專(zhuān)利名稱(chēng)：圖像形成設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
符合本發(fā)明的設(shè)備和裝置涉及到一種圖像形成設(shè)備。
背景技術(shù)：
迄今，已存在相關(guān)的串聯(lián)型圖像形成設(shè)備，該圖像形成設(shè)備具有以下結(jié)構(gòu)多個(gè)用 于形成不同顏色(例如，黃色、洋紅色、青色和黑色)圖像的圖像形成單元被連續(xù)地沿著記 錄介質(zhì)的傳送通道排列。在相關(guān)的技術(shù)中，框架構(gòu)造成上框架被安裝在下框架上，并且下框 架的剛度低于上框架的剛度。如果使用相關(guān)技術(shù)的框架結(jié)構(gòu)，則當(dāng)偏負(fù)荷作用在圖像形成設(shè)備的框架結(jié)構(gòu)時(shí)， 由于裝置被設(shè)置的位置上的水平和傾斜不同，所以具有小剛度的下框架可能彎曲或者扭 曲。因此，即使整個(gè)框架的剛度不增大，仍然能夠抑制具有高剛度的上框架發(fā)生彎曲或者扭 曲并且能夠維持與該框架裝配的多個(gè)圖像形成單元之間的相對(duì)位置關(guān)系的高精度。另外， 由于整個(gè)框架結(jié)構(gòu)的剛度不需要被增大，所以能夠抑制整個(gè)框架結(jié)構(gòu)的重量的增大。另外，在相關(guān)技術(shù)的圖像形成設(shè)備中，用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)的記錄介質(zhì)盒或者用于 將記錄介質(zhì)饋送到圖像形成單元(四組圖像形成單元)的饋送單元被安裝在下框架上。為 了將記錄介質(zhì)供應(yīng)到記錄介質(zhì)盒，記錄介質(zhì)盒通常被形成為可以從設(shè)備主體抽出或者分 離。作為這種構(gòu)造的具體實(shí)例，存在一種記錄介質(zhì)盒可以沿著引導(dǎo)機(jī)構(gòu)滑動(dòng)的構(gòu)造。
發(fā)明內(nèi)容
但是，如果當(dāng)饋送單元被安裝在下框架時(shí)，由于安裝設(shè)備的位置上的水平和傾斜 的不同下框架發(fā)生變形，則饋送單元也被移動(dòng)從而隨著下框架的變形。因此，饋送單元和上框架之間的相對(duì)位置關(guān)系在上下方向上被顯著地改變。在這 種情況下，從饋送單元到達(dá)圖像形成單元的傳送通道從變形之前被最優(yōu)化的位置處發(fā)生最 大程度的偏移。另外，如果上述下框架具有引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，則設(shè)置在下框架上的記錄介質(zhì)盒被從下支 撐在引導(dǎo)機(jī)構(gòu)在縱向方向上的一端和另一端的整個(gè)范圍上。因此，即使，引導(dǎo)機(jī)構(gòu)隨著下框架變形在引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的縱向方向上的一端和另一端 之間的范圍內(nèi)的任何位置發(fā)生變形，記錄介質(zhì)盒被移動(dòng)而隨著引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的變形。在這種情 況下，記錄介質(zhì)盒和饋送單元之間的相對(duì)位置關(guān)系發(fā)生改變。S卩，存在的難題是饋送單元與圖像形成單元之間的相對(duì)位置和記錄介質(zhì)盒與饋 送單元之間的位置關(guān)系將會(huì)隨著下框架的變形而發(fā)生改變。結(jié)果，存在的難題是饋送單元 饋送記錄介質(zhì)的精度，諸如饋送單元從記錄介質(zhì)盒拾取記錄介質(zhì)的精度和記錄介質(zhì)被從饋送單元運(yùn)送到圖像形成單元的精度，將會(huì)削弱。
為了解決上述問(wèn)題提出了本發(fā)明，本發(fā)明的目的在于提供一種圖像形成設(shè)備，該 圖像形成設(shè)備能夠在下框架發(fā)生變形的前后，防止或者抑制由饋送單元饋送記錄介質(zhì)的精 度的削弱。根據(jù)本發(fā)明的說(shuō)明性方面，提供有一種圖像形成設(shè)備，其包括記錄介質(zhì)盒，所述 記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元，所述圖像形成單元在記錄介質(zhì)上形成圖像； 饋送單元，所述饋送單元將儲(chǔ)存在記錄介質(zhì)盒中的記錄介質(zhì)饋送到圖像形成單元；一對(duì)上 框架，所述一對(duì)上框架被設(shè)置成在左右方向上彼此具有一定距離，并且從左右側(cè)支撐設(shè)置 在上框架之間的圖像形成單元和饋送單元；和一對(duì)下框架，所述一對(duì)下框架被設(shè)置成在左 右方向上彼此具有一定距離，記錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接在下框架之間形成的空間中，上 框架被分別地設(shè)置在下框架上，并且下框架具有小于上框架的剛度的剛度，其中，假定記錄 介質(zhì)盒在前后方向上的兩端中的一端，即當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接在一對(duì)下框架之間時(shí)靠近饋 送單元的一端被稱(chēng)為第一端，其的另一端，即當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接在一對(duì)下框架之間時(shí)遠(yuǎn) 離饋送單元的一端被稱(chēng)為第二端，當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接在一對(duì)下框架之間時(shí)，位于第一端 上的第一接觸部分在第一端上接觸第一部分，所述第一部分在上下方向上相對(duì)于上框架的 相對(duì)位置關(guān)系不改變，使得記錄介質(zhì)盒在上下方向上被定位，位于第二端上的第二接觸部 分在第二端上接觸第二部分，所述第二部分在上下方向上相對(duì)于下框架的相對(duì)位置關(guān)系不 改變，使得記錄介質(zhì)盒在上下方向上被定位。根據(jù)本發(fā)明的另外的說(shuō)明性方面，提供有一種圖像形成設(shè)備，其包括記錄介質(zhì) 盒，所述記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元，所述圖像形成單元在記錄介質(zhì)上形 成圖像；饋送單元，所述饋送單元將儲(chǔ)存在記錄介質(zhì)盒中的記錄介質(zhì)饋送到圖像形成單元； 上框架，所述上框架支撐圖像形成單元和饋送單元；和下框架，記錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接 在所述下框架中，上框架被設(shè)置在下框架上，并且下框架具有小于上框架的剛度的剛度，所 述下框架包括導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌用于在記錄介質(zhì)盒被附接在下框架時(shí)，將記錄介質(zhì)盒引導(dǎo)到 預(yù)定的接收位置，其中，由上框架支撐的饋送單元具有沿著平行于水平方向的方向形成的 凹槽部分，記錄介質(zhì)盒具有當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接在下框架時(shí)適配在凹槽部分中的第一凸部 分，記錄介質(zhì)盒具有與下框架的導(dǎo)軌的部分接觸的第二凸部分。
參考以下附圖，具體說(shuō)明本發(fā)明的說(shuō)明性方面，其中圖1是當(dāng)從右側(cè)看時(shí)圖像形成設(shè)備的縱向截面圖；圖2是上和下框架的立體圖；圖3是記錄介質(zhì)盒的立體圖；圖4是顯示右上框架、右下框架、饋送設(shè)備和低壓電源單元的立體圖；圖5是顯示定位凸起和定位凹槽的外圍部分的立體圖；圖6A是突出片的凸部分和導(dǎo)軌的凸部分的立體圖，圖6B是突出片的凸部分的立 體圖，和圖6C是導(dǎo)軌的凸部分的立體圖。圖7A是記錄介質(zhì)盒和饋送裝置的立體圖，圖7B是顯示記錄介質(zhì)盒的肋和饋送框 架的凹槽的視圖；和
圖8A和8B是說(shuō)明當(dāng)下框架變形時(shí)各個(gè)部分的位移的視圖。
具體實(shí)施例方式以下利用實(shí) 例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例。[圖像形成設(shè)備的構(gòu)造]圖1中所示的圖像形成設(shè)備1是通過(guò)電子照相系統(tǒng)形成圖像的串聯(lián)型圖像形成設(shè) 備。在本實(shí)施例中，以下利用圖中所示的上下方向、左右方向和前后方向來(lái)說(shuō)明圖像形成設(shè) 備1。各個(gè)方向如下被限定當(dāng)圖像形成裝置1被安裝在水平面時(shí)豎直線(xiàn)延伸的方向被定 義為上下方向，與其上形成有圖像的記錄介質(zhì)的傳送方向平行的方向被定義為前后方向， 垂直于上下方向和前后方向的方向被定義為左右方向。但是，這些各個(gè)方向被定義以描述 圖像形成設(shè)備1的各個(gè)部分之間的相對(duì)位置關(guān)系，并不意味著圖像形成設(shè)備1應(yīng)該被安裝 在特定的方向上。圖像形成設(shè)備1包括記錄介質(zhì)盒2、饋送單元3、帶單元5、處理盒7、掃描單元9、定
影裝置11等。它們中，記錄介質(zhì)盒2是儲(chǔ)存記錄介質(zhì)的部分，可以被朝著前側(cè)抽出和分離。饋送單元3被設(shè)置成將儲(chǔ)存在記錄介質(zhì)盒中的記錄介質(zhì)饋送到傳送通道(圖1的 雙點(diǎn)劃線(xiàn)所示的通道)的下游側(cè)。儲(chǔ)存在記錄介質(zhì)盒2中的記錄介質(zhì)通過(guò)饋送單元3而被 從記錄介質(zhì)盒2抽出并且被饋送到傳送通道的下游側(cè)。帶單元5是在記錄介質(zhì)被插入在處理盒7和帶單元之間的同時(shí)用于將從饋送單元 3饋送的記錄介質(zhì)從前側(cè)傳送到后側(cè)的單元。四組處理盒7被連續(xù)地、以規(guī)律的間隔配置在帶單元5的上面。每個(gè)處理盒7包 括感光器和顯影形成在感光器上的靜電潛像的顯影機(jī)構(gòu)。掃描單元9是通過(guò)利用激光照射各個(gè)處理盒7的感光器而在感光器上形成靜電潛 像的單元。通過(guò)掃描單元9在感光器上形成的靜電潛像被處理盒7的顯影機(jī)構(gòu)顯影，從而 靜電潛像成為調(diào)色劑圖像。調(diào)色劑圖像被轉(zhuǎn)印到傳送在帶單元5上的記錄介質(zhì)上。定影裝置11是在記錄介質(zhì)被插入輥之間的同時(shí)用于通過(guò)加熱和按壓調(diào)色劑圖像 被轉(zhuǎn)印在其上的記錄介質(zhì)而將調(diào)色劑圖像定影于記錄介質(zhì)的裝置。經(jīng)過(guò)定影裝置11的記 錄介質(zhì)進(jìn)一步被一些輥傳送并且被排出到圖像形成裝置1的上表面。同時(shí)，低壓電源單元13被設(shè)置在定影裝置11的下方且在記錄介質(zhì)盒2的上方的 位置上。[圖像形成設(shè)備的框架的構(gòu)造]以下將說(shuō)明圖像形成裝置1的框架的構(gòu)造。如圖2所示，圖像形成設(shè)備1包括上 框架21L和21R以及下框架23L和23R，作為用于支撐上述各種構(gòu)件的構(gòu)架的構(gòu)件。在它們當(dāng)中，上框架21L和21R是由金屬片制成的構(gòu)件，并且被安裝并且固定到下 框架23L和23R。具體地，上框架被豎立在下框架23L和23R上，下框架之間在左右方向上 具有一定距離，從而穿孔方向?qū)?yīng)左右方向。另外，諸如掃描板25、掃描蓋26、前梁27、后梁28和下梁29的金屬片構(gòu)件被設(shè)置 在上框架21L和21R之間。同時(shí)，下框架23L和23R具有小于上框架2IL和2IR的剛度的剛度，并且允許一定程度的變形。具體地，在這種實(shí)施例的情況下，下框架23L和23R由樹(shù)脂構(gòu)件形成，下框架23L 和23R具有小于由金屬片制成的上框架21L和21R的剛度的剛度。前梁31、后梁32等被設(shè) 置在這些下框架23L和23R之間。在上述框架構(gòu)造中，饋送單元3、帶單元5、處理盒7、掃描單元9、定影裝置11等被 設(shè)置在上框架21L和21R之間。另外，上框架21L和21R從左右兩側(cè)支撐這些組件。因而，設(shè)置在上框架21L和21R的這種結(jié)構(gòu)的負(fù)荷通過(guò)上框架21L和21R被傳輸 到下框架23L和23R，下框架23L和23R支撐產(chǎn)生在上框架21L和21R上的負(fù)荷。此外，記錄介質(zhì)盒2被附接在下框架23L和23R之間。雖然如下要具體說(shuō)明，但是 記錄介質(zhì)盒2的前端被上框架21L和21R的結(jié)構(gòu)支撐，并且記錄介質(zhì)盒2的后端被下框架 23L和23R的結(jié)構(gòu)支撐。[記錄介質(zhì)盒的支撐結(jié)構(gòu)和定位結(jié)構(gòu)]以下將說(shuō)明記錄介質(zhì)盒2的支撐結(jié)構(gòu)和定位結(jié)構(gòu)。如圖3所示，記錄介質(zhì)盒2整體形成為抽屜的形狀，并且記錄介質(zhì)盒的上側(cè)被打開(kāi) 從而記錄介質(zhì)可以被接收在記錄介質(zhì)盒中。朝著兩側(cè)突出并且連續(xù)地在前后方向上延伸的 突出片35被形成在接近記錄介質(zhì)盒2的左右側(cè)表面上的下端的位置上。另外，定位凸起37在接近記錄介質(zhì)盒的前端的位置上從記錄介質(zhì)盒2的左右側(cè)表 面突出。突出片35和定位凸起37形成為在圖像形成設(shè)備1中對(duì)稱(chēng)。因而，圖3只顯示形 成在記錄介質(zhì)盒2的右側(cè)表面的定位凸起，但是相同的凸起被形成在記錄介質(zhì)盒2的左側(cè) 表面的相同的位置上。同時(shí)，如圖4所示，引導(dǎo)導(dǎo)軌41被形成在下框架23L和23R上。另外，如以上所述， 饋送單元3、低壓電源單元13等被設(shè)置在上框架21L和21R之間(見(jiàn)圖4中的陰影部分)， 并且定位凹槽45被形成在饋送單元3的饋送框架43上。引導(dǎo)軌道41和定位凹槽45被形成為在圖像形成設(shè)備1中對(duì)稱(chēng)。圖4只顯示設(shè)置 在下框架23R的內(nèi)側(cè)(下框架23R的左側(cè))上的、定位在圖像形成設(shè)備1的右側(cè)上的元件。 但是，相同的元件同樣被設(shè)置在下框架23L的內(nèi)側(cè)(下框架23L的右側(cè))的相同位置且在 圖像形成設(shè)備1的左側(cè)上。在上述構(gòu)造中，引導(dǎo)導(dǎo)軌41起當(dāng)記錄介質(zhì)盒21被附接在下框架23L和23R之間 時(shí)引導(dǎo)突出片35的作用。即，當(dāng)記錄介質(zhì)盒2被附接在下框架23L和23R之間時(shí)，突出片 35沿著引導(dǎo)導(dǎo)軌41移動(dòng)，從而能夠?qū)⒂涗浗橘|(zhì)盒2順暢地推入下框架23L和23R之間形成 的空間內(nèi)。另外，如圖5所示，當(dāng)記錄介質(zhì)盒2被推到預(yù)定接收位置(突出片35到達(dá)圖4中 雙點(diǎn)劃線(xiàn)所示的部分的位置)時(shí)，定位凸起37被適配到定位凹槽45 (在圖5中，沒(méi)有顯示 記錄介質(zhì)盒2的其他的部分并且雙點(diǎn)劃線(xiàn)只顯示定位凸起37以便闡明定位凸起37的位
置。) 。定位凸起37被適配到定位凹槽45，從而記錄介質(zhì)盒2的前端在上下方向和前后方 向上相對(duì)于定位凹槽45的位置被定位。結(jié)果，記錄介質(zhì)盒2的前端也在上下方向和前后方 向上相對(duì)于上框架21L和21R以及饋送單元3的位置被定位。此外，當(dāng)記錄介質(zhì)盒2被推到上述接收位置時(shí)，突出片35的凸部分35A和引導(dǎo)導(dǎo)軌41的凸部分41A在如圖6A放大的圖4中顯示的部分A上彼此接觸。如圖6B所示，突出片35的凸部分35A從突出片35的下表面向下突出，凹部被部分地形成在突出部分內(nèi)。同時(shí)，如圖6C所示，引導(dǎo)導(dǎo)軌41的凸部分41A從引導(dǎo)導(dǎo)軌41的 上表面向上突出。凸部分35A和凸部分41A彼此接觸，從而記錄介質(zhì)盒2的后端在上下方向上相對(duì) 于引導(dǎo)導(dǎo)軌41的位置被定位。結(jié)果，在凸部分35A和凸部分41A之間的接觸部分上，記錄 介質(zhì)盒2的后端在上下方向上相對(duì)于下框架23L和23R的位置被定位。同時(shí)，凸部分41A在引導(dǎo)導(dǎo)軌41的上表面上被形成在前后方向上彼此分開(kāi)的多個(gè) 位置上。由于這個(gè)原因，小間隔形成在多個(gè)凸部分41A的前后位置上，從而可以減小突出片 35和引導(dǎo)導(dǎo)軌41之間的摩擦。此外，當(dāng)記錄介質(zhì)盒2被推到上述接收位置時(shí)，從記錄介質(zhì)盒2突出的一對(duì)肋47A 和48B被適配到饋送框架43的凹槽49在如圖7B放大的圖7A的部分B上，從而記錄介質(zhì) 盒2和饋送單元3的饋送框架43在左右方向上相對(duì)彼此被定位。[下框架的變形和各個(gè)部分的位移]參考附圖8，將說(shuō)明當(dāng)下框架23L和23R變形時(shí)圖像形成設(shè)備的各個(gè)部分如何變形。向下突出的一對(duì)腿部分51和52在前后方向上彼此分開(kāi)的位置Pl和P2上被形成 于圖像形成裝置1的各個(gè)下框架23L和23R的下端。另外，負(fù)荷被從上框架21L和21R傳輸?shù)较驴蚣?3L和23R的負(fù)荷傳輸部分53和 54在前后方向上彼此分開(kāi)的位置P3和P4被形成在各個(gè)上框架21L和21R的下端上。負(fù)荷傳輸部分53和54的位置P3和P4可以通過(guò)改變上框架2IL和2IR的下端和 下框架23L和23R的上端的形狀而被設(shè)定到任意的位置或者連接部分的位置。在本實(shí)施例 的情況下，負(fù)荷傳輸部分53和54的位置P3和P4被設(shè)定到在前后方向上腿部分51和52 的位置Pl和P2之間的位置上。因此，由于施加到負(fù)荷傳輸部分53和54的負(fù)荷，具有低剛度的下框架23L和23R 易于從圖8A所示的設(shè)計(jì)形狀變形為圖8B所示的前后方向上的中間部分稍微下垂的形狀。 即，下框架23L和23R被設(shè)計(jì)成允許上述變形。因而，下框架可以消減安裝位置上的水平和 傾斜的差異。如果下框架23L和23R從圖8A的形狀變形成圖8B所示的形狀，上框架2IL和2IR 向下移動(dòng)如8B所示的距離D。另外，當(dāng)如上所示上框架21L和21R向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，由上框架21L和21R支撐的饋送 單元3、帶單元5、處理盒7等同樣向下移動(dòng)距離D。相反地，記錄介質(zhì)盒2的前端的位移與記錄介質(zhì)盒的后端的位移不同。具體地，定 位凸起37被適配進(jìn)記錄介質(zhì)盒2的前端上的饋送框架43的定位槽45，從而記錄介質(zhì)盒2 的前端被相對(duì)于饋送單元3定位。由于這個(gè)原因，如果饋送單元3向下移動(dòng)，則記錄介質(zhì)盒 2的前端同樣向下移動(dòng)從而隨著饋送單元3。S卩，即使下框架23L和23R被變形到圖8B所示的形狀，由上框架21L和21R支撐 的饋送單元3仍然不相對(duì)于帶單元5或者處理盒7移位并且記錄介質(zhì)盒2的前端相對(duì)于饋 送單元3的相對(duì)位置在上下方向上不發(fā)生改變。
因而，相對(duì)位置關(guān)系在經(jīng)由饋送單元3從記錄介質(zhì)盒2到達(dá)帶單元5或者處理盒 7的傳送通道上不發(fā)生改變。因此，下框架23L和23R的變形不會(huì)不利地影響由饋送單元3 饋送記錄介質(zhì)的精度。同時(shí)，突出片35 的凸部分35A與記錄介質(zhì)盒2的后端上的導(dǎo)軌41的凸部分41A 接觸。由于這種原因，記錄介質(zhì)盒2的后端移動(dòng)從而隨著凸部分41A。這里，凸部分35A和凸部分41A的接觸部分被定位在前后方向上、在后側(cè)上的負(fù)荷 傳輸部分54的位置P4的后側(cè)與后側(cè)上的腿部分52的位置之間。如果由于從負(fù)荷傳輸部分54施加的負(fù)荷，下框架23L和23R向下扭曲和變形，上 框架21L和21R向下移位從而隨著負(fù)荷傳輸部分54的位置P4上的下框架23L和23R。由 于這種原因，上框架2IL和2IR與下框架23L和23R之間的相對(duì)位置關(guān)系在位置P4上不容 易經(jīng)歷顯著的改變。另外，即使由于從負(fù)荷傳輸部分54施加的負(fù)荷，下框架23L和23R向下扭曲和變 形，至少下框架23L和23R不朝著腿部分52的位置P2上的上框架2IL和2IR向上移動(dòng)。S卩，如果下框架的位于腿部分52的位置P2的前側(cè)上的前端部分向下移動(dòng)，則下框 架23L和23R易于繞著腿部分52朝著腿部分52的位置P2的后側(cè)上的上框架21L和21R旋轉(zhuǎn)。由于這個(gè)原因，如果記錄介質(zhì)盒2被支撐在位置P2的后側(cè)上，記錄介質(zhì)盒2的后 端向上移動(dòng)。在本實(shí)施例的情況下，會(huì)引起以下問(wèn)題記錄介質(zhì)盒2的后端接觸低壓電源單 元13，并且記錄介質(zhì)盒2的附接和拆卸會(huì)不利地受到影響。在這一點(diǎn)上，如果記錄介質(zhì)盒2 被支撐在腿部分52的位置P2上，記錄介質(zhì)盒2不向上移動(dòng)。因而，如果凸部分35A和凸部分41A之間的接觸部分位于上述的位置P4和P2之 間的范圍內(nèi)，則與該接觸部分位于該范圍之外的情況相比，可以提高抑制上框架21L和21R 與下框架23L和23R之間的相對(duì)位置關(guān)系的顯著改變的優(yōu)勢(shì)。另外，如上所述，多個(gè)凸部分41A被形成在引導(dǎo)軌道41的上表面以便減小突出片 35和引導(dǎo)軌道41之間的摩擦。在圖8A和8B中，已舉例說(shuō)明了右引導(dǎo)導(dǎo)軌41，并且五個(gè)凸 部分41A被形成在引導(dǎo)導(dǎo)軌41上以方便地顯示凸部分。但是，凸部分41A的數(shù)量是任意的。但是，不考慮形成的凸部分41A的數(shù)量，多個(gè)凸部分41A的最前面的凸部分41A被 定位在位于后側(cè)上的負(fù)荷傳輸部分53的位置P3的后側(cè)上。理由如下如果凸部分41A被形成在負(fù)荷傳輸部分53的位置P3的前側(cè)上(例如， 接近位置P4)，會(huì)引起記錄介質(zhì)盒2的前端在向下移動(dòng)時(shí)與凸部分41A接觸。這同樣會(huì)引起 記錄介質(zhì)盒2的附接和拆卸不利地受到影響。[優(yōu)點(diǎn)]如上所述，根據(jù)圖像形成設(shè)備1，饋送單元3 (對(duì)應(yīng)本發(fā)明的饋送單元的實(shí)例)被上 框架21L和21R支撐。因而，即使下框架23L和23R被扭曲，饋送單元相對(duì)于帶單元5或者 處理盒7(對(duì)應(yīng)本發(fā)明的圖像形成單元的實(shí)例)的相對(duì)位置不發(fā)生改變。另外，位于與靠近饋送單元3的記錄介質(zhì)盒的前端(對(duì)應(yīng)于本發(fā)明的第一端的實(shí) 例)接近的定位凸起37 (對(duì)應(yīng)本發(fā)明中“位于第一端附近的接觸部分”的實(shí)例)與定位凹 槽45(對(duì)應(yīng)本發(fā)明中“在上下方向上相對(duì)于上框架的位置不改變的部分”的實(shí)例)接觸，從 而記錄介質(zhì)盒2被定位在上下方向上。因而，即使下框架23L和23R發(fā)生扭曲，饋送單元3和記錄介質(zhì)盒2的前端移位以隨著上框架2IL和21R，從而饋送單元3相對(duì)于記錄介質(zhì)盒2 的前端的相對(duì)位置同樣不發(fā)生顯著改變。此外，設(shè)置在遠(yuǎn)離饋送單元3的位置上的記錄介質(zhì)盒2的后端(對(duì)應(yīng)于本發(fā)明的 第二端的實(shí)例)稍微移位從而隨著下框架23L和23R的變形。但是，由于這些位移發(fā)生在 遠(yuǎn)離記錄介質(zhì)盒2的前端的位置上，所以這些位移不會(huì)引起饋送單元3相對(duì)于記錄介質(zhì)盒 2的前端的相對(duì)位置發(fā)生顯著改變。因而，即使下框架23L和23R發(fā)生扭曲，仍然能夠防止或者抑制在經(jīng)由饋送單元3 從記錄介質(zhì)盒2到達(dá)處理盒7的傳送通道上產(chǎn)生大改變，從而由饋送單元3饋送記錄介質(zhì) 的精度不會(huì)不利地受到影響。另外，根據(jù)圖像形成設(shè)備1，在記錄介質(zhì)盒2的后端上，下框架23L和23R和記錄 介質(zhì)盒2在上下方向上被定位在形成凸部分35A和41A的部分上。由于這個(gè)原因，與下框 架23L和23R和記錄介質(zhì)盒2在寬于凸部分35A和41A的區(qū)域中彼此接觸時(shí)相比，易于預(yù) 測(cè)到當(dāng)下框架23L和23R發(fā)生扭曲時(shí)，記錄介質(zhì)盒2的后端和上框架21L和21R之間的相 對(duì)位置關(guān)系如何發(fā)生改變。因而，在預(yù)測(cè)的基礎(chǔ)上，能夠充分利用記錄介質(zhì)盒2的后端和上 框架21L和21R的結(jié)構(gòu)(例如，低壓電源單元13)之間的空隙。此外，根據(jù)圖像形成設(shè)備1，間隔形成在記錄介質(zhì)盒2和凸部分41A在前后方向上 的兩側(cè)上的下框架23L和23R的引導(dǎo)導(dǎo)軌41之間。由于這個(gè)原因，與當(dāng)間隔未被形成并且 下框架23L和23R和記錄介質(zhì)盒2在較寬的區(qū)域中彼此接觸時(shí)相比，能夠減小記錄介質(zhì)盒 2和下框架23L和23R之間的摩擦并且能夠容易地實(shí)施記錄介質(zhì)盒2的附接或者拆卸。此外，在圖像形成設(shè)備1中，凸部分35A和41A被形成在圖8A和8B所示的位置 P4(對(duì)應(yīng)本發(fā)明的第一位置的實(shí)例)和位置P2(對(duì)應(yīng)本發(fā)明的第二位置的實(shí)例)之間的范 圍內(nèi)。因而，當(dāng)由于從負(fù)荷傳輸部分53和54施加的負(fù)荷作用，下框架23L和23R向下扭曲 和變形時(shí)，能夠抑制上框架21L和21R與由下框架23L和23R支撐在形成凸部分35A和41A 的部分上的記錄介質(zhì)盒2的后端之間的相對(duì)位置關(guān)系。[變化例]上文已經(jīng)說(shuō)明例如本發(fā)明的實(shí)施例。但是，本發(fā)明不限于上述具體的實(shí)施例并且 可以進(jìn)行各種方式的修改。在上述實(shí)施例中，饋送單元3被設(shè)置在記錄介質(zhì)盒2的前端的上側(cè)。但是，即使當(dāng) 對(duì)應(yīng)饋送單元3的饋送單元被設(shè)置在例如記錄介質(zhì)盒2的后端的上側(cè)時(shí)，本發(fā)明同樣可被 應(yīng)用。S卩，包括從前側(cè)抽出的記錄介質(zhì)盒和設(shè)置在記錄介質(zhì)盒的后端的上側(cè)的饋送單元 的圖像形成設(shè)備可以具有以下構(gòu)造。即，當(dāng)記錄介質(zhì)盒被向著后側(cè)推動(dòng)并且附接在下框架 之間時(shí)，記錄介質(zhì)盒的后端與在上下方向上相對(duì)于上框架的相對(duì)位置不發(fā)生改變的部分接 觸，從而記錄介質(zhì)盒在上下方向上可以被定位。另外，記錄介質(zhì)盒與在上下方向上相對(duì)于下 框架的相對(duì)位置不發(fā)生改變的部分接觸，從而記錄介質(zhì)盒被定位在上下方向上。換句話(huà)說(shuō)， 本發(fā)明中的記錄介質(zhì)盒的第一和第二端中的任意一端可以被定位在圖像形成設(shè)備的前端 上。而且，在上述實(shí)施例中，作為一個(gè)更優(yōu)選的實(shí)施例，使用一種以下結(jié)構(gòu)突出片35 被形成在記錄介質(zhì)盒2上，引導(dǎo)導(dǎo)軌41被形成在下框架23L和23R上，并且記錄介質(zhì)盒2被突出片和引導(dǎo)導(dǎo)軌引導(dǎo)。但是，在上述實(shí)施例中，包含引導(dǎo)機(jī)構(gòu)是可選擇的。另外，在上述實(shí)施例中，作為更優(yōu)選的實(shí)施例，存在設(shè)置凸部分35A和41A的情況。 但是，在上述實(shí)施例中，包含凸部分35A和4IA是可選擇的。根據(jù)示意性實(shí)施例的第一方面，提供有一種圖像形成設(shè)備，其包括記錄介質(zhì)盒， 所述記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元，所述圖像形成單元在記錄介質(zhì)上形成 圖像；饋送單元，所述饋送單元將儲(chǔ)存在記錄介質(zhì)盒中的記錄介質(zhì)饋送到圖像形成單元； 一對(duì)上框架，所述一對(duì)上框架被設(shè)置成在左右方向上彼此具有一定距離，并且從左右側(cè)支 撐設(shè)置在上框架之間的圖像形成單元和饋送單元；和一對(duì)下框架，所述一對(duì)下框架被設(shè)置 成在左右方向上彼此具有一定距離，所述記錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接在所述下框架之間形 成的空間中，所述上框架被分別地設(shè)置在所述下框架上，并且所述下框架具有小于所述上 框架的剛度的剛度，其中，假定記錄介質(zhì)盒在前后方向上的兩端中的一端，即當(dāng)記錄介質(zhì)盒 被附接在一對(duì)下框架之間時(shí)靠近饋送單元的一端被稱(chēng)為第一端，其的另一端，即當(dāng)記錄介 質(zhì)盒被附接在一對(duì)下框架之間時(shí)遠(yuǎn)離饋送單元的一端被稱(chēng)為第二端，當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接 在一對(duì)下框架之間時(shí)，位于第一端上的第一接觸部分在第一端上接觸第一部分，所述第一 部分在上下方向上相對(duì)于上框架的相對(duì)位置關(guān)系不改變，從而記錄介質(zhì)盒在上下方向上被 定位，位于第二端上的第二接觸部分在第二端上接觸第二部分，所述第二部分在上下方向 上相對(duì)于下框架的相對(duì)位置關(guān)系不改變，從而記錄介質(zhì)盒被定位在上下方向上。根據(jù)第一方面，饋送單元由上框架支撐。因此，即使由于剛度小于上框架的剛度的 下框架發(fā)生扭曲，上下框架之間的相對(duì)位置關(guān)系發(fā)生改變，與上框架一起裝配的饋送單元 和圖像形成單元之間的相對(duì)位置不發(fā)生改變。另外，位于靠近饋送單元的第一端上的第一接觸部與在上下方向上相對(duì)于上框架 的相對(duì)位置不發(fā)生改變的部分接觸，從而記錄介質(zhì)盒被定位在上下方向上。由于這個(gè)原因， 即使由于剛度小于上框架的剛度的下框架發(fā)生扭曲，上下框架之間的相對(duì)位置關(guān)系發(fā)生改 變，由于饋送單元和記錄介質(zhì)盒的第一端移位從而隨著上框架，所以饋送單元和記錄介質(zhì) 盒的第一端之間的相對(duì)位置不發(fā)現(xiàn)顯著變化。此外，設(shè)置在遠(yuǎn)離饋送單元的位置上的記錄介質(zhì)盒的第二端稍微移位從而隨著下 框架的變形。但是，由于這種位移發(fā)生在遠(yuǎn)離第一端的位置上，所以這種位移不會(huì)引起饋送 單元和記錄介質(zhì)盒的前端之間的相對(duì)位置發(fā)生顯著改變。因而，即使下框架發(fā)生扭曲，仍然能夠防止或者抑制在經(jīng)由饋送單元3從記錄介 質(zhì)盒到達(dá)圖像形成單元的傳送通道上產(chǎn)生大改變，從而由饋送單元饋送記錄介質(zhì)的精度不 會(huì)不利地受到影響。根據(jù)示意性實(shí)施例的第二方面，上框架由金屬組件形成且下框架由樹(shù)脂組件形 成，從而下框架的剛度小于上框架的剛度。根據(jù)第二方面，除了第一方面之外，通過(guò)改變上下框架的材料可以使下框架的剛 度被制成為小于上框架的剛度。因而，即使不設(shè)計(jì)下框架的每一部分的形狀使得下框架的 剛度變小，仍然能夠使下框架的剛度容易地消減。同時(shí)，除了第二方面之外，還存在設(shè)計(jì)下框架的每一部分的形狀從而使下框架的 剛度變小的結(jié)構(gòu)。因而，如果使用這種結(jié)構(gòu)，上下框架可以由相同的材料制成。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，除了第一或者第二方面之外，“在記錄介質(zhì)盒的第二端上從記錄介質(zhì)盒的一部分向下突出并且其在突出方向上的端部與下框架的一部分接觸的凸 部分”和“從下框架的一部分向上突出并且其在突出方向上的端部在記錄介質(zhì)盒的第二端 上與記錄介質(zhì)盒的一部分接觸的凸部分”中的一個(gè)或者兩個(gè)，其中，間隔被形成在記錄介質(zhì) 盒和凸部分在前后方向上的兩側(cè)上的下框架之間，從而記錄介質(zhì)盒被定位在上下方向上在 記錄介質(zhì)盒的第二端上的形成凸部分的部分上。根據(jù)第三方面，下框架和記錄介質(zhì)盒被定位在上下方向上在記錄介質(zhì)盒的第二端 上的形成凸部分的部分上。由于這個(gè)原因，與下框架和記錄介質(zhì)盒在寬于凸部分的區(qū)域中 彼此接觸時(shí)相比，易于預(yù)測(cè)到當(dāng)下框架發(fā)生扭曲時(shí)，記錄介質(zhì)盒和上框架之間的相對(duì)位置 關(guān)系如何發(fā)生改變。因而，基于預(yù)測(cè)，能夠充分利用記錄介質(zhì)盒和上框架之間的空隙。另外，間隔被形成在記錄介質(zhì)盒和凸部分在前后方向上的兩側(cè)上的下框架之間。 因此，與當(dāng)間隔未被形成并且下框架和記錄介質(zhì)盒在較寬的區(qū)域中彼此接觸時(shí)相比，能夠 減小記錄介質(zhì)盒和下框架之間的摩擦并且能夠容易地實(shí)施記錄介質(zhì)盒的附接或者拆卸。根據(jù)第四方面，除了第三方面之外，向下突出的一對(duì)腿部分被形成在各個(gè)下框架 的下端上在前后方向上彼此分開(kāi)的位置上，從而負(fù)荷被從上框架傳輸?shù)较驴蚣?，?fù)荷被從 上框架傳輸?shù)较驴蚣艿呢?fù)荷傳輸部分被形成在各個(gè)上框架的下端上位于在前后方向上一 對(duì)腿部分之間的位置上，并且假定負(fù)荷傳輸部分的位置被稱(chēng)為第一位置并且定位在比負(fù)荷 傳輸部分更靠近第二端的位置上的腿部分的位置被稱(chēng)為第二位置，凸部分被設(shè)置在前后方 向上第一和第二位置之間的范圍內(nèi)。如果負(fù)荷傳輸部分被形成在具有上述結(jié)構(gòu)的圖像形成裝置的第一位置上并且由 于從負(fù)荷傳輸部分施加的負(fù)荷下框架向下發(fā)生扭曲和變形，則上框架很容易地向下移動(dòng)從 而隨著第二位置上的下框架。因此，上下框架之間的相對(duì)位置關(guān)系在第一位置上不能顯著 地改變。另外，由于腿部分被形成在第二位置上，所以當(dāng)由于從上述負(fù)荷傳輸部分施加的 負(fù)荷下框架向下發(fā)生扭曲和變形時(shí)，下框架易于在比腿部分更靠近第二端的位置上繞著腿 部分向著上框架旋轉(zhuǎn)。但是，下框架在腿部分的第二位置上朝著上框架向上移動(dòng)。由于這 個(gè)原因，如果凸部分被形成在第二位置，則與凸部分形成在比第二位置更靠近第二端的位 置時(shí)相比，上下框架之間的相對(duì)位置關(guān)系不發(fā)生顯著地改變。因而，如果凸部分被定位在上述第一和第二位置之間的范圍內(nèi)，則當(dāng)由于從負(fù)荷 傳輸部分施加的負(fù)荷下框架發(fā)生扭曲和變形時(shí)，能夠抑制上框架和由下框架支撐在凸部分 的部分上的記錄介質(zhì)盒之間的相對(duì)位置關(guān)系的改變。根據(jù)第五方面，除了第三或者第四方面之外，下框架包括導(dǎo)軌，當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附 接在下框架對(duì)之間時(shí)，所述導(dǎo)軌用于將記錄介質(zhì)盒引導(dǎo)到預(yù)定接收位置，并且凸部分是“在 記錄介質(zhì)盒的第二端上從記錄介質(zhì)盒的一部分向下突出并且其在突出方向上的端部與導(dǎo) 軌接觸的凸部分”和“從軌道向上突出并且其在突出方向上的端部在記錄介質(zhì)盒的第二端 上與記錄介質(zhì)盒的一部分接觸的凸部分”中的一個(gè)或者兩個(gè)。根據(jù)具有上述結(jié)構(gòu)的圖像形成設(shè)備，凸部分被形成在導(dǎo)軌上或者在接觸導(dǎo)軌的部 分上。因而，間隔被形成在記錄介質(zhì)盒和凸部分在前后方向上的兩側(cè)上的導(dǎo)軌之間。由于這個(gè)原因，即使由于下框架發(fā)生扭曲導(dǎo)軌的位置或者形狀發(fā)生一定程度的改 變，這種變形仍然能夠被該間隔消減。因而，與記錄介質(zhì)盒在較寬的區(qū)域中與導(dǎo)軌相接觸的結(jié)構(gòu)相比，能夠更順暢地實(shí)施記錄介質(zhì)盒的附接或者拆卸。根據(jù)第六方面，提供一種圖像形成設(shè)備，該圖像形成設(shè)備包括記錄介質(zhì)盒，所述 記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元，所述圖像形成單元在記錄介質(zhì)上形成圖像； 饋送單元，所述饋送單元將儲(chǔ)存在記錄介質(zhì)盒中的記錄介質(zhì)饋送到圖像形成單元；上框架， 所述上框架支撐圖像形成單元和饋送單元；和下框架，記錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接在所述 下框架中，所述上框架被設(shè)置在所述下框架上，并且所述下框架具有小于上框架的剛度的 剛度，所述下框架包括導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌用于在記錄介質(zhì)盒被附接在下框架時(shí)，將記錄介質(zhì)盒 引導(dǎo)到預(yù)定的接收位置，其中，由所述上框架支撐的饋送單元具有沿著平行于水平方向的 方向形成的凹槽部分，所述記錄介質(zhì)盒具有當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接在下框架時(shí)適配在凹槽部 分中的第一凸部分，記錄介質(zhì)盒具有與下框架的導(dǎo)軌的部分接觸的第二凸部分。根據(jù)第七方面，除了第六方面之外，向下突出的腿部分被形成在第一位置上的下 框架上，從而負(fù)荷被從下框架傳輸?shù)酵炔糠?，?fù)荷被從上框架傳輸?shù)较驴蚣艿呢?fù)荷傳輸部 分在沿著平行于水平方向的方向腿部分和下框架的中心之間第二位置上被形成在于上框 架、，并且第二凸部分在平行于水平方向的方向上被定位在第一位置和第二位置之間的范 圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種圖像形成設(shè)備，其特征在于，包括 記錄介質(zhì)盒，所述記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元，所述圖像形成單元在所述記錄介質(zhì)上形成圖像； 饋送單元，所述饋送單元將儲(chǔ)存在所述記錄介質(zhì)盒中的所述記錄介質(zhì)饋送到所述圖像 形成單元；一對(duì)上框架，所述一對(duì)上框架被設(shè)置成在左右方向上彼此具有一定距離，并且從左右 側(cè)支撐設(shè)置在所述上框架之間的所述圖像形成單元和所述饋送單元；和一對(duì)下框架，所述一對(duì)下框架被設(shè)置成在所述左右方向上彼此具有一定距離，所述記 錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接在形成在所述下框架之間的空間中，所述上框架被分別地設(shè)置在 所述下框架上，并且所述下框架的剛度小于所述上框架的剛度， 其中假定所述記錄介質(zhì)盒在前后方向上的兩端中的一端，即在所述記錄介質(zhì)盒被附接在所 述一對(duì)下框架之間時(shí)靠近所述饋送單元的一端，被稱(chēng)為第一端，所述記錄介質(zhì)盒在所述前 后方向上的兩端中的另一端，即在所述記錄介質(zhì)盒被附接在所述一對(duì)下框架之間時(shí)遠(yuǎn)離所 述饋送單元的一端，被稱(chēng)為第二端，當(dāng)所述記錄介質(zhì)盒被附接在所述一對(duì)下框架之間時(shí)，位于所述第一端上的第一接觸部 分在所述第一端上接觸第一部分，所述第一部分在上下方向上相對(duì)于所述上框架的相對(duì)位 置關(guān)系不改變，使得所述記錄介質(zhì)盒在所述上下方向上被定位，并且位于所述第二端上的 第二接觸部分在所述第二端上接觸第二部分，所述第二部分在所述上下方向上相對(duì)于所述 下框架的相對(duì)位置關(guān)系不改變，使得所述記錄介質(zhì)盒在所述上下方向上被定位。
2.如權(quán)利要求1所述的圖像形成設(shè)備，其特征在于，所述上框架由金屬組件形成，所述下框架由樹(shù)脂組件形成，使得所述下框架的剛度小 于所述上框架的剛度。
3.如權(quán)利要求1所述的圖像形成設(shè)備，其特征在于，進(jìn)一步包括“在所述記錄介質(zhì)盒的所述第二端上從所述記錄介質(zhì)盒的一部分向下突出并且在突出 方向上的端部與所述下框架的一部分接觸的凸部分”和“從所述下框架的一部分向上突出 并且在突出方向上的端部在所述記錄介質(zhì)盒的所述第二端上與所述記錄介質(zhì)盒的一部分 接觸的凸部分”中的一個(gè)或者兩個(gè)， 其中間隔被形成在所述記錄介質(zhì)盒和所述凸部分在所述前后方向的兩側(cè)上的所述下框架 之間，使得所述記錄介質(zhì)盒在所述上下方向上在所述記錄介質(zhì)盒的所述第二端上被定位在 形成所述凸部分的部分上。
4.如權(quán)利要求3所述的圖像形成設(shè)備，其特征在于，向下突出的一對(duì)腿部分被形成在所述各個(gè)下框架的下端在前后方向上彼此遠(yuǎn)離，使得 負(fù)荷被從所述下框架傳輸?shù)剿鐾炔糠?，將?fù)荷從所述上框架傳輸?shù)剿鱿驴蚣艿呢?fù)荷傳輸部分被形成在所述各個(gè)上框架的 下端在前后方向上所述一對(duì)腿部分之間的位置上，并且假定所述負(fù)荷傳輸部分的位置被稱(chēng)為第一位置，比所述負(fù)荷傳輸部分更靠近所述第二 端的所述腿部分的位置被稱(chēng)為第二位置，則所述凸部分被設(shè)置在所述前后方向上位于所述第一位置和所述第二位置之間的范圍內(nèi)。
5.如權(quán)利要求3所述的圖像形成設(shè)備，其特征在于，所述下框架包括導(dǎo)軌，當(dāng)所述記錄介質(zhì)盒被附接在所述一對(duì)下框架之間時(shí)，所述導(dǎo)軌 用于將所述記錄介質(zhì)盒引導(dǎo)到預(yù)定的接收位置，和所述凸部分是“在所述記錄介質(zhì)盒的所述第二端上從所述記錄介質(zhì)盒的一部分向下突 出并且在突出方向上的端部與所述導(dǎo)軌接觸的凸部分”和“從所述導(dǎo)軌向上突出并且在突 出方向上的端部在所述記錄介質(zhì)盒的所述第二端上與所述記錄介質(zhì)盒的一部分接觸的凸 部分”中的一個(gè)或者兩個(gè)。
6.一種圖像形成設(shè)備，其特征在于，包括記錄介質(zhì)盒，所述記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元，所述圖像形成單元在所述記錄介質(zhì)上形成圖像；饋送單元，所述饋送單元將儲(chǔ)存在所述記錄介質(zhì)盒中的所述記錄介質(zhì)饋送到所述圖像 形成單元；上框架，所述上框架支撐所述圖像形成單元和所述饋送單元；和下框架，所述記錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接在所述下框架中，所述上框架被設(shè)置在所述 下框架上，并且所述下框架的剛度小于所述上框架的剛度，所述下框架包括導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌 用于在所述記錄介質(zhì)盒被附接在所述下框架時(shí)，將所述記錄介質(zhì)盒引導(dǎo)到預(yù)定的接收位 置，其中由所述上框架支撐的所述饋送單元具有沿著平行于水平方向的方向形成的凹槽部分，所述記錄介質(zhì)盒具有當(dāng)所述記錄介質(zhì)盒被附接在所述下框架時(shí)適配在所述凹槽部分 中的第一凸部分，所述記錄介質(zhì)盒具有與所述下框架的所述導(dǎo)軌的部分接觸的第二凸部 分。
7.如權(quán)利要求6所述的圖像形成設(shè)備，其特征在于，向下突出的腿部分在第一位置上被形成在所述下框架上，使得負(fù)荷被從所述下框架傳 輸?shù)剿鐾炔糠?，將?fù)荷從所述上框架傳輸?shù)剿鱿驴蚣艿呢?fù)荷傳輸部分在第二位置上被形成在所述 上框架上，所述第二位置位于所述腿部分和所述下框架沿著平行于所述水平方向的方向的 中心之間，和所述第二凸部分在平行于所述水平方向的方向上被定位在所述第一位置和所述第二 位置之間的范圍內(nèi)。
全文摘要
一種圖像形成設(shè)備包括記錄介質(zhì)盒，所述記錄介質(zhì)盒用于儲(chǔ)存記錄介質(zhì)；圖像形成單元；饋送單元；一對(duì)上框架，所述一對(duì)上框架支撐圖像形成單元和饋送單元；和下框架，記錄介質(zhì)盒被可拆卸地附接在下框架中，上框架被設(shè)置在下框架上，并且下框架具有小于上框架的剛度的剛度，所述下框架包括導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌用于在記錄介質(zhì)盒被附接在下框架時(shí)，將記錄介質(zhì)盒引導(dǎo)到預(yù)定的接收位置，其中，饋送單元具有沿著平行于水平方向的方向形成的凹槽部分，記錄介質(zhì)盒具有當(dāng)記錄介質(zhì)盒被附接在下框架時(shí)適配在凹槽部分中的第一凸部分，記錄介質(zhì)盒具有與下框架的導(dǎo)軌的部分接觸的第二凸部分。
文檔編號(hào)G03G21/16GK102081320SQ20101053396
公開(kāi)日2011年6月1日 申請(qǐng)日期2010年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者近藤博大 申請(qǐng)人:兄弟工業(yè)株式會(huì)社