專利名稱：包括具有光漫射模式塊的子光柵的光柵的制作方法
包括具有光漫射模式塊的子光柵的光柵本發(fā)明涉及用于建筑物的裝配玻璃(vitrage)領(lǐng)域，其包括能夠在希望的方向上將來自外部的光重新定向到內(nèi)部、通常重新定向到天花板的元件。當是希望偏轉(zhuǎn)的可見日光時，這種類型的裝配玻璃通常稱為“采光(Daylighting)”。由于外部光在室內(nèi)更有效地被利用，這使得減少人工照明成為可能這一事實，這種類型的裝配玻璃通常被認為有助于節(jié)能。US5009484教導了在其表面上包括衍射光柵的裝配玻璃，所述衍射光柵由凸起的平行線組成。該文獻教導了光柵通常引起光衍射，導致顏色的分開。該效應不一定是所希望的。為了限制該現(xiàn)象的程度，該文獻推薦(參見其圖3)對于三種基色中的每一種豎直地并置三個連續(xù)的光柵，這三種顏色的出現(xiàn)的光束必須在天花板處再次混合以重新形成無色的被照射區(qū)帶。這三個連續(xù)的光柵具有不同的周期性，其以單調(diào)的方式依照精確的順序變化。該文獻也教導了這三個連續(xù)的光柵可以由單個光柵代替，所述單個光柵的周期性以單調(diào)的方式從該單個光柵的一端到另一端變化。該專利教導的解決方案在小程度上起作用， 但是并不阻止所有虹色形成。而且，在該文獻中，漫射模式是傾斜的，可能地是可變的，并且具有可變的深度，這使得工業(yè)上在大的區(qū)域上以低成本生產(chǎn)它們是非常困難的。專利申請PCT/FR2008/050677教導了一種在其表面處具有線光柵的透明基體，所述線光柵具有至少200個光漫射模式，所述模式(motif)由折射率與模式的折射率不同的區(qū)帶分開，相鄰模式的重心之間的距離d以非單調(diào)的方式從光柵的一個邊緣到另一個邊緣變化，從而對于50個連續(xù)模式的任何組，所述組的相鄰模式的重心之間的距離d比所述組的相鄰模式的重心之間的距離d的平均距離dm至少大一次以及至少小一次，dm位于75nm 與200Mm之間。該基體在直視下是透明的，并且在采光應用中以很少的虹色效應在漫射光的同時對光重新定向。專利申請PCT/FR2008/050678教導了一種在其表面處具有光漫射組件的透明基體，所述光漫射組件包括至少10個并置的模式平行線子光柵，所述模式由折射率與模式的折射率不同的區(qū)帶分開，每個子光柵包括周期為P的以等距重復的至少20個連續(xù)的相同模式，所述周期以單調(diào)的方式從子光柵的組件的一個邊緣到另一個邊緣變化。該基體在采光應用中以很少的虹色重新定向光。盡管上述兩篇國際申請已經(jīng)通過減少利用光柵獲得的虹色效應而獲得了顯著的改進，但是本申請?zhí)峁┝撕缟?換言之，投射光(通常到天花板)區(qū)域中的彩色外觀)的更進一步的減少。本發(fā)明涉及一種表面光柵，其限制光的各種顏色的表觀分離并且導致具有與入射光基本上相同的顯色的照明，而沒有偏轉(zhuǎn)光的顯著的表觀虹色(通常在天花板上)。因此，如果入射光對于肉眼是基本上無色的，那么該出現(xiàn)的光也是無色的。希望的是，利用光柵的單階(通常，光柵的1階)偏轉(zhuǎn)光，因為否則的話，這將產(chǎn)生各種分開的照明區(qū)帶(到天花板，如果光投射到天花板的話)，一些區(qū)帶不會明智地被放置，而且這可能是無吸引力的。依照本發(fā)明的基體是透明的，這意味著有可能透過它清楚地觀看，無論觀察者的視角如何。光的一部分被基體重新定向(即偏轉(zhuǎn))。光柵漫射所述光柵所偏轉(zhuǎn)的光。如果光的入射角定義為基體的垂線與光的方向之間的角度，那么重新定向的光為全部透射光(穿過基體)的10至50%，對于入射角大于30°的光而言，尤其如此。因此，本發(fā)明對于為房屋裝備裝配玻璃(豎直地放置)表現(xiàn)出更大的有用性，所述房屋座落于地球緯度，使得在一年期間太陽的光線可以至少部分地與地平線形成大于30°的入射角。依照本發(fā)明，在透明基體的表面上在與所述表面平行的方向上產(chǎn)生漫射光的光柵，該光柵包括模式的平行線的子光柵，所述子光柵彼此靠近地或者甚至以并置的方式放置在相同的平面內(nèi)，使得光柵的模式的所有線彼此平行。依照本發(fā)明的透明基體在其表面處具有由折射率與模式的折射率不同的區(qū)帶分開的模式的平行線的光柵，所述光柵漫射光并且包括至少4個子光柵，每個子光柵包括模式的平行線，所述模式由折射率與模式的折射率不同的區(qū)帶分開，所述子光柵中的每一個包括多個(其意味著至少2個)寬度為L的相同模式的塊，每個塊包括2至10個所述模式， 塊內(nèi)相鄰模式的重心對于所考慮的和所考慮的子光柵特有的塊按照恒定周期P分開，相鄰塊之間的距離Db在從子光柵的一個邊緣到相同子光柵的另一邊緣通過時以非單調(diào)的方式變化，同時大于0乘L并且小于20乘L，并且從而它比1. 2Dbm至少大一次且比0. 7Dbm至少小一次，Dbffl為子光柵的塊之間的距離的算術(shù)平均值，并且周期ρ在從光柵的一個邊緣到另一個邊緣通過時在0. 5 1 與1. 5 111之間以非單調(diào)的方式從一個子光柵到另一個子光柵變化， Pffl為子光柵特有的周期P的算術(shù)平均值，并且從而至少一個子光柵具有大于1. 2Pm的周期且至少一個子光柵具有小于0. Spffl的周期。依照本發(fā)明的子光柵必然包含上面給定含義內(nèi)的塊。如果依照本發(fā)明的光柵從其邊緣之一橫穿到另一邊緣，那么具有塊的第一子光柵開始于其第一塊的第一模式的起始(其也相應于第一塊的開始)并且結(jié)束于其最后的塊的最后模式的末端(其也相應于最后的塊的末端)。有可能具有不屬于在相同子光柵的兩個塊之間的塊的模式。然而，子光柵的模式的至少80%和優(yōu)選地至少90%以及甚至100%形成塊的部分。優(yōu)選地，依照本發(fā)明的光柵的模式的至少80%和優(yōu)選地至少90%以及甚至100%形成塊的部分(以及因而也形成子光柵的部分)。每個子光柵包含至少4個塊以及優(yōu)選地100 至5000個塊。有可能具有不屬于在依照本發(fā)明的光柵的每個子光柵之間的子光柵的模式。 然而，依照本發(fā)明的光柵的模式的至少80%和優(yōu)選地至少90%以及甚至100%形成子光柵的部分。子光柵可以通過沒有模式的區(qū)帶隔開。然而，在依照本發(fā)明的光柵中，兩個相鄰模式 (屬于或不屬于塊，屬于或不屬于子光柵)按照這些相鄰模式的最寬模式的寬度的不到20倍以及不到5倍(從重心到重心)分開。依照本發(fā)明的光柵通常包括超過10個子光柵。通常包括不到1000個子光柵。從光柵的一個邊緣到另一個邊緣，子光柵特有的周期ρ以非單調(diào)的方式變化。以絕對值的方式，該周期P位于IOOnm與20 μ m之間。它在0. 5 111與1. 5Pm之間的區(qū)帶內(nèi)變化， Pm為子光柵特有的周期P的算術(shù)平均值。它以非單調(diào)的方式變化，使得至少一個子光柵具有大于或等于1. 2Pm的的周期并且至少一個子光柵具有小于0. Spffl的周期。術(shù)語“非單調(diào)” 意味著當從光柵的一個邊緣到另一個邊緣時，該周期不只是增加或減少。相反地，當從光柵的一個邊緣到另一個邊緣通過時，該距離P從最高值到最低值交變。優(yōu)選地，子光柵的超過 25%具有大于1. 2Pm的周期ρ。優(yōu)選地，子光柵的超過25%具有小于0. Spffl的周期ρ。在本申請的上下文中，漫射的概念適用于偏轉(zhuǎn)光并且涉及整個光柵，包括所有子光柵。依照本發(fā)明，光柵在透明基體的表面上并且在平行于所述表面的方向上產(chǎn)生，包括通過折射率為Rl的基本線性模式由折射率為R2的線性基本區(qū)帶分開而形成的至少兩個折射率Rl和R2的交替，所述模式和區(qū)帶幾何上彼此互補。這些模式和區(qū)帶幾何上是互補的，因為它們是交錯的。這就是為什么僅僅折射率為Rl的模式的幾何形狀的定義就足夠的原因，因為折射率為R2的區(qū)帶填充位于模式之間的所有空間。模式的幾何形狀特別地通過其平行于基體的寬度L、通過相鄰模式的重心之間的距離以及通過它們的深度h來定義。依照本發(fā)明，光柵包含許多具有數(shù)量至少為4個的平行模式的子光柵(這種平行性適用于子光柵內(nèi)、而且從一個子光柵到另一個子光柵的模式)。將不同的子光柵放置在光柵中以致于相對于周期性被散布，以便混合不同的出現(xiàn)的輻射并且更成功地達到?jīng)]有特別的顯色的中性照明。相鄰塊之間的距離被理解為表示這些塊之一的最后模式與另一個塊的第一模式之間的距離(參見圖3上的Db)。依照本發(fā)明，子光柵內(nèi)相鄰塊之間的距離以非單調(diào)的方式變化，同時大于0乘L且小于20乘L，L為模式的塊的寬度，并且它至少一次大于1. 2Dbm且至少一次小于0. 7Dbm，Dbffl為子光柵的塊之間的距離的算術(shù)平均值。優(yōu)選地，相鄰塊之間的距離的超過25%大于1. 2Dbm。優(yōu)選地，相鄰塊之間的距離的超過25%小于0. 7Dbm。在子光柵中，相同的并置模式形成2至10個模式以及優(yōu)選地2至5個模式的塊。 塊由模式之間的相同距離表征，該距離從一個重心到另一個重心計算。當從塊開始時，模式之間的距離一改變，此即離開塊之時。優(yōu)選地，子光柵的模式的至少80%和甚至至少90%以及甚至100%形成塊的部分。塊包含至少兩個模式以及這兩個模式之間的間隔。η個模式的塊包含η-1個間隔。子光柵包含至少4個相同的塊?？紤]塊的這個概念，可以說子光柵的結(jié)構(gòu)是局部地組織的。子光柵中以及優(yōu)選地整個網(wǎng)絡中該局部組織以及特別地寬度L的恒定特征的效果是直視中沒有漫射的透明性。 透明基體被定義為物體通過其不顯得模糊的基體。依照本發(fā)明的光柵通常包含總共超過100000個模式，更一般地超過1000000個模式。子光柵中相鄰模式之間的距離大約為希望偏轉(zhuǎn)的輻射的波長。應當回顧的是，光輻射具有基本上以下波長。紫外線150至 400nm 可見光400至800nm 紅外線800nm至100 μ m
在依照本發(fā)明的整個光柵中，相鄰模式之間(其等效于“相鄰模式的重心之間”)的距離通常在75nm與200 μ m之間，并且更一般地在IOOnm與20 μ m之間。如果是希望偏轉(zhuǎn)的可見光，那么pm優(yōu)選地在范圍200至600nm內(nèi)以及優(yōu)選地在范圍300至500nm內(nèi)選擇。為了偏轉(zhuǎn)可見光，Pm優(yōu)選地大于或等于200nm并且甚至大于或等于300nm。為了偏轉(zhuǎn)可見光，pm優(yōu)選地小于或等于600nm并且甚至小于500nm，并且甚至更優(yōu)選地小于或等于450nm。如果Pm太高，特別是高于500nm，那么未偏轉(zhuǎn)的透射光不那么強烈，而且使得光柵的更高階顯現(xiàn)，這意味著光在若干位置被偏轉(zhuǎn)。盡管沒有排除模式是傾斜的，但是模式通常是不傾斜的(本領(lǐng)域技術(shù)人員說成是來自英文詞“閃耀的(blazed)”)，即關(guān)于基體的穿過模式重心的垂線對稱。模式的寬度L被定義為在其重心區(qū)域內(nèi)的其寬度。模式通常是平行六面體。在實踐中，這個世界上沒有完美的物，這些平行六面體可以具有其或多或少圓整的棱角(凹的和凸的)。優(yōu)選地，對于整個光柵而言，L是恒定的或者基本上恒定的。然而，L可以圍繞平均值Lm (算術(shù)平均值)變化，該變化小于Lm的25%。寬度L因此可以在0. 75Lm與1. 25Lm之間變化。L在光柵內(nèi)變化越大，則這在直視下的透明性方面損失越大。通常，L位于0.2乘周期P與0. 8乘周期ρ之間，并且優(yōu)選地從0. 4乘周期ρ擴展到0. 6乘周期ρ。通常，模式的深度h對于整個光柵而言是恒定的。通常，模式的寬度L與深度h之比在從0. 2到5以及優(yōu)選地從0. 4到2擴展的范圍內(nèi)選擇。通常，模式的寬度L與深度h 之比對于整個光柵而言是恒定的。如果沿穿過模式重心的平行于基體的線而行，那么連續(xù)地通過模式的折射率Rl 與模式之間的區(qū)帶的折射率R2。特別地，模式可以是玻璃的并且區(qū)帶可以是空氣。這是當模式作為玻璃基體表面的玻璃突起而產(chǎn)生時的情況。周圍空氣填充模式之間的空間并且這自然地構(gòu)成區(qū)帶。在這種情況下，折射率Rl為玻璃的折射率，例如1. 5，并且折射率R2為空氣的折射率，即1。在這種情況下(玻璃/空氣交替)，在基體表面上以浮雕產(chǎn)生模式。然而，從模式到區(qū)帶的通道可以對應于不與浮雕部分相應的折射率的修改。事實上，可以存在兩種不同的交錯的材料，使得表面觸摸起來是平滑的。特別地，有可能通過離子交換技術(shù)或者基于光折射和電光效應的那些技術(shù)產(chǎn)生材料的這種交替。相同光柵內(nèi)的所有模式通常具有相同的折射率并且所有區(qū)帶通常具有相同的折射率。模式和區(qū)帶的折射率可以從1擴展到2. 2。通常，模式可以讓其折射率從1. 1擴展到 1. 8。通常區(qū)帶可以讓其折射率從1擴展到1. 5。所述兩個折射率(模式的折射率和區(qū)帶的折射率)之間的差通?？梢晕挥?. 02與 1. 5之間。通常，如果區(qū)帶為空氣，那么模式具有大于區(qū)帶的折射率的折射率。關(guān)于實質(zhì)上建筑物的裝配玻璃安裝，選擇構(gòu)成所述裝配玻璃(基體，可能地施加到所述基體的部分)的具有足夠透明性的材料。特別地，依照本發(fā)明的光柵可以通過直接壓印在塑料膜(PET、PMMA、聚碳酸酯)上制成。也可以壓印例如丙烯酸的薄層并且將其施加到 PET膜。然后，將該膜粘附到玻璃基體或者插入到兩個玻璃片之間。特別地，依照本發(fā)明的光柵應用于采光。在這種情況下，它通常被置于豎直的裝配玻璃上，使得模式線是水平的。光柵通常在裝配玻璃的整個寬度上并且通常在裝配玻璃的上面部分中通常占據(jù)至少IOcm的高度并且更一般地占據(jù)裝配玻璃的至少20cm的高度。依照本發(fā)明的光柵通?？梢酝ㄟ^以下技術(shù)產(chǎn)生壓印、光刻、轉(zhuǎn)印(transfert)、 離子交換、光折射效應或電光效應。第一方法包括壓印施加到特別地由玻璃制成的透明片(基體)的溶膠-凝膠或者聚合物層。壓印是通過與結(jié)構(gòu)化元件接觸產(chǎn)生的塑性或粘塑性變形，所述結(jié)構(gòu)化元件包括例如滾筒并且在其上同時施加壓力?？梢允褂玫娜苣z-凝膠層通常為例如溶解在水-酒精混合物中的諸如Si02、Al2O3, TiO2之類的無機氧化物的前體的液層。這些層在利用或者不利用輔助加熱裝置的情況下干燥時硬化。可以提及SiO2前體、四乙氧基硅烷(TEOS)或者甲基三乙氧基硅烷(MTE0S)。有機官能團可以包含在這些前體以及最后獲得的硅石中。作為示例，在EP799873中描述了用于獲得疏水涂層的氟化硅烷。也可以在諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)， 聚苯乙烯，
聚丙烯酸酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸、聚2-羥乙基甲基丙烯酸酯及其聚合物，
聚環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯聚氨酯(甲基)丙烯酸酯聚酰亞胺，例如聚乙基戊二酰亞胺， 聚硅氧烷，例如聚環(huán)氧硅氧烷， 聚乙烯醚，
聚雙苯并環(huán)丁烯等等
的聚合物層上單獨地或者以共聚物或這些中的若干的混合物的方式產(chǎn)生壓印。在一些情況下，壓印之后可以是蝕刻。可以侵蝕壓印的溶膠-凝膠或者聚合物層， 直到下面的透明片的材料首先在所述浮雕模式的深部重新出現(xiàn)，然后逐漸地到其上面的部分。因此，在蝕刻結(jié)束時獲得的或多或少不規(guī)則的表面可以完全在溶膠-凝膠或聚合物層中形成，或者部分地在其中形成，以及部分地在所述透明片中形成或者完全在后者中形成。 應當調(diào)整蝕刻條件，使得該得到的表面具有凸起的模式，其中尺寸滿足本發(fā)明設備的限定。作為蝕刻方法，可以提及 特別地通過酸的化學蝕刻，
反應離子蝕刻(Reactive Ion (Beam) Etching (反應離子(束)蝕刻)=RI (B) E)， 等離子體蝕刻(感應耦合等離子體=ICP)。應當指出的是，所述壓印方法使得以適度的成本處理相對巨大的區(qū)域成為可能。產(chǎn)生依照本發(fā)明的光柵的另一種可能的方法包括光刻。該方法通常包括首先向透明基體提供其中可以形成所述浮雕模式的第一層。該第一層相應于壓印方法的所施加的溶膠-凝膠或聚合物層。也可能與其具有相同的性質(zhì)，尤其是由硅石制成。在該方法的第二步驟中，沉積光敏樹脂的第二涂層。其在限定的位置通過暴露于目標輻射而硬化。在去除光敏樹脂的未硬化部分之后，通過這種方式在要蝕刻的第一層上方產(chǎn)生掩膜。然后，以與通過壓印的方法的替換方案有關(guān)的上面所述的相同方式執(zhí)行蝕刻?？梢匀コ饷魳渲娜魏螝埩粑铩Ａ硪环N產(chǎn)生依照本發(fā)明的光柵的方法包括轉(zhuǎn)印納米結(jié)構(gòu)層。使得粘附到第一支撐物的層粘附到第二支撐物，以便構(gòu)成依照本發(fā)明的設備。該層可以由塑料等制成。可以使用的另一種方法依賴于離子交換，例如無機玻璃中Na+離子通過Ag+離子的離子交換。最后，可以使用光折射效應，依照該效應，調(diào)制光引起材料(例如由鈦酸鋇制成的光折射晶體)的折射率的空間調(diào)制。同樣可能的是，使用電光效應，依照該效應，電場引起材料的折射率的空間調(diào)制。

圖1示出可以豎直安裝在建筑物的窗戶上的由無機玻璃制成的裝配玻璃1。裝配玻璃的上面部分備有依照本發(fā)明的由12個子光柵組成的光柵2。這些子光柵由不同的圖形紋理表示，所述圖形紋理并不代表實際的表面模式。所有子光柵均具有光柵的整個寬度并且它們的尺寸在高度方面變化。將看出的是，子光柵在相同的平面內(nèi)一個在另一個上地并置在光柵邊緣A與光柵邊緣A’之間的光柵表面上。它包含純定性的表示，以便示出子光柵相對于彼此在光柵上的位置。圖2示出了與基體4的表面上的模式3相同的4個模式的塊(在垂直于基體且垂直于模式線的截面內(nèi)觀看)。模式3的重心在5中。這些模式是平行六面體類型的并且具有寬度L和深度h。塊內(nèi)相鄰模式的重心按照恒定距離ρ分開。塊具有由6表示的寬度。如果沿平行于基體穿過模式重心的線BB’而行，那么連續(xù)地通過模式的折射率Rl以及模式之間的區(qū)帶的折射率R2。圖3示出了基體7的表面上兩個子光柵SRl和SR2之間的過渡區(qū)帶。看出子光柵 SRl的三個塊8、9、10事實上是相同的。另一方面，相鄰塊之間(以及因而相鄰塊的重心之間)的距離變化。將看出子光柵SR2的三個塊11、12、13彼此相同。在這里，同樣地，相鄰塊的重心之間的距離變化。作為針對子光柵SR2的兩個塊的示例，所理解的是相鄰塊之間的距離由Db表示。
權(quán)利要求
1.一種透明基體，在其表面處具有由折射率與模式的折射率不同的區(qū)帶分開的模式的平行線的光柵，所述光柵漫射光并且包括至少4個子光柵，每個子光柵包括多個寬度為L的相同模式的塊，每個塊包括2至10個所述模式，塊內(nèi)相鄰模式的重心按照恒定周期P分開，相鄰塊之間的距離Db在從子光柵的一個邊緣到所述子光柵的另一邊緣通過時以非單調(diào)的方式變化，同時大于0乘L并且小于20乘L，并且從而該距離比1. 2Dbm 至少大一次且比0. 7Dbm至少小一次，Dbffl為子光柵的塊之間的距離的算術(shù)平均值，并且周期P在從光柵的一個邊緣到另一個邊緣通過時在0. 5Pm與1. 5Pm之間以非單調(diào)的方式從一個子光柵到另一個子光柵變化，Pm為子光柵特有的周期P的算術(shù)平均值，并且從而至少一個子光柵具有大于1. 2Pm的周期且至少一個子光柵具有小于0. Spffl的周期。
2.如前述權(quán)利要求所述的基體，其特征在于，子光柵的模式的至少80%以及優(yōu)選地至少90%形成塊的部分。
3.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，所述光柵的模式的至少80%以及優(yōu)選地至少90%形成塊的部分。
4.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，每個子光柵包含至少4個塊。
5.如前述權(quán)利要求所述的基體，其特征在于，每個子光柵包含100至5000個塊。
6.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，所述光柵包括10和1000個之間的子光柵。
7.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，子光柵的超過25%具有大于1.2pm 的周期P，并且子光柵的超過25%具有小于0. Spffl的周期P。
8.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，子光柵內(nèi)相鄰塊之間的距離的超過 25%大于1. 2Dbm，并且相鄰塊之間的距離的超過25%小于0. 7Dbm。
9.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，子光柵內(nèi)的任何塊包含2至10個模式以及優(yōu)選地2至5個模式。
10.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，相鄰模式的重心之間的距離位于 IOOnm 與 20 μ m 之間。
11.如前述權(quán)利要求之一所述的基體，其特征在于，對于所有子光柵而言，Pm位于 300nm 與 500nm 之間。
12.—種窗戶，包括前述權(quán)利要求之一的基體。
13.一種建筑物，具有如前述權(quán)利要求所述的窗戶，所述窗戶是豎直的并且暴露于陽光。
14.如前述權(quán)利要求所述的建筑物，其特征在于，該建筑物座落于地球緯度，使得在一年期間太陽的光線可以至少部分地與地平線形成大于30°的入射角。
15.前述基體權(quán)利要求之一的基體的用途，用于將陽光向天花板重新定向。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種透明基體，所述透明基體在其表面上包括由折射率與模式的折射率不同的區(qū)帶分開的模式的平行線的光柵，所述光柵漫射光并且包括至少4個子光柵，每個子光柵包括多個寬度為L的相同模式的塊，每個塊包括2至10個所述模式，其中塊內(nèi)相鄰模式的重心按照恒定周期p分開，相鄰塊之間的距離Db從子光柵的一個邊緣到所述子光柵的另一邊緣以非單調(diào)的方式變化，大于0乘L并且小于20乘L，并且至少一次大于1.2Dbm且比至少一次小于0.7Dbm，Dbm為子光柵的塊之間的距離的算術(shù)平均值，并且其中周期p在從光柵的一個邊緣到另一個邊緣時在0.5pm與1.5pm之間從一個子光柵到另一個子光柵變化，pm為子光柵特有的周期p的算術(shù)平均值，使得至少一個子光柵具有大于1.2pm的周期且至少一個子光柵具有小于0.8pm的周期。該基體可以被用于建筑物的窗戶上用來將陽光向天花板重新定向。
文檔編號G02B5/18GK102203644SQ200980143967
公開日2011年9月28日 申請日期2009年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月4日
發(fā)明者G·勒康, M·扎蘭特-福雷斯蒂 申請人:法國圣戈班玻璃廠