jù)由于季節(jié)變化和時(shí)間流逝等而導(dǎo)致的陽(yáng)光的量的改變通過(guò)移動(dòng)內(nèi)部或外部構(gòu)件調(diào)節(jié)透射和/或反射的陽(yáng)光的量，并且將陽(yáng)光的調(diào)節(jié)的量照進(jìn)室內(nèi)空間等的裝置。在第六實(shí)施方式中，結(jié)合能夠通過(guò)改變遮陽(yáng)構(gòu)件組的角度，調(diào)節(jié)一組遮陽(yáng)構(gòu)件阻擋入射光的程度的遮陽(yáng)設(shè)備(以百葉窗或遮光簾的形式)描述這種裝置的一個(gè)實(shí)例。圖13是示出根據(jù)第六實(shí)施方式的百葉窗(遮光簾)201的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的透視圖。如圖13所示，作為遮陽(yáng)設(shè)備的一個(gè)實(shí)例的百葉窗201包括頂盒203，由多個(gè)板條(窄片)202a構(gòu)成的板條組(遮陽(yáng)構(gòu)件組)202，和下橫檔204。頂盒203設(shè)置在由多個(gè)板條20 構(gòu)成的板條組202上方。階梯弦繩(Ladder chord) 206和升降弦繩205從頂盒203開(kāi)始向下延伸，并且下橫檔204懸吊在這些弦繩的下端處。用作遮陽(yáng)構(gòu)件的板條20 每個(gè)例如都以細(xì)長(zhǎng)的長(zhǎng)方形形成，并且以懸吊的狀態(tài)預(yù)定的間隔被從頂盒203開(kāi)始向下延伸的梯度弦繩206支撐。此外，頂盒203設(shè)置有用于調(diào)節(jié)由多個(gè)板條20 構(gòu)成的板條組202的角度的操作構(gòu)件(未示出)，例如，桿。將頂盒203用作用來(lái)根據(jù)操作構(gòu)件(例如，桿)的操作旋轉(zhuǎn)由多個(gè)板條20 構(gòu)成的板條組202，從而調(diào)節(jié)照進(jìn)例如室內(nèi)空間的光的量的驅(qū)動(dòng)裝置。此外，頂盒203具有用于根據(jù)操作構(gòu)件(例如，升降操作弦繩207)的操作適當(dāng)?shù)厣蛋鍡l組202的驅(qū)動(dòng)裝置(升降裝置)的功能。圖14A是示出板條20 的結(jié)構(gòu)的第一實(shí)例的截面圖。如圖14A中所示，板條20 包括基板211和光學(xué)膜1。優(yōu)選地將光學(xué)膜1設(shè)置在基板211的兩個(gè)主表面中的一個(gè)上，該一個(gè)主表面位于當(dāng)板條組202處于閉合狀態(tài)時(shí)包括外部光照射在其上的入射表面的一側(cè)上(例如，在面向窗構(gòu)件的一側(cè)上)。光學(xué)膜1和基板211通過(guò)介于其間的粘貼層(例如， 粘結(jié)層或粘合層)彼此粘合?；?11可以以例如薄片、薄膜或薄板的形狀形成?；?11例如由玻璃、樹(shù)脂、紙或布制成。考慮使可見(jiàn)光照進(jìn)預(yù)定的室內(nèi)空間的情況，例如，優(yōu)選地將具有透明性的樹(shù)脂用作基板211的材料。此處使用的玻璃、樹(shù)脂、紙或布可與在普通的卷簾中通常使用的相同。 此處使用的光學(xué)膜1可以是根據(jù)上述第一至第五實(shí)施方式的光學(xué)膜1的一種或兩種以上的組合。圖14B是示出板條20 的結(jié)構(gòu)的第二實(shí)例的截面圖。在第二實(shí)例中，如圖14B中所示，將光學(xué)膜1自身用作板條20加。在這種情況下，光學(xué)膜1優(yōu)選地具有以下程度的剛度，即，光學(xué)膜1可以通過(guò)階梯弦繩206支撐并可以在支撐狀態(tài)中保持其形狀。<7.第七實(shí)施方式〉下面將結(jié)合卷簾裝置，S卩，能夠通過(guò)卷起或放下遮陽(yáng)構(gòu)件來(lái)調(diào)節(jié)遮陽(yáng)構(gòu)件阻擋入射光的程度的遮陽(yáng)設(shè)備的另一個(gè)實(shí)例，來(lái)描述第七實(shí)施方式。圖15A是示出根據(jù)第七實(shí)施方式的卷簾裝置301的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的透視圖。如圖15A中所示，作為遮陽(yáng)設(shè)備的另一個(gè)實(shí)例的卷簾裝置301包括簾布302、頂盒303和芯構(gòu)件304。頂盒303可以通過(guò)操作構(gòu)件(例如，鏈305)的操作升降簾布302。頂盒303中包括用于卷起或放出簾布302的卷繞軸，并且簾布302的一端與所述卷繞軸相連。此外，芯構(gòu)件304與簾布302的另一端相連。優(yōu)選地，簾布302具有柔韌性。簾布302的形狀不限于具體的形狀，并且優(yōu)選地根據(jù)卷簾裝置301所應(yīng)用的例如窗構(gòu)件的形狀來(lái)選擇。例如，簾布 302具有矩形形狀。15B是示出簾布302的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖(沿圖15A中的線(xiàn)XVB-XVB)。如圖15B中所示，簾布302包括基板311和光學(xué)膜1。簾布302優(yōu)選地具有柔韌性。光學(xué)膜1 優(yōu)選地設(shè)置在基板311的兩個(gè)主表面中的一個(gè)上，該一個(gè)主表面位于包括外部光照射在其上的入射表面的一側(cè)上(例如，在面向窗構(gòu)件的一側(cè)上)。光學(xué)膜1和基板311通過(guò)介于其間的粘貼層(例如，粘結(jié)層或粘合層)彼此粘貼。注意，簾布302的結(jié)構(gòu)并不限于示出的實(shí)例并且光學(xué)膜1可以將自身用作簾布302?；?11可以以例如薄片、薄膜或薄板的形狀形成?；?11例如由玻璃、樹(shù)脂、 紙或布制成。考慮使可見(jiàn)光照進(jìn)例如預(yù)定的室內(nèi)空間的情況，優(yōu)選地將具有透明性的樹(shù)脂用作基板311的材料。此處使用的玻璃、樹(shù)脂、紙或布可與在普通卷簾中通常使用的相同。 此處使用的光學(xué)膜1可以是根據(jù)上述第一至第五實(shí)施方式的光學(xué)膜1的一種或兩種以上的組合。<8.第八實(shí)施方式>將結(jié)合將本發(fā)明應(yīng)用至包括設(shè)置有具有漫反射能力的光學(xué)體的照明部分的建筑配件(例如，內(nèi)部或外部構(gòu)件)的情況描述第八實(shí)施方式。圖16A是示出根據(jù)第八實(shí)施方式的建筑配件401的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的透視圖。如圖16A中所示，建筑配件401包括設(shè)置有光學(xué)體402的發(fā)光部分404。更具體地，建筑配件 401包括光學(xué)體402和設(shè)置在光學(xué)體402的外圍部分中的框架構(gòu)件403。光學(xué)體402由框架構(gòu)件403固定支撐，但如果需要，通過(guò)拆卸框架構(gòu)件403可以移動(dòng)光學(xué)體402。建筑配件 401的一個(gè)實(shí)例是障子(即，紙糊和/或安裝玻璃的滑動(dòng)門(mén))，但本發(fā)明的應(yīng)用并不限于該實(shí)例并且本發(fā)明的實(shí)施方式可被應(yīng)用至包括照明部分的各種類(lèi)型的建筑配件。圖16B是示出光學(xué)體的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的截面圖。如圖16B中所示，光學(xué)體402 包括基板411和光學(xué)膜1。光學(xué)膜1優(yōu)選地設(shè)置在基板411的兩個(gè)主表面中的一個(gè)上，該一個(gè)主表面位于包括外部光照射在其上的入射表面的一側(cè)上(例如，在面向窗構(gòu)件或向外的一側(cè)上)。光學(xué)膜1和基板411通過(guò)介于其間的粘貼層(例如粘結(jié)層或粘合劑層)彼此粘貼。注意，障子(特別是光學(xué)體402)的結(jié)構(gòu)并不限于示出的實(shí)例并且光學(xué)膜1可以將自身用作光學(xué)體402?；?11例如可以由均具有柔韌性的薄片、薄膜或薄板形成?；?11例如由玻璃、樹(shù)脂、紙或布制成?？紤]使可見(jiàn)光照進(jìn)例如預(yù)定的室內(nèi)空間的情況，優(yōu)選地將具有透明性的樹(shù)脂用作基板411的材料。此處使用的玻璃、樹(shù)脂、紙或布可與在普通卷簾中通常使用的相同。此處使用的光學(xué)膜1可以是根據(jù)上述第一至第五實(shí)施方式的光學(xué)膜1的一種或兩種或以上的組合。[實(shí)例]盡管下面將結(jié)合實(shí)例描述本發(fā)明，但本發(fā)明并不限于下面的實(shí)例。在下面的實(shí)例和對(duì)比實(shí)例中，如下測(cè)量反射層的平均膜厚。首先，通過(guò)利用FIB(聚焦離子束)切割光學(xué)膜以形成截面。然后，通過(guò)使用 TEM(透射電子顯微鏡)沿垂直于入射表面或出射表面的方向測(cè)量反射層的膜厚。在光學(xué)膜上的任意10個(gè)點(diǎn)重復(fù)測(cè)量，并且將測(cè)量的結(jié)果簡(jiǎn)單的平均(算術(shù)平均)，從而得到平均膜厚。(實(shí)例1)首先，準(zhǔn)備由POCPhysical Optics Corporation)制成并且是利用激光干涉法制造的透射各向異性漫射板(商品名稱(chēng)LSD40X20。，丙烯板型)(垂直于薄膜進(jìn)入的入射光所產(chǎn)生的透射光關(guān)于薄膜平面的第一軸線(xiàn)和垂直于第一軸線(xiàn)的軸線(xiàn)的FWHM角度分別是 40°和20° )作為下層成形薄膜(成形樹(shù)脂層)。在下層成形薄膜上，利用具有配比為Ag/ Bi = 99. Oat% /1. Oat%的合金靶材濺射形成平均膜厚為12nm的AgBi薄膜作為反射層。接著，將定制的與透射各向異性板(商品名稱(chēng)LSD40X20。)的折射率匹配的UV 固化樹(shù)脂(成分)涂覆在如上所述形成的下層薄膜上(具體地，在反射層上)，并且將具有 75 μ m厚度的PET膜(由Toyobo Co. ,Ltd.制造的A4300)設(shè)置在其上。在清除氣泡后，通過(guò)使用UV光照射涂覆的樹(shù)脂來(lái)將其固化。結(jié)果，通過(guò)固化在平滑的PET薄膜和反射層之間的樹(shù)脂成分形成了樹(shù)脂層(下文中稱(chēng)為“嵌入樹(shù)脂層”)。從而，得到目標(biāo)光學(xué)膜。(實(shí)例2)除了將由POC制造的透射漫射板(商品名稱(chēng)DDS40° )用作下層成形薄膜(成形樹(shù)脂層)之外，通過(guò)與實(shí)例1相同的方法得到光學(xué)膜。(實(shí)例3)通過(guò)在下面的條件下斜噴砂來(lái)制造用于復(fù)制各向異性光漫射板的母版(1)用于制造母版的坯體鋁卷輥QOcm的直徑)(2)噴砂處理?xiàng)l件噴砂處理設(shè)備(由Fuji Manufacturing Co.，Ltd.制造，型號(hào)名稱(chēng):SGF_4⑷)研磨粉氧化鋁(目數(shù)#180，平均顆粒尺寸76μπι)噴槍和母版坯體之間的距離50mm噴槍和母版坯體之間形成的角度8°壓縮空氣的壓力0. 5MPa向母版坯體的表面噴射研磨粉的狀態(tài)圖5A和5B中所示的狀態(tài)噴槍的掃描條件在卷輥旋轉(zhuǎn)的同時(shí)噴槍沿圖5A和5B中的X-方向以5mm的間距掃描接著，聚氨酯丙烯酸酯(由T0AG0SEI CO.，LTD.制造的AR0NIX，固化后折射率為 1. 533)涂覆在厚度為75 μ m的PET膜(由Toyobo Co.，Ltd.制造的A4300)上。在通過(guò)卷輥對(duì)卷輥過(guò)程保持包括涂覆的聚氨酯丙烯酸酯的PET膜與母版緊密接觸的狀態(tài)下，用UV光從PET薄膜側(cè)照射聚氨酯丙烯酸酯來(lái)將其固化。將PET膜和由固化的聚氨酯丙烯酸酯構(gòu)成的樹(shù)脂層的壓層從母版剝下。結(jié)果，在PET薄膜上形成了母版的形狀被反轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)印至其的樹(shù)脂層(下文稱(chēng)為“成形樹(shù)脂層”)。在成形樹(shù)脂層的表面上，通過(guò)與實(shí)例1相似的方法通過(guò)濺射以12nm的平均膜厚形成AgBi作為反射層。接下來(lái)，將下面給出的定制的樹(shù)脂成分涂覆在反射層上，并且將厚度為75 μ m的 PET膜(由Toyobo Co.，Ltd.制造的A4300)設(shè)置在其上。在使壓層通過(guò)軋輥并清除氣泡后，使用UV照射涂覆的樹(shù)脂使其固化。結(jié)果，通過(guò)固化在平滑的PET薄膜和反射層之間的樹(shù)脂成分形成了嵌入樹(shù)脂層。從而，得到目標(biāo)光學(xué)膜?！礃?shù)脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯⑴rethane acrylate) 99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.制造的 AR0NIX,固化后折射率為 1. 533)2-丙烯酰氧乙基磷酸酉旨(2-acryloyloxyethyl acid phosphate) 1 重量份
(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制造的 LIGHT-ACRYLATE P-1A)(實(shí)例4)除了形成IOnm厚的AlTi薄膜作為部分反射層之外，以與實(shí)例3相同的方式得到
光學(xué)膜。(實(shí)例5)除了將如下面給出的定制樹(shù)脂成分用作嵌入樹(shù)脂層的材料，并且將嵌入樹(shù)脂層和成形樹(shù)脂層之間的折射率的差設(shè)置成0. 003之外，以與實(shí)例4相同的方式得到光學(xué)膜?！礃?shù)脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.制造的 AR0NIX,固化后折射率為 1. 536)2-丙烯酰氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制造的 LIGHT-ACRYLATE Ρ-ΙΑ)(實(shí)例6)除了將如下面給出的定制樹(shù)脂成分用作嵌入樹(shù)脂層的材料，并且將嵌入樹(shù)脂層和成形樹(shù)脂層之間的折射率的差設(shè)置成0. 006之外，以與實(shí)例4相同的方式得到光學(xué)膜?！礃?shù)脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.制造的 AR0NIX,固化后折射率為 1. 539)2-丙烯酰氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制造的 LIGHT-ACRYLATE Ρ-ΙΑ)(實(shí)例7)除了將如下面給出的定制樹(shù)脂成分用作嵌入樹(shù)脂層的材料，并且將嵌入樹(shù)脂層和成形樹(shù)脂層之間的折射率的差設(shè)置成0. 009之外，以與實(shí)例4相同的方式得到光學(xué)膜?！礃?shù)脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI C0.，LTD.制造的 AR0NIX,固化后折射率為 1. 542)2-丙烯酰氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制造的 LIGHT-ACRYLATE Ρ-ΙΑ)(實(shí)例8)除了通過(guò)從下側(cè)開(kāi)始順序?qū)盈BGAZO (27nm) ,AgNdCu (9nm)和GAZO (88nm)膜來(lái)形成部分反射層(波長(zhǎng)選擇性反射層)之外，以與實(shí)例3相同的方式得到光學(xué)膜。(實(shí)例9)除了通過(guò)從下側(cè)開(kāi)始順序?qū)盈BGAZO(平均膜厚為27nm)、AgNdCu(平均膜厚為 9nm)、GAZ0 (平均膜厚為88nm)、AgNdCu (平均膜厚為9nm)和GAZO (平均膜厚為27nm)膜來(lái)形成部分反射層(波長(zhǎng)選擇性反射層)之外，以與實(shí)例3相同的方式得到光學(xué)膜。(對(duì)比實(shí)例1)通過(guò)在具有平滑表面的PET薄膜(由Toyobo Co.，Ltd.制造的A4300，厚度為 75 μ m)上形成平均膜厚為IOnm的AlTi薄膜得到光學(xué)膜。(對(duì)比實(shí)例2)
除了將部分反射層(波長(zhǎng)選擇性反射層)形成為平均厚度為IOOnm的AlTi薄膜之外，以與實(shí)例3相同的方式得到光學(xué)膜。(對(duì)比實(shí)例3)除了將下面給出的定制樹(shù)脂成分用作嵌入樹(shù)脂層的材料，并且將嵌入樹(shù)脂層和成形樹(shù)脂層之間的折射率的差設(shè)置成0. 012之外，以與實(shí)例4相同的方式得到光學(xué)膜?！礃?shù)脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.制造的 AR0NIX,固化后折射率為 1. 545)2-丙烯酰氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制造的 LIGHT-ACRYLATE P-1A)(光譜透射率和色度的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9和對(duì)比實(shí)例1-3的每個(gè)光學(xué)膜，如下評(píng)估光譜透射率。通過(guò)使用由Shimadzu Corporation生產(chǎn)的DUV3700測(cè)量可見(jiàn)光范圍和紅外范圍內(nèi)的光譜透射率。將進(jìn)入每個(gè)樣本的光的入射角都設(shè)置成0° (即，垂直入射)，對(duì)線(xiàn)性透射光進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量的光譜透射率波形繪制在圖18A、圖19A和圖20A中。通過(guò)將進(jìn)入每個(gè)樣本的光的入射角都設(shè)置成8°并使用積分球接收反射光，使用同樣的測(cè)量設(shè)備(DUV3700)來(lái)測(cè)量光學(xué)膜的光譜反射率。測(cè)量的光譜反射率波形繪制在圖 18B、圖19B和圖20B中
(漫反射的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9和對(duì)比實(shí)例1-3的每個(gè)光學(xué)膜，如下評(píng)估反射角的分布。使用以小于等于0. 5°的平行度校準(zhǔn)的鹵光源501 (圖21)，通過(guò)從鹵光源501發(fā)出并然后被半反射鏡502反射的入射光照射樣本503。樣本503反射的光由檢測(cè)器504檢測(cè)。通過(guò)在樣本503以相對(duì)于入射光傾斜45°的姿勢(shì)設(shè)置且繞著垂直于入射光的軸旋轉(zhuǎn)360° (Φπι)的同時(shí)在0 90° (em)的范圍內(nèi)掃描檢測(cè)器504，從而在極坐標(biāo)上繪制900nm 1550nm的波長(zhǎng)處的反射強(qiáng)度的平均值(參見(jiàn)圖21和22)。在圖23 圖25中作為評(píng)估結(jié)果的實(shí)例示出了實(shí)例1 實(shí)例3的測(cè)量結(jié)果。注意，對(duì)于在漫反射上各向異性的實(shí)例1 實(shí)例3，通過(guò)設(shè)置其中漫反射的光傳播到Φπι 90°的更寬的角度的方向來(lái)執(zhí)行測(cè)量。此外，對(duì)于實(shí)例1 實(shí)例3，在包含入射光軸線(xiàn)和鏡面反射的光軸線(xiàn)的方位角中繪制的反射強(qiáng)度的結(jié)果曲線(xiàn)表示在圖^A、圖26Β和圖27中。在圖^A、圖26Β和圖27中，θ = 0°表示垂直于樣本表面的軸線(xiàn)，并且“負(fù)數(shù)”表示向下的反射。向上的反射表示當(dāng)樣本503設(shè)置在垂直平面中時(shí)相對(duì)于水平面向上反射的分量。盡管可以根據(jù)圖22中的極坐標(biāo)圖來(lái)計(jì)算向上反射率， 但計(jì)算方法是復(fù)雜的。由于這個(gè)原因，這里基于均表示入射面中的反射強(qiáng)度分布的圖2隊(duì)、 圖26Β和圖27的曲線(xiàn)來(lái)以簡(jiǎn)單的方式計(jì)算向上的反射率。對(duì)于圖^A、圖26Β和圖27的曲線(xiàn)圖，對(duì)除了鏡面反射光之外的漫反射光補(bǔ)償了對(duì)應(yīng)于由半反射鏡(halfmirror)502導(dǎo)致的強(qiáng)度降低的分量和對(duì)應(yīng)于由雜散光導(dǎo)致的強(qiáng)度的增加的分量(參見(jiàn)每個(gè)曲線(xiàn)圖中計(jì)算數(shù)據(jù)(L2)的曲線(xiàn))。在這種情況下，由于測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)的特定布局導(dǎo)致在低于鏡面反射的方向上的反射沒(méi)有被測(cè)量到，所以在反射強(qiáng)度的分布關(guān)于反射強(qiáng)度最大的軸垂直對(duì)稱(chēng)的假設(shè)下作出曲線(xiàn)圖。此外，通過(guò)將向上的反射定義為朝向?qū)?yīng)于比垂直于樣本表面的軸線(xiàn)的角度(Om = 45° )小的角度的一側(cè)的反射，并將向上反射率定義為(向上的反射/除鏡面反射外的所有反射分量)，在表1(在以下給出)中列出了向上反射率的計(jì)算結(jié)果。從該計(jì)算結(jié)果，可以理解的是，向上反射率取決于反射層的形狀而與反射層的類(lèi)型無(wú)關(guān)。此外，由于實(shí)例3中漫反射強(qiáng)度被最大化的方向根據(jù)光學(xué)膜的非對(duì)稱(chēng)形狀而改變，所以在最大化的漫反射強(qiáng)度的方向和鏡面反射方向之間存在約10° Φπι的差。然而，不論選擇這兩個(gè)方向中的哪一個(gè)用于計(jì)算，向上反射率的計(jì)算結(jié)果僅彼此相差百分之幾。(透射圖像清晰度的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9和對(duì)比實(shí)例1-3的每個(gè)光學(xué)膜，如下評(píng)估透射圖像清晰度。根據(jù)JISK7105使用梳寬為2. OmmU. 0mm、0. 5mm和0. 125mm的光梳來(lái)測(cè)量透射圖像清晰度的值。用于評(píng)估的測(cè)量設(shè)備為由Suga Test Instruments Co.，Ltd制造的圖像清晰度測(cè)量設(shè)備(ICM-IT)。計(jì)算使用梳寬為2. OmmU. 0mm、0. 5mm和0. 125mm的光梳測(cè)量的透射圖像清晰度的總值。表1中列出了所得結(jié)果。此處使用的光源是D65光源。(混濁度的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9和對(duì)比實(shí)例1-3的每個(gè)光學(xué)膜，如下評(píng)估混濁度(haze)。通過(guò)使用(由 Murakami Color Research Laboratory Co.，Ltd 制造的)混濁度測(cè)量計(jì)HM-150在與JIS K7136 —致的測(cè)量條件下測(cè)量混濁度。表1中列出了測(cè)量結(jié)果。此處使用的光源是D65光源。(可見(jiàn)性的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9和對(duì)比實(shí)例1-3的每個(gè)光學(xué)膜，如下評(píng)估可見(jiàn)性。通過(guò)使用光學(xué)透明粘合劑將制造的薄膜粘貼至3mm厚的玻璃。保持該玻璃距離人眼約50cm，并且通過(guò)玻璃觀(guān)察約IOm距離的相鄰建筑的內(nèi)部基于以下的標(biāo)準(zhǔn)來(lái)評(píng)估可見(jiàn)性。表1中列出了評(píng)估結(jié)果。〇沒(méi)有由于衍射的發(fā)生而導(dǎo)致多重圖像或模糊，并且外部景物可以與當(dāng)通過(guò)普通玻璃觀(guān)察時(shí)相似的方式觀(guān)察到Δ 在通常的使用中沒(méi)有出現(xiàn)問(wèn)題，但如果存在具有類(lèi)似反射鏡的表面的反射體， 反射體的周邊是稍微模糊的X 由于模糊，在相對(duì)(外)側(cè)出現(xiàn)的事物是難以辨別的X X 在相對(duì)(外)側(cè)上看不到景物(衍射圖案的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9和對(duì)比實(shí)例1-3的每個(gè)光學(xué)膜，如下評(píng)估衍射圖案。通過(guò)使用光學(xué)透明粘合劑將制造的薄膜粘貼至3mm厚的玻璃。保持該玻璃距離人眼約50cm，并且通過(guò)該玻璃觀(guān)察約500m距離的燈基于下面的標(biāo)準(zhǔn)來(lái)評(píng)估衍射圖案。在表1 中列出了評(píng)估結(jié)果。〇與當(dāng)沒(méi)有粘貼薄膜時(shí)相似，可以沒(méi)有干擾地觀(guān)察燈Δ 在燈周?chē)霈F(xiàn)微弱的擴(kuò)散區(qū)，但基本沒(méi)有感到干擾X 在燈周?chē)霈F(xiàn)斑狀強(qiáng)圖案(表面粗糙度的評(píng)估)如下評(píng)估使用通過(guò)傾斜噴砂制造的復(fù)制母版將隨機(jī)凹凸形狀轉(zhuǎn)印紙至其上的光學(xué)膜(實(shí)例幻的表面粗糙度。評(píng)估結(jié)果繪制在圖17Α和圖17Β中。通過(guò)使用探針型表面形狀測(cè)量?jī)x器ΕΤ_4000(由Kosaka Laboratory Ltd.制造)測(cè)量光學(xué)膜的表面粗糙度并從二維輪廓曲線(xiàn)導(dǎo)出粗糙度曲線(xiàn)來(lái)獲得算數(shù)平均粗糙度Ra。按照J(rèn)IS B0601 2001設(shè)置測(cè)量條件。測(cè)量條件的詳細(xì)內(nèi)容如下Ac = 0.8mm，評(píng)估長(zhǎng)度4匪，截止X 5，以及數(shù)據(jù)采樣間隔0. 5 μ m。從評(píng)估結(jié)果可發(fā)現(xiàn)下面的幾點(diǎn)。X-軸方向上的表面粗糙度間距比Y-軸方向上的表面粗糙度間距Py長(zhǎng)。此外， 平均凹凸間隔Sm在X-軸方向上是0. 14而在Y-軸方向上是0. 08。(用于加工制造母版花費(fèi)的天數(shù)的評(píng)估)對(duì)于根據(jù)實(shí)例1-9用于制造光學(xué)膜的復(fù)制母版，基于下面的標(biāo)準(zhǔn)評(píng)估了用于加工制造母版花費(fèi)的天數(shù)。為了比較，基于相同的標(biāo)準(zhǔn)還評(píng)估了用于加工制造具有角錐形的復(fù)制母版花費(fèi)的天數(shù)。〇2天內(nèi)(在加工過(guò)程中由于地震等的發(fā)生而導(dǎo)致故障發(fā)生的風(fēng)險(xiǎn)是很低的。即使在加工過(guò)程中發(fā)生故障，通過(guò)再次加工可以快速簡(jiǎn)單地制造母版，并且不影響光學(xué)膜的制造。因此，不需要特別的風(fēng)險(xiǎn)管理。)Δ 3到10天(在加工過(guò)程中存在由于地震等的發(fā)生導(dǎo)致故障發(fā)生的風(fēng)險(xiǎn)。如果在加工過(guò)程中發(fā)生故障，可通過(guò)進(jìn)行再次加工來(lái)制造母版，但光學(xué)膜的制造可能受到影響。 因此優(yōu)選考慮風(fēng)險(xiǎn)管理。)X 11天到1個(gè)月(在加工過(guò)程中由于地震等的發(fā)生導(dǎo)致故障發(fā)生的風(fēng)險(xiǎn)是很高的。如果在加工過(guò)程中發(fā)生故障，很難通過(guò)進(jìn)行再次加工來(lái)制造母版，并且光學(xué)膜的制造受到嚴(yán)重的影響。因此，風(fēng)險(xiǎn)管理是必須的。)
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)體，包括第一光學(xué)層，具有隨機(jī)凹凸表面；反射層，形成在所述凹凸表面上；以及第二光學(xué)層，形成在所述反射層上以嵌入所述凹凸表面；其中，所述反射層是用于漫反射入射光中的特定波長(zhǎng)帶中的光而透射所述特定波長(zhǎng)帶之外的光的波長(zhǎng)選擇性反射層。
2.一種光學(xué)體，包括第一光學(xué)層，具有隨機(jī)凹凸表面；反射層，形成在所述凹凸表面上；以及第二光學(xué)層，形成在所述反射層上以嵌入所述凹凸表面；其中，所述反射層是用于漫反射部分入射光而透射剩余的光的半透射性層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，當(dāng)使用梳寬為0.5mm的光梳按照J(rèn)ISK-7105 進(jìn)行測(cè)量時(shí)，透射所述光學(xué)體的波長(zhǎng)的光的透射圖像清晰度的值不小于50。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，當(dāng)使用梳寬為0.125mm、0. 5mm、1. Omm和2. Omm 的光梳按照J(rèn)IS K-7105進(jìn)行測(cè)量時(shí)，透射所述光學(xué)體的波長(zhǎng)的光的透射圖像清晰度的總值不小于230。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，所述第一光學(xué)層與所述第二光學(xué)層之間的折射率之差不大于0.010。
6.根據(jù)權(quán)利要求1中的光學(xué)體，其中，所述第一光學(xué)層和所述第二光學(xué)層由在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有透明性的相同的樹(shù)脂制成，并且所述第二光學(xué)層包含一種以上添加劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，所述第一光學(xué)層和所述第二光學(xué)層中的至少一個(gè)吸收可見(jiàn)光范圍內(nèi)的特定波長(zhǎng)帶中的光。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，通過(guò)所述第一光學(xué)層和所述第二光學(xué)層形成光學(xué)層，以及所述光學(xué)體進(jìn)一步包括在所述光學(xué)層的表面上、在所述光學(xué)層的內(nèi)部以及在所述波長(zhǎng)選擇性反射層和所述光學(xué)層之間的位置中的至少一個(gè)中的光散射體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，進(jìn)一步包括在所述光學(xué)體的入射表面上的防水或親水層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，所述光學(xué)體漫反射所述特定波長(zhǎng)帶中的光以防止所述特定波長(zhǎng)帶中光進(jìn)入預(yù)定的空間，同時(shí)使所述特定波長(zhǎng)帶之外的光透射以進(jìn)入所述預(yù)定的空間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體，其中，所述波長(zhǎng)選擇性反射層由包含在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有透明性的導(dǎo)電材料作為主要成分的透明導(dǎo)電膜或包含根據(jù)外部刺激的施加而可逆地改變其反射特性的含鉻材料作為主要成分的功能膜制成。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)體，其中，所述光學(xué)體漫反射部分入射光以防止所述部分入射光進(jìn)入預(yù)定的空間，同時(shí)使剩余的光透射以進(jìn)入所述預(yù)定的空間。
13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)體，其中，所述半透射性層在500nm以上至IOOOnm以下的波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有5%以上且70%以下的透射率。
14.一種窗構(gòu)件，所述窗構(gòu)件包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體。
15.一種建筑配件，所述建筑配件包括設(shè)置有根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體的采光部分。
16.一種遮陽(yáng)設(shè)備，所述遮陽(yáng)設(shè)備包括一個(gè)或多個(gè)阻擋陽(yáng)光的遮陽(yáng)構(gòu)件， 其中，所述遮陽(yáng)構(gòu)件包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)體。
17.一種光學(xué)體制造方法，包括以下步驟 形成具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層； 在所述凹凸表面上形成反射層；以及在所述反射層上形成第二光學(xué)層以嵌入所述凹凸表面；其中，所述反射層是用于漫反射特定波長(zhǎng)帶中的光而透射所述特定波長(zhǎng)帶之外的光的波長(zhǎng)選擇性反射層。
18.一種光學(xué)體制造方法，包括以下步驟 形成具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層； 在所述凹凸表面上形成反射層；以及在所述反射層上形成第二光學(xué)層以嵌入所述凹凸表面； 其中，所述反射層是用于漫反射部分入射光而使剩余的光透射的半透射性層。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光學(xué)體制造方法，進(jìn)一步包括在母版表面形成隨機(jī)凹凸表面的步驟，其中，在形成所述第一光學(xué)層的步驟中，所述母版表面中的所述隨機(jī)凹凸表面被轉(zhuǎn)印至所述第一光學(xué)層的材料，從而形成具有所述隨機(jī)凹凸表面的所述第一光學(xué)層。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的光學(xué)體制造方法，其中，在母版表面中形成隨機(jī)凹凸表面的步驟中，通過(guò)噴砂處理法、激光干涉法或利用光刻和蝕刻的方法來(lái)在所述母版表面中形成所述隨機(jī)凹凸表面。
全文摘要
本發(fā)明涉及光學(xué)體、墻壁構(gòu)件、建筑配件以及遮陽(yáng)設(shè)備。一種光學(xué)體包括具有隨機(jī)凹凸表面的第一光學(xué)層，形成在凹凸表面上的反射層以及在形成反射層上以嵌入凹凸表面的第二光學(xué)層，其中，反射層是用于漫反射入射光的特定波長(zhǎng)帶中的光而透過(guò)特定波長(zhǎng)帶之外的光的波長(zhǎng)選擇性反射層。
文檔編號(hào)G02B5/02GK102289018SQ201110154530
公開(kāi)日2011年12月21日 申請(qǐng)日期2011年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月16日
發(fā)明者榎本正, 谷島勝行, 長(zhǎng)浜勉 申請(qǐng)人:索尼公司