專利名稱：底片清洗臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種清潔臺面，尤其涉及一種曝光設(shè)備底片清洗臺。
背景技術(shù)：
曝光設(shè)備底片清洗臺主要是一種曝光操作臺，操作時在其臺面上對底片做清潔。 由于清潔底片的時候會使用到亞克力曝光盤和其它的清潔輔助工具，當(dāng)曝光盤的數(shù)量大或 者清潔輔助工具過多時，明顯可以感覺底片清洗臺的臺面空間不夠大，而且，過多的曝光盤 放置在臺面上，雜亂無章，曝光盤直接放在清潔臺面上，容易誤操作導(dǎo)致曝光盤劃傷。因此， 亟需一種既有清潔臺面、又兼顧存放輔助工具及存放曝光盤于一體的底片清洗臺。

實用新型內(nèi)容本實用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種有清潔臺面、又有存放輔助工具臺面 及存放曝光盤位置于一體的底片清洗臺。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的一個技術(shù)方案是提供一種底片清洗臺， 包括臺柱和第一臺面，還包括曝光盤安裝座、第二臺面和第三臺面，所述第二臺面位于第一 臺面和第三臺面之間，所述曝光盤安裝座包括上座和下座，所述上座位于第一臺面的下表 面上，所述下座位于第三臺面的上表面上。本實用新型的有益效果是本實用新型的底片清洗臺，具有清潔臺面的第一臺面， 存放輔助工具的第二臺面，存放曝光盤的曝光盤安裝座。通過這樣的設(shè)置可以釋放清潔臺 面的空間，并且歸納整理曝光盤，避免曝光盤劃傷。

圖1是本實用新型底片清洗臺的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為詳細說明本實用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實施 方式并配合附圖詳予說明。請參閱圖1，本實用新型底片清洗臺包括第一臺面1、第二臺面2、第三臺面3、臺柱 4、曝光盤上座5、曝光盤下座6、第二臺面2位于第一臺面1和第三臺面3之間，曝光盤上座 5位于第一臺面1的下表面上，曝光盤下座6位于第三臺面3的上表面上。第一臺面1、第二臺面2和第三臺面3均為矩形結(jié)構(gòu)。第二臺面2沿導(dǎo)軌槽延伸 方向的邊長與第三臺面3和第一臺面1的邊長相同，第二臺面2的另一邊長小于第三臺面 3和第一臺面1的邊長。曝光盤9的安裝上座和下座均為間隔分立的平行導(dǎo)軌槽，所述上座導(dǎo)軌槽7和下 座導(dǎo)軌槽8相配合，其導(dǎo)軌槽寬度與曝光盤9的厚度相同，曝光盤9的高度跟上座導(dǎo)軌槽7 和下座導(dǎo)軌槽8間的垂直距離相同，當(dāng)曝光盤9裝入到第一平面和第三平面間的曝光盤安裝座時，其上邊緣在上座導(dǎo)軌槽7內(nèi)滑移，其下邊緣在下座導(dǎo)軌槽8內(nèi)滑移。平行設(shè)置的多個導(dǎo)軌槽，可以安裝多個曝光盤。我們制作導(dǎo)軌槽的方法很簡單，在 第一平面1的下表面和第三平面3的上表面上焊接多根鋁合金柱體，使相鄰兩柱體之間的 寬度等于或略大于曝光盤的厚度，并保證在垂直方向上的兩柱體之間平行設(shè)置。第二臺面2和第三臺面3上都可以設(shè)置至少一個儲物格，儲物格可以固定在第二 臺面2或第三臺面3上，也可以做成抽屜狀的推拉結(jié)構(gòu)，從而使儲物格能夠相對于第二臺面 2或第三臺面3移動。以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是 利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在 其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種底片清洗臺，包括臺柱和第一臺面，其特征在于，還包括曝光盤安裝座、第二臺 面和第三臺面，所述第二臺面位于第一臺面和第三臺面之間，所述曝光盤安裝座包括上座 和下座，所述上座位于第一臺面的下表面上，所述下座位于第三臺面的上表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底片清洗臺，其特征在于所述第一臺面、第二臺面和第三臺 面均為矩形結(jié)構(gòu)，所述第二臺面沿所述導(dǎo)軌槽延伸方向的邊長與第三臺面和第一臺面的邊 長相同，所述第二臺面的另一邊長小于第三臺面和第一臺面的邊長。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的底片清洗臺，其特征在于所述的曝光盤安裝座上座和下座 均為間隔分立的平行導(dǎo)軌槽，所述上座導(dǎo)軌槽和下座導(dǎo)軌槽相配合，其導(dǎo)軌槽寬度與曝光 盤的厚度相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的底片清洗臺，其特征在于所述的第二臺面上設(shè)置有至少一 個儲物格。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的底片清洗臺，其特征在于所述的儲物格可以相對于第二臺 面移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5任一項所述的底片清洗臺，其特征在于所述的第三臺面上設(shè) 置有至少一個儲物格。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的底片清洗臺，其特征在于所述的儲物格可以相對于第三臺 面移動。
專利摘要本實用新型公開了一種曝光設(shè)備底片清洗臺，包括臺柱和第一臺面，還包括曝光盤安裝座、第二臺面和第三臺面，第二臺面位于第一臺面和第三臺面之間，曝光盤安裝座包括上座和下座，上座位于第一臺面的下表面上，下座位于第三臺面的上表面上。有益效果是具有清潔臺面的第一臺面，存放輔助工具的第二臺面，存放曝光盤的曝光盤安裝座。通過這樣的設(shè)置可以釋放清潔臺面的空間，并且歸納整理曝光盤，避免曝光盤劃傷。
文檔編號G03F7/20GK201780453SQ201020203669
公開日2011年3月30日 申請日期2010年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月26日
發(fā)明者李存英, 陶鑄 申請人:深南電路有限公司