專利名稱：光學(xué)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明整體涉及顯示具有某些類似低折射率特性的光學(xué)膜。本發(fā)明還適用于光學(xué)系統(tǒng)，例如組裝了此類光學(xué)膜的顯示系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光學(xué)系統(tǒng)，例如回復(fù)反射系統(tǒng)或顯示系統(tǒng)，利用一個(gè)或多個(gè)光學(xué)層來管理入射光。 通常，光學(xué)層要求具有所需光學(xué)透射比、光學(xué)霧度、光學(xué)清晰度和折射率。在許多應(yīng)用中，會(huì)將空氣層和漫射層組裝到光學(xué)系統(tǒng)中。通常，空氣層支持全內(nèi)反射，漫射層提供光學(xué)漫射。

發(fā)明內(nèi)容
一般來講，本發(fā)明涉及光學(xué)膜。在一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括粘結(jié)劑、多個(gè)顆粒，以及多個(gè)互連的空隙。該光學(xué)膜中多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約20%。粘結(jié)劑與多個(gè)顆粒的重量比不小于約1 2。在一些情況下，多個(gè)顆粒中的至少一些包含化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑的反應(yīng)基團(tuán)。在一些情況下，多個(gè)顆粒中的至少一些不包含反應(yīng)基團(tuán)。在一些情況下，多個(gè)顆粒包括細(xì)長(zhǎng)顆?；蚯蛐晤w粒。在一些情況下，該光學(xué)膜中多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約50%。在一些情況下，粘結(jié)劑與多個(gè)顆粒的重量比不小于約2 1。在一些情況下，該光學(xué)膜的有效折射率不大于約1. 35、或不大于約1. 25、或不大于約1. 2、或不大于約1. 15。 在一些情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約5%、或不大于約2%、或不大于約1%。在一些情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約50%、或不小于約70%、或不小于約90%。在一些情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不大于約10%、或不大于約2%。在一些情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約50%、或不小于約70%、或不小于約90%。在一些情況下，該光學(xué)膜的厚度不小于約1微米或不小于約2微米。
在一些情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%。在此類情況下，該光學(xué)膜所散射的垂直入射光的光在零度處的亮度為L(zhǎng)1，在10度處的亮度為L(zhǎng)2。L1Zl2不小于約10、或不小于約20、或不小于約50、或不小于約100。在一些情況下，光學(xué)霧度不小于約90%。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括粘結(jié)劑、多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒和多個(gè)互連空隙。該光學(xué)膜中多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約20%。該光學(xué)膜的厚度不小于約1微米。該光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約1.5%。在一些情況下，多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒中的細(xì)長(zhǎng)顆粒的平均縱橫比不小于約2、或不小于約3、或不小于約4。在一些情況下，該光學(xué)膜中多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約40%。在一些情況下，該光學(xué)膜的厚度不小于約1. 5微米、或不小于約2微米、或不小于約2. 5微米。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括多個(gè)互連多孔團(tuán)簇。每個(gè)團(tuán)簇包括多個(gè)顆粒、包覆多個(gè)顆粒并使其互連的粘結(jié)劑，以及分散在多個(gè)顆粒之間的第一多個(gè)空隙，以及分散在多個(gè)互連多孔團(tuán)簇之間的第二多個(gè)空隙。在一些情況下，第一多個(gè)空隙中的空隙的平均尺寸小于約50nm，或小于約40nm，或小于約30nm。在一些情況下，第二多個(gè)空隙中的空隙的平均尺寸在約50nm至約700nm的范圍內(nèi)，或約IOOnm至約500nm的范圍內(nèi)。在一些情況下，多個(gè)顆粒中的顆粒的平均尺寸小于約lOOnm，或小于約50nm。在一些情況下，多個(gè)互連多孔團(tuán)簇中的團(tuán)簇的平均尺寸小于約1500nm，或小于約lOOOnm。在一些情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)霧度大于約50%，并且該光學(xué)膜的光學(xué)清晰度大于約50%。在一些情況下，該光學(xué)膜的厚度大于約1微米，或大于約2微米。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括多個(gè)互連多孔團(tuán)簇。每個(gè)團(tuán)簇包括多個(gè)顆粒和粘結(jié)劑。該光學(xué)膜的厚度大于約1微米，光學(xué)霧度大于約50%，并且光學(xué)清晰度大于約50%。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)體漫射體包括分散在整個(gè)光學(xué)體漫射體中的多個(gè)顆粒， 以及分散在整個(gè)光學(xué)體漫射體中的多個(gè)空隙。該光學(xué)膜具有分別不小于約50%的光學(xué)霧度和光學(xué)清晰度。在一些情況下，多個(gè)空隙中的空隙是互連的。在一些情況下，光學(xué)霧度和光學(xué)清晰度中的每一者均不小于約70%，或不小于約90%。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括多個(gè)團(tuán)簇。每個(gè)團(tuán)簇包括多個(gè)顆粒、包覆多個(gè)顆粒并使其互連的粘結(jié)劑，以及分散在多個(gè)團(tuán)簇之間的多個(gè)空隙。多個(gè)團(tuán)簇中的團(tuán)簇的平均尺寸不小于約500nm。多個(gè)空隙中的空隙的平均尺寸不小于約500nm。在一些情況下，多個(gè)團(tuán)簇中的團(tuán)簇是互連的。在一些情況下，多個(gè)空隙中的空隙是互連的。在一些情況下，多個(gè)團(tuán)簇中的團(tuán)簇的平均尺寸不小于約700nm。在一些情況下，多個(gè)空隙中的空隙的平均尺寸不小于約700nm。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括通過粘結(jié)劑包覆并互連的多個(gè)顆粒?；ミB的多個(gè)顆粒限定平均尺寸在約IOOnm至約300nm范圍內(nèi)的多個(gè)互連空隙。該光學(xué)膜的厚度不小于約1微米，光學(xué)霧度在約20%至約70%的范圍內(nèi)，并且光學(xué)清晰度不小于約80%。在一些情況下，光學(xué)清晰度不小于約90%，或不小于約95%。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)膜包括多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒，以及多個(gè)空隙。該光學(xué)膜的折射率不大于約1. 3，厚度不小于約5微米，并且光學(xué)霧度不大于約2%。在一些情況下，折射率不大于約1. 2。在一些情況下，厚度不小于約10微米，或不小于約15微米。在另一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)構(gòu)造包括結(jié)構(gòu)化表面，該結(jié)構(gòu)化表面包括多個(gè)結(jié)構(gòu)。這些結(jié)構(gòu)中至少一些的高度不小于約10微米。該光學(xué)構(gòu)造還包括涂布在該結(jié)構(gòu)化表面上并使其大致平面化的光學(xué)膜。該光學(xué)膜的折射率不大于約1.2，光學(xué)霧度不大于約2%。在一些情況下，該光學(xué)膜還包括多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒和多個(gè)空隙。


結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的各種實(shí)施例所做的以下詳細(xì)描述將有利于更完整地理解和領(lǐng)會(huì)本發(fā)明，其中圖1為光學(xué)膜的示意性剖視圖；圖2為光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖3為另一個(gè)光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖4為另一個(gè)光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖5為隨棱鏡耦合器中折射率變化而變化的光強(qiáng)度的圖線；圖6A-6C為不同放大倍率下的光學(xué)膜的示例性SEM ；圖7A-7C為不同放大倍率下的另一種光學(xué)膜的示例性SEM ；圖8為細(xì)長(zhǎng)顆粒的TEM ；圖9A-9C為不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的示例性SEM ；圖10A-10B為圖9中光學(xué)膜橫截面的示例性SEM ；圖11A-11C為不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的示例性SEM ；圖12A-12C為圖11中光學(xué)膜橫截面的示例性SEM ；圖13A-13D為不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的示例性SEM ；圖14A-14D為圖13中光學(xué)膜橫截面的示例性SEM ；圖15A-15D為不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的示例性SEM ；圖16A-16C為圖15中光學(xué)膜橫截面的示例性SEM ；圖17為平面化光學(xué)構(gòu)造橫截面的光學(xué)顯微圖；圖18示出了具有高光學(xué)霧度和低光學(xué)清晰度的光學(xué)膜的散射特性；并且圖19示出了具有高光學(xué)霧度和高光學(xué)清晰度的光學(xué)膜的散射特性。在說明書中，多個(gè)附圖中使用的相同附圖標(biāo)號(hào)是指具有相同或類似特性和功能的相同或類似元件。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明整體涉及顯示具有某些類似低折射率光學(xué)特性的光學(xué)膜。本發(fā)明所公開的一些光學(xué)膜具有低光學(xué)霧度和低有效折射率，例如光學(xué)霧度小于約5%且有效折射率小于約1. 35。本發(fā)明所公開的一些光學(xué)膜具有高光學(xué)霧度和/或高光學(xué)漫反射率，同時(shí)顯示一些類似低折射率的光學(xué)特性，例如支持全內(nèi)反射或增強(qiáng)內(nèi)反射的能力。在一些情況下，本發(fā)明所公開的光學(xué)膜可組裝到各種光學(xué)系統(tǒng)或顯示系統(tǒng)中，例如一般照明系統(tǒng)、液晶顯示系統(tǒng)或回復(fù)反射光學(xué)系統(tǒng)，以提高系統(tǒng)耐久性、降低制備成本、并減小系統(tǒng)的總厚度，同時(shí)提高、保持或大致保持系統(tǒng)光學(xué)特性中的至少一些，例如系統(tǒng)的回復(fù)反射性或系統(tǒng)所顯示圖像的同軸亮度和對(duì)比度。本文所公開的光學(xué)膜通常包括分散在粘結(jié)劑中的多個(gè)互連空隙或空隙網(wǎng)。多個(gè)空隙或空隙網(wǎng)中的至少一些空隙通過中空隧道或中空隧道狀通道彼此連接?？障恫灰欢ㄍ耆缓镔|(zhì)和/或顆粒。例如，在一些情況下，空隙可包括一個(gè)或多個(gè)纖維狀或線絲狀的小物件，這些物件包括例如粘結(jié)劑和/或納米顆粒。本發(fā)明所公開的一些光學(xué)膜包括許多的多個(gè)互連空隙或許多的空隙網(wǎng)，其中多個(gè)空隙或空隙網(wǎng)各自的空隙是互連的。在一些情況下， 除了許多的多個(gè)互連空隙以外，本發(fā)明所公開的光學(xué)膜還包括多個(gè)閉合或不連接的空隙， 意味著這些空隙未通過隧道連接至其他空隙。由于包括多個(gè)空隙，本發(fā)明所公開的一些光學(xué)膜支持全內(nèi)反射(TIR)或增強(qiáng)內(nèi)反射(EIR)。當(dāng)在光學(xué)透明的無孔介質(zhì)中傳播的光入射到具有高孔隙度的層時(shí)，在傾斜角度處入射光的反射率要比在垂直入射角度處高得多。就沒有霧度或低霧度的有空隙膜而言， 在大于臨界角的傾斜角度處反射率接近約100%。在此類情況下，入射光會(huì)經(jīng)歷全內(nèi)反射 (TIR)。就高霧度的有空隙膜而言，雖然光可能不會(huì)經(jīng)歷TIR，但是在類似范圍的入射角度處，傾斜角度反射率可接近100%。高霧度膜的這種增強(qiáng)反射性類似于TIR，稱為增強(qiáng)內(nèi)反射性(EIR)。如本文所用，所謂多孔的或有空隙的光學(xué)膜增強(qiáng)內(nèi)反射(EIR)，是指含有空隙時(shí)膜或?qū)盈B膜的有空隙和無空隙層邊界處的反射率要比不含有空隙時(shí)大。本發(fā)明所公開的光學(xué)膜中的空隙的折射率為 ，介電常數(shù)為εν，其中ην2= ε v，并且粘結(jié)劑的折射率為nb，介電常數(shù)為eb，其中nb2= ε b。通常，光學(xué)膜與光(例如入射到該光學(xué)膜上或在其中傳播的光)的相互作用取決于多種膜特性，例如膜厚度、粘結(jié)劑折射率、 空隙或孔折射率、孔形狀和尺寸、孔的空間分布，以及光的波長(zhǎng)。在一些情況下，入射到該光學(xué)膜上或在其中傳播的光可“識(shí)別”或“發(fā)現(xiàn)”有效介電常數(shù)ε rff和有效折射率nrff，其中 nrff可以按照空隙折射率nv、粘結(jié)劑折射率nb以及空隙孔隙度或體積分?jǐn)?shù)“f”來表示。在此類情況下，光學(xué)膜足夠厚并且空隙足夠小，以使得光無法分辨單個(gè)空隙或隔離空隙的形狀和特征。在此類情況下，空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%或70%或80%或 90% )的尺寸不大于約λ/5，或不大于約λ/6，或不大于約λ/8，或不大于約λ/10，或不大于約λ/20，其中λ為光的波長(zhǎng)。在一些情況下，入射到本發(fā)明所公開的光學(xué)膜上的光為可見光，意味著光的波長(zhǎng)在電磁光譜的可見范圍內(nèi)。在此類情況下，該可見光的波長(zhǎng)在約380nm至約750nm、或約 400nm至約700nm、或約420nm至約680nm的范圍內(nèi)。在此類情況下，如果空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%或70%或80%或90% )的尺寸不大于約70nm、或不大于約 60nm、或不大于約50nm、或不大于約40nm、或不大于約30nm、或不大于約20nm、或不大于約 lOnm，則該光學(xué)膜具有有效折射率并包括多個(gè)空隙。在一些情況下，本發(fā)明所公開的光學(xué)膜足夠厚，以使得該光學(xué)膜可合理地具有有效折射率，該有效折射率可以按照空隙和粘結(jié)劑的折射率、以及空隙或孔體積分?jǐn)?shù)或孔隙度來表示。在此類情況下，該光學(xué)膜的厚度不小于約lOOnm、或不小于約200nm、或不小于約 500nm、或不小于約700nm、或不小于約1，OOOnm。當(dāng)本發(fā)明所公開的光學(xué)膜中的空隙足夠小并且光學(xué)膜足夠厚時(shí)，該光學(xué)膜具有有效介電常數(shù)ε eff，該介電常數(shù)可表示為eeff = f ev+(l"f) eb⑴在此類情況下，該光學(xué)膜的有效折射率Iirff可表示為neff2 = fnv2+(l-f)nb2(2)在一些情況下，例如當(dāng)孔和粘結(jié)劑的折射率之間的差值足夠小時(shí)，該光學(xué)膜的有效折射率可通過以下表達(dá)式概略估算neff = fnv+(l-f)nb(3)在此類情況下，該光學(xué)膜的有效折射率為空隙和粘結(jié)劑的折射率的體積加權(quán)平均數(shù)。例如，空隙體積分?jǐn)?shù)為約50%的光學(xué)膜和折射率為約1. 5的粘結(jié)劑，其有效折射率為約
1. 25ο圖1為光學(xué)膜300的示意性剖視圖，該光學(xué)膜包括大致均勻分散在粘結(jié)劑310內(nèi)的空隙網(wǎng)或多個(gè)互連空隙320以及多個(gè)顆粒340。由于光學(xué)膜300內(nèi)存在空隙320的網(wǎng)，因此該光學(xué)膜具有多孔的內(nèi)部。通常，光學(xué)膜可包括一個(gè)或多個(gè)互連孔或空隙的網(wǎng)。例如，空隙320的網(wǎng)可視為包括互連空隙或孔320A-320C。在一些情況下，光學(xué)膜為多孔膜，意味著空隙320的網(wǎng)分別在第一主表面330和第二主表面332之間形成一個(gè)或多個(gè)通道。空隙的網(wǎng)可視為包括多個(gè)互連空隙。一些空隙可位于光學(xué)膜的表面并可視為表面空隙。例如，在示例性光學(xué)膜300中，空隙320D和320Ε位于該光學(xué)膜的第二主表面332，可視為表面空隙320D和320Ε，而空隙320F和320G位于該光學(xué)膜的第一主表面330，可視為表面空隙320F和320G。一些空隙(例如空隙320Β和320C)位于該光學(xué)膜的內(nèi)部并且遠(yuǎn)離該光學(xué)膜的外表面，可視為內(nèi)部空隙320Β和320C，即使內(nèi)部空隙可通過例如其他空隙連接至主表面亦是如此。空隙320的尺寸為Cl1，可通過選擇合適的組成和制造法(例如涂布、干燥和固化條件)進(jìn)行總體控制。通常，Cl1可為任何所需范圍內(nèi)的值中的任何所需值。例如，在一些情況下，空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%或70%或80%或90%或95% )的尺寸在所需范圍內(nèi)。例如，在一些情況下，空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%或70% 或80%或90%或95% )的尺寸不大于約10微米、或不大于約7微米、或不大于約5微米、 或不大于約4微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約 0. 7微米、或不大于約0. 5微米。在一些情況下，多個(gè)互連空隙320的平均空隙或孔尺寸不大于約5微米、或不大于約4微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約0. 7微米、 或不大于約0.5微米。在一些情況下，一些空隙可足夠小，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為降低有效折射率，而一些其他空隙可降低有效折射率并散射光，同時(shí)還有一些其他空隙可足夠大，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光。顆粒340的尺寸為(12，其可為任何所需范圍內(nèi)的值中的任何所需值。例如，在一些情況下，顆粒中的至少大部分(例如顆粒中的至少60%或70%或80%或90%或95% )的尺寸在所需范圍內(nèi)。例如，在一些情況下，顆粒中的至少大部分(例如顆粒中的至少60%或 70%或80%或90%或95% )的尺寸不大于約5微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約700nm、或不大于約500nm、或不大于約200nm、或不大于約lOOnm、或不大于約50nm。在一些情況下，多個(gè)顆粒340的平均粒度不大于約5微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約700nm、或不大于約500nm、或不大于約 200nm、或不大于約lOOnm、或不大于約50nm。在一些情況下，一些顆?？勺銐蛐?，以使得它們主要影響有效折射率，而一些其他顆粒可影響有效折射率并散射光，同時(shí)還有一些其他顆?？勺銐虼?，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光。在一些情況下，屯和/或屯足夠小，以使得空隙和顆粒的主要光學(xué)效應(yīng)為影響光學(xué)膜300的有效折射率。例如，在此類情況下，Cl1和/或(12不大于約λ/5、或不大于約λ/6、 或不大于約λ/8、或不大于約λ/10、或不大于約λ/20，其中λ為光的波長(zhǎng)。又如，在此類情況下,Cl1和d2不大于約70nm、或不大于約60nm、或不大于約50nm、或不大于約40nm、或不大于約30nm、或不大于約20nm、或不大于約lOnm。在此類情況下，空隙和顆粒還可以散射光，但是空隙和顆粒的主要光學(xué)效應(yīng)為限定光學(xué)膜中的有效介質(zhì)，其具有有效折射率。有效折射率部分取決于空隙、粘結(jié)劑和顆粒的折射率。在一些情況下，有效折射率為減小的有效折射率，意味著該有效折射率小于粘結(jié)劑的折射率和顆粒的折射率。在空隙和/或顆粒的主要光學(xué)效應(yīng)為影響折射率的情況下，Cl1和d2足夠小，以使得空隙320和顆粒340中的相當(dāng)一部分(例如至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、 或至少約90%、或至少約95%)具有降低有效折射率的主要光學(xué)效應(yīng)。在此類情況下，空隙和/或顆粒中的相當(dāng)一部分(例如至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90%、或至少約95% )的尺寸在約Inm至約200nm、或約Inm至約150nm、或約Inm至約 lOOnm、或約Inm至約50nm、或約Inm至約20nm的范圍內(nèi)。在一些情況下，顆粒340的折射率Ii1可足夠接近粘結(jié)劑310的折射率nb，以使得有效折射率不取決于、或在很小程度上取決于顆粒的折射率。在此類情況下，叫和叫之間的差值不大于約0. 01、或不大于約0. 007、或不大于約0. 005、或不大于約0. 003、或不大于約0. 002、或不大于約0. 001。在一些情況下，顆粒340足夠小，并且其折射率足夠接近粘結(jié)劑的折射率，使得顆粒不會(huì)主要散射光或影響折射率。在此類情況下，顆粒的主要效應(yīng)可例如為提高光學(xué)膜300的強(qiáng)度。雖然通常光學(xué)膜300可以制成不含顆粒，但是在一些情況下， 顆粒340可改善光學(xué)膜的制備過程。在空隙320和顆粒340的網(wǎng)的主要光學(xué)效應(yīng)為影響有效折射率并且不會(huì)例如散射光的情況下，由于存在空隙320和顆粒340而使光學(xué)膜300的光學(xué)霧度不大于約5%、或不大于約4%、或不大于約3.5%、或不大于約4%、或不大于約3%、或不大于約2.5%、或不大于約2%、或不大于約1. 5%、或不大于約1%。在此類情況下，光學(xué)膜有效介質(zhì)的有效折射率不大于約1. 35、或不大于約1. 3、或不大于約1. 25、或不大于約1. 2、或不大于約1. 15、或不大于約1. 1、或不大于約1. 05。在光學(xué)膜300可合理地具有減小的有效折射率的情況下，光學(xué)膜的厚度不小于約 lOOnm、或不小于約200nm、或不小于約500nm、或不小于約700nm、或不小于約1，OOOnrn、或不小于約1500nm、或不小于約2000nm。在一些情況下，Cl1和/或d2足夠大，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光并產(chǎn)生光學(xué)霧度。在此類情況下，Cl1和/或d2不小于約200nm、或不小于約300nm、或不小于約400nm、 或不小于約500nm、或不小于約600nm、或不小于約700nm、或不小于約800nm、或不小于約 900nm、或不小于約lOOOnm。在此類情況下，空隙和顆粒還可影響折射率，但其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光。在此類情況下，空隙和顆粒均可對(duì)入射到該光學(xué)膜上的光進(jìn)行散射。光學(xué)膜300可用于許多光學(xué)應(yīng)用中。例如，在一些情況下，該光學(xué)膜可用于支持或促進(jìn)全內(nèi)反射(TIR)或提高內(nèi)反射，意味著該反射要大于折射率為nb的材料將產(chǎn)生的反射。在此類情況下，光學(xué)膜300足夠厚，以使得在該光學(xué)膜某個(gè)表面經(jīng)歷全內(nèi)反射的光線的隱失尾在整個(gè)光學(xué)膜的厚度上不會(huì)光學(xué)耦合，或在很小程度上光學(xué)耦合。在此類情況下，光學(xué)膜300的厚度、不小于約1微米、或不小于約1. 1微米、或不小于約1. 2微米、或不小于約1. 3微米、或不小于約1. 4微米、或不小于約1. 5微米、或不小于約1. 7微米、或不小于約 2微米。足夠厚的光學(xué)膜300可抑制或減少光學(xué)模式的隱失尾在整個(gè)光學(xué)膜厚度上進(jìn)行的非期望光學(xué)耦合。在一些情況下，光學(xué)膜300具有低光學(xué)霧度。在此類情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約5%、或不大于約4%、或不大于約3.5%、或不大于約4%、或不大于約3%、或不大于約2. 5 %、或不大于約2 %、或不大于約1. 5 %、或不大于約1%。在此類情況下，該光學(xué)膜可具有減小的有效折射率，該折射率不大于約1. 35、或不大于約1. 3、或不大于約1. 2、或不大于約1. 15、或不大于約1. 1、或不大于約1.05。對(duì)于垂直入射到光學(xué)膜300上的光，如本文所用，光學(xué)霧度被定義為偏離垂直方向超過4度的透射光與透射光總量的比率。本文所公開的霧度值是使用 Haze-Gard Plus 霧度計(jì)(BYK-Gardiner (Silver Springs，Md.))，按照ASTM D1003中所述的工序測(cè)得的。在一些情況下，光學(xué)膜300具有高光學(xué)霧度。在此類情況下，該光學(xué)膜的霧度不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%、或不小于約90%、或不小于約95%。在一些情況下，光學(xué)膜300具有高光學(xué)漫反射率。在此類情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)漫反射率不小于約30%、或不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%。在一些情況下，光學(xué)膜300具有高光學(xué)清晰度。對(duì)于垂直入射到光學(xué)膜300上的光，如本文所用，光學(xué)清晰度是指比率(T1-T2VO^T2),其中T1為偏離垂直方向1.6和2度之間的透射光，T2為位于距垂直方向零度和0. 7度之間的透射光。本文所公開的清晰度值是使用得自BI-Gardiner的Haze-Gard Plus霧度計(jì)測(cè)得的。在光學(xué)膜300具有高光學(xué)清晰度的情況下，該清晰度不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約 70%、或不小于約80%、或不小于約90%、或不小于約95%。在一些情況下，光學(xué)膜300具有低光學(xué)清晰度。在此類情況下，該光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不大于約10%、或不大于約7 %、或不大于約5 %、或不大于約4%、或不大于約3%、或不大于約2%、或不大于約1%。通常，光學(xué)膜可具有可在應(yīng)用中期望的任何孔隙度或空隙體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，光學(xué)膜300中的多個(gè)空隙320的體積分?jǐn)?shù)不小于約20%、或不小于約30%、或不小于約40 %、或不小于約50 %、或不小于約60 %、或不小于70 %、或不小于約80 %、或不小于約 90%。在一些情況下，光學(xué)膜可能會(huì)顯示一些低折射率特性，即使該光學(xué)膜具有高光學(xué)霧度和/或漫反射率亦是如此。例如，在此類情況下，在與小于粘結(jié)劑310折射率nb的折射率對(duì)應(yīng)的角度處，該光學(xué)膜可支持TIR。在示例性光學(xué)膜300中，顆粒340(例如顆粒340A和340B)為實(shí)心顆粒。在一些情況下，光學(xué)膜300可除此以外或作為另外一種選擇地包括多個(gè)中空或多孔顆粒350。顆粒340可為可在應(yīng)用中期望的任何類型顆粒。例如，顆粒340可為有機(jī)或無機(jī)顆粒。例如，顆粒340可為二氧化硅、氧化鋯或氧化鋁顆粒。
顆粒340可具有可在應(yīng)用中期望或可用的任何形狀。例如，顆粒340可具有規(guī)則或不規(guī)則形狀。例如，顆粒340可為大致球形。又如，顆?？蔀榧?xì)長(zhǎng)的。在此類情況下，光學(xué)膜300包括多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒320。在一些情況下，細(xì)長(zhǎng)顆粒的平均縱橫比不小于約1.5、或不小于約2、或不小于約2. 5、或不小于約3、或不小于約3. 5、或不小于約4、或不小于約4. 5、 或不小于約5。在一些情況下，顆?？蔀榇闋?例如可得自Nissan Chemical (Houston, TX)的Snowtex-PS顆粒)或者球形或無定形顆粒的聚集鏈(例如熱解法二氧化硅)的形態(tài)或形狀。顆粒340可能已進(jìn)行官能化或可能未進(jìn)行官能化。在一些情況下，顆粒340未進(jìn)行官能化。在一些情況下，顆粒340已進(jìn)行官能化，以使得它們可在所需溶劑或粘結(jié)劑310 中分散，而沒有聚集或只有很少的聚集。在一些情況下，顆粒340可進(jìn)行進(jìn)一步官能化以化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑310。例如，顆粒340(如顆粒340A)可以進(jìn)行表面改性并具有反應(yīng)性官能團(tuán)或基團(tuán)360以化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑310。在此類情況下，顆粒340中的至少相當(dāng)一部分化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑。在一些情況下，顆粒340不具有用以化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑310的反應(yīng)性官能團(tuán)。在此類情況下，顆粒340可物理結(jié)合至粘結(jié)劑310。在一些情況下，一些顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)，而其他不具有反應(yīng)基團(tuán)。例如在一些情況下，約10%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約90%的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約15%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約85%的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約20%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約80%的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約25 %的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約75 %的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)， 或者約30%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約60%的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約35%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約65%的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約40%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約60% 的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約45%的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約55%的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)，或者約50 %的顆粒具有反應(yīng)基團(tuán)而約50 %的顆粒不具有反應(yīng)基團(tuán)。顆粒系綜可包括多樣尺寸、反應(yīng)性和無反應(yīng)性顆粒以及不同類型顆粒(如二氧化硅和氧化鋯)的混合物。粘結(jié)劑310可為或包括可在應(yīng)用中期望的任何材料。例如，粘結(jié)劑310可為形成聚合物(例如交聯(lián)聚合物)的紫外線固化性材料。通常，粘結(jié)劑310可為任何可聚合材料， 例如具有輻射固化性的可聚合材料。光學(xué)膜300可使用可在應(yīng)用中期望的任何方法進(jìn)行制備。在一些情況下，光學(xué)膜 300可采用如下美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)中描述的方法進(jìn)行制備標(biāo)題為“PROCESS AND APPARATUS FOR A NAN0V0IDED ARTICLE”(用于制備中空納米制品的方法和設(shè)備)的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng) No. 61/169429(代理人案卷號(hào) 65046US002)，以及標(biāo)題為 “PROCESS AND APPARATUS FOR COATING WITH REDUCED DEFECTS”(可減少涂層缺陷的涂布方法和設(shè)備)的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng) No. 61/169427(代理人案卷號(hào)65185US002)，所述臨時(shí)申請(qǐng)的公開內(nèi)容全文以引用方式并入本文。在一種方法中，首先制備溶液，該溶液包括多個(gè)顆粒(例如納米顆粒)以及溶于溶劑中的可聚合材料，其中可聚合材料可包括例如一種或多種類型的單體。接下來，使該可聚合材料聚合，例如通過施加熱或光進(jìn)行聚合，以形成在溶劑中不溶解的聚合物基質(zhì)。在一些情況下，經(jīng)過聚合步驟之后，溶劑仍可包括一些可聚合材料，但濃度較低。接下來，通過干燥或蒸發(fā)溶液除去溶劑而得到光學(xué)膜300，該光學(xué)膜包括分散在聚合物粘結(jié)劑310中的空隙 320的網(wǎng)或多個(gè)空隙320。該光學(xué)膜還包括分散在聚合物中的多個(gè)顆粒；340。這些顆粒結(jié)合至粘結(jié)劑，其中結(jié)合可以是物理的或化學(xué)的。除粘結(jié)劑310和顆粒340之外，光學(xué)膜300還可具有其他材料。例如，光學(xué)膜300 可包含一種或多種添加劑(例如耦合劑)，以幫助潤(rùn)濕在其上形成光學(xué)膜的基底的表面，該基底未在圖1中明確示出。又如，光學(xué)膜300可包含一種或多種著色劑(例如炭黑)，以將某種顏色(例如黑色)賦予光學(xué)膜。光學(xué)膜300中的其他示例性材料包括引發(fā)劑(例如一種或多種光引發(fā)劑)、防靜電劑、紫外線吸收劑和隔離劑。在一些情況下，光學(xué)膜300可包含下轉(zhuǎn)換式材料，該材料能夠吸收光并重新發(fā)出更長(zhǎng)波長(zhǎng)的光。示例性下轉(zhuǎn)換式材料包括熒光粉。通常，對(duì)于粘結(jié)劑310與多個(gè)顆粒340的任何重量比，光學(xué)膜300均可具有所需孔隙度。因此，該重量比通?？蔀榭稍趹?yīng)用中期望的任何值。在一些情況下，粘結(jié)劑310與多個(gè)顆粒340的重量比不小于約1 2. 5、或不小于約1 2. 3、或不小于約1 2、或不小于約1 1、或不小于約1.5 1、或不小于約2 1、或不小于約2. 5 1、或不小于約3 1、 或不小于約3. 5 1、或不小于約4 1、或不小于約5 1。在一些情況下，該重量比在約 1 2.3至約4 1的范圍內(nèi)。在一些情況下，可對(duì)光學(xué)膜300的頂部主表面332進(jìn)行處理，以例如提高光學(xué)膜對(duì)另一層的粘附力。例如，可對(duì)該頂部表面進(jìn)行電暈處理。圖2為光學(xué)構(gòu)造600的示意性側(cè)視圖，該光學(xué)構(gòu)造包括設(shè)置在基底610上的光學(xué)膜630。在一些情況下，基底610為提供可轉(zhuǎn)移光學(xué)膜630的隔離襯墊，意味著例如光學(xué)膜的暴露的頂部主表面632可設(shè)置為與基底或表面接觸，并且可在此后從光學(xué)膜剝?nèi)ジ綦x襯墊以暴露光學(xué)膜的底部主表面634，該底部主表面可例如粘合到另一個(gè)基底或表面上。用于從隔離襯墊610中釋放低折射率層630的釋放力通常小于約200克力/英寸、或小于約150 克力/英寸、或小于約100克力/英寸、或小于約75克力/英寸、或小于約50克力/英寸?；?10可為或包括可適于應(yīng)用的任何材料，例如電介質(zhì)、半導(dǎo)體或金屬。例如， 基底610可包括玻璃和聚合物(例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯和丙烯酸樹脂)，或由其制成。在一些情況下，基底可具有多個(gè)層。光學(xué)膜630可與本文所公開的任何光學(xué)膜類似。例如，光學(xué)膜630可與光學(xué)膜300 類似。又如，光學(xué)膜630可包括多個(gè)層，其中每層均與光學(xué)膜300類似。在一些情況下，光學(xué)膜630可以直接涂布到隔離襯墊610上。在一些情況下，可以首先形成光學(xué)膜630，并在此后將其轉(zhuǎn)移到隔離襯墊610上。隔離襯墊610可為半透明、透明或不透明的。圖3為光學(xué)構(gòu)造700的示意性側(cè)視圖，該光學(xué)構(gòu)造包括設(shè)置在基底710上的光學(xué)膜730，以及設(shè)置在光學(xué)膜730上的光學(xué)粘合劑層720。在一些情況下，基底710可為隔離襯墊。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層720可充當(dāng)密封層以抑制光學(xué)膜730的空隙滲透。基底710可為或包括可適于應(yīng)用的任何材料，例如電介質(zhì)、半導(dǎo)體或金屬。在一些情況下，可能有利的是，在基底710的相對(duì)側(cè)上具有粘合劑層720和光學(xué)膜730。在其它情況下，可能有利的是，在基底710的兩側(cè)上均具有光學(xué)膜730。光學(xué)粘合劑層720可為可在應(yīng)用中期望和/或可用的任何光學(xué)粘合劑。光學(xué)粘合劑層720具有足夠的光學(xué)質(zhì)量和光穩(wěn)定性，使得例如粘合劑層不會(huì)隨時(shí)間或暴露在天氣下而黃化以致粘合劑和光學(xué)膜的光學(xué)性能降低。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層720可為大體上透明的光學(xué)粘合劑，意味著該粘合劑層具有高鏡面透射比和低漫射透射比。例如，在此CN 102449508 A
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類情況下，光學(xué)粘合劑層720的鏡面透射比不小于約70%、或不小于約80%、或不小于約 90%、或不小于約95%。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層720可為大體上漫射的光學(xué)粘合劑， 意味著該粘合劑層具有高漫射透射比和低鏡面透射比。例如，在此類情況下，光學(xué)粘合劑層 720的漫射透射比不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%。示例性光學(xué)粘合劑包括壓敏粘合劑(PSA)、熱敏粘合劑、溶劑揮發(fā)性粘合劑、可重新定位的粘合劑或可再加工的粘合劑，以及紫外線固化性粘合劑，例如可得自Norland Products, Inc的紫外線固化性光學(xué)粘合劑。示例性的PSA包括基于天然橡膠、合成橡膠、苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸系嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烴和聚(甲基)丙烯酸酯的那些。如本文所用，(甲基)丙烯酸系(或丙烯酸酯)是指丙烯酸系和甲基丙烯酸系物質(zhì)。其他示例性PSA包括(甲基) 丙烯酸酯、橡膠、熱塑性彈性體、有機(jī)硅、氨基甲酸酯，以及它們的組合。在一些情況下，PSA 基于(甲基)丙烯酸系PSA或至少一種聚(甲基)丙烯酸酯。示例性的有機(jī)硅PSA包括聚合物或樹膠以及可任選的增粘樹脂。其他示例性有機(jī)硅PSA包括聚二有機(jī)硅氧烷-聚乙二酰胺和可選的增粘劑。光學(xué)膜730可與本文所公開的任何光學(xué)膜類似。例如，光學(xué)膜730可與光學(xué)膜300 類似。又如，光學(xué)膜730可包括多個(gè)層，其中每層均與光學(xué)膜300類似。圖4為光學(xué)構(gòu)造800的示意性側(cè)視圖，該光學(xué)構(gòu)造包括設(shè)置在基底810上的第一光學(xué)粘合劑層820、設(shè)置在第一光學(xué)粘合劑層820上的光學(xué)膜830，以及設(shè)置在低折射率層 830上的可任選的第二光學(xué)粘合劑層840。在一些情況下，基底810可為隔離襯墊。光學(xué)粘合劑層820和840可與光學(xué)粘合劑層720類似。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層820和840 具有相同折射率。在一些情況下，這兩個(gè)粘合劑層可具有不同的折射率。光學(xué)膜830可與本文所公開的任何光學(xué)膜類似。例如，光學(xué)膜830可與光學(xué)膜300 類似。又如，光學(xué)膜830可包括多個(gè)層，其中每層均與光學(xué)膜300類似。本發(fā)明所公開的膜、層、構(gòu)造、以及系統(tǒng)的一些優(yōu)點(diǎn)通過以下實(shí)例進(jìn)一步示出。本實(shí)例中列出的特定材料、量和尺寸以及其他條件和細(xì)節(jié)不應(yīng)被解釋為不當(dāng)?shù)叵拗票景l(fā)明。在實(shí)例中，折射率是使用Metricon 2010型棱鏡耦合器(可得自Metricon Corp. (Pennington, NJ))測(cè)得的。光學(xué)透射比和霧度是使用Haze-Gard Plus霧度計(jì)(可得自 BYK-Gardiner (Silver Springs, MD))測(cè)得的。實(shí)例A 制備涂布溶液“A”。首先，獲得“906”組合物(可得自3M公司(M.Paul， Minnesota) ) 0 906組合物包含18. 4重量％的由甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(丙烯酸酯硅烷)表面改性的20nm的二氧化硅顆粒(Nalco 2327)、25. 5重量％的季戊四醇三/四丙烯酸酯(PETA)、4. 0重量％的N，N- 二甲基丙烯酰胺(DMA)、1. 2重量％的Irgacure 184、 1.0重量^WTinuvin四2、46. 9重量％的異丙醇溶劑和3. 0重量％的水。906組合物含大約50重量％的固體。然后，使用1-甲氧基-2-丙醇溶劑將906組合物稀釋為含35重量％ 的固體而得到涂布溶液A。實(shí)例B 制備涂布溶液“B”。首先，在配備有冷凝器和溫度計(jì)的2升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將360克Nalco 2327膠態(tài)二氧化硅顆粒(40重量％的固體和約20nm的平均粒徑)(可得自Nalco Chemical公司(Naperville IL))和300克1-甲氧基_2_丙醇溶劑混合在一起。接著，加入 22. 15 克 Silquest A-174 硅燒(可得自 GE Advanced Materials (Wilton CT))。攪拌混合物10分鐘。然后，另外加入400克1-甲氧基-2-丙醇。使用加熱套在85°C 下對(duì)混合物加熱6小時(shí)。使所得溶液冷卻至室溫。接著，在60°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去大部分水和1-甲氧基-2-丙醇溶劑(約700克)。所得溶液為44重量％的A-174改性的20nm 二氧化硅在1-甲氧基_2_丙醇中形成的透明分散體。然后，通過攪拌將70. 1克該溶液、20. 5 克 SR 444(可得自 Sartomer 公司(Exton PA) )、1. 375 克光引發(fā)劑 Irgacure 184(可得自 Ciba Specialty Chemicals 公司(High Point NC))和 80. 4 克異丙醇混合在一起，以形成均勻的涂布溶液B。實(shí)例C 制備涂布溶液“C”。首先，在配備有冷凝器和溫度計(jì)的2升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將309克Nalco 2327 (40重量％的固體)和300克1-甲氧基-2-丙醇混合在一起。接著，加入9. 5克Silquest A-174和19. 0克Siquest A-1230，并攪拌所得混合物10分鐘。 使用加熱套在80°C下對(duì)混合物加熱1小時(shí)。然后，另外加入400克1-甲氧基-2-丙醇。使混合物在80°C下保持16小時(shí)。使所得溶液冷卻至室溫。接著，在60°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去大部分水和1-甲氧基-2-丙醇溶劑(約700克)。所得溶液為48. 7重量％的A174/ A1230改性的20nm 二氧化硅在1-甲氧基-2-丙醇中形成的透明分散體。然后，通過攪拌將 63. 4克該溶液、20. 5克SR 444、1. 32克光引發(fā)劑Irgacure 184和87. 1克異丙醇混合在一起，以形成均勻的涂布溶液C。實(shí)例D 制備涂布溶液“D”。在配備有冷凝器和溫度計(jì)的1升燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將 300克Nalco 23 二氧化硅顆粒(40重量％的固體)(平均粒度為75nm ；可得自Nalco Chemical公司(Naperville IL))和300克1_甲氧基_2_丙醇混合在一起。接著，加入7. 96 克Silquest A-174。攪拌所得混合物10分鐘。然后，另外加入400克1_甲氧基_2_丙醇。 使用加熱套在85°C下對(duì)所得混合物加熱6小時(shí)。使所得溶液冷卻至室溫。接著，在60°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去大部分水和1-甲氧基-2-丙醇溶劑(約630克)。所得溶液為 34. 6重量％的A-174改性的75nm 二氧化硅在1_甲氧基_2_丙醇中的分散體。然后，通過攪拌將135. 5克該溶液、31. 2克SR444U. 96克光引發(fā)劑Irgacure 184和93. 3克異丙醇混合在一起，以形成均勻的涂布溶液D。實(shí)例E 實(shí)施涂布工序“E”。首先，以3毫升/分鐘的速率用注射器將涂布溶液抽吸到10. 2 厘米G英寸)寬的槽式涂布模具中。槽式涂布模具將10. 2厘米寬的涂層均勻分布到以 152厘米/分鐘(5英尺/分鐘)移動(dòng)的基底上。接著，使被涂布基底通過UV-LED固化室而聚合該涂層，所述固化室包括石英窗口以允許紫外線輻射通過。UV-LED排燈包括160個(gè)UV-LED的矩形陣列，幅材縱向8個(gè)X幅材橫向20個(gè)(大約覆蓋10. 2cmX 20. 4cm的區(qū)域)。LED (可得自Cree，Inc. (Durham NC)) 在385nm的標(biāo)稱波長(zhǎng)下工作，并在45伏、8安培下運(yùn)行，得到每平方厘米0. 212焦耳的UV-A 劑量。通過 TENMA 72-6910 (42V/10A)電源(可得自 iTenma(Springborc) OH))對(duì) UV-LED 陣列供電并吹風(fēng)制冷。這些UV-LED設(shè)置在距離基底大約2. 5厘米的固化室石英窗口的上方。以46. 7升/分鐘(100立方英尺/小時(shí))的流速為UV-LED固化室供應(yīng)氮?dú)饬?，?dǎo)致固化室中的氧氣濃度為大約150ppm。經(jīng)UV-LED聚合之后，通過以5英尺/分鐘的幅材速度將被涂布基底輸送到150 T 的干燥烘箱中并保持2分鐘，從而除去固化涂層中的溶劑。接著，使用配置有H燈泡的 Fusion System I300P 型(可得自 Fusion UV Systems (Gaithersburg MD))對(duì)干燥涂層進(jìn)行后固化。為UV Fusion室供應(yīng)氮?dú)饬?，?dǎo)致室中的氧氣濃度為大約50ppm。實(shí)例F 實(shí)施涂布工序“F”。首先，以2. 7毫升/分鐘的速率用注射器將涂布溶液抽吸到 10. 2厘米G英寸)寬的槽式涂布模具中。槽式涂布模具將10. 2cm寬的涂層均勻分布到以 5英尺/分鐘(152厘米/分鐘)移動(dòng)的基底上。接著，使被涂布基底通過UV-LED固化室而聚合該涂層，所述固化室包括石英窗口以允許紫外線輻射通過。UV-LED排燈包括352個(gè)UV-LED的矩形陣列，幅材縱向16個(gè)X幅材橫向22個(gè)(大約覆蓋20. 3cmX20. 3cm的區(qū)域)。將這些UV-LED設(shè)置在兩個(gè)水冷式散熱器上。LED (可得自Cree，Inc. (Durham NC))在395nm的標(biāo)稱波長(zhǎng)下工作，并在45伏、10 安培下運(yùn)行，得到每平方厘米0. 108焦耳的UV-A劑量。通過TENMA 72-6910 (42V/10A)電源(可得自iTenma (Springboro OH))對(duì)UV-LED陣列供電并吹風(fēng)制冷。這些UV-LED設(shè)置在距離基底大約2. Mcm的固化室石英窗口的上方。以46.7升/分鐘(100立方英尺/小時(shí)) 的流速為UV-LED固化室供應(yīng)氮?dú)饬?，?dǎo)致固化室中的氧氣濃度為大約150ppm。經(jīng)UV-LED聚合之后，通過以5英尺/分鐘的幅材速度將涂層輸送到工作溫度為 150 °F的干燥烘箱中并保持2分鐘，從而除去固化涂層中的溶劑。接著，使用配置有H燈泡的 Fusion System I300P 型(可得自 Fusion UV Systems (Gaithersburg MD))對(duì)干燥涂層進(jìn)行后固化。為UV Fusion室供應(yīng)氮?dú)饬鳎瑢?dǎo)致室中的氧氣濃度為大約50ppm。實(shí)例1 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。使用實(shí)例E中所述的涂布方法將得自實(shí)例 B的涂布溶液B涂布到0. 051毫米厚的PET基底610上，不同的是UV-LED在6安培下運(yùn)行， 得到每平方厘米0. 174焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的折射率為約1. 20，厚度為約5 微米。實(shí)例2 制備與實(shí)例1類似的光學(xué)構(gòu)造，不同的是對(duì)實(shí)例E中所述的涂布方法進(jìn)行了修改。 具體地講，LED在7安培下運(yùn)行，得到每平方厘米0.195焦耳的UV-A劑量。光學(xué)膜630的折射率為約1. 19，厚度為約7微米。實(shí)例3 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備涂布溶液。在配備有冷凝器和溫度計(jì)的2升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將960克IPA-ST-UP有機(jī)硅細(xì)長(zhǎng)顆粒(可得自 Nissan Chemical Inc. (Houston，TX))、19. 2 克去離子水和 350 克 1-甲氧基 _2_ 丙醇混合在一起。細(xì)長(zhǎng)顆粒的直徑在約9nm至約15nm的范圍內(nèi)，長(zhǎng)度在約40nm至約IOOnm的范圍內(nèi)。這些顆粒分散在15. 2重量％的IPA內(nèi)。接著，將22. 8克Silquest A-174硅烷(可得自GE Advanced Materials (Wilton, CT))加入燒瓶?jī)?nèi)。攪拌所得混合物30分鐘。使混合物在81°C下保持16小時(shí)。隨后，使溶液冷卻至室溫。然后，在40°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去溶液中約950克的溶劑，得到41. 7重量％的A-174改性的細(xì)長(zhǎng)二氧化硅在1-甲氧基-2-丙醇中的透明分散體。接著，將407克該透明分散體、165. 7克SR 444(可得自Sartomer公司(Exton， PA))、8. 28克光引發(fā)劑Irgacure 184和0.擬8克光引發(fā)劑Irgacure 819(均可得自Ciba Specialty Chemicals公司(High Point NC))、以及258. 6克異丙醇混合在一起并攪拌，得到固體含量為40%的均勻的涂布溶液。然后，將300克該溶液與100克異丙醇混合而得到固體含量為30%的涂布溶液。接著，使用實(shí)例F中所述的涂布方法將固體含量為30%的溶液涂布在2密耳 (0. 051毫米)厚的PET基底610上，不同的是注射器抽吸速率為2. 5毫升/分鐘并且流入 LED的電流為13安培，得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約94. 9%，光學(xué)霧度為0. 86%，折射率為1. 17，并且厚度為約4. 5微米。該光學(xué)膜的折射率是使用Metricon 2010型棱鏡耦合器測(cè)得的。圖5中的曲線 520示出了由Metricon棱鏡耦合器生成的圖線?？v軸代表棱鏡耦合器所檢測(cè)到的光強(qiáng)度。 曲線520中相當(dāng)尖銳的拐點(diǎn)522對(duì)應(yīng)于1. 17的折射率，它是針對(duì)光學(xué)膜而測(cè)得的折射率。實(shí)例4 制造與實(shí)例3類似的光學(xué)構(gòu)造，不同的是注射器流速為4. 5毫升/分鐘。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約94. 7%，光學(xué)霧度為1. 32%，折射率為1. 16，并且厚度為約6 微米。實(shí)例5 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備涂布溶液。在配備有冷凝器和溫度計(jì)的1升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將400克IPA-ST-MS有機(jī)硅顆粒(可得自Nissan Chemical Inc. (Houston，TX))和8克去離子水混合在一起。這些顆粒為大致球形的并且直徑在約17nm至約23nm的范圍內(nèi)。IPA-ST-MS顆粒分散在30重量％的IPA內(nèi)。接著，將 18. 5 克 Silquest A-174 硅燒(可得自 GE Advanced Materials (Wilton, CT))加入燒瓶?jī)?nèi)。 攪拌所得混合物10分鐘。然后，將91. 8克該混合物、20. 5克SR 444、1. 3克光引發(fā)劑Irgacure 184、39. 2克 1-甲氧基-2-丙醇和19. 4克異丙醇混合在一起并攪拌，得到均勻的涂布溶液。接著，使用實(shí)例F中所述的涂布方法將該溶液涂布到2密耳(0.051毫米)厚的 PET基底610上，不同的是注射器抽吸速率為7毫升/分鐘并且流入LED的電流為13安培， 得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約93. 6%， 光學(xué)霧度為4. 01 %，光學(xué)清晰度為99. 8%，折射率為1. 18，并且厚度為約9微米。圖5中的曲線530示出了由Metricon棱鏡耦合器生成的圖線。曲線530中的拐點(diǎn)512對(duì)應(yīng)于1. 18的折射率，它是針對(duì)光學(xué)膜而測(cè)得的折射率。實(shí)例6 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備涂布溶液。在配備有冷凝器和溫度計(jì)的1升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將400克IPA-ST-UP有機(jī)硅細(xì)長(zhǎng)顆粒和8克去離子水混合在一起。細(xì)長(zhǎng)顆粒的直徑在約9nm至約15nm的范圍內(nèi)，長(zhǎng)度在約40nm至約IOOnm 的范圍內(nèi)。圖8為多個(gè)此類細(xì)長(zhǎng)顆粒801的示例性透射電子顯微圖(TEM)。顆粒801具有卷繞或曲折形狀。這些細(xì)長(zhǎng)顆粒與經(jīng)過卷繞而具有曲折形狀的長(zhǎng)線材相似。細(xì)長(zhǎng)顆粒的平均縱橫比不小于約5、或不小于約10、或不小于約20。這些顆粒分散在15. 2重量％ WlPA內(nèi)。接著，將9. 6克Silquest A-174硅烷加入燒瓶?jī)?nèi)。攪拌所得混合物10分鐘。使混合物在src下保持12小時(shí)。隨后，使溶液冷卻至室溫。接著，在40°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去溶液中約200克的溶劑，得到32. 7重量％ 的A-174改性的細(xì)長(zhǎng)二氧化硅在異丙醇中的透明分散體。然后，將94. 1克該透明分散體、20. 5克SR 444、1. 3克光引發(fā)劑Irgacure 184、 39. 2克1-甲氧基-2-丙醇和17克異丙醇混合在一起并攪拌，得到均勻的涂布溶液。接著，使用實(shí)例F中所述的涂布方法將該溶液涂布在0. 051毫米O密耳)厚的PET 基底610上，不同的是注射器抽吸速率為1. 3毫升/分鐘并且流入LED的電流為13安培， 得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約95. 7%， 光學(xué)霧度為0. 95%，光學(xué)清晰度為100%，折射率為1. 19，并且厚度為約5微米。圖5中的曲線510示出了由Metricon棱鏡耦合器生成的圖線。曲線510中相當(dāng)尖銳的拐點(diǎn)512對(duì)應(yīng)于1. 19的折射率，它是針對(duì)光學(xué)膜所測(cè)得的折射率。獲得光學(xué)膜的掃描電子顯微圖(SEM)。首先，選擇光學(xué)膜的代表性樣品。接著，在液氮中冷凍該樣品。然后，從液氮中取出樣品后立即破碎樣品，以沿著厚度方向暴露光學(xué)膜的橫截面。接著，使用大約Inm厚的金/鈀合金層濺射該樣品，以減少在后續(xù)加工中樣品帶電。然后用掃描電鏡使光學(xué)膜的頂部表面和橫截面成像。圖9A-9C為三種不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的三種示例性掃描電子顯微圖。圖10A-10B為兩種不同放大倍率下的光學(xué)膜橫截面的兩種示例性掃描電子顯微圖。該光學(xué)膜中空隙的平均空隙尺寸小于約50nm。 該光學(xué)膜中顆粒的平均粒徑為約20nm。在一些情況下，該光學(xué)膜中顆粒的平均粒徑小于約 20nm。空隙和顆粒直徑很小是光學(xué)膜具有高光學(xué)透射比、很小光學(xué)霧度和高光學(xué)清晰度的原因。此外，1.19的折射率測(cè)量值合理地代表了光學(xué)膜的減小的有效折射率。本實(shí)例中的光學(xué)膜有利地具有非常高的光學(xué)透射比和光學(xué)清晰度、非常小的光學(xué)霧度和有效折射率。實(shí)例7 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，按照實(shí)例D制備涂布溶液。接著，使用實(shí)例E中所述的涂布方法將固體含量為30%的溶液涂布在2密耳(0. 051毫米)厚的PET 基底610上，不同的是注射器抽吸速率為2. 3毫升/分鐘并且流入LED的電流為4安培，得到每平方厘米0. 116焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約60%，光學(xué)霧度為90%，光學(xué)清晰度為99. 4%，有效折射率為1. 19，并且厚度為約7微米。使用實(shí)例6中所述的工序獲得光學(xué)膜的掃描電子顯微圖(SEM)。圖11A-11C為三種不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的三種示例性掃描電子顯微圖。圖12A-12C為三種不同放大倍率下的光學(xué)膜橫截面的三種示例性掃描電子顯微圖。顆粒103聚集或凝集成多個(gè)互連多孔團(tuán)塊或團(tuán)簇102。換句話講，該光學(xué)膜包括多個(gè)互連多孔團(tuán)塊或團(tuán)簇102。團(tuán)簇具有不規(guī)則形狀。每個(gè)團(tuán)簇均包括多個(gè)顆粒103，這些顆粒通過粘結(jié)劑包覆并彼此連接。團(tuán)簇中的互連顆粒103限定分散在多個(gè)顆粒之間的第一多個(gè)空隙104。多個(gè)互連多孔團(tuán)簇限定分散在多個(gè)互連多孔團(tuán)簇之間的第二多個(gè)空隙105。第一多個(gè)空隙中的空隙104的平均尺寸小于約50nm、或小于約40nm、或小于約30nm、或小于約20nm。第二多個(gè)空隙中的空隙105的平均尺寸在約20nm至約IOOOnm的范圍內(nèi)、或在約 50nm至約700nm的范圍內(nèi)、或在約70nm至約700nm的范圍內(nèi)、或在約IOOnm至約700nm的范圍內(nèi)、或在約IOOnm至約500nm的范圍內(nèi)。多個(gè)顆粒中的顆粒103的平均尺寸小于約lOOnm、或小于約80nm、或小于約60nm、 或小于約50nm、或小于約40nm、或小于約30nm、或小于約20nm。多個(gè)互連多孔團(tuán)簇中的團(tuán)簇102的平均尺寸小于約2000nm、或小于約1500nm、或小于約1200nm、或小于約lOOOnm、或小于約800nm。該光學(xué)膜具有光學(xué)霧度和光學(xué)清晰度，每一者均大于約40%、或大于約50%、或大于約60 %、或大于約70 %、或大于約80 %、或大于約90 %、或大于約95 %。即使光學(xué)膜的厚度不小于約1微米、或不小于約2微米、或不小于約3微米、或不小于4微米，該光學(xué)膜仍會(huì)具有如此高的光學(xué)霧度和清晰度。本實(shí)例中的光學(xué)膜有利地具有非常高的光學(xué)霧度，同時(shí)具有非常高的光學(xué)清晰度。該光學(xué)膜包括多個(gè)互連多孔團(tuán)簇，其中每個(gè)團(tuán)簇均包括多個(gè)顆粒。此外，該光學(xué)膜的厚度大于約1微米，光學(xué)霧度大于約50%，并且光學(xué)清晰度大于約50%。本發(fā)明所公開的一些光學(xué)膜，例如此實(shí)例中的光學(xué)膜，可視為光學(xué)體漫射體。體漫射體包括第一多個(gè)顆粒和第二多個(gè)空隙，其中每個(gè)空隙均分散在整個(gè)光學(xué)體漫射體中，包括整個(gè)光學(xué)體漫射體的厚度。該體漫射體還具有光學(xué)霧度和光學(xué)清晰度，每一者均不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%、或不小于約90%、或不小于約95%。至少在一些情況下，第二多個(gè)空隙中的空隙是互連的。實(shí)例8 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，按照實(shí)例C制備涂布溶液。接著，使用實(shí)例F中所述的涂布方法將該溶液涂布在2密耳(0.051毫米)厚的 PET基底610上，不同的是流入LED的電流為13安培，得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A 劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約71.8%，光學(xué)霧度為55.4%，光學(xué)清晰度為 99. 7%，并且厚度為約7微米。圖5中的曲線540示出了由Metricon棱鏡耦合器生成的圖線。與曲線510、520 和530不同，曲線540不包含足夠精確地測(cè)量光學(xué)膜的折射率所需的足夠尖銳的拐點(diǎn)。實(shí)例9 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備涂布溶液。在2升三頸燒瓶?jī)?nèi)， 將401. 5克Nalco 2327 二氧化硅顆粒、11. 9克三甲氧基(2，4，4-三甲基戊基)硅烷、11. 77 克(三乙氧硅基)丙腈和450克1-甲氧基-2-丙醇混合在一起并攪拌。將該廣口瓶密封， 并且在80°C下加熱16小時(shí)。接著，將100克該溶液和30克SR444加入250毫升的圓底燒瓶?jī)?nèi)。通過旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)除去溶液中的溶劑。然后，將10克異丙醇加入燒瓶?jī)?nèi)。接著，將20克 1-甲氧基-2-丙醇、40克異丙醇、0. 125克Irgcure 819和1. 25克Irgcure 184加入溶液中，得到30重量％的涂布溶液。然后按照實(shí)例F將該溶液涂布在2密耳(0.051毫米)厚的PET基底610上，不同的是注射器流速為6毫升/分鐘并且流入LED的電流為13安培，得到每平方厘米0. 1352 焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約52 %，光學(xué)霧度為100 %，光學(xué)清晰度為4%， 并且厚度為約8微米。圖5中的曲線550示出了由Metricon棱鏡耦合器生成的圖線。與曲線510、520和530不同，曲線550沒有足夠精確地測(cè)量光學(xué)膜的折射率所需的足夠尖銳的拐點(diǎn)。使用實(shí)例6中所述的工序獲得光學(xué)膜的掃描電子顯微圖(SEM)。圖13A-13D為四種不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的四種示例性掃描電子顯微圖。圖14A-14D為四種不同放大倍率下的光學(xué)膜橫截面的四種示例性掃描電子顯微圖。顆粒聚集或凝集成多個(gè)互連團(tuán)塊或團(tuán)簇202。換句話講，該光學(xué)膜包括多個(gè)互連團(tuán)塊或團(tuán)簇202。團(tuán)簇具有不規(guī)則形狀。 每個(gè)團(tuán)簇均包括多個(gè)顆粒203，這些顆粒通過粘結(jié)劑包覆并彼此連接。一些團(tuán)簇包括少許空隙，但是這些空隙的平均尺寸小于約lOnm。多個(gè)互連團(tuán)簇限定分散在多個(gè)互連團(tuán)簇之間的多個(gè)空隙205。團(tuán)簇的平均尺寸不小于約500nm、或不小于約600nm、或不小于約700nm、或不小于約800nm、或不小于約900nm、或不小于約lOOOnm?？障兜钠骄叽绮恍∮诩s500nm、或不小于約700nm、或不小于約900nm、或不小于約lOOOnm、或不小于約1200nm、或不小于約 1500nm。該光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約50%且光學(xué)清晰度不大于約50%，或光學(xué)霧度不小于約60%且光學(xué)清晰度不大于約40%，或光學(xué)霧度不小于約70%且光學(xué)清晰度不大于約30%，或光學(xué)霧度不小于約80%且光學(xué)清晰度不大于約20%，或光學(xué)霧度不小于約90% 且光學(xué)清晰度不大于約10%，或光學(xué)霧度不小于約95%且光學(xué)清晰度不大于約5%。本實(shí)例中的光學(xué)膜有利地具有非常高的光學(xué)霧度和非常低的光學(xué)清晰度。圖18示出了具有高光學(xué)霧度和低光學(xué)清晰度的光學(xué)膜(例如實(shí)例9的光學(xué)膜) 的散射特性。具體地講，曲線1810為隨垂直入射光的散射角變化而變化的散射光亮度。亮度圖線1810是大體上平而寬的。例如，同軸(零度)亮度L1與10度處的亮度L2的比率為約1。在一些情況下，本文所公開的光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%、或不小于約 85%、或不小于約90%、或不小于約95%，光學(xué)清晰度不大于約20%、或不大于約15%、或不大于約10%、或不大于約5%。在此類情況下，當(dāng)光學(xué)膜散射垂直入射光時(shí)，被散射光在零度處的亮度為L(zhǎng)1，在10度處的亮度為L(zhǎng)2，其中L1Zl2不大于約5、或不大于約5、或不大于約4、或不大于約3、或不大于約2、或不大于約1. 5、或不大于約1. 4、或不大于約1. 3、或不大于約1.2、或不大于約1.1。實(shí)例10 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備如實(shí)例B中所述的涂布溶液B。 然后使用實(shí)例E中所述的涂布方法將該溶液涂布在2密耳(0. 051毫米)厚的PET基底610 上。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約94. 3 %，光學(xué)霧度為2.1%，光學(xué)清晰度為99. 6 %， 折射率為1. 22，并且厚度為約8微米。獲得光學(xué)膜的掃描電子顯微圖(SEM)。首先，選擇光學(xué)膜的代表性樣品。然后使用碳填充粘墊將該樣品頂面朝上固定在套銷上。接著，使用大約Inm厚的金/鈀合金層濺射該固定樣品，以減少在后續(xù)加工中樣品帶電。然后，將約1微米厚的鉬沉積在該樣品的頂部表面以保護(hù)該表面并在后續(xù)銑削過程中減少“幕式流掛”外觀。鉬涂層大約覆蓋1.5微米X 1. 5微米的矩形區(qū)域。然后通過使用FEI Quanta 200 3D雙束工具(可得自FEI公司 (Hillsboro, OR))的聚焦離子束蝕刻該樣品。蝕刻束為30千伏、5毫微安培鎵離子束。使用該離子束沿著樣品的厚度方向并垂直于樣品的頂部表面蝕刻大約10微米深的溝渠。然后重新蝕刻該溝渠若干次，每次均使用更低能量的鎵離子束。使用0. 1毫微安培的鎵離子束完成對(duì)溝渠的最后一次重新蝕刻。接下來，使用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM，也可得自FEI 公司)使溝渠的豎直側(cè)成像。圖6A-6C為三種不同放大倍率下的光學(xué)膜的三種示例性掃描電子顯微圖。區(qū)域 601為溝渠的基底部分，區(qū)域602為溝渠的光學(xué)膜部分。制備光學(xué)膜所用的二氧化硅顆粒的平均直徑為約20nm。然而，圖6A-6C中示出的顆粒具有較大平均直徑(約50nm)。圖中看到的較大粒徑可如此解釋粘結(jié)劑包覆顆粒，使包覆顆粒形成串，其中這些串形成粘結(jié)劑包覆顆粒的多孔支架。空隙小于約50nm并均勻分散在整個(gè)膜的厚度中，包括靠近膜和基底之間的交界部603的位置和該交界部處的位置。小空隙主要降低光學(xué)膜的有效折射率這一點(diǎn)通過 Metricon棱鏡耦合器所測(cè)得的薄膜的小折射率(1.22)得到進(jìn)一步確認(rèn)?？障兜某叽缧∫彩枪鈱W(xué)膜的光學(xué)霧度小和光學(xué)清晰度大的原因。其中多個(gè)空隙沿著光學(xué)膜的總厚度方向而伸長(zhǎng)，其縱橫比在約1. 5至約10的范圍內(nèi)。實(shí)例11 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備如實(shí)例B中所述的涂布溶液B。 然后使用實(shí)例E中所述的涂布方法將該溶液涂布在2密耳(0. 051毫米)厚的PET基底610 上。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約93.9%，光學(xué)霧度為2.3%，光學(xué)清晰度為99. 5 %， 折射率為1. 19，并且厚度為約9微米。使用實(shí)例10中概述的工序獲得光學(xué)膜的掃描電子顯微圖(SEM)。圖7A-7C為三種不同放大倍率下的光學(xué)膜的三種示例性掃描電子顯微圖。區(qū)域701為溝渠的基底部分，區(qū)域702為溝渠的光學(xué)膜部分。制備光學(xué)膜所用的二氧化硅顆粒的平均直徑為約20nm。然而，圖7A-7C中示出的顆粒具有較大平均直徑(約50nm)。圖中看到的較大粒徑可如此解釋粘結(jié)劑包覆顆粒，使包覆顆粒形成串，其中這些串形成粘結(jié)劑包覆顆粒的多孔支架。空隙小于約50nm并均勻分散在整個(gè)膜的厚度中，包括靠近膜和基底之間的交界部703的位置和該交界部處的位置。小空隙主要降低光學(xué)膜的有效折射率這一點(diǎn)通過 Metricon棱鏡耦合器所測(cè)得的薄膜的小折射率(1. 19)得到進(jìn)一步確認(rèn)?？障兜某叽缧∫彩枪鈱W(xué)膜的光學(xué)霧度小和光學(xué)清晰度大的原因。其中多個(gè)空隙沿著光學(xué)膜的總厚度方向而伸長(zhǎng)，其縱橫比在約1. 5至約10的范圍內(nèi)。實(shí)例12 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，制備涂布溶液。在攪拌下將200克 20nm 二氧化硅顆粒(Nalco 2327)、以及10. 16克苯基三甲氧基硅烷和225. 5克1-甲氧基-2-丙醇(均可得自Aldrich Chemical (Milwaukee, WI))加入1夸脫廣口瓶?jī)?nèi)。然后將該廣口瓶密封并在80°C下加熱16小時(shí)。接著，將150克該溶液與45克SR444和0. 85克 5%的吩噻嗪溶于1-甲氧基-2-丙醇中的溶液(均可得自Aldrich Chemical (Milwaukee, WI))混合。然后，通過旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)從混合物中除去水和1-甲氧基-2-丙醇而得到85. 8克的總重量。隨后，將15. 5克乙酸乙酯加入該溶液中。然后，通過加入104. 9克異丙醇、42克 1-甲氧基-2-丙醇和1. 86克Irgacure 184將溶液稀釋為含30%的固體。然后按照實(shí)例F將該溶液涂布在2密耳(0.051毫米)厚的PET基底610上，不同的是注射器流速為4. 6毫升/分鐘并且流入LED的電流為4安培，得到每平方厘米0. 042焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約59. 4 %，光學(xué)霧度為93.5%，光學(xué)清晰度為 99.4%，并且厚度為約7微米。圖19示出了具有高光學(xué)霧度和高光學(xué)清晰度的光學(xué)膜(例如實(shí)例12的光學(xué)膜) 的散射特性。具體地講，曲線1910為隨垂直入射光的散射角變化而變化的散射光亮度。亮度圖線1910包括在零度處的尖銳峰值和寬背景散射光。例如，同軸(零度)亮度L1與10 度處的亮度L2的比率為約17。在一些情況下，本文所公開的光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%、或不小于約 85%、或不小于約90%、或不小于約95%，光學(xué)清晰度不小于約80%、或不小于約85%、或不小于約90%、或不小于約95%。在此類情況下，當(dāng)光學(xué)膜散射垂直入射光時(shí)，被散射光在零度處的亮度為L(zhǎng)1，在10度處的亮度為L(zhǎng)2，其中L1Zl2不小于約5、或不小于約10、或不小于約20、或不小于約50、或不小于約100。實(shí)例13 制造與光學(xué)構(gòu)造600類似的光學(xué)構(gòu)造。首先，通過混合25克如實(shí)例B所述而制備的涂布溶液和75克如實(shí)例9所述而制備的涂布溶液，制得涂布溶液“C”。然后按照實(shí)例F將該溶液涂布在2密耳(0.051毫米)厚的PET基底610上，不同的是流入LED的電流為13安培，得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約74. 5%，光學(xué)霧度為約55. 4%，光學(xué)清晰度為約99. 7%，并且厚度為約7微米。使用實(shí)例6中所述的工序獲得光學(xué)膜的掃描電子顯微圖(SEM)。圖15A-15D為四種不同放大倍率下的光學(xué)膜頂部表面的四種示例性掃描電子顯微圖。圖16A-16C為三種不同放大倍率下的光學(xué)膜橫截面的三種示例性掃描電子顯微圖。通過制備光學(xué)膜所用的粘結(jié)劑來包覆顆粒301并使其互連?；ミB顆粒形成網(wǎng)或支架302，其大致均勻地分散在整個(gè)光學(xué)膜中。網(wǎng)302限定多個(gè)互連空隙303?？障兜钠骄叽缭诩s50nm至約500nm的范圍內(nèi)、或在約IOOnm至300nm的范圍內(nèi)。光學(xué)膜的厚度不小于約1微米、或不小于約2微米、或不小于約3微米、或不小于約4微米。在一些情況下，光學(xué)膜的光學(xué)霧度在約10%至約80%的范圍內(nèi)并且光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約70%。在一些情況下，光學(xué)膜的光學(xué)霧度在約20%至約70%的范圍內(nèi)并且光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約80%。在一些情況下，光學(xué)膜的光學(xué)霧度在約20%至約 70%的范圍內(nèi)并且光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約90%。在一些情況下，光學(xué)膜的光學(xué)霧度在約20%至約70%的范圍內(nèi)并且光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約95%。在一些情況下，光學(xué)膜的光學(xué)霧度在約30 %至約70 %的范圍內(nèi)并且光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約95 %。實(shí)例14 首先，制備涂布溶液。在配備有冷凝器和溫度計(jì)的2升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將 960 克 IPA-ST-UP 有機(jī)硅細(xì)長(zhǎng)顆粒(可得自 Nissan Chemical Inc. (Houston, TX)) ,19. 2 克去離子水和350克1-甲氧基-2-丙醇混合在一起。這些顆粒分散在15. 2重量％的IPA 中。接著，將 22. 8 克 Silquest A-174 硅燒(可得自 GE Advanced Materials (Wilton, CT)) 加入燒瓶?jī)?nèi)。攪拌所得混合物30分鐘。然后使混合物在81°C下保持16小時(shí)。隨后，使溶液冷卻至室溫。然后，在40°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去溶液中約950克的溶劑，得到41. 7重量％的A-174改性的細(xì)長(zhǎng)二氧化硅在1-甲氧基-2-丙醇中的透明分散體。接著，將407克該透明分散體、165. 7克SR 444(可得自Sartomer公司(Exton， PA))、8. 28克光引發(fā)劑Irgacure 184和0.擬8克光引發(fā)劑Irgacure 819(均可得自Ciba Specialty Chemicals公司(High Point NC))、以及258. 6克異丙醇混合在一起并攪拌，得到固體含量為40%的均勻的涂布溶液。然后，將固體含量為40%的該溶液涂布在光重新定向膜(可以BEF得自3M公司) 的棱鏡側(cè)。該光重新定向膜包括多個(gè)線性棱鏡，其間距為M微米并且棱鏡峰角或頂角為約 90度。使用實(shí)例F中所述的方法完成涂布，不同的是注射器抽吸速率為6. 5毫升/分鐘并且流入LED的電流為13安培，得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A劑量。圖17為所得光學(xué)構(gòu)造的橫截面的光學(xué)顯微圖，圖中顯示光學(xué)膜1710涂布在光重新定向膜1720上。光學(xué)膜1710的折射率為約1. 18，并且估計(jì)的光學(xué)霧度小于約2%。從棱鏡谷所測(cè)得的光學(xué)膜的厚度(圖17中的距離、)為約19. 5微米。從棱鏡峰所測(cè)得的光學(xué)膜的厚度(圖17中的距離t3)為約10. 8微米。光學(xué)膜1720使棱鏡膜1720平面化。光學(xué)膜1720包括多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒和多個(gè)空隙。在一些情況下，該光學(xué)膜的折射率不大于約1. 3、或不大于約1. 25、或不大于約1. 2、或不大于約1. 15、或不大于約1. 1。在一些情況下，該光學(xué)膜的厚度不小于約5 微米、或不小于約10微米、或不小于約15微米。在一些情況下，該光學(xué)膜的厚度可不小于約10微米，并且光學(xué)霧度可不大于約 2%、或不大于約1. 5%、或不大于約1%。圖17中的光學(xué)構(gòu)造包括結(jié)構(gòu)化表面1730。該結(jié)構(gòu)化表面包括多個(gè)結(jié)構(gòu)1740，其中該結(jié)構(gòu)的高度t4為約12微米。在一些情況下，結(jié)構(gòu)1740中至少一些的高度不小于約5 微米、或不小于約7微米、或不小于約10微米、或不小于約15微米、或不小于約20微米。光學(xué)膜1710涂布在結(jié)構(gòu)化表面1730上并使該結(jié)構(gòu)化表面平面化，意味著頂部表面1750是大致平面的。例如，在此類情況下，從公共基準(zhǔn)面例如基準(zhǔn)面1760測(cè)得的頂部表面1750的最大和最小高度之間的差值不大于約20%、或不大于約15%、或不大于約10%、 或不大于約5%的結(jié)構(gòu)1740的高度t4。實(shí)例15 首先，制備涂布溶液。在配備有冷凝器和溫度計(jì)的1升三頸燒瓶?jī)?nèi)，在迅速攪拌下將400克IPA-ST-UP有機(jī)硅細(xì)長(zhǎng)顆粒和8克去離子水混合在一起。接著，將9. 6克Silquest A-174硅烷加入燒瓶?jī)?nèi)。攪拌所得混合物10分鐘。然后使混合物在81°c下保持12小時(shí)。隨后，使溶液冷卻至室溫。接著，在40°C水浴下使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去溶液中約200克的溶劑，得到32. 7重量％的A-174改性的細(xì)長(zhǎng)二氧化硅在異丙醇中的透明分散體。然后，將94. 1克該透明分散體、20. 5克SR 444、1. 3克光引發(fā)劑Irgacure 184、 39. 2克1-甲氧基-2-丙醇和17克異丙醇混合在一起并攪拌，得到均勻的涂布溶液。接著，使用實(shí)例F中所述的涂布方法將該溶液涂布在2密耳(0.051毫米)厚的PET 基底610上，不同的是流入LED的電流為13安培，得到每平方厘米0. 1352焦耳的UV-A劑量。所得光學(xué)膜630的總光學(xué)透射比為約95. 7%，光學(xué)霧度為1.8%，光學(xué)清晰度為100%， 折射率為約1. 16，并且厚度為約9微米。
在一些情況下，本文所公開的多孔光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%、或不小于約 85%、或不小于約90%、或不小于約95%，光學(xué)清晰度不小于約80%、或不小于約85%、或不小于約90%、或不小于約95%。在此類情況下，光學(xué)膜中的大比率的空隙(例如不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%的光學(xué)膜中的空隙)的孔尺寸在約50nm至約1200nm的范圍內(nèi)，或在約IOOnm至約IlOOnm的范圍內(nèi)。在一些情況下，本文所公開的光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%、或不小于約 85%、或不小于約90%、或不小于約95%，光學(xué)清晰度不大于約20%、或不大于約15%、或不大于約10%、或不大于約5%。在此類情況下，光學(xué)膜中的大比率的空隙(例如不小于約 50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%的光學(xué)膜中的空隙)的孔尺寸在約150nm至約3000nm的范圍內(nèi)，或在約200nm至2500nm的范圍內(nèi)。如本文所用，術(shù)語(例如“豎直”、“水平”、“上面”、“下面”、“左”、“右”、“上”及“下”、 “順時(shí)針”及“逆時(shí)針”以及其他類似的術(shù)語)是指如附圖所示的相對(duì)位置。通常，物理實(shí)施例可具有不同的取向，在這種情況下，所述術(shù)語意在指修改到裝置的實(shí)際取向的相對(duì)位置。 例如，即使圖16A中的圖像與附圖中的取向相比是翻轉(zhuǎn)的，光學(xué)膜的暴露表面仍視為“頂部”主表面。以上引用的所有的專利、專利申請(qǐng)以及其它出版物均以如同全文復(fù)制的方式并入本文以供參考。盡管上面詳細(xì)描述了本發(fā)明的具體實(shí)例以有利于說明本發(fā)明的各個(gè)方面， 但是應(yīng)該理解的是，并不意圖將本發(fā)明限于這些實(shí)例的具體描述。相反，本發(fā)明的目的在于涵蓋所附權(quán)利要求書限定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)的所有修改形式，等同形式和替代形式。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括 粘結(jié)劑；多個(gè)顆粒；以及多個(gè)互連空隙，其中所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約20%，并且其中 所述粘結(jié)劑與所述多個(gè)顆粒的重量比不小于約1 2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒中的至少一些包含化學(xué)鍵合至所述粘結(jié)劑的反應(yīng)基團(tuán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒中的至少一些不包含反應(yīng)基團(tuán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒的平均尺寸不大于約2微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒的平均尺寸不大于約1微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒包括細(xì)長(zhǎng)顆?；蚯蛐晤w粒。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)互連空隙的平均空隙尺寸不大于約2 微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)互連空隙的平均空隙尺寸不大于約1 微米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)互連空隙的平均空隙尺寸不大于約 0.7微米。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約30%。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約50%。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述粘結(jié)劑與所述多個(gè)顆粒的重量比不小于約 1 1。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述粘結(jié)劑與所述多個(gè)顆粒的重量比不小于約 2 1。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.35。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.25。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.2。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.15。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約5%。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約2%。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約1%。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約50%。
22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約70%。
23.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%。
24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約90%。
25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不大于約10%。
26.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不大于約5%。
27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不大于約2%。
28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約50%。
29.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約70%。
30.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約90%。
31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)漫反射率不小于約30%。
32.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)漫反射率不小于約40%。
33.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)漫反射率不小于約50%。
34.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的厚度不小于約1微米。
35.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的厚度不小于約2微米。
36.一種光學(xué)構(gòu)造，所述光學(xué)構(gòu)造包括 基底；和設(shè)置在所述基底上的根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述基底包括隔離襯墊。
38.根據(jù)權(quán)利要求36所述的光學(xué)構(gòu)造，所述光學(xué)構(gòu)造還包括設(shè)置在根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜上的光學(xué)粘合劑層。
39.根據(jù)權(quán)利要求36所述的光學(xué)構(gòu)造，所述光學(xué)構(gòu)造還包括設(shè)置在所述基底和根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜之間的光學(xué)粘合劑層。
40.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括 粘結(jié)劑；多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒；以及多個(gè)互連空隙，其中所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約20%， 所述光學(xué)膜的厚度不小于約1微米，并且其中 所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約1. 5%。
41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒中的所述細(xì)長(zhǎng)顆粒的平均縱橫比不小于約2。
42.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒中的所述細(xì)長(zhǎng)顆粒的平均縱橫比不小于約3。
43.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒中的所述細(xì)長(zhǎng)顆粒的平均縱橫比不小于約4。
44.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約40%。
45.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約60%。
46.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的厚度不小于約1.5微米。
47.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的厚度不小于約2微米。
48.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的厚度不小于約2.5微米。
49.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約1%。
50.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.3。
51.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.25。
52.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的有效折射率不大于約1.2。
53.根據(jù)權(quán)利要求40所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)互連空隙中的所述空隙的平均尺寸不大于約50nm。
54.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括多個(gè)互連多孔團(tuán)簇，每個(gè)團(tuán)簇包括多個(gè)顆粒；粘結(jié)劑，所述粘結(jié)劑包覆所述多個(gè)顆粒并使其互連；以及分散在所述多個(gè)顆粒之間的第一多個(gè)空隙；以及分散在所述多個(gè)互連多孔團(tuán)簇之間的第二多個(gè)空隙。
55.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述第一多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸小于約50nm。
56.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述第一多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸小于約40nm。
57.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述第一多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸小于約30nm。
58.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述第二多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸在約50nm至約700nm的范圍內(nèi)。
59.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述第二多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸在約IOOnm至約500nm的范圍內(nèi)。
60.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒中的所述顆粒的平均尺寸小于約 lOOnm。
61.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)顆粒中的所述顆粒的平均尺寸小于約 50nm。
62.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)互連多孔團(tuán)簇中的所述團(tuán)簇的平均尺寸小于約1500nm。
63.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)互連多孔團(tuán)簇中的所述團(tuán)簇的平均尺寸小于約lOOOnm。
64.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度大于約50%，并且光學(xué)清晰度大于約50%。
65.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的厚度大于約1微米。
66.根據(jù)權(quán)利要求M所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的厚度大于約2微米。
67.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括多個(gè)互連多孔團(tuán)簇，每個(gè)團(tuán)簇均包括多個(gè)顆粒和粘結(jié)劑，所述光學(xué)膜的厚度大于約1微米，光學(xué)霧度大于約50%，并且光學(xué)清晰度大于約50%。
68.一種光學(xué)體漫射體，所述光學(xué)體漫射體包括分散在整個(gè)所述光學(xué)體漫射體中的多個(gè)顆粒；以及分散在整個(gè)所述光學(xué)體漫射體中的多個(gè)空隙，其中所述光學(xué)膜具有分別不小于約50%的光學(xué)霧度和光學(xué)清晰度。
69.根據(jù)權(quán)利要求68所述的光學(xué)體漫射體，其中所述多個(gè)空隙中的所述空隙是互連的。
70.根據(jù)權(quán)利要求68所述的光學(xué)體漫射體，其中所述光學(xué)霧度和所述光學(xué)清晰度中每一者均不小于約70%。
71.根據(jù)權(quán)利要求68所述的光學(xué)體漫射體，其中所述光學(xué)霧度和所述光學(xué)清晰度中每一者均不小于約90%。
72.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括 多個(gè)團(tuán)簇，每個(gè)團(tuán)簇包括多個(gè)顆粒；以及粘結(jié)劑，所述粘結(jié)劑包覆所述多個(gè)顆粒并使其互連；以及分散在所述多個(gè)團(tuán)簇之間的多個(gè)空隙，其中 所述多個(gè)團(tuán)簇中的所述團(tuán)簇的平均尺寸不小于約500nm，并且其中 所述多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸不小于約500nm。
73.根據(jù)權(quán)利要求72所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)團(tuán)簇中的所述團(tuán)簇是互連的。
74.根據(jù)權(quán)利要求72所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)空隙中的所述空隙是互連的。
75.根據(jù)權(quán)利要求72所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)團(tuán)簇中的所述團(tuán)簇的平均尺寸不小于約700nm。
76.根據(jù)權(quán)利要求72所述的光學(xué)膜，其中所述多個(gè)空隙中的所述空隙的平均尺寸不小于約700nm。
77.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括被粘結(jié)劑包覆并通過該粘結(jié)劑互連的多個(gè)顆粒，所述互連的多個(gè)顆粒限定多個(gè)互連空隙，所述空隙的平均尺寸在約IOOnm至約300nm的范圍內(nèi)， 其中所述光學(xué)膜具有不小于約1微米的厚度； 約20 %至約70 %范圍內(nèi)的光學(xué)霧度；以及不小于約80%的光學(xué)清晰度。
78.根據(jù)權(quán)利要求77所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約90%。
79.根據(jù)權(quán)利要求77所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不小于約95%。
80.一種光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括 多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒；以及多個(gè)空隙，其中，所述光學(xué)膜具有 不大于約1. 3的折射率； 不小于約5微米的厚度；和不大于約2%的光學(xué)霧度。
81.根據(jù)權(quán)利要求80所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的折射率不大于約1.2。
82.根據(jù)權(quán)利要求80所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的厚度不小于約10微米。
83.根據(jù)權(quán)利要求80所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的厚度不小于約15微米。
84.一種光學(xué)構(gòu)造，所述光學(xué)構(gòu)造包括結(jié)構(gòu)化表面，所述結(jié)構(gòu)化表面包括多個(gè)結(jié)構(gòu)，所述結(jié)構(gòu)中的至少一些的高度不小于約 10微米；以及涂布在所述結(jié)構(gòu)化表面上并使所述結(jié)構(gòu)化表面大致平面化的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜具有不大于約1.2的折射率；以及不大于約2%的光學(xué)霧度。
85.根據(jù)權(quán)利要求84所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述光學(xué)膜還包括多個(gè)細(xì)長(zhǎng)顆粒和多個(gè)空隙。
86.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約80%，其中所述光學(xué)膜所散射的垂直入射光的光在零度處的亮度為L(zhǎng)1，在10度處的亮度為L(zhǎng)2^1Zl2不小于約 10。
87.根據(jù)權(quán)利要求86所述的光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜的光學(xué)霧度不小于約90%。
88.根據(jù)權(quán)利要求86所述的光學(xué)膜，其中L1Zl2不小于約20。
89.根據(jù)權(quán)利要求86所述的光學(xué)膜，其中L1Zl2不小于約50。
90.根據(jù)權(quán)利要求86所述的光學(xué)膜，其中L1Zl2不小于約100。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學(xué)膜。所述光學(xué)膜包括粘結(jié)劑、多個(gè)顆粒和多個(gè)互連空隙。所述光學(xué)膜中的所述多個(gè)互連空隙的體積分?jǐn)?shù)不小于約20％。所述粘結(jié)劑與所述多個(gè)顆粒的重量比不小于約1∶2。
文檔編號(hào)G02B1/11GK102449508SQ201080022979
公開日2012年5月9日 申請(qǐng)日期2010年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月15日
發(fā)明者任慧, 呂菲, 奧德蕾·A·舍曼, 威廉·布雷克·科爾布, 布蘭特·U·科爾布, 布萊恩·W·奧斯特雷, 斯科特·M·塔皮奧, 景乃勇, 查爾斯·D·霍伊爾, 約翰·A·惠特利, 羅伯特·L·布勞特, 邁克爾·本頓·弗里, 郝恩才 申請(qǐng)人:3M創(chuàng)新有限公司