專利名稱：多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于有機(jī)光導(dǎo)體的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種有機(jī)光導(dǎo)體的多層結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
有機(jī)光導(dǎo)體是復(fù)印機(jī)、激光打印機(jī)、激光傳真機(jī)及及多功能數(shù)碼一體機(jī)等現(xiàn)代辦 公設(shè)備中的核心部件，主要用于實(shí)現(xiàn)光用轉(zhuǎn)換及成像技術(shù)。 有機(jī)光導(dǎo)體也稱為有機(jī)光導(dǎo)鼓，其結(jié)構(gòu)主要由導(dǎo)電基體，及由里向外依次覆蓋在 導(dǎo)電基體表面的電荷阻擋層、電荷生成層及電荷傳輸層組成，基體一般采用鋁、鋁合金等導(dǎo) 電材料制成。而傳統(tǒng)的電荷阻擋層要么由單一的氧化層組成，其缺點(diǎn)是工藝要求苛刻、制 作麻煩、成品率低、成本高，影象質(zhì)量不穩(wěn)定；要么是由單一的含有高分子材料的涂覆層組 成，其缺點(diǎn)是產(chǎn)品壽命低、容易被擊穿、耐候性差。而且在電荷阻擋層與電荷生成層、電荷 生成層與電荷傳輸層之間的界面均為平面的交界面，這種界面結(jié)構(gòu)的缺點(diǎn)是界面結(jié)合力 弱，在使用過程中容易剝離，容易產(chǎn)生干涉圖案，影響印品輸出質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種能提高電荷阻擋層抗擊穿能力，通過簡(jiǎn)化產(chǎn)品生
產(chǎn)工藝，降低生產(chǎn)成本，且能提高產(chǎn)品合格率的多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體。 本實(shí)用新型的進(jìn)一步目的在于提供一種能減少入射光的衍射，提高漫反射效果，
從而提高影像質(zhì)量，防止干涉影像的出現(xiàn)；且能提高涂層之間的結(jié)合力和相溶性的多層結(jié)
構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體。 為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的，一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，包括導(dǎo)電基體，以及由里 向外依次覆蓋在導(dǎo)電基體表面的電荷阻擋層、電荷生成層和電荷傳輸層，所述的電荷阻擋 層是由導(dǎo)電基體表面的氧化層和含高分子材料的涂覆層復(fù)合而成，與涂覆層相鄰的氧化層 內(nèi)帶有大量微孔結(jié)構(gòu)。 為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的進(jìn)一步目的，一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體還包括在所述氧 化層與涂覆層之間的界面、涂覆層與電荷生成層之間的界面、電荷生成層與電荷傳輸層之 間的界面中至少有一個(gè)界面上帶有波紋狀結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面上設(shè)置有波紋狀結(jié)構(gòu)，而涂覆層與電荷生 成層之間的界面、電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層與電荷生成層之間
的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層與電荷生成層之間
的界面上為平面結(jié)構(gòu)，電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，涂覆層與電荷生成層之
間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，涂覆層與電荷生成層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層與電荷生成層之間
的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)； 所述的表面氧化層與涂覆層之間的界面、涂覆層與電荷生成層之間的界面、電荷
生成層與電荷傳輸層之間的界面上均為波紋狀結(jié)構(gòu)； 所述復(fù)合的電荷阻擋層厚度在1-20微米之間，其中的氧化層厚度在0. 5-16微米 之間； 所述復(fù)合的電荷阻擋層厚度最好在l-10微米之間，其中氧化層的厚度在0. 5-4微 米之間； 本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是該光導(dǎo)體生產(chǎn)工藝較簡(jiǎn)單，工藝控制方便，產(chǎn)品性能穩(wěn)定， 合格率較高；采用該光導(dǎo)體后輸出的印品質(zhì)量好，使用壽命長(zhǎng)，綜合成本較低。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體作進(jìn)一步的詳細(xì)說明

圖1為本實(shí)用新型一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為第二種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的剖示結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為第三種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的剖示結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為第四種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的剖示結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為第五種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的剖示結(jié)構(gòu)示意圖； 圖6為第六種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的剖示結(jié)構(gòu)示意圖； 圖7為第七種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體的剖示結(jié)構(gòu)示意圖； 圖中1、導(dǎo)電基體，2、電荷阻擋層，21、氧化層，22、涂覆層，3、電荷生成層，4、電荷 傳輸層，5、微孔結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施方式如圖1所示，一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，包括導(dǎo)電基體1，以及由里向外依次覆 蓋在導(dǎo)電基體1表面的電荷阻擋層2、電荷生成層3和電荷傳輸層4，電荷阻擋層2是由導(dǎo) 電基體1表面的氧化層21和含高分子材料的涂覆層22復(fù)合而成，與涂覆層22相鄰的氧化 層21內(nèi)帶有大量微孔結(jié)構(gòu)。這些微孔結(jié)構(gòu)的孔徑大小不一，呈不規(guī)則的狀分布在氣化層21 內(nèi)。如果在氧化層21的表面不涂覆高分子材料層，則對(duì)氧化層21內(nèi)的微孔結(jié)構(gòu)要求會(huì)很 高，要求孔徑大小盡量小且趨于一致，因此，這種氧化層的生產(chǎn)成本較高，且質(zhì)量難于控制。 如圖1到7所示，在氧化層21與涂覆層22之間的界面、涂覆層22與電荷生成層3 之間的界面、電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面中至少有一個(gè)界面上帶有波紋狀結(jié) 構(gòu)，這種波紋狀結(jié)構(gòu)可以提高入射光在此的漫反射效果，防止影像的干涉，提高影像質(zhì)量， 且波紋狀的結(jié)合面可提高上述各層與層之間的結(jié)合力，進(jìn)一步確保產(chǎn)品的質(zhì)量。 如圖1所示，在所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面上設(shè)置有波紋狀結(jié) 構(gòu)，涂覆層22與電荷生成層3之間的界面、電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面上為 平面結(jié)構(gòu)。 如圖2所示，所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層22與電荷生成層3之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面 上為平面結(jié)構(gòu)。 如圖3所示，所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層 22與電荷生成層3之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面上 為波紋狀結(jié)構(gòu)。 如圖4所示，所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，涂覆 層22與電荷生成層3之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界 面上為平面結(jié)構(gòu)。 如圖5所示，所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，涂覆 層22與電荷生成層3之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面 上為波紋狀結(jié)構(gòu)。 如圖6所示，所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層 22與電荷生成層3之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面 上為波紋狀結(jié)構(gòu)。 如圖7所示，所述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面、涂覆層22與電荷生
成層3之間的界面、電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面上均為波紋狀結(jié)構(gòu)。 另外，上述的表面氧化層21與涂覆層22之間的界面、涂覆層22與電荷生成層3
之間的界面、電荷生成層3與電荷傳輸層4之間的界面上也可全部采用平面結(jié)構(gòu)。 在上述的各實(shí)施例中，所述復(fù)合的電荷阻擋層2厚度在1-20微米之間，其中的氧
化層21厚度在0. 5-16微米之間；但如果要達(dá)到更佳效果，則所述所述復(fù)合的電荷阻擋層厚
度最好在1-10微米之間，其中氧化層21的厚度在0. 5-4微米之間。
權(quán)利要求一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，包括導(dǎo)電基體(1)，以及由里向外依次覆蓋在導(dǎo)電基體(1)表面的電荷阻擋層(2)、電荷生成層(3)和電荷傳輸層(4)，其特征在于所述的電荷阻擋層(2)是由導(dǎo)電基體(1)表面的氧化層(21)和含高分子材料的涂覆層(22)復(fù)合而成，與涂覆層(22)相鄰的氧化層(21)內(nèi)帶有大量微孔結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于在所述氧化層 (21)與涂覆層(22)之間的界面、涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的界面、電荷生成層 (3)與電荷傳輸層(4)之間的界面中至少有一個(gè)界面上帶有波紋狀結(jié)構(gòu)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面上設(shè)置有波紋狀結(jié)構(gòu)，而涂覆層(22)與電荷生成層(3) 之間的界面、電荷生成層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的界 面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的界 面上為平面結(jié)構(gòu)，電荷生成層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的 界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的 界面上為平面結(jié)構(gòu)，電荷生成層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面上為平面結(jié)構(gòu)，涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的界 面上為波紋狀結(jié)構(gòu)，電荷生成層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上為波紋狀結(jié)構(gòu)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述的表面氧化 層(21)與涂覆層(22)之間的界面、涂覆層(22)與電荷生成層(3)之間的界面、電荷生成 層(3)與電荷傳輸層(4)之間的界面上均為波紋狀結(jié)構(gòu)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1到9中的任意一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述復(fù)合 的電荷阻擋層(2)厚度在1——20微米之間，其中的氧化層(21)厚度在O. 5——16微米之 間。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1到9中的任意一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，其特征在于所述復(fù)合 的電荷阻擋層(2)厚度最好在1——IO微米之間，其中氧化層(21)的厚度在0.5——4微 米之間。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)光導(dǎo)體，包括導(dǎo)電基體，以及由里向外依次覆蓋在導(dǎo)電基體表面的電荷阻擋層、電荷生成層和電荷傳輸層，所述的電荷阻擋層是由導(dǎo)電基體表面的氧化層和含高分子材料的涂覆層復(fù)合而成，與涂覆層相鄰的氧化層表面帶有大量下凹的微孔結(jié)構(gòu)，在氧化層與涂覆層之間的界面、涂覆層與電荷生成層之間的界面、電荷生成層與電荷傳輸層之間的界面中至少有一個(gè)界面上帶有波紋狀結(jié)構(gòu)；其優(yōu)點(diǎn)是該光導(dǎo)體性能穩(wěn)定，制作方便，輸出印品質(zhì)量好，產(chǎn)品合格率高，使用壽命長(zhǎng)，綜合成本較低。
文檔編號(hào)G03G5/05GK201449517SQ20092004719
公開日2010年5月5日 申請(qǐng)日期2009年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月6日
發(fā)明者余榮清, 潘道成 申請(qǐng)人:蘇州吳中恒久光電子科技有限公司;蘇州恒久光電科技股份有限公司