專利名稱：電泳顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開涉及電泳顯示設(shè)備，更具體地，涉及在使用粘性材料與電泳膜粘接的保護(hù) 膜的一部分中提供臺階覆蓋部的電泳顯示設(shè)備，由此減少在邊緣密封工序中未注入密封劑 的缺陷。
背景技術(shù)：
本申請要求2009年7月31日提交的韓國專利申請No. 10-2009-0070526的優(yōu)先 權(quán)，此處以引證的方式并入其全部內(nèi)容。通常，電泳顯示設(shè)備(EPD)是一種可以利用電泳現(xiàn)象顯示圖像的平板顯示設(shè)備。 這種設(shè)備具有諸如較高的靈活性、便攜性和輕重量的特點(diǎn)。電泳現(xiàn)象使電場中的帶電顆粒 向陽極或陰極移動。EPD包括形成在可以像紙和塑料一樣被彎曲的薄基膜上的薄膜晶體管陣列。EPD 利用薄膜晶體管陣列中的像素電極和公共電極之間的垂直電場來驅(qū)動電泳漂移顆粒。這種 EPD已被預(yù)期作為下一代的電子紙張。圖IA和IB是示意性地示出相關(guān)技術(shù)的EPD的一部分的截面圖。如圖IA所示，相關(guān)技術(shù)的EPD包括提供有下電極(未示出)的下基板10，提供有 上電極(未示出)的上基板12以及提供有電泳漂移顆粒(未示出)且夾在下基板10和上 基板12之間的電泳膜14。電泳漂移顆粒由上電極和下電極之間感應(yīng)的電場來驅(qū)動。EPD還包括形成于上基板12和下基板10之間的密封劑16。密封劑16防止?jié)駳?侵入電泳膜14。密封劑16通過使用如圖IB所示的分配器在下基板10上分配流體密封劑 16a,并利用在電泳膜14和上基板12之間的張力使流體密封劑16a沿正向Dl流動的工序 來形成。電泳膜14被構(gòu)造為包括多個囊(未示出)，各個囊包含帶電的色素顆粒(未示 出)。各個囊被構(gòu)造為包含與正極電壓起反應(yīng)的黑色素顆粒(未示出)、與負(fù)極電壓起反應(yīng) 的白色素顆粒(未示出)以及溶劑(未示出)。此外，EPD可包括利用粘性材料粘接到電泳膜14上的保護(hù)膜20。保護(hù)膜20保護(hù) 在電泳膜14中的球狀囊并防止它們移動。電泳膜14和粘性材料的總厚度可相應(yīng)地為大約 196 μ m0這種相關(guān)技術(shù)的EPD向彼此相對的上電極和下電極施加電壓，并在這兩個電極之 間感應(yīng)出電壓差。與此相一致地，帶電的黑色素顆粒和白色素顆粒向相反極性的電極移動， 使得用戶可以看到具有黑色和白色的圖像。最近，EPD使用濾色器陣列以實(shí)現(xiàn)多種色彩。更具體而言，具有濾色器陣列的EPD 被構(gòu)造為進(jìn)一步包括在電泳膜14上形成的濾色圖案。彩色EPD的電泳膜可以形成為與不具有濾色圖案的普通EPD相同的厚度。在這種 情況下，當(dāng)黑顆粒和白顆粒被驅(qū)動時，包含在電泳膜中的黑顆粒和白顆粒之間產(chǎn)生位移差 (或偏移)。位移差(或偏移)可能引起用戶在EPD的邊緣方向上觀看到不期望的圖像。
為了解決產(chǎn)生位移差的問題，包括在彩色EPD中的電泳膜被形成為具有最小化的 厚度。實(shí)際上，彩色EPD的電泳膜具有大約60μπι的厚度。具有如此厚度的電泳膜的彩色 EPD可以防止上述位移差(或偏移)的產(chǎn)生。然而，變薄的電泳膜導(dǎo)致在與其粘接的保護(hù)膜或基板上的臺階覆蓋部降低。此外， 由于細(xì)小的外來物質(zhì)粘附在保護(hù)膜或基板上，保護(hù)膜或基板的臺階覆蓋部會喪失均勻性。 因此，在電泳膜的外圍表面上形成密封圖案的工序中造成密封劑未注入的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明實(shí)施方式涉及一種EPD，其能夠基本上克服因相關(guān)技術(shù)的局限和缺點(diǎn) 帶來的一個或更多個問題。本發(fā)明實(shí)施方式的一個目的是提供一種EPD，其被配置為包括濾色圖案并實(shí)現(xiàn)期 望圖像顯示。本發(fā)明實(shí)施方式的另一個目的是提供一種EPD，其被配置為在使用粘性材料與電 泳膜粘接的保護(hù)膜的一部分中提供臺階覆蓋部，由此減少在邊緣密封工序中未注入密封劑 的缺陷。本發(fā)明實(shí)施方式的附加特征和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中描述且將從描述中部分地 顯現(xiàn)，或者可以通過本發(fā)明實(shí)施方式的實(shí)踐來了解。通過書面的說明書及其權(quán)利要求以及 附圖中特別指出的結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)和獲得本發(fā)明實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的一個總的方面，一種EPD包括多條選通線和多條數(shù)據(jù)線， 其被形成為在基板上彼此交叉，并限定多個像素區(qū)域；多個薄膜晶體管，其連接到所述基板 上的相應(yīng)選通線和相應(yīng)數(shù)據(jù)線；電泳膜，其設(shè)置在所述基板上并被構(gòu)造為包括利用電泳現(xiàn) 象進(jìn)行驅(qū)動的帶電顆粒；濾色圖案，其設(shè)置在所述電泳膜上并用于實(shí)現(xiàn)色彩；保護(hù)膜，其通 過粘性材料與所述電泳膜粘接并被構(gòu)造為保護(hù)所述電泳膜；以及密封劑，其通過在所述基 板的邊緣上以流相進(jìn)行分配和硬化來形成。所述保護(hù)膜被構(gòu)造為包括從所述電泳膜的邊緣 露出的向外露出部分以及形成在所述露出部分上的臺階覆蓋部。在對下面的附圖和詳細(xì)描述的研究之后，其它系統(tǒng)、方法、特征和優(yōu)點(diǎn)對于本領(lǐng)域 的技術(shù)人員來說將是或?qū)⒆兊妹黠@。意欲將所有這種附加的系統(tǒng)、方法、特征和優(yōu)點(diǎn)包括在 本描述中，使其落入在本發(fā)明的范圍之內(nèi)，并且得到下面的權(quán)利要求的保護(hù)。本部分中任何 內(nèi)容不應(yīng)作為對那些權(quán)利要求的限制。結(jié)合本實(shí)施方式，下面討論其它的方面和優(yōu)點(diǎn)。應(yīng) 當(dāng)理解，本公開的上述一般描述和下述詳細(xì)描述是示例性和說明性的，且旨在提供所要求 保護(hù)的本公開的進(jìn)一步解釋。


附圖被包括在本申請中以提供對本實(shí)施方式的進(jìn)一步理解，并結(jié)合到本申請中且 構(gòu)成本申請的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施方式，且與說明書一起用于解釋本公開的 原理。附圖中圖IA和IB是示意性地示出了相關(guān)技術(shù)的EPD的一部分的截面圖；圖2是示意性地示出了根據(jù)本公開的實(shí)施方式的EPD的平面圖；圖3是示出了沿圖2的線1-1’提取的EPD的截面圖；以及
圖4是示出了如圖3所示的利用粘性材料粘接的保護(hù)膜和電泳膜的截面圖。
具體實(shí)施例方式下面將詳細(xì)描述本公開的實(shí)施方式，在附圖中例示出了其示例。在下文中介紹的 這些實(shí)施方式被提供作為示例，以向本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員傳達(dá)其精神。因此，這些實(shí)施方 式以不同的形式來實(shí)施，由此不限于在此所描述的這些實(shí)施方式。另外，為了便于說明附 圖，設(shè)備的尺寸和厚度可能被夸大地表示。在可能的情況下，相同的標(biāo)號在包括附圖的本公 開中代表相同或類似部件。圖2是示意性地示出了根據(jù)本公開的實(shí)施方式的EPD的平面圖。圖3是示出了沿 圖2的線1-1’提取的EPD的截面圖。參考圖2和圖3，根據(jù)本公開的實(shí)施方式的EPD包括 下陣列單元160和上陣列單元180。下陣列單元160包括被形成為在下基板110上在柵絕緣膜113的中央處彼此交叉 的選通線和數(shù)據(jù)線(未示出)、形成在選通線和數(shù)據(jù)線的各個交叉處的薄膜晶體管TFT、以 及形成在由交叉的選通線和數(shù)據(jù)線限定的各個單元區(qū)域上的像素電極121。下基板110可 由柔性塑料、易彎曲基膜、柔性金屬及類似物中的一種材料形成。薄膜晶體管TFT包括接收選通電壓的柵極111、連接到數(shù)據(jù)線的源極117、連接到 像素電極121的漏極119、以及形成為與柵極111交疊并且在源極117和漏極119之間形成 溝道的有源層115a。有源層115a被形成為與源極117和漏極119部分地交疊以形成溝道。 薄膜晶體管TFT進(jìn)一步包括形成于有源層115a上的歐姆接觸層115b。歐姆接觸層115b與 源極117和漏極119進(jìn)行歐姆接觸。歐姆接觸層115b與有源層115a —起可構(gòu)成商業(yè)半導(dǎo) 體圖案115。像素電極121通過接觸孔與漏極119進(jìn)行電接觸。接觸孔穿過鈍化(或保護(hù))層 131并露出漏極119。鈍化層131保護(hù)薄膜晶體管TFT。上陣列單元180包括濾色圖案127和形成在濾色圖案127的下表面上的保護(hù)膜 120，以及設(shè)置在保護(hù)膜120下方的電泳膜114。上陣列單元180可進(jìn)一步包括公共電極(未 示出)。電泳膜114被構(gòu)造為包括各包含帶電色素顆粒的多個囊(未示出)。各個囊被構(gòu) 造為包含與正極電壓起反應(yīng)的黑色素顆粒(未示出)、與負(fù)極電壓起反應(yīng)的白色素顆粒(未 示出)、以及溶劑(未示出)。保護(hù)膜120保護(hù)球狀的囊并防止它們移動。而且，保護(hù)膜120通過粘性材料123 與電泳膜114粘接。此外，保護(hù)膜120包括形成在電泳膜114的外圍表面的向外露出部分 上的臺階覆蓋部129。EPD進(jìn)一步包括夾在下陣列單元160和上陣列單元180之間的密封劑116。密封 劑116防止?jié)駳馇秩隕PD內(nèi)部。密封劑116通過使用分配器在下陣列單元160的密封劑形 成區(qū)域上的指定位置(即，邊緣)處分配流體密封劑116a的分配工序以及固化所述流體密 封劑的硬化工序而形成。具有如此構(gòu)造的EPD向彼此相對的像素電極121和公共電極(未示出)施加電壓 并在這兩個電極之間感應(yīng)出電壓差。據(jù)此，帶電色素顆粒向相反極性電極移動，使得用戶可 看到彩色圖像。
如上所述，電泳膜114通過粘性材料123與保護(hù)膜120粘接。保護(hù)膜120比電泳 膜114大。由此，保護(hù)膜120從電泳膜114的外圍表面的左邊和/或右邊向外露出。保護(hù) 膜120被構(gòu)造為包括形成在露出部分上的臺階覆蓋部129。保護(hù)膜120的具有臺階覆蓋部 的露出部分具有不同于其余保護(hù)膜120的厚度。更具體而言，保護(hù)膜120的具有臺階覆蓋 部129的露出部分與保護(hù)膜120的不具有臺階覆蓋部129的其余部分相比具有更小的厚 度。臺階覆蓋部129可通過對保護(hù)膜120的露出部分進(jìn)行模壓而形成，所述保護(hù)膜120的 露出部分從電泳膜114的外圍表面的左邊和/或右邊向外伸出。據(jù)此，在保護(hù)膜120的具 有臺階覆蓋部129的露出部分上形成密封劑116。圖4是示出了如圖3所示的利用粘性材料粘接的保護(hù)膜和電泳膜的截面圖。如圖3和圖4所示，具有臺階覆蓋部129的通過粘性材料123與電泳膜粘接的保 護(hù)膜120形成在從電泳膜114的右外圍表面露出的向外露出部分A上?？赏ㄟ^模壓工序部 分地切斷粘性材料123和保護(hù)膜120來形成臺階覆蓋部129。本實(shí)施方式的EPD可實(shí)現(xiàn)多種色彩。由此，電泳膜114的厚度變得比包括在相關(guān) 技術(shù)的EPD中的電泳膜更薄，所述相關(guān)技術(shù)的EPD不能實(shí)現(xiàn)彩色圖像。例如，如果相關(guān)技術(shù) 的電泳膜具有的厚度大約為171 μ m，則本實(shí)施方式的電泳膜114可制成具有大約60 μ m的 厚度D1。當(dāng)顯示彩色圖像時，較薄的電泳膜114防止位移差(或偏移)的產(chǎn)生。由此，可以 提高EPD的畫面質(zhì)量。另一方面，導(dǎo)致了外圍表面的密封層未注入的缺陷。為了解決這個問題，從電泳膜114的右外圍表面在保護(hù)膜120的向外露出部分A 上形成了臺階覆蓋部129，由此防止了密封劑未被注入到電泳膜114的右外圍表面。在這種 情況下，粘性材料123未涂敷在保護(hù)膜120的露出部分A上。此外，臺階覆蓋部129可以形 成為從電泳膜114的右外圍表面到保護(hù)膜120的內(nèi)部的向內(nèi)凹進(jìn)形狀或向內(nèi)傾斜形狀。保護(hù)膜120的由于臺階覆蓋部129而在厚度方向上向內(nèi)減少的露出部分A具有大 約為255 μ m的厚度D3。保護(hù)膜120的不具有露出部分A的其余部分B的厚度D2變?yōu)榧s 280 μ m。粘性材料123的厚度大約是25 μ m。因此，臺階覆蓋部129的高度D4變?yōu)榧s50 μ m, 對應(yīng)于將粘性材料123的厚度與從保護(hù)膜120的其余部分B的厚度D2減去露出部分A的 厚度D3的相減值相加的總值。此外，粘性材料123的厚度和保護(hù)膜120的露出部分A的厚 度可根據(jù)EPD的設(shè)計(jì)規(guī)格而調(diào)整。由此，臺階覆蓋部129可形成為具有大約40-140 μ m的 高度范圍。保護(hù)膜120的露出部分A和設(shè)置在電泳膜114下方的下陣列單元(圖3中的160) 之間的距離是大約110 μ m。保護(hù)膜120的向電泳膜114的右邊方向延伸的露出部分A具有 大約0. 7-1. 4mm的寬度。由此，在保護(hù)膜120的露出部分A上進(jìn)行側(cè)邊密封的密封劑116 的頂部也具有大約0. 7-1. 4mm的寬度。如果下陣列單元160和具有臺階覆蓋部的保護(hù)膜120之間的距離(即，側(cè)邊密封 的密封劑116的高度)變?yōu)?00 μ m或更多，則可以防止形成在保護(hù)膜120的露出部分A上 的密封劑116的未注入缺陷。更具體而言，下陣列單元160和具有臺階覆蓋部的保護(hù)膜120 之間的距離在IOOym以上，對密封劑116進(jìn)行側(cè)邊密封的工序不會受到粘接在保護(hù)膜120 和下陣列單元160上的外來物質(zhì)的影響。因此，可以防止密封劑116的未注入缺陷。如上所述，根據(jù)本公開的實(shí)施方式的包括實(shí)現(xiàn)多色彩的濾色圖案的EPD，在保護(hù)膜的從電泳膜的邊緣向外延伸的一部分上具有恒定的臺階覆蓋部，由此使保護(hù)膜的露出部分 變得更薄。由此，保護(hù)膜和下陣列單元之間的距離擴(kuò)大到ΙΟΟμπι以上。因此，可以防止(或 最小化)在保護(hù)膜的露出部分上形成密封圖案的側(cè)邊密封工序中所導(dǎo)致的密封劑的未注 入缺陷。結(jié)果，可以提高EPD的可靠性。本說明書中“ 一個實(shí)施方式”、“實(shí)施方式”、“示例實(shí)施方式，，等是指與該實(shí)施方式 相關(guān)地描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、或特性包括在本發(fā)明的至少一個實(shí)施方式中。這些詞語在說 明書中不同位置的出現(xiàn)不一定全部指代相同的實(shí)施方式。另外，當(dāng)與任何實(shí)施方式相關(guān)地 描述具體特征、結(jié)構(gòu)、或特性時，認(rèn)為結(jié)合其它實(shí)施方式實(shí)現(xiàn)該特征、結(jié)構(gòu)、或特性是在本領(lǐng) 域技術(shù)人員的考慮范圍內(nèi)。盡管參照多個示例性實(shí)施方式描述了實(shí)施方式，應(yīng)理解的是本領(lǐng)域技術(shù)人員可建 議落入本公開的原理的精神和范圍內(nèi)的許多其它修改和實(shí)施方式。更具體地，在本公開、附 圖以及所附的權(quán)利要求的范圍內(nèi)，在主題組合設(shè)置的組成部分和/或設(shè)置中可以做出各種 變型和修改。除了組成部分和/或設(shè)置中的變型和修改之外，替換使用對于本領(lǐng)域技術(shù)人 員也是明顯的。
權(quán)利要求
一種電泳顯示設(shè)備，該電泳顯示設(shè)備包括多條選通線和多條數(shù)據(jù)線，其被形成為在基板上彼此交叉，并限定多個像素區(qū)域；多個薄膜晶體管，其連接到所述基板上的相應(yīng)選通線和相應(yīng)數(shù)據(jù)線；電泳膜，其設(shè)置在所述基板上并被構(gòu)造為包括利用電泳現(xiàn)象進(jìn)行驅(qū)動的帶電顆粒；濾色圖案，其設(shè)置在所述電泳膜上并用于實(shí)現(xiàn)色彩；保護(hù)膜，其通過粘性材料與所述電泳膜粘接并被構(gòu)造為保護(hù)所述電泳膜；以及密封劑，其通過在所述基板的邊緣上以流相進(jìn)行分配和硬化來形成，其中所述保護(hù)膜被構(gòu)造為包括從所述電泳膜的邊緣露出的向外露出部分以及形成在所述露出部分上的臺階覆蓋部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電泳顯示設(shè)備，其中設(shè)置有所述臺階覆蓋部的所述露出部分 被形成為比所述保護(hù)膜的其余部分更薄。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電泳顯示設(shè)備，其中所述電泳膜被形成為具有大約60μ m的 厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電泳顯示設(shè)備，其中所述臺階覆蓋部被形成為具有大約 40μ -140μπ 的高度范圍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電泳顯示設(shè)備，其中具有所述臺階覆蓋部的所述保護(hù)膜的所 述露出部分被形成為與其上形成有所述密封劑的所述基板保持100 μ m以上的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電泳顯示設(shè)備，其中所述露出部分被形成為朝向所述保護(hù)膜 的內(nèi)部傾斜的向內(nèi)傾斜形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電泳顯示設(shè)備，其中所述露出部分被形成為朝向所述保護(hù)膜 的內(nèi)部凹進(jìn)的向內(nèi)凹進(jìn)形狀。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種電泳顯示設(shè)備。該電泳顯示設(shè)備包括多條選通線和多條數(shù)據(jù)線，其被形成為在基板上彼此交叉，并限定多個像素區(qū)域；多個薄膜晶體管，其連接到所述基板上的相應(yīng)選通線和相應(yīng)數(shù)據(jù)線；電泳膜，其設(shè)置在所述基板上并被構(gòu)造為包括利用電泳現(xiàn)象進(jìn)行驅(qū)動的帶電顆粒；濾色圖案，其設(shè)置在所述電泳膜上并用于實(shí)現(xiàn)色彩；保護(hù)膜，其通過粘性材料與所述電泳膜粘接并被構(gòu)造為保護(hù)所述電泳膜；以及密封劑，其通過在所述基板的邊緣上以流相進(jìn)行分配和硬化來形成。所述保護(hù)膜被構(gòu)造為包括從所述電泳膜的邊緣露出的向外露出部分以及形成在所述露出部分上的臺階覆蓋部。
文檔編號G02F1/167GK101989020SQ20091026659
公開日2011年3月23日 申請日期2009年12月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月31日
發(fā)明者權(quán)五楠 申請人:樂金顯示有限公司