專利名稱：正型放射線敏感性組合物、層間絕緣膜及其形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及正型放射線敏感性組合物、由該組合物形成的層間絕緣膜以及該層間絕緣膜的形成方法，該正型放射線敏感性組合物適合作為液晶顯示元件(LCD)、有機(jī)EL顯示元件(OLED)等顯示元件用的層間絕緣膜形成材料。
背景技術(shù)：
在顯示元件中一般基于使層狀地配置的布線間絕緣的目的而設(shè)置層間絕緣膜。作為層間絕緣膜的形成材料，廣泛使用正型放射線敏感性組合物，這是因?yàn)榈玫奖匾膱D案形狀的工序數(shù)少，而且具有足夠平整性是優(yōu)選的。形成這種層間絕緣膜時(shí)使用的正型放射線敏感性組合物要求良好的放射線靈敏度和保存穩(wěn)定性，由此得到的層間絕緣膜要求優(yōu)異的耐熱性和透明性等。作為上述正型放射線敏感性組合物的成分廣泛采用丙烯酸類樹(shù)脂，例如在日本特開(kāi)2004-4669號(hào)公報(bào)中提出了一種正型化學(xué)增幅抗蝕劑組合物，其特征在于具有交聯(lián)劑、 酸產(chǎn)生劑及一種樹(shù)脂，該樹(shù)脂本身是不溶或難溶于堿水溶液，但是具有能夠由于酸的作用裂解的保護(hù)基團(tuán)，該保護(hù)基團(tuán)裂解后能溶于堿水溶液。另外，在日本特開(kāi)2004-264623號(hào)公報(bào)中提出了一種放射線敏感性組合物，其特征在于含有樹(shù)脂和酸產(chǎn)生劑，該樹(shù)脂含有縮醛和/或縮酮結(jié)構(gòu)以及環(huán)氧基。但是，在上述那樣以前的放射線敏感性組合物中，曝光時(shí)或加熱時(shí)，所含有的化合物的鍵被切斷，會(huì)發(fā)生自由基，或會(huì)因氧化生成過(guò)氧化物。該自由基或過(guò)氧化物會(huì)導(dǎo)致聚合物分子的鍵裂解，由此，會(huì)導(dǎo)致由組合物得到的固化膜的耐光性以及耐熱性低下的不佳狀況。為了解決該不佳狀況，比如在日本特開(kāi)2002-22925號(hào)公報(bào)中提出了一種在放射線敏感性組合物中添加受阻酚類化合物的方法。但是，僅僅添加這種化合物，則放射線敏感性組合物的放射線敏感度以及由放射線敏感性組合物得到的固化膜的透光率以及電壓保持率有降低的危險(xiǎn)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2004-4669號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開(kāi)2004-264623號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本特開(kāi)2002-22925號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是基于該問(wèn)題提出的，其目的在于提供一種正型放射線敏感性組合物，該正型放射線敏感性組合物可以高水平地保持放射線敏感性組合物的放射線敏感度，同時(shí)抑制自由基或過(guò)氧化物的發(fā)生，由此可形成具有優(yōu)異的耐光性以及耐熱性，而且抑制透光率、 耐熱透明性以及電壓保持率降低的層間絕緣膜等。
為解決上述課題的本發(fā)明為一種正型放射線敏感性組合物，其含有[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元和含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物；[B]光酸產(chǎn)生劑；以及[C]從含受阻酚結(jié)構(gòu)的化合物、含受阻胺結(jié)構(gòu)的化合物、含亞磷酸烷基酯結(jié)構(gòu)的化合物以及含硫醚結(jié)構(gòu)的化合物構(gòu)成的群組中選出的一種或兩種以上化合物。
權(quán)利要求
1.一種正型放射線敏感性組合物，其包括[A]在一同或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元和含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物；[B]光酸產(chǎn)生劑；以及[C]從含受阻酚結(jié)構(gòu)的化合物、含受阻胺結(jié)構(gòu)的化合物、含亞磷酸烷基酯結(jié)構(gòu)的化合物以及含硫醚結(jié)構(gòu)的化合物構(gòu)成的群組中選出的一種或兩種以上化合物，
2.如權(quán)利要求1所述的正型放射線敏感性組合物，其特征在于，[B]光酸產(chǎn)生劑含有下述式(2)所表示的肟磺酸酯基，
3.如權(quán)利要求1或2所述的正型放射線敏感性組合物，其特征在于，相對(duì)于100質(zhì)量份 [A]聚合物，[C]化合物的含量在0. 1質(zhì)量份以上、10質(zhì)量份以下。
4.如權(quán)利要求1或2所述的正型放射線敏感性組合物，其特征在于，該組合物用于形成顯示元件用的層間絕緣膜。
5.一種顯示元件用層間絕緣膜的形成方法，具有下述工序(1)將在權(quán)利要求4所記載的正型放射線敏感性組合物的涂膜形成于基板上的工序；(2)對(duì)在工序(1)形成的涂膜的至少一部分照射放射線的工序；(3)對(duì)在工序(2)中照射了放射線的涂膜進(jìn)行顯影的工序；以及(4)對(duì)在工序(3)顯影的涂膜進(jìn)行加熱的工序。
6.一種顯示元件用的層間絕緣膜，由權(quán)利要求4所記載的正型放射線敏感性組合物形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種正型放射線敏感性組合物、層間絕緣膜及其形成方法，該正型放射線敏感性組合物在高水平的保持放射線敏感性組合物的放射線敏感度的同時(shí)，抑制自由基或過(guò)氧化物的發(fā)生，由此可形成下述層間絕緣膜等，該層間絕緣膜具有優(yōu)異的耐光性以及耐熱性，而且抑制透光率、耐熱透明性以及電壓保持率的降低。本發(fā)明的正型放射線敏感性組合物包括[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元和含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的聚合物；[B]光酸產(chǎn)生劑；以及[C]從含受阻酚結(jié)構(gòu)的化合物、含受阻胺結(jié)構(gòu)的化合物、含亞磷酸烷基酯結(jié)構(gòu)的化合物以及含硫醚結(jié)構(gòu)的化合物構(gòu)成的群組中選出的一種或兩種以上化合物。
文檔編號(hào)G03F7/00GK102221782SQ20111009423
公開(kāi)日2011年10月19日 申請(qǐng)日期2011年4月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月15日
發(fā)明者一戶大吾 申請(qǐng)人:Jsr株式會(huì)社